JPS5923414Y2 - 両面目合せ露光機のウエ−ハチヤツク機構 - Google Patents
両面目合せ露光機のウエ−ハチヤツク機構Info
- Publication number
- JPS5923414Y2 JPS5923414Y2 JP14265677U JP14265677U JPS5923414Y2 JP S5923414 Y2 JPS5923414 Y2 JP S5923414Y2 JP 14265677 U JP14265677 U JP 14265677U JP 14265677 U JP14265677 U JP 14265677U JP S5923414 Y2 JPS5923414 Y2 JP S5923414Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- hole
- double
- chuck mechanism
- wafer chuck
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Description
【考案の詳細な説明】
本考案はサイリスナ等の製造に用いられる両面目合せ露
光機のウェーハチャック機構の改良に関する。
光機のウェーハチャック機構の改良に関する。
サイリスタ等の半導体装置を製造する場合、ウェーハの
両面に同時にフォトエツチング処理を施すことがあり、
両面目合せ露光機が使用されている。
両面に同時にフォトエツチング処理を施すことがあり、
両面目合せ露光機が使用されている。
この両面目合せ露光機のウェーハチャック機構は、第１
図および第２図に示すように、ウェーハチャック本体１
の透孔２内に適当数（図示例は４個）の吸気孔４を有す
る爪３を突設し、この爪３上に両面にフォトレジスト膜
を形成したウェーハ５を載置し、吸気孔４を真空に引い
て爪３にウェーハ５を吸着して、ウェーハ５の上方およ
び下方にウェーハ５と離隔してマスクＭ、、Ｍ２を配置
し、マスクＭ１の上方およびマスクＭ２の下方から同時
に紫外線６，７を照射して、投影方式で露光するように
なっている。
図および第２図に示すように、ウェーハチャック本体１
の透孔２内に適当数（図示例は４個）の吸気孔４を有す
る爪３を突設し、この爪３上に両面にフォトレジスト膜
を形成したウェーハ５を載置し、吸気孔４を真空に引い
て爪３にウェーハ５を吸着して、ウェーハ５の上方およ
び下方にウェーハ５と離隔してマスクＭ、、Ｍ２を配置
し、マスクＭ１の上方およびマスクＭ２の下方から同時
に紫外線６，７を照射して、投影方式で露光するように
なっている。
しかしながら、透孔２内に爪３が突出していると、この
爪３が下方からの紫外線７に対して、ウェーハ５の下面
に影をつくり、この影の部分の半導体素子が不良となる
ために、一枚のウェーハ５から得られる半導体ペレット
数が少なくなるという欠点があった。
爪３が下方からの紫外線７に対して、ウェーハ５の下面
に影をつくり、この影の部分の半導体素子が不良となる
ために、一枚のウェーハ５から得られる半導体ペレット
数が少なくなるという欠点があった。
本考案はこのような点にかんがみ提案されたもので、ウ
ェーハチャック本体の透孔をウェーハよりも大径にし、
かつこの透孔の周辺部で透孔よりも小径のウェーハを支
持した透明板を吸着せしめたことを特徴とする。
ェーハチャック本体の透孔をウェーハよりも大径にし、
かつこの透孔の周辺部で透孔よりも小径のウェーハを支
持した透明板を吸着せしめたことを特徴とする。
以下、本考案の一実施例を図面により説明すると、第３
図は本考案に係るウェーハチャック機構の平面図、第４
図は第３図のＩＶ−ＩＶ線に沿う縦断面図である。
図は本考案に係るウェーハチャック機構の平面図、第４
図は第３図のＩＶ−ＩＶ線に沿う縦断面図である。
図において、１０はウェーハチャック本体で、ウェーハ
よりも大径の透孔１１を有する。
よりも大径の透孔１１を有する。
この透孔１１の周辺部には適当数（円示例は８個）の吸
気孔１３を有する段部１２が設けられている。
気孔１３を有する段部１２が設けられている。
前記段部１２上には、透孔１１よりも小径のウェーハ１
４を挾持した石英、水晶等よりなる透明板１５．１６が
載置され、吸気孔１３を真空に引くことによって、透明
板１６が段部１２に吸着保持されている。
４を挾持した石英、水晶等よりなる透明板１５．１６が
載置され、吸気孔１３を真空に引くことによって、透明
板１６が段部１２に吸着保持されている。
この状態で上方および下方から紫外線１７．１８がマス
クＭ１９Ｍ２の上方および下方から同時に照射されて、
投影方式で露光される。
クＭ１９Ｍ２の上方および下方から同時に照射されて、
投影方式で露光される。
なお、上記実施例に示すように下側の透明板１６にウェ
ーハ１４を収納するための凹部を設けた場合は、透明板
１６上でウェーハ１４が移動するのを防止できる。
ーハ１４を収納するための凹部を設けた場合は、透明板
１６上でウェーハ１４が移動するのを防止できる。
また上側の透明板１５はウェーハ１４を押圧して、ウェ
ーハ１４に若干のソリがある場合でも、そのソリを修正
する作用と共に、ウェーハ１４の移動を阻止するのに役
立つ。
ーハ１４に若干のソリがある場合でも、そのソリを修正
する作用と共に、ウェーハ１４の移動を阻止するのに役
立つ。
場合によっては、平坦な２枚の透明板を用いてウェーハ
１４を挾持してもよく、あるいは下側のみの透明板を用
いてもよい。
１４を挾持してもよく、あるいは下側のみの透明板を用
いてもよい。
また、段部１２は図示例のように透孔１１の全周辺部に
わたって設ける場合の他、複数個所に部分的に設けても
よい。
わたって設ける場合の他、複数個所に部分的に設けても
よい。
本考案は以上のように、ウェーバチャック本体にウェー
バよりも大径の透孔を設け、かつ透孔の周辺部で透孔よ
りも小径のウェーバを支持した透明板を吸着せしめたも
のであるから、ウェーバの全面にわたって露光すること
が可能となり、ウェーバの有効利用が図れ、一枚のウェ
ーバから得られる半導体ペレット数が増大するという効
果を奏する。
バよりも大径の透孔を設け、かつ透孔の周辺部で透孔よ
りも小径のウェーバを支持した透明板を吸着せしめたも
のであるから、ウェーバの全面にわたって露光すること
が可能となり、ウェーバの有効利用が図れ、一枚のウェ
ーバから得られる半導体ペレット数が増大するという効
果を奏する。
第１図は従来のウェーバチャック機構の平面図、第２図
は第１図のＩＩ −ＩＩ線に沿う縦断面図、第３図は本
考案に係るウェーバチャック機構の一実施例の平面図、
第４図は第３図のＩＶ−ＩＶ線に沿う縦断面図である。 １０・・・・・・ウェーバチャック本体、１１・・・・
・・透孔、１２・・・・・・段部、１３・・・・・・吸
気孔、１４・・・・・・ウェーバ、１５゜１６・・・・
・・透明板。
は第１図のＩＩ −ＩＩ線に沿う縦断面図、第３図は本
考案に係るウェーバチャック機構の一実施例の平面図、
第４図は第３図のＩＶ−ＩＶ線に沿う縦断面図である。 １０・・・・・・ウェーバチャック本体、１１・・・・
・・透孔、１２・・・・・・段部、１３・・・・・・吸
気孔、１４・・・・・・ウェーバ、１５゜１６・・・・
・・透明板。
Claims (1)
- ウェーハチャック部本体にウェーハよりも大径の透孔を
設け、かつ透孔の周辺部で透孔よりも小径のウェーハを
支持した透明板を吸着せしめてなる両面目合せ露光機の
ウェーハチャック機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14265677U JPS5923414Y2 (ja) | 1977-10-24 | 1977-10-24 | 両面目合せ露光機のウエ−ハチヤツク機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14265677U JPS5923414Y2 (ja) | 1977-10-24 | 1977-10-24 | 両面目合せ露光機のウエ−ハチヤツク機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5468558U JPS5468558U (ja) | 1979-05-15 |
| JPS5923414Y2 true JPS5923414Y2 (ja) | 1984-07-12 |
Family
ID=29119599
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14265677U Expired JPS5923414Y2 (ja) | 1977-10-24 | 1977-10-24 | 両面目合せ露光機のウエ−ハチヤツク機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5923414Y2 (ja) |
-
1977
- 1977-10-24 JP JP14265677U patent/JPS5923414Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5468558U (ja) | 1979-05-15 |
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