JPS58121197A - Mosシフトレジスタ型記憶装置 - Google Patents

Mosシフトレジスタ型記憶装置

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JPS58121197A
JPS58121197A JP57003128A JP312882A JPS58121197A JP S58121197 A JPS58121197 A JP S58121197A JP 57003128 A JP57003128 A JP 57003128A JP 312882 A JP312882 A JP 312882A JP S58121197 A JPS58121197 A JP S58121197A
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JP
Japan
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cell
data
transistor
shift register
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JP57003128A
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Norihisa Kitagawa
喜多川 儀久
Takashi Takamizawa
高見沢 隆
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Texas Instruments Japan Ltd
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Texas Instruments Japan Ltd
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    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C19/00Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers
    • G11C19/28Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using semiconductor elements

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  • Shift Register Type Memory (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は高集積度のMOSシフトレジスタ型記憶装置に
関し、特にメモリセルにデータやアドレスを与えるパス
ラインの数を減少できる3トランジスタ型セルを有する
MOSダイナミック・シフトレジスタに関するものであ
る。
曳−在多く使用されているMOSダイナミック・シフト
レジスタセルは、6個のMO81F]l[tTをもって
1セルとする6トランジスタセルと、6個のMOSFE
Tと4本のパスラインを必要とする3トランジスタ・ダ
イナミックメモリ・セルとがある。まず、6トランジス
タセルは、2相クロツク、21M、源および入出力に2
モードを必要とする為、標準的なPMO8技術を用いた
場合6〜8平方ミル(3870〜5160μm2)とい
う大きなセルサイズとなり、集積度が低いという欠点を
有している。また上述の6トランジスタDRAMセルを
用いると、6トランジスタセルに比較して集積度は向上
するが、各セルに4本のパスラインを必要とし、そのセ
ルサイズも6〜4平方ミル(1935〜2580μm2
)以上となり集積度にも限界があった。
本発明は上述の様な従来例の問題点を解決し、絶縁デー
ト型Fl!iTの意味で使用される。
まず第1図に従来のシフトレジスタに用いられる6トラ
ンジスタセル1を示す。入力端子2にデータが入ると、
クロック信号φ1を高レベルのりイミノジ(このときφ
2は低レベル)で、第1トランジスタ3がオンとなυ、
データは第2トランジスタ4のデートに与えられる。同
時に、インバータ形六の第2トランジスタ4及び第6ト
ランジスタ5の接続ノード6には、データが反転した形
で税われ、クロック信号φ2が与えられるまでの時間、
ここにデータは保持される。クロック信号φ1が低レベ
ルになった後、第4トランジスタTのr−)に与えられ
るクロック信号φ2が高しペルノとなるタイミングで、
反転データは第5トランジスタ8のe−)に与えられ、
インバータ形式に接続された第5トランジスタ8及び第
6トランジスタ9の接続ノード10に元の極性に戻った
データが出力される。データは次のセルに入り、同様に
して次々と転送される。この形式のシフトレジスタは、
セル当りの面積が大で、集積度が低い1次の第2図に、
従来の6トランジスタ型式のダイナミックメモリセル1
1を示す。第1トランジスタ12に−IIF@込み用デ
ータ岬13がらデータが人力され、且つ膏き込み用アド
レス線14に第1トランジスタ12をアクティブにする
アドレス信号が入ると、データは第1トランジスタ12
を通過して第2トランジスタ15のゲート及びその近傍
の容量に蓄積される。絖出し操作に先立ち、データ線1
8は、例えばvDDの電位にプリチャージされる。そし
て所定のタイミングで、読み出し用アドレス線16に第
6トランジスタ17をアクティブにするアドレス信号が
入ると、第2トランジスタ15の?−)及び近傍に形成
される容量に蓄積されていたデータは第2トランジスタ
15のドレインから第6トランジスタ17を通って右側
の読み出し用データ線18に出力される。
この様な6トランジスタDRAMセルは、第1図の例に
比較しMO8FF:Tの数が少いのでその分だけセルサ
イズは小さくなるが、2本のデータライン13及び18
は半導体基板内の拡散領域で形成される為、依然として
集積度に制限がある。更に、この第2図のセルでIl!
、DRムMセルをリフレッシュする為にデータを一時蓄
積する周辺回路(図示せず)がセルマトリクスの外側に
要求され、また読み出しアドレス信号を与える周辺回路
(図示せず)も必安とな9、この意味からもシフトレジ
スタ全体のサイズが大きなものとなる。
これら従来例の問題点を解決する本発明の実施例を第6
図と第4図に示す。まず第6図に本発明実施例の基本セ
ル20を示す。第1トランジスタ21と第2トランジス
タ22はカスケード型に接続された1組のMO8FKT
であり、第1トランジスタ21のソース23はv8sラ
インまたはグラウンドライン24に接続され、第2トラ
ンジスタ22のPレイン25はプリチャージされるデー
タライフ26に接続される。第2のトランジスタ22と
第6のトランジスタ2Tの’F’−)は共通接続されシ
ーケンシャル・アドレス線28に接続される。
第6トランジスタ2Tの一方の拡散領域31は、第2ト
ランジスタ22のドレイン25と同様にデータライン2
6に接続される。第6トランジスタ27の他方の拡散領
域28は、出力端子30を有し、この端子30は次段の
セルへの入力となる。
このとき、拡散領域28とIC基板との間に形成される
接合容量および次段セルのMO8B″ETのデート容量
等のいわゆる寄生容量によって、カップリング容量29
が形成される。
この構成から明らかな様に、本発明の基本セル20は、
6個のMo5yrr 21 、22 、27と、6本の
パスライン24.26.28とによって構成されるので
、セル当りの面積は第1図、第2図のセルより減少し2
平方ミル(1290μm2 )以下となった。
次に本発明のMOSダイナミック・シフトレジスタの全
体を第4図に示す。このシフトレジスタは、データ入力
端子32、データセレクタ33、アドレス回路34と、
32X84ビツトのメモリブロック35、インバータ形
式のセンスアンゾ36、出力端子37および循環ライン
38を有している。
ここでメモリブロック35の基本メモリセルは第6図に
示したセルと同じで、各々6個のMO8FBITより#
l成される。
ここで注意すべき事は、アドレス回¥634からの信号
によるセルアドレスは、図の上で右から左に走査される
のに対し、データは逆に左のセルから右のセルに転送さ
れ、しかも1回の転送毎に、データの極性が反転されな
がら(DX−+可→DX・・・)転送されるということ
である。以下このシフトレジスタの動作につき説明する
第4図のメモリブロック35ではX方向に62個(即ち
62列)のセルが、またY方向に84個(即ち84行)
のセルが並んでいる。これはトポロジカルには、32x
84個の一連のセルであるが、これらのセルをアドレス
するのに32+84本のアドレスラインを用いず62本
のアドレスラインですませる為、この様なマトリクス構
造のレイアウトが採用されている。アドレス回路34か
らのアドレス信号φ0.φ1.・・・φ31の付与に先
立ち、セルにアクセスする毎にデータライン39を、プ
リチャージトランジスタ40を用いてvDDレベルにプ
リチャージする。これはプリチャージトランジスタ40
のデートにプリチャージクロックOK’をアドレス回路
34から与えることにより達成される。
データのセルからセルへの転送の一例を説明する。アド
レス信号φ2の与えられるアドレスライン41に接続さ
れたメモリセル42の容量43にvssレベルに相当す
るデータ「0」が蓄積されている場合、データライン3
9のプリチャージ動作の直後に、アドレスライン44に
信号φ1がセル45に与えられると、セル45の第2ト
ランジスタ(第6図の22)はオンしても、第1トラン
ジスタ(第6図の21)は、ひとつ前のセルの$t43
のデータ「0」によってオフ状態を保っている。従って
、信号φ1によってデータライン39のvDDレベルは
変化せずセル45の第6トランジスタ(このr−トにも
φ1が与えられオン状態になる)を介して、セル45の
容量46にvDDレベルに相当するデータ「1」が蓄槓
される。もし、セル45の容1t46にデータ「0」が
蓄槓されていれば、これを「1」に書きかえ、逆にデー
タ「1」が蓄積されていたとすればこれt IJフレッ
シュするのである。即ちセル42からセル45へのデー
タ転送により、データの極性は反転する。
また、アドレス信号φ1は前のセル42の読み出しとそ
の次のセル45の簀き込みの両方の作用を同時に行うこ
とにもなるのである。
またメモリセル42の容量43にvDDレベルに相当す
るデータ[1]が蓄積されている場合には、上述の信号
φ1がセル45に与えられると、第2トランジスタ22
がオンとなシ、且つ第1トランジスタ21も前のセルの
容量43のデータ「1」によってオン状態となっている
ので、データライン39はグラウンrレベルvssにデ
ィスチャージされる。従って、信号φ1がデートに与え
られてオン状態にある第6トランジスタ27を介し、セ
ル46の容量46にはデータ「0」が蓄槓される。
即ち、もし容量46にデータ「1」が蓄積されていたの
であれは、この電荷は、第6トランジスタ27、データ
ライン39、第2トランジスタ22および第1トランジ
スタ21を介してディスチャージさせられる。この場合
も前の場合と同様、セル42からセル45へのデータ転
送により、データの極性は反転する。
尚、ここで容量43あるいは46は、独立した素子とし
て形成する必要はなく、第6トランジスタ27の出力側
の拡散領域28とXCの半導体基板とで形成されるPN
接合の接合容量および次段トランジスタのデート容量等
のいわゆる寄生容量を用いるのが高集積度を得る上で好
ましい。その意味で図面上、容量29,43.46等は
点線で示されている。
以上のような基本的データ転送がアドレスラインφ0.
φ1.φ2・・・φ31  によυ次々と繰り返し行わ
れる。このことから、アドレス信号の走査は図上布から
左に向ってなされるのに対し、データは左から右に向っ
て流れる様子が理解できるでありう。
データは、入力端子32から入りアドレス1N号φ。が
与えられる半分のセル(基本セルの第6トランジスタ2
7と容量29)に与えられ、アドレスφ31の与えられ
るセル、φ30の与えられるセル・・・と次々右方向に
転送される。
第4図の実施例のようにマトリクス構造のメモリゾロツ
ク35を有するシフトレジスタでは、デ−夕はまず図面
め最上性の32個のセル中を右方向に転送され、アドレ
スφ0の与えられる第1行右端のセルから第2行左端の
セルへ転送され、次いで第2行のセル中を転送される。
このようにしてデータは、32x84個のセルを次々転
送され最下行(第84行)の右端のセルに至り、インバ
ータ形式のセンスアンプ36に入る。更にデータは、セ
ンスアンプ36から出力端子37に与えられると共に、
循環ライン38を経て、データセレクタ33にも入力さ
れる。シフトレジスタの使用にあたり、32X84ピッ
ト以上の長さのデータ蓄積時間が必要な場合、この循環
ライン38の使用により、メモリブロック35に蓄積さ
れたデータを、所望の回数だけメモリブロック35の中
で循環させ、長時間にわたり蓄積することができる。
第5図に、本発明シフトレジスタによるデータ転送を一
般化して示す。第1、行は、M行N列のメモリブロック
(第4図の35)が第m行第n列のセルOmHによって
構成され1セルOmHにデータDXが蓄積されていると
き、アドレス信号φ、がセルOmnの次のCm(n+1
)に与えられた状態を示す。
セル0n(n+1)には、実際はデータDXのひとつ前
のデータDや−0と同一のデータが入っているが、すで
にそのデータはセルCm(n+z)に転送されているの
で、ここでセルCm(n+1)の状態を■(vacan
t)と示す。アドレス信号φ でセルCmnのデータD
Xは極性が反転してセル0n(n+1)に転送される。
(その結果は同図第2行に示される。)次のアドレス信
号り刊がセルCrnnに与えられると、第5図第2行に
示されるように、セルCm(n−1)の反転データ)+
、は極性が反転してセルOmHに転送される。(その結
果は同図第6行に示される。) M行N列のメモリブロック35において、データ入力端
子(第4図の32)、データセレクタ33から、セルI
)mn tでのセルの数は、(Nx(m−1)+n’J
個であるので、データをデータセレクタ33からセルO
mnにまで転送するのに必要なアドレス信号φpの数は (ax(m−1)十n)x(N−1)と示される。この
第5図に示されるウィンドウを拡張することにより、全
メモリブロック35におけるデータ転送を理解すること
ができるであろう。第4図のメモリブロック35は、M
=84、N=62の場合を示したものである。
第6図に、データライン39のプリチャージパルスc 
K’ (第4図)とアドレス信号φ1.φp+1゜φp
+2(第5図)との時間的関係を示す図である。
データライン39は、アドレス信号$pv与えられるに
先立ち、毎回vDDレベルにプリチャージされる。
第7図は、第4図に示したアドレス回路34とメモリブ
ロック35とを複数個配列し、よシ大きな記憶容量を可
能にしたメモリ装置である。6個のアドレス回路34−
1.34−2.34−3はそれぞれ、第4図あアドレス
回路34と同様に、アドレス信号AO−A、を受け、こ
れをデコード1メモリブロック35−1.35−2.3
5−3のそれぞれに、32本のセルアドレス信号(第5
゜6図のり等)を与える。
アドレス回路34−1.34−2.34−3の近傍には
、それぞれデータセレクタ33−1゜33−2.33−
3が設けられる。これらのそれぞれは、第4図のデータ
セレクタ33に相当する。
データセレクタ33−1.33−2.33−3は、外部
からの新しい入力A(Aは第5図のDXに相当する)と
、対応するメモリブロック35−1゜35−2.35−
3の出力El、B2.B6(即ち循環されるべきデータ
の出力)およびメモリブロックの選択信号人力c1.a
2.c3とを受は取る。データセレクタ33−1.33
−2゜33−3はそれぞれインバータ47.2個のAN
D?−)48.49及びNAND)ys−) 50を図
ノ様に含んでおシ、次の論理式に従い出力を与える。
D=ム・0+B−0 ここでムは新しく外部より与えられる情報、Bは入力B
1.B2.B3の総称、Cは選択信号c1゜o 2 、
、 a 3の総称、Dはデータセレクタの出力DI、D
2.D3の総称である。この式よシ明らかな様に、01
=0のとき、DI=Aとなり、データセレクタ33−1
は新しいデータAをメモリブロック35−1に与える。
また逆に01=1のとき、D I =B 1となp1デ
ータセレクタ33−1は、メモリブロック35−1の中
に蓄えられた情報B1を循環させる。信号02,05に
応答し、他のブロックも同様に選択操作がなされる。第
7図では、6個のブロックを有する記憶装置を示したが
、本発明は任意の多数のブロックを有する大容量記憶装
置についても同様に応用可能であることが理解できるで
あろう。
第7図に示したように、メモリブロック35、アドレス
回路34及びデータセレクタ33をそれぞれのブロック
に設ける事によシ、所望のブロックの中のメモリブロッ
クに新しい情報を入れること、所望のブロック中のメモ
リブロックの中に蓄積された情報を循環させる事が可能
となシ、大容量の記憶装置を構成する事ができる。
メモリブロック35−1.35−2.35−3のセンス
アンプ36−1.36−2.36−3は、第4図のセン
スアンプ36に相当し、それぞれ2個の直列のインバー
タよシ構成される。センスアンプ36−1.36−2.
36−3からの出力は、それぞれ独立に出力回路51に
与えられ、必景に応じここで一時的に蓄えられ、出力端
子52に更に出力される。この場合、センスアンプ36
−1に連続して、36−2.36−3の出力を出力して
、6個のメモリブロック35−1.35−2゜35−3
に蓄積されたそれぞれのブロック情報を連続した情報と
して出力することができる。また出力回路51に対する
ブロック選択信号線53により、所望のメモリブロック
35に蓄積された情報のみを選択的に出力端子52に出
力させる手もできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のシフトレジスタに用いられる6ト2ンジ
スタセルの回路線1図、 第2図は従来の6トランジスタ型式のダイナミックメモ
リセルの回路線図、 第6図は本発明によるメモリセルの基本構成の回路線図
、 第4図は本発明によるMOSダイナミックシフトレジス
タ全体の回路図、 第5図は本発明のシフトレジスタによるデータ転送を説
明するための表図、 第6図はデータラインのブリチャージノぐルスとアドレ
ス信号との時間的関係を示すタイミング図、第7図は第
4図に示したアドレス回路とメモリブロックを複数個配
列したよシ大きな記憶容量を有するメモリ装置の回路図
である。 代理人 浅 村   皓 外4名

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (a)データラインと、(b)グラウンドラインと、(
    C)複数のアドレスラインと、(d)上記データライン
    、グラウンドラインおよびアドレスラインに接続され、
    互いに直列に接続される複数のメモリセルを含むMO8
    シフトレジスタとを有し、上記セルは上記アドレスライ
    ン上の信号に応答しひとつ前のセルに蓄積されていた情
    報を極性を反転した形で蓄積するようにしたMOSシフ
    トレジスタ型記憶装置。
JP57003128A 1982-01-12 1982-01-12 Mosシフトレジスタ型記憶装置 Granted JPS58121197A (ja)

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JP57003128A JPS58121197A (ja) 1982-01-12 1982-01-12 Mosシフトレジスタ型記憶装置

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JPH0348597B2 JPH0348597B2 (ja) 1991-07-24

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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