JPH0348597B2 - - Google Patents

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JPH0348597B2
JPH0348597B2 JP57003128A JP312882A JPH0348597B2 JP H0348597 B2 JPH0348597 B2 JP H0348597B2 JP 57003128 A JP57003128 A JP 57003128A JP 312882 A JP312882 A JP 312882A JP H0348597 B2 JPH0348597 B2 JP H0348597B2
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JP
Japan
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cell
data
transistor
address
line
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Application number
JP57003128A
Other languages
English (en)
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JPS58121197A (ja
Inventor
Norihisa Kitagawa
Takashi Takamizawa
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NIPPON TEKISASU INSUTSURUMENTSU KK
Original Assignee
NIPPON TEKISASU INSUTSURUMENTSU KK
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C19/00Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers
    • G11C19/28Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using semiconductor elements

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  • Shift Register Type Memory (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は高集積度のMOSシフトレジスタ型記
憶装置に関し、特にメモリセルにデータやアドレ
スを与えるバスラインの数を減少できる3トラン
ジスタ型セルを有するMOSダイナミツク・シフ
トレジスタに関するものである。
現在多く使用されているMOSダイナミツク・
シフトレジスタセルは、6個のMOSFETをもつ
て1セルとする6トランジスタセルと、3個の
MOSFETと4本のバスラインを必要とする3ト
ランジスタ・ダイナミツクメモリ・セルとがあ
る。まず、6トランジスタセルは、2相クロツ
ク、2電源および入出力に2モードを必要とする
為、標準的なPMOS技術を用いた場合6〜8平
方ミル(3870〜5160μm2)という大きなセルサイ
ズとなり、集積度が低いという欠点を有してい
る。また上述の3トランジスタDRAMセルを用
いると、6トランジスタセルに比較して集積度は
向上するが、各セルに4本のバスラインを必要と
し、そのセルサイズも3〜4平方ミル(1935〜
2580μm2)以上となり集積度にも限界があつた。
本発明は上述の様な従来例の問題点を解決し、
集積度の高いMOSダイナミツク・シフトレジス
タを提供するものである。尚ここでMOSFETと
は、絶縁ゲート型FETの意味で使用される。
まず第1図に従来のシフトレジスタに用いられ
る6トランジスタセル1を示す。入力端子2にデ
ータが入ると、クロツク信号φ1が高レベルのタ
イミング(このときφ2は低レベル)で、第1ト
ランジスタ3がオンとなり、データは第2トラン
ジスタ4のゲートに与えられる。同時に、インバ
ータ形式の第2トランジスタ4及び第3トランジ
スタ5の接続ノード6には、データが反転した形
で現われ、クロツク信号φ2が与えられるまでの
時間、ここにデータは保持される。クロツク信号
φ1が低レベルになつた後、第4トランジスタ7
のゲートに与えられるクロツク信号φ2が高レベ
ルとなるタイミングで、反転データは第5トラン
ジスタ8のゲートに与えられ、インバータ形式に
接続された第5トランジスタ8及び第6トランジ
スタ9の接続ノード10に元の極性に戻つたデー
タが出力される。データは次のセルに入り、同様
にして次々と転送される。この形式のシフトレジ
スタは、セル当りの面積が大で、集積度が低い。
次の第2図に、従来の3トランジスタ型式のダ
イナミツクメモリセル11を示す。第1トランジ
スタ12に書き込み用データ線13からデータが
入力され、且つ書き込み用アドレス線14に第1
トランジスタ12をアクテイブにアドレス信号が
入ると、データは第1トランジスタ12を通過し
て第2トランジスタ15のゲート及びその近傍の
容量に蓄積される。読出し操作に先立ち、データ
線18は、例えばVDDの電位にプリチヤージされ
る。そして所定のタイミングで、読み出し用アド
レス線16に第3トランジスタ17をアクテイブ
にするアドレス信号が入ると、第2トランジスタ
15のゲート及び近傍に形成される容量に蓄積さ
れていたデータは第2トランジスタ15のドレイ
ンから第3トランジスタ17を通つて右側の読み
出し用データ線18に出力される。
この様な3トランジスタDRAMセルは、第1
図の例に比較しMOSFETの数が少いのでその分
だけセルサイズは小さくなるが、2本のデータラ
イン13及び18は半導体基板内の拡散領域で形
成される為、依然として集積度に制限がある。更
に、この第2図のセルでは、DRAMセルをリフ
レツシユする為にデータを一時蓄積する周辺回路
(図示せず)がセルマトリクスの外側に要求され、
また読み出しアドレス信号を与える周辺回路(図
示せず)も必要となり、この意味からもシフトレ
ジスタ全体のサイズが大きなものとなる。
これら従来例の問題点を解決する本発明の実施
例を第3図と第4図に示す。まず第3図に本発明
実施例の基本セル20を示す。第1トランジスタ
21と第2トランジスタ22はカスケード型に接
続された1組のMOSFETであり、第1トランジ
スタ21のソース23はVSSラインまたはグラウ
ンドライン24に接続され、第2トランジスタ2
2のドレイン25はプリチヤージされるデータラ
イン26に接続される。第2のトランジスタ22
と第3のトランジスタ27のゲートは共通接続さ
れシーケンシヤル・アドレス線28に接続され
る。第3トランジスタ27の一方の拡散領域31
は、第2トランジスタ22のドレイン25と同様
にデータライン26に接続される。第3トランジ
スタ27の他方の拡散領域28は、出力端子30
を有し、この端子30は次段のセルへの入力とな
る。このとき、拡散領域28とIC基板との間に
形成される接合容量および次段セルのMOSFET
のゲート容量等のいわゆる寄生容量によつて、カ
ツプリング容量29が形成される。
この構成から明らかな様に、本発明の基本セル
20は、3個のMOSFET21、22、27と、3本の
バスライン24、26、28とによつて構成されるの
で、セル当りの面積は第1図、第2図のセルより
減少し2平方ミル(1290μm2)以下となつた。
次に本発明のMOSダイナミツク・シフトレジ
スタの全体を第4図に示す。このシフトレジスタ
は、データ入力端子32、データセレクタ33、
アドレス回路34と、32×84ビツトのメモリブロ
ツク35、インバータ形式のセンスアンプ36、
出力端子37および循環ライン38を有してい
る。ここでメモリブロツク35の基本メモリセル
は第3図に示したセルと同じで、各々3個の
MOSFETより構成される。
ここで注意すべき事は、アドレス回路34から
の信号によるセルアドレスは、図の上で右から左
に走査されるのに対し、データは逆に左のセルか
ら右のセルに転送され、しかも1回の転送毎に、
データの極性が反転されながら(DXDX →DX
…)転送されるということである。つまり、デー
タの極性の反転時にプリチヤージされたデータラ
インのレベルを利用して次段に書き込むので(例
えば、第3図のトランジスタ21のゲート電圧に
より決定されるデータライン26のレベルが次段
の出力端子30に書き込まれる。)、リーク等によ
る電圧降下が補償される。すなわち、リフレツシ
ユ動作が完了するのである。以下このシフトレジ
スタの動作につき説明する。
第4図のメモリブロツク35ではX方向に32個
(即ち32列)のセルが、またY方向に84個(即ち
84行)のセルが並んでいる。これはトポロジカル
には、32×84個の一連のセルであるが、これらの
セルをアドレスするのに32+84本のアドレスライ
ンを用いず32本のアドレスラインですませる為、
この様なマトリクス構造のレイアウトが採用され
ている。アドレス回路34からのアドレス信号
φ0,φ,…φ31の付与に先立ち、セルにアクセス
する毎にデータライン39を、プリチヤージトラ
ンジスタ40を用いてVDDレベルにプリチヤージ
する。これはプリチヤージトランジスタ40のゲ
ートにプリチヤージクロツクCK′をアドレス回路
34から与えることにより達成される。
データのセルからセルへの転送の一例を説明す
る。アドレス信号φ2の与えられるアドレスライ
ン41に接続されたメモリセル42の容量43に
VSSレベルに相当するデータ「0」が蓄積されて
いる場合、データライン39のプリチヤージ動作
の直後に、アドレスライン44に信号φ1がセル
45に与えられると、セル45の第2トランジス
タ(第3図の22)はオンしても、第1トランジ
スタ(第3図の21)は、ひとつ前のセルの容量
43のデータ「0」によつてオフ状態を保つてい
る。従つて、信号φ1によつてデータライン39
のVDDレベルは変化せずセル45の第3トランジ
スタ(このゲートにもφ1が与えられオン状態に
なる)を介して、セル45の容量46にVDDレベル
に相当するデータ「1」が蓄積される。もし、セ
ル45の容量46にデータ「0」が蓄積されていれ
ば、これを「1」に書きかえ、逆にデータ「1」
が蓄積されていたとすればこれをリフレツシユす
るのである。即ちセル42からセル45へのデー
タ転送により、データの極性は反転する。またア
ドレス信号φ1は前のセル42の読み出しとその
次のセル45の書き込みの両方の作用を同時に行
うことにもなるのである。
またメモリセル42の容量43にVDDレベルに相
当するデータ「1」が蓄積されている場合には、
上述の信号φ1がセル45に与えられると、第2
トランジスタ22がオンとなり、且つ第1トラン
ジスタ21も前のセルの容量43のデータ「1」に
よつてオン状態となつているので、データライン
39はグラウンドレベルVSSにデイスチヤージさ
れる。従つて、信号φ1がゲートに与えられてオ
ン状態にある第3トランジスタ27を介し、セル
46の容量46にはデータ「0」が蓄積される。即
ち、もし容量46にデータ「1」が蓄積されていた
のであれば、この電荷は、第3トランジスタ2
7、データライン39、第2トランジスタ22お
よび第1トランジスタ21を介してデイスチヤー
ジさせられる。この場合も前の場合と同様、セル
42からセル45へのデータ転送により、データ
の極性は反転する。
尚、ここで容量43あるいは46は、独立した素子
として形成する必要はなく、第3トランジスタ2
7の出力側の拡散領域28とICの半導体基板と
で形成されるPN接合の接合容量および次段トラ
ンジスタのゲート容量等のいわゆる寄生容量を用
いるのが高集積度を得る上で好ましい。その意味
で図面上、容量29、43、46等は点線で示されてい
る。
以上のような基本的データ転送がアドレス信号
φ0,φ1,φ2…φ31により次々と繰り返し行われ
る。このことから、アドレス信号の走査は図上右
から左に向つてなされるのに対し、データは左か
ら右に向つて流れる様子が理解できるであろう。
データは、入力端子32から入りアドレス信号
φ0が与えられる半分のセル(基本セルの第3ト
ランジスタ27と容量29)に与えられ、アドレス
φ31の与えられるセル、φ30の与えられるセル…と
次々右方向に転送される。
第4図の実施例のようにマトリクス構造のメモ
リブロツク35を有するシフトレジスタでは、デ
ータはまず図面の最上行の32個のセル中を右方向
に転送され、アドレスφ0の与えられる第1行右
端のセルから第2行左端のセルへ転送され、次い
で第2行のセル中を転送される。このようにして
データは、32×84個のセルを次々転送され最下行
(第84行)の右端のセルに至り、インバータ形式
のセンスアンプ36に入る。更にデータは、セン
スアンプ36から出力端子37に与えられると共
に、循環ライン38を経て、データセレクタ33
にも入力される。シフトレジスタの使用にあた
り、32×84ビツト以上の長さのデータ蓄積時間が
必要な場合、この循環ライン38の使用により、
メモリブロツク35に蓄積されたデータを、所望
の回数だけメモリブロツク35の中で循環させ、
長時間にわたり蓄積することができる。
第5図に、本発明シフトレジスタによるデータ
転送を一般化して示す。第1行は、M行N列のメ
モリブロツク(第4図の35)が第m行第n列の
セルCnoによつて構成され、セルCnoにデータDX
が蓄積されているとき、アドレス信号φpがセル
Cnoの次のCn(o+1)に与えられた状態を示す。セル
Cn(o+1)には、実際はデータDXのひとつ前のデー
タDX-1と同一のデータが入つているが、すでに
そのデータはセルCn(o+2)に転送されているので、
ここでセルCn(o+1)の状態を(vacant)と示す。
アドレス信号φpでセルCnoのデータDXは極性が反
転してセルCn(o+1)に転送される。(その結果は同
図第2行に示される。) 次のアドレス信号φp+1がセルCnoに与えられる
と、第5図第2行に示されるように、セルCn(o-1)
の反転データX+1は極性が反転してセルCnoに転
送される。(その結果は同図第3行に示される。) M行N列のメモリブロツク35において、デー
タ入力端子(第4図の32)、データセレクタ3
3から、セルDnoまでのセルの数は、〔N×(m−
1)+n〕個であるので、データをデータセレク
タ33からセルCnoにまで転送するのに必要なア
ドレス信号φpの数は〔N×(m−1)+n〕×(N
−1)と示される。この第5図に示されるウイン
ドウを拡張することにより、全メモリブロツク3
5におけるデータ転送を理解することができるで
あろう。第4図のメモリブロツク35は、M=
84、N=32の場合を示したものである。
第6図に、データライン39のプリチヤージパ
ルスCK′(第4図)とアドレス信号φp,φp+1
φp+2(第5図)との時間的関係を示す図である。
データライン39は、アドレス信号φpが与えら
れるに先立ち、毎回VDDレベルにプリチヤージさ
れる。
第7図は、第4図に示したアドレス回路34と
メモリブロツク35とを複数個配列し、より大き
な記憶容量を可能にしたメモリ装置である。3個
のアドレス回路34−1,34−2,34−3は
それぞれ、第4図のアドレス回路34と同様に、
アドレス信号A0〜A4を受け、これをデコードし、
メモリブロツク35−1,35−2,35−3の
それぞれに、32本のセルアドレス信号(第5,6
図のφp等)を与える。
アドレス回路34−1,34−2,34−3の
近傍には、それぞれデータセレクタ33−1,3
3−2,33−3が設けられる。これらのそれぞ
れは、第4図のデータセレクタ33に相当する。
データセレクタ33−1,33−2,33−3
は、外部からの新しい入力(Aは第5図のDX
に相当する)と、対応するメモリブロツク35−
1,35−2,35−3の出力B1、B2、B3(即
ち循環されるべきデータの出力)およびメモリブ
ロツクの選択信号入力C1、C2、C3とを受け取
る。データセレクタ33−1,33−2,33−
3はそれぞれインバータ47、2個のANDゲー
ト48,49及びNANDゲート50を図の様に
含んでおり、次の論理式に従い出力を与える。
D=・+・C ここでAは新しく外部より与えられる情報、B
は入力B1,B2,B3の総称、Cは選択信号
C1、C2、C3の総称、Dはデータセレクタの出力
D1、D2、D3の総称である。この式より明らかな
様に、C1=0のとき、D1=Aとなり、データセ
レクタ33−1は新しいデータAをメモリブロツ
ク35−1に与える。また逆にC1=1のとき、
D1=B1となり、データセレクタ33−1は、メ
モリブロツク35−1の中に蓄えられた情報B1
を循環させる。信号C2、C3に応答し、他のブロ
ツクも同様に選択操作がなされる。第7図では、
3個のブロツクを有する記憶装置を示したが、本
発明は任意の多数のブロツクを有する大容量記憶
装置についても同様に応用可能であることが理解
できるであろう。
第7図に示したように、メモリブロツク35、
アドレス回路34及びデータセレクタ33をそれ
ぞれのブロツクに設ける事により、所望のブロツ
クの中のメモリブロツクに新しい情報を入れるこ
と、所望のブロツク中のメモリブロツクの中に蓄
積された情報を循環させる事が可能となり、大容
量の記憶装置を構成する事ができる。
メモリブロツク35−1,35−2,35−3
のセンスアンプ36−1,36−2,36−3
は、第4図のセンスアンプ36に相当し、それぞ
れ2個の直列のインバータより構成される。セン
スアンプ36−1,36−2,36−3からの出
力は、それぞれ独立に出力回路51に与えられ、
必要に応じここで一時的に蓄えられ、出力端子5
2に更に出力される。この場合、センスアンプ3
6−1に連続して、36−2,36−3の出力を
出力して、3個のメモリブロツク35−1,35
−2,35−3に蓄積されたそれぞれのブロツク
情報を連続した情報として出力することができ
る。また出力回路51に対するブロツク選択信号
線53により、所望のメモリブロツク35に蓄積
された情報のみを選択的に出力端子52に出力さ
せる事もできる。
本発明はメモリセルにアドレス信号を与えられ
るに先立ち、毎回VDDレベルにプリチヤージす
るので一連のメモリセルはデータラインを共通に
使用することでデータの移動が可能であり、シフ
トレジスタの段数を任意に変更できる点で設計の
自由度を増大することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のシフトレジスタに用いられる6
トランジスタセルの回路線図、第2図は従来の3
トランジスタ型式のダイナミツクメモリセルの回
路線図、第3図は本発明によるメモリセルの基本
構成の回路線図、第4図は本発明によるMOSダ
イナミツクシフトレジスタ全体の回路図、第5図
は本発明のシフトレジスタによるデータ転送を説
明するための表図、第6図はデータラインのプリ
チヤージパルスとアドレス信号との時間的関係を
示すタイミング図、第7図は第4図に示したアド
レス回路とメモリブロツクを複数個配列したより
大きな記憶容量を有するメモリ装置の回路図であ
る。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 入力端子と、出力端子と、データ線と、基準
    電位線と、複数のアドレス線を有し、上記データ
    線、基準電位線及びアドレス線に接続され、前段
    の記憶セルの出力端子と後段の入力端子を相互接
    続する複数の記憶セルを含むMOSシフトレジス
    タであつて、前記アドレス線の信号に応答し、前
    段のセルに蓄積された情報を反転記憶する前記記
    憶セルと、前記アドレス線の信号によつて前記記
    憶セルが選択される前に少なくとも前記データ線
    を電源電位点に接続し、前記アドレス線の信号に
    よつて前記記憶セルが選択される時は少なくとも
    前記データ線と電源電位点を非導通となす予備充
    電回路とを有するMOSシフトレジスタ型記憶装
    置。
JP57003128A 1982-01-12 1982-01-12 Mosシフトレジスタ型記憶装置 Granted JPS58121197A (ja)

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JP57003128A JPS58121197A (ja) 1982-01-12 1982-01-12 Mosシフトレジスタ型記憶装置

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JPS58121197A JPS58121197A (ja) 1983-07-19
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Families Citing this family (2)

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JPS60107795A (ja) * 1983-11-15 1985-06-13 Nippon Gakki Seizo Kk Mos逐次アクセス・メモリ
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