JPS5811949B2 - 2−置換−5(4)−オキサゾロン類の製法 - Google Patents

2−置換−5(4)−オキサゾロン類の製法

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JPS5811949B2
JPS5811949B2 JP51150054A JP15005476A JPS5811949B2 JP S5811949 B2 JPS5811949 B2 JP S5811949B2 JP 51150054 A JP51150054 A JP 51150054A JP 15005476 A JP15005476 A JP 15005476A JP S5811949 B2 JPS5811949 B2 JP S5811949B2
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  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は2一置換−5(4)−オキサシロン類の新規な
製法に関するものである。
更に詳しくは、アルデヒド及び炭素数2以上のカルボン
酸アミド、又は両者の反応生成物と一酸化炭素乾燥剤の
存在下に反応せしめ、酸アミド部分に相当する置換基を
有する2一置換−5(4)−オキサシロン類の製法に関
する。
アルデヒド、酸アミド及び一酸化炭素を原料として一挙
に2一置換−5(4)オキサシロン類を合成する反応は
従来全く知られていない。
各種アミノ酸合成原料として有用な2一置換−5(4)
−オキサシロン類の合成は従来N−アシルアミノ酸を無
水酢酸、ジシクロヘキシルカルボジイミド類、ポリリン
酸等の脱水剤を用い脱水環化せしめることにより得てい
たが高価な原料を使用する必要があり、より一層有利な
方法の開発が望まれていた。
本発明は一段にて安価な原料より2一置換−5(4)−
オキサシロン類が得られ、アルデヒド又は有機ハロゲン
化物を4位の炭素に反応させ、次いで加水分解、更に必
要により還元すれば相当するN−アシル−アミノ酸、N
−アシル−α一置換−アミノ酸を取得することが出来、
また2一置換−5(4)−オキサシロン類自体として合
成ペニシリンの原料としても有用である。
本発明者らはアルデヒド、カルボン酸アミド、一酸化炭
素を接触的に反応せしめN−アシル−α−アミノ酸を一
段にて合成する反応(特公昭48−17259号明細書
参照)に関し、そのメカニズム解明のため種々研究を行
って来たところ、上記反応を乾燥剤の存在下に行う場合
は不安定な2一置換−5(4)−オキサシロン類が収率
よく生成することを見い出した。
更に、本発明者らは原料としては必ずしもアルデヒドと
カルボン酸アミドを用いなくとも両者の反応生成物であ
っても同様にいやむしろより反応が円滑に進行すること
を見い出し、これらの知見を基に本発明を完成するに至
った。
本反応の反応機構は明確ではないが、アルデヒドとカル
ボン酸アミドがまず反応し、生じた反応生成物が中間体
として触媒上にて脱水並びに一酸化炭素挿入が生起し2
一置換−5(4)−オキサシロン類を与えると考えられ
る。
即ち、本発明の反応を一般式で示すと次の如くなる。
又は 式中R1は有機残基、R2は水素又は有機残基を示す。
本発明方法に於いて原料として使用するアルデヒドは、
脂肪族、脂環族、芳香族及び複素環アルデヒドのいずれ
でもよく、炭素数、構造の如何に制限されることはない
が、特にホルミル基が水素又は飽和炭素(即ち二重結合
等に関与しない炭素に結合したアルデヒドが収率の点で
最適である。
また、ホルミル基以外の官能基をさらに有していてもそ
れが反応に重大な影響を与えるものでない限り差し支え
ない。
好適な原料アルデヒドの例としては、ホルムアルデヒド
、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルア
ルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、2,4−ジオキ
シフェニルアセトアルデヒド、インドリルアセトアルデ
ヒド、β−ホルミルプロピオニトリル、β−ホルミルプ
ロピオン酸及び同エステル、β−メチルメルカプトプロ
ピオンアルデヒド、グリコールアルデヒド、α−アセト
オキシプロピオンアルデヒド、ε−フタルイミノ−n−
バレルアルデヒド、ステアリルアルデヒド、アセトアル
デヒド等を挙げることができる。
また反応条件下でアルデヒドを生じ得るアルデヒド前駆
体をも原料として使用することができる。
一方、本発明方法にて使用されるカルボン酸アミドとし
ては炭素数2以上であれば如何なるカルボン酸のアミド
であってもよく、炭素数2以上の脂肪族、芳香族、脂環
族及び複素環カルボン酸のアミドのいづれでもよく、分
子中の炭素数、構造の如何に制限されることはない。
更に反応に重大な影響を与えない限り、アミド基以外に
他の官能基を有していてもよい。
特に、目的とする2一置換−5(4)−オキサシロン類
を安定に収率よく得るにはオキサシロン類の2位と3位
の間の二重結合を安定化させる置換基R1を有すること
が肝要であって、それには当該二重結合と共役できる酸
アミド、例えばベンズアミド、アクリル酸アミド、及び
これらの置換体等を用いるのが最も効果的である。
好適な酸アミドの例としては、ベンズアミドニコチンア
ミド、アクリル酸アミド、フエナセトアミド、酢酸アミ
ド、プロピオン酸アミド、ブチロアミド等を挙げること
ができるが、これらに限定されるものではない。
また、反応条件下に酸アミドを生じ得る前駆体をも原料
として有利に使用することができる。
もう一方の原料としては、上記した各好適なアルデヒド
と酸アミドの反応生成物がやはり有利に本発明の原料と
して使用することができる。
例えば、N−メチロールベンズアミド、N−メチロール
フェニルアセトアミド、N−メチロールアセトアミド等
が用いられる。
これらの合成は酸アミドとアルデヒドとを微アルカリ性
下に接触せしめれば容易に達成することができる。
本発明方法で用いる一酸化炭素は、必ずしも純品である
必要はない。
むしろ、ある程度の水素を含む混合ガスを用いると反応
が速く進行し、収率も向上することが認められる。
他に、窒素、メタン、炭酸ガス等通常水性ガスに含まれ
る成分が原料−酸化炭素中に存在しても、反応に影響を
与えるものではない。
本発明方法においては、触媒の存在が不可欠である。
触媒としては、従来カルボニル化反応やヒドロホルミル
化反応の触媒として慣用されているコバルトまたはその
化合物が用いられる。
コバルト触媒はコバルト金属のまま、または各種塩類、
錯体などの形で、好ましくはカルボニル化合物として反
応系内に供給される。
この場合、カルボニル化反応、ヒドロホルミル化反応で
用いられる助触媒たとえばリン、窒素、イオウ、酸素、
ハロゲンなどの種々の配位子が存在すれはさらに本発明
反応を有利に行なうことができる。
本発明に係る反応は先述した通り乾燥剤の存在下にて行
うことが必須であって、このためにはモレキュラーシー
ブシリカゲル、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリ
ウム等の乾燥剤特にモレキュラーシーブの使用が最も簡
便であり且つ効果的である。
この場合の乾燥剤の使用量はその種類及び反応条件等に
より異るが、通常生成物1モル当り10乃至1000g
、より一般的には50−300gである。
また、本発明に係る反応は脱水反応であるので、原料及
び必要により用いる溶媒は脱水して用いることが収率向
上、並びに乾燥剤の使用量節減に有効である。
アルデヒドと酸アミドのモル比は、通常1:1でよいが
、アルデヒドに対する収率を高める必要がある場合には
酸アミドを過剰に用い、アミドに対する収率を高める必
要がある場合には、アルデヒドを過剰に用いればよい。
一酸化炭素の使用量は、通常アルデヒド、アミドに対し
て過剰に用いられる。
しかしその使用量は本発明方法の決定的な要因ではない
コバルト触媒の使用量は通常生成物に対して1/10〜
1/10000のモル比である。
反応温度は特に限定されないが、高温になる程目的物の
加水分解物たるN−アシル−アミノ酸の生成量が増大す
るので、低温の方が望ましい。
即ち最適反応温度は通常100℃以下、好ましくは80
℃以下であるが、本反応の反応性は極めて高いのでこの
様な低温であっても極めて速やかに反応は完了する。
この様にこの種反応としては低温で遂行可能であるので
二重結合等を含む原料であっても変化することなく保持
したままの相当する2一置換−5(4)−オキサシロン
類を収率よく得ることができる。
また、反応の圧力は通常のカルボニル化反応およびヒド
ロホルミル化反応に於いて用いられている範囲、即ち1
0乃至500気圧が用いられる。
本発明方法は、溶媒が存在しなくても進行するが、通常
溶媒の存在下に行なわれる。
溶媒としては通常カルボニル化反応、ヒドロホルミル化
反応に使用されるものが用いられるが、特に原料溶解性
の良好なテトロヒドロフラン、アセトン、メチルイソブ
チルケトン、酢酸エチル等が好適に用いられる。
反応液から目的物を分離する必要がある場合には通常触
媒を除去した後、必要により溶媒を除去し、直接取り出
すことが可能である。
分離方法は反応生成物、使用した溶媒、さらに触媒の種
類により異るが、これらの分離は種々の公知方法を組み
合せることにより容易に行なうことができる。
また、本発明を工業的規模にて行なうに際しては、反応
装置ならびに触媒溶媒等の循環方法は従来公知のカルボ
ニル化方法、ヒドロホルミル化方法が有効に適用しうる
本発明をさらに詳しく実施例により説明する。
尚、各実施例に於いて反応器は、300m1ステンレス
鋼製電磁力キマゼ式オートクレーブを用いた。
実施例 1 反応器にN−メチロールベンズアミド7.55g(50
mmol)、ジコバルトオクタカルボニルCo2(CO
)80.6g、モレキュラーシーブ4A20g、テトラ
ヒドロフラン100m1を入れ、次いでCO:H2=1
:1の組成のガスを150kg/cm2まで圧入した。
60℃で2時間加熱かきまぜ続けたところ、48m m
olのガス吸収が認められた。
冷却後、淡黄色透明の反応液を取り出し、濾過によりモ
レキュラーシーブを分離した。
濾液の一部にトリフェニルホスフィンを加え、コバルト
を不溶性の塩として分離した後、溶媒を留去して融点9
4℃の結晶を得た。
このものは元素分析、核磁気共鳴スペクトル、赤外線吸
収スペクトルにより、2−フェニル−5(4)−オキサ
シロンと同定した。
また反応液を直接ガスクロマトグラフィーにて定量を行
った。
2−フェニル−5(4)−オキサシロンの収量;47.
5mol N−メチロールベンズアミドに対する収率;95%また
同反応液にベンズアルデヒドを等モル量加え、1時間加
熱還流した後溶媒留去し、得られた粗結晶をベンゼン−
エタノールから再結晶して、融点 168℃の黄色の2
−フェニル−4−ベンジリデン−5(4)−オキサシロ
ンを得た。
N−メチロールベンズアミドからの収率;84%実施例
2 実施例1と同様の反応を、各種の溶媒中で行なった結果
を反応条件とともに第1表に示す。
使用原料: N−メチロールベンズアミド 50mmolジコバル
トオクタカルボニル 0.6gモレキュラーシーブ4
A 20gC0:H2=1:1の組成のガス
150kg/cm2実施例 3 反応器にパラホルムアルデヒド1.5g(50mmol
)、ベンズアミド6.05g(50m mol)、ジコ
バルトオクタカルボニルCo2(CO)80.6g、モ
レキュラーシーブ4A 20g、テトラヒドロフラン
100m1を入れ、次いでCO:H2=1:1の組成の
ガスを200kg/cm2まで圧入した。
80℃で3時間加熱かきまぜ続けたところ、31mmo
lのガス吸収が認められた。
反応液を実施例1と同様にガスクロマトグラフィーで分
析定量した。
2−フェニル−5(4)−オキサシロンの収量;25.
5m mol ベンズアミドに対する収率 ;51%実施例
4 反応器にアセトアルデヒド2.2g(50m mol)
ベンズアミド6.05g(50m mol)、ジコバル
トオクタカルボニルCo2(CO)80.4g、モレキ
ュラーシーブ4A 20g、テトラヒドロフラン100
m1を入れ、次いでCO:H2=2:1の組成のガスを
60kg/cm2まで圧入した。
70℃で2時間加熱かきまぜ続けたところ、42mmo
lのガス吸収が認められた。
冷却後、実施例1と同様に反応液からコバルトを除去し
、減圧下に蒸留して沸点104°〜105℃/2mmH
gの純2−フェニル−4−メチル−5(4)−オキサシ
ロンを得た。
2−フェニル−4−メチル−5(4)−オキサシロンの
収量; ;38mmolベンズアミド
に対する収率 ;76%実施例 5 反応器にフェニルアセトアルデヒド6g(50mmol
)、ベンズアミド6.05g(50m mol)、ジコ
バルトオクタカルボニルCO2(CO)80.6g、モ
レキュラーシーブ4A 20g、ジオキサン100m1
を入れ、次いでCO:H2=4:1の組成のガスを15
0kg/cm2まで圧入した。
70℃で3時間加熱かきまぜ続けたところ、44mmo
lのガス吸収が認められた。
冷却後黄褐色の反応液を取り出し、実施例1と同様の処
理をして融点69−71℃の2−フェニル−4−ベンジ
ル−5(4)−オキサシロン結晶を得た。
2−フェニル−4−ベンジル−5(4)−オキサシロン
の ;40.4m molフェニルア
セトアルデヒドに対する収率;80.8% 実施例 6 反応器にアセトアルデヒド2.2g(50m mol)
、フェニルアセトアミド7.6g(50m mol)、
ジコバルトオクタカルボニルCo2(CO)80.6g
、モレキュラーシーブ4A 20g、ジオキサン100
m1を入れ、次いでCO:H2=1:1の組成のガスを
200kg/cm2まで圧入した。
70℃で3時間加熱かきまぜ続けたところ、28mmo
lのガス吸収が認められた。
冷却後、実施例3と同様に処理、蒸留して沸点125°
/lmmHgの2−ベンジル−4−メチル−5(4)−
オキサシロンを得た。
2−ベンジル−4−メチル−5(4)−オキサシロンの
収量; 24mmolフェニルア
フェニルビフェニルアセトアミド率実施例 7 反応器にN−メチロールフェニルアセトアミド8.25
g(50m mol)、ジコバルトオクタカルボニルC
o2(CO)80.6g、モレキュラーシーブ4A 2
0g、テトラヒドロフラン 100m1を入れ、次いで
CO:H2=1:1の組成のガスを200kg/cm2
まで圧入した。
70℃で2時間加熱かきまぜ続けたところ、42mmo
lのガス吸収が認められた。
冷却後、反応液の赤外スペクトル(1830cm−1)
によりオキサシロンの生成を確認し、実施例1と同様に
処理した反応液にベンズアルデヒドを加え、1時間加熱
還流した。
溶媒留去、再結晶により、融点110°〜111℃の2
−ベンジル−4−ベンジリデン−5(4)−オキサシロ
ンを得た。
2−ベンジル−4−ベンジリデン−5(4)−オキサシ
ロンの収量 32m molN−メチロー
ル−フェニルアセトアミドからの収率
64%実施例 8 反応器にイソブチルアルデヒド3.6g(50mmol
)、アクリルアミド 3.55g(50m mol)ジ
コバルトオクタカルボニルCo2(CO)80.6g、
モレキュラーシーブ4A 20g、テトラヒドロフラン
100m1を入れ、次いでCO:H2=1:1の組成の
ガスを160kg/cm2まで圧入した。
60℃で2時間加熱かきまぜ続けたところ、30m m
olのガス吸収が認められた。
冷却後、実施例1と同様にコバルトを除去し、減圧下に
蒸留して、沸点53〜55℃/3mmHgの2−ビニル
−4−イソプロピル−5(4)−オキサシロンを得た。
2−ビニル−4−イソプロピル−5(4)−オキサシロ
ンの収量 14.5m molアクリルア
ミドからの収率 29%実施例 9 反応器にN−メチロールアセトアミド4.45g(50
m mol)、ジコバルトオクタカルボニルCo2(C
O)80.6g、モレキュラーシーブ4A20g、テト
ラヒドロフラン 100m1を入れ、次いでCO:H2
=1:1の組成のガスを150 kg/cm2まで圧入
した。
60℃で2時間加熱かきまぜ続けた。
冷却後、反応液にベンズアルデヒドを加え、一時間還流
した。
溶媒留去した後、得られた粗結晶を再結して、融点 1
50〜152℃で黄色の2−メチル−4−ベンジリデン
−5(4)−オキサシロンを得た。
これにより反応液中に2−メチル−5(4)−オキサシ
ロンが生成していることが確認された。
2−メチル−4−ベンジリデン−5(4)−オキサシロ
ンの収量 4mmolN−メチロー
ルアセトアミドに対する収率8% 実施例 10 反応器にフェニルアセトアルデヒド6g(50mmol
)、アセトアミド2.95g(50m mol)、ジコ
バルトオクタカルボニルCo2(CO)80.6g、モ
レキュラーシーブ4A 20g、テトラヒドロフラン
100m1を入れ、次いでCO:H2=1:1の組成の
ガスを200kg/cm2まで圧入した。
70℃で2時間加熱かきまぜ続けた。
冷却後、反応液を取り出し、ガスクロマトグラフィー分
析により2−メチル−4−ベンジル−5(4)−オキサ
シロンを定量した。
2−メチル−4−ベンジル−5(4)−オキサシロンの
収量 5mmolフェニルアセ
トアルデヒドに対する収率 10% 実施例 11 反応器にN−メチロールベンズアミド7.55g(50
m mol)、ジコバルトオクタカルボニルCo2(C
O)80.6g、シリカゲル40g、テトラヒドロフラ
ン 100m1を入れ、次いでCO:H2=1:1の組
成のガスを200kg/cm2まで圧入した。
60℃で3時間加熱かきまぜ続けたところ、30m m
olのガス吸収が認められた。
冷却後、反応液を取り出し、ガスクロマトグラフィーに
て2−フェニル−5(4)−オキサシロンの定量を行な
った。
2−フェニル−5(4)−オキサシロンの収量;29m
mol N−メチロールベンズアミドに対する収率;58% 実施例 12 300mlステンレス鋼製電磁カキマゼ式オートクレー
ブに酢酸コバルト840mg、テトラヒドロフラン10
0m1を入れ、次いでCO:H2=3:1の組成のガス
を200kg/cm2まで圧入した。
140℃で60分間加熱攪拌後、常温常圧まで戻し、N
−メチロールベンズアミド7.55g、モレキュラーシ
ーブ4A 20gを加え、次いでCO:H2=3:1の
組成のガスを150kg/cm2まで圧入した。
70℃で2時間加熱攪拌したところ、46mmolのガ
ス吸収が認められた。
冷却後反応液を取り出し、ガスクロマトグラフィーにて
2−フェニル−5(4)−オキサシロンの定量を行った
2−フェニル−5(4)−オキサシロンの収量:4mm
ol N−メチロールベンズアミドに対する収率:88%

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式R1C0NH2(但し、式中R1は有機残基
    を示す)にて表わされる炭素数2以上のカルボン酸アミ
    ド及び一般式R2CHO(但し式中R2は水素又は有機
    残基を示す)にて表わされるアルデヒド、又は(2)一
    般式 (但し、式中R1は有機残基、R2は水素又は有機残基
    を示す) にて表わされるN−アルキロールアミドを一酸化炭素と
    コバルト触媒及び乾燥剤の共存下に反応せしめることを
    特徴とする一般式 (但し、式中R1及びR2は前記と同意義)にて表わさ
    れる2一置換−5(4)−オキサシロン類の製法。
JP51150054A 1976-12-14 1976-12-14 2−置換−5(4)−オキサゾロン類の製法 Expired JPS5811949B2 (ja)

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