JPS58118019A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS58118019A JPS58118019A JP21584381A JP21584381A JPS58118019A JP S58118019 A JPS58118019 A JP S58118019A JP 21584381 A JP21584381 A JP 21584381A JP 21584381 A JP21584381 A JP 21584381A JP S58118019 A JPS58118019 A JP S58118019A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- thin film
- layer
- distance
- recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/3116—Shaping of layers, poles or gaps for improving the form of the electrical signal transduced, e.g. for shielding, contour effect, equalizing, side flux fringing, cross talk reduction between heads or between heads and information tracks
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/312—Details for reducing flux leakage between the electrical coil layers and the magnetic cores or poles or between the magnetic cores or poles
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（］）発明の技術分野
本発明に電磁変換効率を向上はせた薄膜磁気ヘッドの構
造に関する。
造に関する。
（２）技術の背景
薄膜磁気ヘッドは小型でかつ、半導体の様にフォトリソ
グラフィー技術を用いて容易に大量化度できることから
現在注目′２！ねている、（３）従来技術及び問題点 以下、図を用いて従来の薄膜ヘッドの問題点を説明する
。第１図は従来の薄膜磁気ヘッドの斜視図、第２図は第
１図の線Ａ−Ａ’における断面図であり、（ａ）は上下
の磁性層間距離が一足の場合、（ｂ）はギャップから離
れた部分の磁性層間距離を太きくシ次場合を示す。図中
、１は基板、２は下部磁性層、３は上部磁性層、４は記
録再生ギャップ、５はコイル、６は絶縁層、７は電極、
８汀ヨ一ク部である。
グラフィー技術を用いて容易に大量化度できることから
現在注目′２！ねている、（３）従来技術及び問題点 以下、図を用いて従来の薄膜ヘッドの問題点を説明する
。第１図は従来の薄膜磁気ヘッドの斜視図、第２図は第
１図の線Ａ−Ａ’における断面図であり、（ａ）は上下
の磁性層間距離が一足の場合、（ｂ）はギャップから離
れた部分の磁性層間距離を太きくシ次場合を示す。図中
、１は基板、２は下部磁性層、３は上部磁性層、４は記
録再生ギャップ、５はコイル、６は絶縁層、７は電極、
８汀ヨ一ク部である。
かかる従来の薄膜磁気ヘッドではヨーク部８における下
部磁性層２、上部磁性層３０間の距離に第２図（ａ）の
様に一定かあるいは、（ｂ）の様に記録再生ギャップ４
から離れた部分で大とされている。
部磁性層２、上部磁性層３０間の距離に第２図（ａ）の
様に一定かあるいは、（ｂ）の様に記録再生ギャップ４
から離れた部分で大とされている。
この様に上下の磁性層２．３の間隔が狭いと磁束が漏れ
やすくなり電磁変換効率が低下してし１う。すなわち、
記録時にはコイル５を流れる電流により生じる磁束がヨ
ーク８の後部からギャップ４の方へ流れる際、従来のヘ
ッド構造では磁束が漏れ易く、再生時にも記録再生ギャ
ップ４側磁極先端から流入した磁束が従来のヘッド構造
で汀容ＪＡＫｍｈコイルらＶ友郭ｆ４肖Ｘド斗２ψ１ム
ユー２１、−１ノなってし丑うのである。
やすくなり電磁変換効率が低下してし１う。すなわち、
記録時にはコイル５を流れる電流により生じる磁束がヨ
ーク８の後部からギャップ４の方へ流れる際、従来のヘ
ッド構造では磁束が漏れ易く、再生時にも記録再生ギャ
ップ４側磁極先端から流入した磁束が従来のヘッド構造
で汀容ＪＡＫｍｈコイルらＶ友郭ｆ４肖Ｘド斗２ψ１ム
ユー２１、−１ノなってし丑うのである。
（４）発明の目的
本発明は上記の問題を解消し、薄膜磁気ヘッドの電磁変
換効率を向上することを目的とするものである。
換効率を向上することを目的とするものである。
（５）発明の構成
上記の目的は、磁性薄膜よりなる第１の磁極、非磁性膜
、絶縁層に挾まれた導体層、磁性薄膜よりなる第２の磁
極を基板上に順次積層１．で成る薄膜磁気ヘッドにおい
て、記録再生ギャップ近傍の該第１の磁極と該第２の磁
極間の距離を他の部分に対して大としたことを特徴とす
る薄膜磁気ヘッドを提供することにより達成きれる。
、絶縁層に挾まれた導体層、磁性薄膜よりなる第２の磁
極を基板上に順次積層１．で成る薄膜磁気ヘッドにおい
て、記録再生ギャップ近傍の該第１の磁極と該第２の磁
極間の距離を他の部分に対して大としたことを特徴とす
る薄膜磁気ヘッドを提供することにより達成きれる。
（６）発明の実施例
以下図を用いて本発明の詳細な説明する。
第３図は本発明にか力る薄膜磁気ヘッドの斜視図、第４
図は第３図の線Ｂ−Ｂ’における断面図、第５図は読み
出し時における磁束分布、第６図は書き込み時における
磁束分布、第７図Ｕ＊＊込み時における磁場強度分布を
示す図である。尚、図中９の薄膜磁気ヘッドの特性を示
す。
図は第３図の線Ｂ−Ｂ’における断面図、第５図は読み
出し時における磁束分布、第６図は書き込み時における
磁束分布、第７図Ｕ＊＊込み時における磁場強度分布を
示す図である。尚、図中９の薄膜磁気ヘッドの特性を示
す。
本発明にカーかる薄膜磁気ヘッドは第４図に示す様に記
録再成ギャップ４の近傍でヨーク部８の下部磁性層２と
上部磁性層３の間の距離が大となる様に上部磁性層３と
絶縁層６の間に付加絶縁層９を形成している。
録再成ギャップ４の近傍でヨーク部８の下部磁性層２と
上部磁性層３の間の距離が大となる様に上部磁性層３と
絶縁層６の間に付加絶縁層９を形成している。
この様な構造にすることにより磁束が漏れに〈〈なり、
記録時にコイル５で発生り、た磁束σ効率よく記録再生
ギャップ４側へ導力れ、再生時にも記録再生ギャップ４
側から流入する磁束は効率よくコイル５と鎖交する。
記録時にコイル５で発生り、た磁束σ効率よく記録再生
ギャップ４側へ導力れ、再生時にも記録再生ギャップ４
側から流入する磁束は効率よくコイル５と鎖交する。
例えはヨーク部８における磁極間距離を一定とした場合
とギャップ４の近傍で磁極間距離を犬と１また場合の磁
束分布は磁気モデルを用いた計算により、第５乃至第７
図の様な特性を示すことが確認きれた。
とギャップ４の近傍で磁極間距離を犬と１また場合の磁
束分布は磁気モデルを用いた計算により、第５乃至第７
図の様な特性を示すことが確認きれた。
第５図によれば、読み出し時の磁束がコイル５の周辺で
従来に比べ大となり、第６，７図によれば書き込み時の
磁束及び磁場の強度が増加１−てお３− リ、従来よりも効率良く電磁変換が行われていることが
わかる。
従来に比べ大となり、第６，７図によれば書き込み時の
磁束及び磁場の強度が増加１−てお３− リ、従来よりも効率良く電磁変換が行われていることが
わかる。
また−数直例をあげると、磁極厚さ３μｍ１ギ’ｒｙプ
長０．８ ｐ ｒｎｓヨーク長１００μｍｓ透磁率５０
０、Ｂｓ＝１０００ガウス、磁極間距離６μｍ一定の従
来の＃膜磁気ヘッドでは再生効率５５チ、ギャップ磁場
５２０００ｃであるのに対１１、記録再生ギャップ４側
の磁極間距離を１２μｍと１〜、他の形状を同一と【、
７た本発明にかかる薄膜磁気ヘッドでは再生効率が６１
チ、ギャップ磁場が６８０００ｅに向上することが確認
はれた。
長０．８ ｐ ｒｎｓヨーク長１００μｍｓ透磁率５０
０、Ｂｓ＝１０００ガウス、磁極間距離６μｍ一定の従
来の＃膜磁気ヘッドでは再生効率５５チ、ギャップ磁場
５２０００ｃであるのに対１１、記録再生ギャップ４側
の磁極間距離を１２μｍと１〜、他の形状を同一と【、
７た本発明にかかる薄膜磁気ヘッドでは再生効率が６１
チ、ギャップ磁場が６８０００ｅに向上することが確認
はれた。
同不実施例における付加絶縁層９は、絶縁層６を成膜後
、同様にフォトリソグラフィー技術により容易に形成す
ることができる。またフォトレジスト自体を絶縁層９と
しても良く、この場合には崖光、現像後熱硬化させれば
良い。
、同様にフォトリソグラフィー技術により容易に形成す
ることができる。またフォトレジスト自体を絶縁層９と
しても良く、この場合には崖光、現像後熱硬化させれば
良い。
１に本発明にかかる薄膜磁気ヘッドの断面形状は第４図
に示すものに限らず、ギャップ４近傍の磁極間距離か他
の部分より大となっていれはよく、４− 第８図は本発明の他の実施例であり、ヨーク部８の断面
形状を示す。本実施例に第４図に示す付加絶縁層９を３
回に分けて形成シ、ｆｒ、もので、絶縁層６を形成後付
加絶縁層１（＋、 １１．１２ｆ徐々にパターンをかえ
つつ順次形成する。この様にすることで任意の断面形状
を形成することができる。
に示すものに限らず、ギャップ４近傍の磁極間距離か他
の部分より大となっていれはよく、４− 第８図は本発明の他の実施例であり、ヨーク部８の断面
形状を示す。本実施例に第４図に示す付加絶縁層９を３
回に分けて形成シ、ｆｒ、もので、絶縁層６を形成後付
加絶縁層１（＋、 １１．１２ｆ徐々にパターンをかえ
つつ順次形成する。この様にすることで任意の断面形状
を形成することができる。
第９図は本発明の他の実施例である。コイル層と絶縁層
を交互に形成してなる場合に、ギャップ４近傍の磁極間
距離の増大を各層にわりあてたものである。
を交互に形成してなる場合に、ギャップ４近傍の磁極間
距離の増大を各層にわりあてたものである。
（７）発明の詳細
な説明した様に本発明によれば薄膜磁気ヘッドの記録効
率、再生効率が向上し、より小電流でか向上する。
率、再生効率が向上し、より小電流でか向上する。
【図面の簡単な説明】
第１図は従来の薄膜磁気ヘッドの斜視図、第２図は第１
図の線Ａ−Ａ’における断面図であり、（ａ）ャップか
ら離れた部分の磁極間距離を大と１．た場合、第３図は
本発明にか力・る＃膜磁気ヘッドの斜視図、第４図げ第
３図の線Ｂ−Ｂ’における断面図、第５図は読み出し時
における磁束分布、第６図に書き込み時における磁束分
布、第７図は書き込み時における磁場残置分布を示す図
であり、第５乃至７図の磁線は従来の薄膜磁気ヘッドの
特性、第８．９図は本発明の他の実施例の断面図である
。 Ｉ・・・基板、２・・・下部磁性層、３・・・上部磁性
層、４・・・記録再生ギャップ、５・・・コイル、６・
・・絶縁層、７・・・電極、８・・・ヨーク部、９．
Ｈｌ、 １１．１２・・・付加絶縁層。 特閏昭５８−１１８０１９ （３） ７− （Ｅ ４寸 肺 十−一 口 ト ＼０ 輪
図の線Ａ−Ａ’における断面図であり、（ａ）ャップか
ら離れた部分の磁極間距離を大と１．た場合、第３図は
本発明にか力・る＃膜磁気ヘッドの斜視図、第４図げ第
３図の線Ｂ−Ｂ’における断面図、第５図は読み出し時
における磁束分布、第６図に書き込み時における磁束分
布、第７図は書き込み時における磁場残置分布を示す図
であり、第５乃至７図の磁線は従来の薄膜磁気ヘッドの
特性、第８．９図は本発明の他の実施例の断面図である
。 Ｉ・・・基板、２・・・下部磁性層、３・・・上部磁性
層、４・・・記録再生ギャップ、５・・・コイル、６・
・・絶縁層、７・・・電極、８・・・ヨーク部、９．
Ｈｌ、 １１．１２・・・付加絶縁層。 特閏昭５８−１１８０１９ （３） ７− （Ｅ ４寸 肺 十−一 口 ト ＼０ 輪
Claims (1)
- 磁性薄膜よりなる第１の磁極、非磁性膜、絶縁層に挾ま
れた導体層、磁性薄膜よりなる第２の磁極を基板上に順
次積層して成る薄膜磁気ヘッドにおいて、記録再生ギャ
ソゾ近傍の該第１の磁極と該第２の磁極間の距離を他の
部分に対（２て大としたことを特徴とする薄膜磁気ヘッ
ド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21584381A JPS58118019A (ja) | 1981-12-29 | 1981-12-29 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21584381A JPS58118019A (ja) | 1981-12-29 | 1981-12-29 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58118019A true JPS58118019A (ja) | 1983-07-13 |
Family
ID=16679183
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21584381A Pending JPS58118019A (ja) | 1981-12-29 | 1981-12-29 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58118019A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6342012A (ja) * | 1986-08-06 | 1988-02-23 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
-
1981
- 1981-12-29 JP JP21584381A patent/JPS58118019A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6342012A (ja) * | 1986-08-06 | 1988-02-23 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
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