JPS59112415A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS59112415A JPS59112415A JP22060282A JP22060282A JPS59112415A JP S59112415 A JPS59112415 A JP S59112415A JP 22060282 A JP22060282 A JP 22060282A JP 22060282 A JP22060282 A JP 22060282A JP S59112415 A JPS59112415 A JP S59112415A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- magnetic material
- magnetic layer
- thin film
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気ディスク装置等に用いられる薄膜磁気へ、
ドに関する。
ドに関する。
一般に、この種の薄膜磁気ヘッドは、例えば、第１図に
示すような構造を有している。すなわち、 １ − 基板１１上に絶縁層１２を成膜したあと、軟磁性体材料
料えばＮｉＦｅにッケル・鉄）合金等からなる下部磁性
体層１３が形成される。次いで、ギャップとなる所定膜
厚の絶縁層１４が形成される。
示すような構造を有している。すなわち、 １ − 基板１１上に絶縁層１２を成膜したあと、軟磁性体材料
料えばＮｉＦｅにッケル・鉄）合金等からなる下部磁性
体層１３が形成される。次いで、ギャップとなる所定膜
厚の絶縁層１４が形成される。
さらに、焼締めフォトレジスト層１５および１７に埋込
まれるようにして導体材料例えばＡｕ、 Ｃｕ等から々
るコイル１６が形成されたあと、軟磁性体材料からなる
上部磁性体層１８が形成され、次に、Ａ、Ａ２０３等の
絶縁物からなる保護膜１９が形成されて薄膜磁気ヘッド
のトランスデー−サ一部が完成する。
まれるようにして導体材料例えばＡｕ、 Ｃｕ等から々
るコイル１６が形成されたあと、軟磁性体材料からなる
上部磁性体層１８が形成され、次に、Ａ、Ａ２０３等の
絶縁物からなる保護膜１９が形成されて薄膜磁気ヘッド
のトランスデー−サ一部が完成する。
ここで、このような構造を有する薄膜磁気ヘッドにおい
ては、焼締めフォトレジスト層１７上に上部磁性体層１
８が積層されるため、第１図に示したように、フロント
・ギャップ側およびリア・ギャップ側になだらかな段差
部（それぞれ、第１図中の矢印Ｎおよび矢印Ｂで示す）
が形成される。
ては、焼締めフォトレジスト層１７上に上部磁性体層１
８が積層されるため、第１図に示したように、フロント
・ギャップ側およびリア・ギャップ側になだらかな段差
部（それぞれ、第１図中の矢印Ｎおよび矢印Ｂで示す）
が形成される。
このような段差部においては、前記上部磁性体層１８を
成す軟磁性体材料の磁気特性２例えば、透磁率および保
磁力等が劣化し、磁気ヘッドのＲ／Ｗ ９− （Ｒ，ｅａｄ／Ｗｒｉｔｅ）効率低下の要因となってい
る。
成す軟磁性体材料の磁気特性２例えば、透磁率および保
磁力等が劣化し、磁気ヘッドのＲ／Ｗ ９− （Ｒ，ｅａｄ／Ｗｒｉｔｅ）効率低下の要因となってい
る。
さらに、上述の段差部においては、上部磁性体層１８の
磁区構造が不規則となり、再生波形の歪み、および不規
則な変動の要因となっている。
磁区構造が不規則となり、再生波形の歪み、および不規
則な変動の要因となっている。
本発明の目的は上述の欠点を除去した薄膜磁気ヘッドを
提供することにある、。
提供することにある、。
本発明のヘッドは、軟磁性体材料からなる上部磁性体層
および下部磁性体層との間に導体材料からなるコイルを
挾んでなる薄膜磁気ヘッドにおいて、前記上部磁性体層
と下部磁性体層との結合部であるリア・ギャップ部に、
ギャップとなる絶縁層と焼締めフォトレジスト層とのそ
れぞれの膜厚の和にほぼ等しい膜厚を有する軟磁性体層
を形成しである。
および下部磁性体層との間に導体材料からなるコイルを
挾んでなる薄膜磁気ヘッドにおいて、前記上部磁性体層
と下部磁性体層との結合部であるリア・ギャップ部に、
ギャップとなる絶縁層と焼締めフォトレジスト層とのそ
れぞれの膜厚の和にほぼ等しい膜厚を有する軟磁性体層
を形成しである。
次に、本発明について図面全参照して詳細に説明する。
第２図は本発明の一実施例分水す断面図である。
第２図において、本実施例は、基板２１上に絶縁層２２
全成膜したあと、軟磁性体材料例えばＮｉＦｅ合金等か
らなる下部磁性体層２３が形成される。
全成膜したあと、軟磁性体材料例えばＮｉＦｅ合金等か
らなる下部磁性体層２３が形成される。
次いで、ギャップとなる所定膜厚の絶縁層２４が形成さ
れる。このあと、焼締めフォトレジスト層２５および２
７に埋込まれるようにして導体材料例えばＡｕおよびＣ
ｕ等からなるコイル２６が形成される。次いで、上部磁
性体層２８と下部磁性体層２３との結合部であるリア・
ギャップ部に、前記絶Ｒ層２４と前記焼締めフォトレジ
スト層２５および２７の各々の膜厚の和に等しい膜厚を
有する１Ｎｉｐｅ合金等からなる軟磁性体１ｍ ３０
’に形成する。さらに、上部磁性体層２８．ｓ＃２０３
等の絶縁物からなる保護膜２９が形成されて薄膜磁気ヘ
ッドのトランスデユーサ一部が完成する。
れる。このあと、焼締めフォトレジスト層２５および２
７に埋込まれるようにして導体材料例えばＡｕおよびＣ
ｕ等からなるコイル２６が形成される。次いで、上部磁
性体層２８と下部磁性体層２３との結合部であるリア・
ギャップ部に、前記絶Ｒ層２４と前記焼締めフォトレジ
スト層２５および２７の各々の膜厚の和に等しい膜厚を
有する１Ｎｉｐｅ合金等からなる軟磁性体１ｍ ３０
’に形成する。さらに、上部磁性体層２８．ｓ＃２０３
等の絶縁物からなる保護膜２９が形成されて薄膜磁気ヘ
ッドのトランスデユーサ一部が完成する。
以上、述べてきたような構造を有する薄膜磁気ヘッドに
おいては、上部磁性体層２８と下部磁性体層２３との結
合部でリア・ギャップ部に軟磁性体層３０が挿入されて
いるため、前記上部磁性体層２８は第２図に示したよう
に、リア・ギャップ部において段差部（第１図中の矢印
Ｂで示した箇所）をほとんど経験せず、このため、前記
上部磁性体層２８０段差部における磁気特注の劣化、す
なわち、透磁率および保磁力等の劣化が抑制され、優れ
たＲ／Ｗ効率を有する薄膜磁気ヘッドが製造できる。ま
た、磁区構造も従来例に比較して安定化するため、再生
波形の歪み等も改善される。しかも、前記軟磁性体層３
０の分だけ、薄膜磁気ヘッドの磁気回路を成す磁気体の
量が増加するので、リア・ギャップ部における磁気的な
飽和が抑制されＲ／Ｗ効率も向上する。
おいては、上部磁性体層２８と下部磁性体層２３との結
合部でリア・ギャップ部に軟磁性体層３０が挿入されて
いるため、前記上部磁性体層２８は第２図に示したよう
に、リア・ギャップ部において段差部（第１図中の矢印
Ｂで示した箇所）をほとんど経験せず、このため、前記
上部磁性体層２８０段差部における磁気特注の劣化、す
なわち、透磁率および保磁力等の劣化が抑制され、優れ
たＲ／Ｗ効率を有する薄膜磁気ヘッドが製造できる。ま
た、磁区構造も従来例に比較して安定化するため、再生
波形の歪み等も改善される。しかも、前記軟磁性体層３
０の分だけ、薄膜磁気ヘッドの磁気回路を成す磁気体の
量が増加するので、リア・ギャップ部における磁気的な
飽和が抑制されＲ／Ｗ効率も向上する。
以上、述べてきたように１本発明によれば、再生波形の
歪み等の低域およびＲ，／Ｗ効率の向上を達成できると
いう効果がある。
歪み等の低域およびＲ，／Ｗ効率の向上を達成できると
いう効果がある。
第１図は従来の薄膜磁気ヘッドを示す断面図および第２
図は本発明の一実施例を示す断面図である。 図において、 １１．３１・・・・・・基板、１２，１４，２２．２４
・・・・・・絶縁層、１３，２３・・・・・・下部磁性
体層、１５゜１７．２５．２７・・・・・・焼締めフォ
トレジスト層、 ５− １６．２６・・・・・・コイル、１８．２８・・・・・
・上部磁性体層、１９．２９・・・・・保護膜、３０・
・・・・・軟磁性体層。 ＝６−
図は本発明の一実施例を示す断面図である。 図において、 １１．３１・・・・・・基板、１２，１４，２２．２４
・・・・・・絶縁層、１３，２３・・・・・・下部磁性
体層、１５゜１７．２５．２７・・・・・・焼締めフォ
トレジスト層、 ５− １６．２６・・・・・・コイル、１８．２８・・・・・
・上部磁性体層、１９．２９・・・・・保護膜、３０・
・・・・・軟磁性体層。 ＝６−
Claims (1)
- 軟磁性体材料からなる上部磁性体層と下部磁性体層との
間に導体材料からなるコイルを挾んでなる薄膜磁気ヘッ
ドにおいて、前記上部磁性体層と下部磁性体層との結合
部分であるリア・ギャップ部に、ギャップとなる絶縁層
と焼締めフォトレジスト層とのそれぞれの膜厚の和にほ
ぼ等しい膜厚を有する軟磁性体層を形成したことを特徴
とする薄膜磁気ヘッド、。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22060282A JPS59112415A (ja) | 1982-12-16 | 1982-12-16 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22060282A JPS59112415A (ja) | 1982-12-16 | 1982-12-16 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59112415A true JPS59112415A (ja) | 1984-06-28 |
| JPS6331854B2 JPS6331854B2 (ja) | 1988-06-27 |
Family
ID=16753543
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22060282A Granted JPS59112415A (ja) | 1982-12-16 | 1982-12-16 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59112415A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03181802A (ja) * | 1989-12-12 | 1991-08-07 | Seiko Instr Inc | 走査型トンネル顕微鏡 |
| US5901431A (en) * | 1995-06-07 | 1999-05-11 | International Business Machines Corporation | Method of fabricating a thin film inductive head having a second pole piece having a mushroom yoke portion |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5593519A (en) * | 1978-12-28 | 1980-07-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head |
-
1982
- 1982-12-16 JP JP22060282A patent/JPS59112415A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5593519A (en) * | 1978-12-28 | 1980-07-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03181802A (ja) * | 1989-12-12 | 1991-08-07 | Seiko Instr Inc | 走査型トンネル顕微鏡 |
| JP2835530B2 (ja) * | 1989-12-12 | 1998-12-14 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | 走査型トンネル顕微鏡 |
| US5901431A (en) * | 1995-06-07 | 1999-05-11 | International Business Machines Corporation | Method of fabricating a thin film inductive head having a second pole piece having a mushroom yoke portion |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6331854B2 (ja) | 1988-06-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |