JPS58114032A - パタ−ン形成方法 - Google Patents
パタ−ン形成方法Info
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- JPS58114032A JPS58114032A JP20977281A JP20977281A JPS58114032A JP S58114032 A JPS58114032 A JP S58114032A JP 20977281 A JP20977281 A JP 20977281A JP 20977281 A JP20977281 A JP 20977281A JP S58114032 A JPS58114032 A JP S58114032A
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- JP
- Japan
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- forming
- electron beam
- layer
- methyl
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- Granted
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/008—Azides
- G03F7/012—Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0125—Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the macromolecular azides
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20977281A JPS58114032A (ja) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | パタ−ン形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20977281A JPS58114032A (ja) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | パタ−ン形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58114032A true JPS58114032A (ja) | 1983-07-07 |
JPS6358338B2 JPS6358338B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1988-11-15 |
Family
ID=16578348
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20977281A Granted JPS58114032A (ja) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | パタ−ン形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58114032A (enrdf_load_stackoverflow) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6073536A (ja) * | 1983-09-30 | 1985-04-25 | Fujitsu Ltd | パタ−ン形成方法 |
JPS62273529A (ja) * | 1986-05-10 | 1987-11-27 | チバ−ガイギ− アクチエンゲゼル シヤフト | 画像形成方法 |
JPS63163452A (ja) * | 1986-12-17 | 1988-07-06 | チバ−ガイギー アクチェンゲゼルシャフト | 画像形成方法 |
JP2023153918A (ja) * | 2018-08-17 | 2023-10-18 | スター サージカル カンパニー | 屈折率のナノ勾配を示すポリマー組成物 |
US12295829B2 (en) | 2021-10-04 | 2025-05-13 | Staar Surgical Company | Ophthalmic implants for correcting vision with a tunable optic, and methods of manufacture and use |
-
1981
- 1981-12-28 JP JP20977281A patent/JPS58114032A/ja active Granted
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6073536A (ja) * | 1983-09-30 | 1985-04-25 | Fujitsu Ltd | パタ−ン形成方法 |
JPS62273529A (ja) * | 1986-05-10 | 1987-11-27 | チバ−ガイギ− アクチエンゲゼル シヤフト | 画像形成方法 |
JPS63163452A (ja) * | 1986-12-17 | 1988-07-06 | チバ−ガイギー アクチェンゲゼルシャフト | 画像形成方法 |
JP2023153918A (ja) * | 2018-08-17 | 2023-10-18 | スター サージカル カンパニー | 屈折率のナノ勾配を示すポリマー組成物 |
US12295829B2 (en) | 2021-10-04 | 2025-05-13 | Staar Surgical Company | Ophthalmic implants for correcting vision with a tunable optic, and methods of manufacture and use |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6358338B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1988-11-15 |
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