JPS58103045U - ドライ現像装置 - Google Patents
ドライ現像装置Info
- Publication number
- JPS58103045U JPS58103045U JP19857581U JP19857581U JPS58103045U JP S58103045 U JPS58103045 U JP S58103045U JP 19857581 U JP19857581 U JP 19857581U JP 19857581 U JP19857581 U JP 19857581U JP S58103045 U JPS58103045 U JP S58103045U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- parallel plate
- substrate surface
- plasma
- resist
- substrate
- Prior art date
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- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図はレジストが塗布された基板の断面図、第2図及
び第3図は本考案ドライ現像装置のブロック図である。 1・・・基板、2・・・レジスト、4.4・・・平行平
板電極、5・・・高周波電源、6・・・スイッチ、7・
・・イオン検出器。
び第3図は本考案ドライ現像装置のブロック図である。 1・・・基板、2・・・レジスト、4.4・・・平行平
板電極、5・・・高周波電源、6・・・スイッチ、7・
・・イオン検出器。
Claims (1)
- 基板上に形成されたレジストをプラズマMに依って現像
するドライ限像装置において、成像槽−に設けられた平
行平板電極と、この平行平板電極に高周波電圧を供給す
る電源と、基板表面から放出されるイオンを検出するイ
オン検出器と、から成り、上記平行平板電極間にレジス
トを塗布した基板を配置し、この現像槽内ヘプラズマガ
スを供給するとともに前記平行平板電極間に高周波電圧
を印加して両電極間でプラズマ放電を行わしめ、そのプ
ラズマに依って基板表面のレジスト現像を行い、現像が
進行して基板面が露出されたときに、該基板表面から放
出されるイオンを、前記イオン検出器で検出せしめて現
像処理の完了を識別することを特徴としたドライ現像装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19857581U JPS58103045U (ja) | 1981-12-29 | 1981-12-29 | ドライ現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19857581U JPS58103045U (ja) | 1981-12-29 | 1981-12-29 | ドライ現像装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58103045U true JPS58103045U (ja) | 1983-07-13 |
JPH0114025Y2 JPH0114025Y2 (ja) | 1989-04-25 |
Family
ID=30111755
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19857581U Granted JPS58103045U (ja) | 1981-12-29 | 1981-12-29 | ドライ現像装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58103045U (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0395559A (ja) * | 1989-09-08 | 1991-04-19 | Tokyo Electron Ltd | 現像方法 |
JPH1055073A (ja) * | 1997-04-24 | 1998-02-24 | Tokyo Electron Ltd | ドライ現像装置 |
-
1981
- 1981-12-29 JP JP19857581U patent/JPS58103045U/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0395559A (ja) * | 1989-09-08 | 1991-04-19 | Tokyo Electron Ltd | 現像方法 |
JPH1055073A (ja) * | 1997-04-24 | 1998-02-24 | Tokyo Electron Ltd | ドライ現像装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0114025Y2 (ja) | 1989-04-25 |
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