JPH1199561A - ドライフィルムラミネータ - Google Patents

ドライフィルムラミネータ

Info

Publication number
JPH1199561A
JPH1199561A JP9261780A JP26178097A JPH1199561A JP H1199561 A JPH1199561 A JP H1199561A JP 9261780 A JP9261780 A JP 9261780A JP 26178097 A JP26178097 A JP 26178097A JP H1199561 A JPH1199561 A JP H1199561A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dry film
laminating
rolls
film resist
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9261780A
Other languages
English (en)
Inventor
Ryuji Ueda
龍二 上田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP9261780A priority Critical patent/JPH1199561A/ja
Publication of JPH1199561A publication Critical patent/JPH1199561A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/0007Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding involving treatment or provisions in order to avoid deformation or air inclusion, e.g. to improve surface quality
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2309/00Parameters for the laminating or treatment process; Apparatus details
    • B32B2309/06Angles

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Quality & Reliability (AREA)
  • Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 フープ材からなる基材にドライフィルムレジ
ストをラミネートする際に、シワ、気泡の巻き込み、特
にマイクロエアーの発生がないドライフィルムラミネー
タを提供するこである。 【解決手段】 押さえロール12、13及び18、19
がてラミネートロール14、15及び20、21の直前
に設置されており、押さえロール12、13及び18、
19の位置関係は押さえロール12、13及び18、1
9のピンチ点がラミネートロール14、15のピンチ点
とラミネートロール20、21のピンチ点を結んだ水平
パスライン上の位置に、もしくはドライフイルムレジス
ト16又は22が供給されるラミネートロール15又は
20の反対側にずれた位置に配置されるようにして、基
材11とドライフィルムレジスト16又は22との進入
角度が大きくなるようにした押さえロールを設けたドラ
イフィルムラミネーター。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はリードフレーム、フ
レキシブルプリント配線板及びTABテープ等を作製す
るためのフープ材にドライフイルムレジストをラミネー
トするドライフィルムラミネータに関する。
【0002】
【従来の技術】基材にドライフィルムレジストをラミネ
ートする際によく発生する問題点としてシワ、たるみ、
空気の巻き込み等がある。特にマイクロエアと呼ばれる
目視ではわからない微小な気泡が基材とドライフィルム
レジストの間に入り込む現象は高精細パターニングにお
いてカケ欠陥となって現れる。
【0003】専らドライフィルムレジストが用いられて
いるプリント配線板の分野ではこれらの問題を回避する
ためにラミネート条件の慎重な設定がなされている。ラ
ミネート条件としては基材予熱温度、ラミネート温度、
加圧、ラミネートロールの硬さや直径、ドライフィルム
レジストのテンション、ドライフィルムレジストのラミ
ネートロールへの抱き角、ラミネートの速度など多数の
因子がある。
【0004】また、ラミネータについては、特開昭52
−52703号公報や特開昭57−198693号公報
に記載されているような機構がある。特開昭52−52
703号公報では、真空容器内で200mmHg以下、
好ましくは60mmHg以下まで系内を減圧した状態で
ラミネートするいわゆる真空ラミネータが提案されてい
る。
【0005】さらに、特開昭57−198693号公報
では、ラミネート温度よりも低い温度でドライフィルム
レジストを基材に重ね加熱によるシワ、たるみのない状
態でロール圧着し、ついでラミネート温度に加熱したロ
ールで熱圧着する、いわゆる2段ラミネータが提案され
ている。
【0006】プリント配線板では基材はリジッドなガラ
スエポキシ樹脂のシート材を使用しているのに対し、リ
ードフレーム、フレキシブルプリント配線板及びTAB
テープ等ではロール状に巻かれたフープ材を使用する場
合が多い。
【0007】このようなフープ材の場合、基材自体が長
尺で柔軟なため、リジッドなシート材よりもラミネート
はさらに難しくなる。プリント配線板のようなガラスエ
ポキシ樹脂のシート材はラミネートロールの駆動だけで
送られるが、フープ材の場合は、テンションをかけて巻
出しから巻取りへ搬送するという不安定な操作が加わ
る。特に、フープ材ではマイクロエアの発生が深刻であ
り、プリント配線板のようなリジッドなシート材におけ
るラミネート条件の選定だけではマイクロエアーの発生
を抑えることは難しい。
【0008】マイクロエアーは数十ミクロンオーダーと
微小であるため、目に見えないわずかなフープ材のビビ
リ、振動、よじれ、うねりなどが影響する。マイクロエ
アを防止するには特開昭52−52703号公報に記載
の真空ラミネータが有効と考えられるが、真空容器のシ
ールなど装置が複雑で高価となる。また、真空ラミネー
タでは減圧により系内に終始ゴミを引き寄せるので、常
にゴミの問題がつきまとう。
【0009】真空シールや塵埃の持ち込みのため、真空
ラミネータではラミネートの前工程と後工程にフープ材
を通して連続ラインとしてつなげることも困難である。
特開昭57−198693号公報に開示されている2段
ラミネータは最初の低温でのラミネートで気泡を巻き込
み易く、マイクロエアに対しては効果がない。長尺のフ
ープ材では1段目のラミネートで一度気泡を巻き込むと
気泡が抜ける余地がないために2段目のラミネートロー
ルでそれが分散され連続的にマイクロエアが発生する事
態となる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題点に
鑑みなされたもので、リードフレーム、フレキシブルプ
リント配線板及びTABテープ等を作製するためのフー
プ材にドライフィルムレジストをラミネートする際に、
シワ、気泡の巻き込み、特にマイクロエアーの発生がな
いドライフィルムラミネータを提供することを目的とす
る。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明に於いて上記問題
を解決するために、基材とドライフィルムレジストをラ
ミネートロールで熱圧着し前記基材上にドライフィルム
レジスト層を形成するドライフィルムラミネータにおい
て、前記ラミネートロールで前記基材と前記ドライフィ
ルムレジストをラミネートする直前に前記基材を挟み込
む一対の押さえロールを備えたことを特徴とするドライ
フィルムラミネータとしたものである。
【0012】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態につき説
明する。図1に本発明のドライフィルムラミネータの一
実施例を示す部分断面図を、図2に本発明のドライフィ
ルムラミネータの他の実施例を示す部分断面図を示す。
本発明は基材とドライフィルムレジストを熱圧着するラ
ミネートロールの基材進入側直前に基材を挟み込む一対
の押さえロールを備えることにより、ラミネートロール
に入る直前の基材のビビリ、振動、うねり、よじれ等を
防止しラミネート後の基材とドライフィルムレジスト間
に気泡(マイクロエアー)を発生させないようにしたド
ライフィルムラミネータである。
【0013】基材の両面に同時にラミネートする場合は
図1に示すように、フープ材からなる基材1はラミネー
トロール4、5に進入する直前に設置された押さえロー
ル2、3に挟み込まれてラミネートロール4、5に送り
込まれ、一方ドライフィルムレジスト6、7がラミネー
トロール4、5に供給されラミネートされる。押さえロ
ール2、3の位置関係は押さえロール2、3のピンチ点
が押さえロール2、3のピンチ点とラミネートロール
4、5のピンチ点を結んだ水平パスライン上に配置され
るようにする(図1参照)。
【0014】片面ラミネート或いは片面づつ2度に分け
て両面ラミネートする場合は図2に示すように、予熱炉
24で加熱されたフープ材からなる基材11はラミネー
トロール14、15の直前に設置された押さえロール1
2、13に挟み込まれてラミネートロール14、15に
送り込まれる。一方ドライフィルムレジスト16がラミ
ネートロール15側から供給され基材11にラミネート
されて片面ドライフィルムレジスト材17が得られる。
更に、片面ドライフィルムレジスト材17はラミネート
ロール20、21の直前に設置された押さえロール1
8、19に挟み込まれてラミネートロール20、21に
送り込まれる。一方ドライフィルムレジスト22がラミ
ネートロール20側から供給され片面ドライフィルムレ
ジスト材17のもう一方の面にラミネートされて両面ド
ライフィルムレジスト材23が得られる。
【0015】ここで、押さえロール12、13及び1
8、19の位置関係は押さえロール12、13及び1
8、19のピンチ点がラミネートロール14、15のピ
ンチ点とラミネートロール20、21のピンチ点を結ん
だ水平パスライン上の位置に、もしくはドライフイルム
レジスト16又は22が供給されるラミネートロール1
5又は20の反対側にずれた位置に、配置されるように
して基材11とドライフィルムレジスト16又は22と
の進入角度が大きくなるようにする(図2参照)。更
に、ラミネートロール14、15と押さえロール12、
13及びラミネートロール20、21と押さえロール1
8、19との距離は支障のない限り極力近ずける。
【0016】押さえロールを設けることにより、ラミネ
ートロールのピンチ点近傍で熱溶融しているドライフィ
ルムレジストと基材表面の接触の瞬間が均一になり安定
化する。微視的には、ラミネートロールのピンチ点近傍
にそって熱溶融したドライフィルムレジストのわずかな
液だまりが存在するが、これが攪乱されたり、ピンチ点
より先に基材表面と不均一に接触したりすることを防止
する。
【0017】両面同時ラミネートの場合は、ラミネート
ロールへの基材の進入位置はラミネートロールのピンチ
点と水平パスライン上の1点しかないが、片面ラミネー
ト或いは片面づつ2度に分けて両面ラミネートする場合
は、基材はラミネート面の反対側に角度を持たせてラミ
ネートロールへ進入させた方がより有利となる。このよ
うに押さえロールにより基材のラミネートロールへの進
入角度及び振動を制御することによって、ラミネートの
瞬間の基材表面とドライフィルムレジストの界面の乱れ
を抑制し、マイクロエアーの発生を防止する。
【0018】
【実施例】以下実施例により本発明を詳細に説明する。
図1に本発明のドライフィルムラミネータの実施例1の
構成を示す部分断面図を、図2に本発明のドライフィル
ムラミネータの実施例2の構成を示す部分断面図を、図
3に従来のドライフィルムラミネータの構成を示す部分
断面図をそれぞれ示す。
【0019】<実施例1>板厚0.125mm、幅53
5mmのリードフレーム用銅合金EFTEC64T(古
河電工(株))のフープ材からなる基材1を巻出し・巻
取り装置により150Kgのテンションをかけて2m/
分で搬送した。基材1は予熱炉9で50℃に加熱され、
押さえロール2、3を経て加熱されたラミネートロール
4、5でドライフィルムレジスト6、7を基材1の両面
にラミネートした。
【0020】ここで、押さえロール2、3は20mmφ
の金属ロールを使用し、押さえロール2、3はラミネー
トロール4、5のピンチ点の水平パスライン上の100
mm手前の位置になるよう配置した。押さえロール2、
3は特に回転駆動はしないで従動回転させた。
【0021】ラミネートロール4、5は厚さ3mm、ゴ
ム硬度80度の耐熱シリコンゴムがライニングされた外
径80mmφのシリンダーロールを使用し、内蔵ヒータ
ーで表面温度105℃に加熱した。ラミネートロール
4、5は基材1の搬送と連動で回転駆動した。
【0022】ドライフィルムレジスト6、7は膜厚30
μmの旭化成(株)製AQ3036を使用し、1. 5K
gのバックテンションをかけた。
【0023】ドライフィルムレジスト6、7の基材1へ
のラミネートは表面温度105℃に加熱されたラミネー
トロール4、5を線厚2Kg/cmで加圧した状態で基
材1にドライフィルムレジスト6、7を熱圧着して、両
面ドライフィルムレジストラミネート材8を作製した
(図1参照)。
【0024】上記両面ドライフィルムレジストラミネー
ト材8を100倍の拡大投影機で観察して面内のマイク
ロエアーの平均発生数を求めた。その結果を図4に示
す。
【0025】<実施例2>図2に示すような構成で実施
例1と同じフープ材からなる基材11を巻出し・巻取り
装置により150Kgのテンションをかけて2m/分で
搬送した。まず、基材11を予熱炉24で50℃に加熱
し、押さえロール12、13を経て、表面温度105℃
に加熱された実施例1同じ構造のラミネートロール1
4、15で基材11の片面にドライフイルムレジスト1
6を実施例1と同じ条件でラミネートし、片面ドライフ
イルムレジストラミネート材17を作製した(図2参
照)。ここで、押さえロール12、13はラミネートロ
ール14、15のピンチ点の水平パスライン上の100
mm手前で、水平パスラインよりも50mm上の位置に
配置した。
【0026】更に、片面ドライフイルムレジストラミネ
ート材17を押さえロール18、19を経由して、表面
温度105℃に加熱された実施例1同じ構造のラミネー
トロール20、21で片面ドライフイルムレジストラミ
ネート材17のもう一方の面にドライフイルムレジスト
22を実施例1と同じ条件でラミネートし、両面ドライ
フイルムレジストラミネート材23を作製した(図2参
照)。ここで、押さえロール18、19はラミネートロ
ール20、21のピンチ点の水平パスライン上の100
mm手前で、水平パスラインよりも50mm下の位置に
配置した。
【0027】上記両面ドライフィルムレジストラミネー
ト材23を100倍の拡大投影機で観察して面内のマイ
クロエアーの平均発生数を求めた。その結果を図4に示
す。
【0028】<比較例>図3に示すような構成で、実施
例1と同じフープ材からなる基材31を巻出し・巻取り
装置により150Kgのテンションをかけて2m/分で
搬送した。まず、基材31を予熱炉37で50℃に加熱
し、表面温度105℃に加熱された実施例1と同じ構造
のラミネートロール32、33で、基材31の両面にド
ライフイルムレジスト34、35を実施例1と同じ条件
でラミネートし、両面ドライフイルムレジストラミネー
ト材36を作製した(図3参照)。
【0029】上記両面ドライフィルムレジストラミネー
ト材36を100倍の拡大投影機で観察して面内のマイ
クロエアーの平均発生数を求めた。その結果を図4に示
す。
【0030】図4の結果から明らかなように、比較例の
従来のドライフィルムラミネータで作製した両面ドライ
フイルムレジストラミネート材36は押さえロールがな
いためマイクロエアーが大量に発生した。本発明のドラ
イフィルムラミネータで作製した実施例1及び実施例2
の両面ドライフイルムレジストラミネート材8及び23
はマイクロエアー発生個数は従来品の1/20以下ある
いはゼロまで減少した。更に、実施例1と実施例2を比
較した場合実施例2で得られたドライフイルムレジスト
ラミネート材23の方がマイクロエアー発生個数は少な
くなり、基材とドライフィルムレジストの界面がさらに
均一に安定化したものと思われる。
【0031】
【発明の効果】本発明のドライフィルムラミネータによ
れば押さえロール以外の複雑な機構を用いることなく、
両面ドライフイルムレジストラミネート材のマイクロエ
アー発生個数を従来のものより1/20以下の無視でき
るレベルまで減少させることができる。更に、本発明の
ドライフィルムラミネータを使用してリードフレームや
TABテープ等のフープ材への高性能ドライフィルムレ
ジストの適用が可能となり、高品質・高歩留まりの電子
部材を作製できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のドライフィルムラミネータの実施例1
の構成を示す部分断面図である。
【図2】本発明のドライフィルムラミネータの実施例2
の構成を示す部分断面図である。
【図3】従来のドライフィルムラミネータの構成を示す
部分断面図である。
【図4】実施例1、実施例2及び比較例の両面ドライフ
イルムレジストラミネート材のマイクロエアーの平均発
生個数を示す説明図である。
【符号の説明】
1、11、31……基材 2、3、12、13、18、19……押さえロール 4、5、14、15、20、21、32、33……ラミ
ネートロール 6、7、16、22、34、35……ドライフィルムレ
ジスト 8、23、36……両面ドライフイルムレジストラミネ
ート材 9、24、37……予熱炉 17……片面ドライフイルムレジストラミネート材

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基材とドライフィルムレジストをラミネー
    トロールで熱圧着し前記基材上にドライフィルムレジス
    ト層を形成するドライフィルムラミネータにおいて、前
    記ラミネートロールで前記基材と前記ドライフィルムレ
    ジストをラミネートする直前に前記基材を挟み込む一対
    の押さえロールを備えたことを特徴とするドライフィル
    ムラミネータ。
JP9261780A 1997-09-26 1997-09-26 ドライフィルムラミネータ Pending JPH1199561A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9261780A JPH1199561A (ja) 1997-09-26 1997-09-26 ドライフィルムラミネータ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9261780A JPH1199561A (ja) 1997-09-26 1997-09-26 ドライフィルムラミネータ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1199561A true JPH1199561A (ja) 1999-04-13

Family

ID=17366606

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9261780A Pending JPH1199561A (ja) 1997-09-26 1997-09-26 ドライフィルムラミネータ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1199561A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008084928A (ja) * 2006-09-26 2008-04-10 Hitachi Cable Ltd 半導体装置用tabテープの製造方法
KR20140099392A (ko) * 2013-02-01 2014-08-12 주식회사 아모그린텍 디스플레이전극용 전극패턴 형성방법 및 이에 의해 형성된 전극패턴을 구비하는 디스플레이전극
JP2015227011A (ja) * 2014-05-30 2015-12-17 株式会社セリアエンジニアリング 両面ラミネート装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008084928A (ja) * 2006-09-26 2008-04-10 Hitachi Cable Ltd 半導体装置用tabテープの製造方法
KR20140099392A (ko) * 2013-02-01 2014-08-12 주식회사 아모그린텍 디스플레이전극용 전극패턴 형성방법 및 이에 의해 형성된 전극패턴을 구비하는 디스플레이전극
JP2015227011A (ja) * 2014-05-30 2015-12-17 株式会社セリアエンジニアリング 両面ラミネート装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2007214389A (ja) フレキシブルプリント基板の製造装置および製造方法
JPH1199561A (ja) ドライフィルムラミネータ
JP2005224968A (ja) ラミネート方法およびその方法を用いたラミネート装置
JP2001341147A (ja) 真空積層装置及び積層方法
KR100748208B1 (ko) 연성회로기판의 라미네이팅 장치 및 그 방법
JP4259838B2 (ja) 積層装置及び積層方法
JP4144660B2 (ja) 耐熱性フレキシブル基板の製造方法
JPH0858020A (ja) フレキシブル銅張積層フィルムとその製造方法
JP2022142042A (ja) プリント配線板の製造方法およびその方法の実施に用いられるラミネートシステム
JP3989145B2 (ja) 積層板の製造方法
JP2008037062A (ja) 積層フィルム体の製造装置
JP2002326308A (ja) 耐熱性フレキシブル積層板およびその製造方法
WO2018084043A1 (ja) 光学的表示装置の積層体、その製造方法および製造システム
JP2007098619A (ja) フィルムのラミネート加工方法及びラミネート加工装置
JP2002096392A (ja) 積層板の製造方法
JP3998825B2 (ja) ラミネートロールおよびヒートラミネータ
JPH08267580A (ja) ドライフィルムのラミネート方法
JPH1148439A (ja) フィルム張付方法及び装置
JP4405985B2 (ja) ポリイミド両面金属箔積層板の製造方法
JP4643861B2 (ja) フレキシブル積層板の製造方法
JPS6293994A (ja) プリント配線基板製造用感光性ドライフイルムレジストの熱圧着方法及び装置
JPH03189150A (ja) ラミネータ
JP2002361744A (ja) 耐熱性フレキシブル積層板の製造方法
JP3212025B2 (ja) Icカードの製造方法
JP3791898B2 (ja) ラミネート方法