JPH1195431A - 感光性樹脂組成物、それを用いた樹脂膜の製造法及び物品 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 低誘電、低吸湿、優れた感光特性及び透明性
を有する感光性樹脂組成物、低誘電、低吸湿等の膜特性
に優れ、形状の良好なパターンを形成できる樹脂膜の製
造法並びに低誘電、低吸湿等の膜特性に優れる表面保護
膜、パッシベーション膜、層間絶縁膜等の樹脂膜を有す
る半導体装置、薄膜多層配線板等の電子部品などの物品
を提供する。 【解決手段】 （Ａ）光反応基を有するフッ素樹脂と、
（Ｂ）光重合開始剤及びアジド化合物から選ばれる少な
くとも一種の化合物を含有してなる感光性樹脂組成物、
この感光性樹脂組成物から得られたフィルムに、フォト
マスクを介して活性光線の照射を行ったのち、現像液に
て未露光部分を除去することを特徴とする樹脂膜の製造
法並びにこの感光性樹脂組成物を用いて形成された樹脂
膜を有してなる物品。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性樹脂組成
物、それを用いた樹脂膜の製造法並びに半導体装置、薄
膜多層配線板等の電子部品などの物品に関する。

【０００２】

【従来の技術】ポリイミド又はその前駆体であって、そ
れ自体でフォトパターニングを有しているものは感光性
ポリイミドと呼ばれ、半導体装置の表面保護膜や層間絶
縁膜、薄膜多層基板の層間絶縁膜などの用途に使われて
いる。感光性ポリイミドには、たとえば、ポリアミド酸
をヒドロキシ基含有アクリレートと反応させてエステル
としたもの（特公昭５５−４１４２２号公報）、ポリア
ミド酸にアミノ基含有アクリレートのような、ポリアミ
ド酸の遊離カルボキシル基と塩結合を形成し得るものを
配合し感光性基を導入するもの（特開昭５４−１４５７
９４号公報）等が知られている。感光性ポリイミドは、
レリーフパターンを形成できる耐熱性高分子として非常
に有用な反面、極性の高いイミド構造を有することから
低誘電タイプ、低吸湿タイプのものを開発することは難
しかった。

【０００３】ポリイミド以外の材料としては、ポリベン
ズオキサゾール、ポリベンズイミダゾール、ポリベンゾ
シクロブテンなどの樹脂の感光性化が試みられている
が、十分な性能を得るには至っていない。一方、フッ素
樹脂は一般に耐薬品性、低誘電性、高絶縁性、撥水撥油
性及び溶融成型性などの点で優れた特性を持つ素材であ
る。しかし従来のものは非感光性であるため、そのレリ
ーフパターンを得るには、レジストを塗布し露光及び現
像を行い、ウェット又はドライエッチングを行い、しか
るのちに残存レジストを剥離するという煩雑な手順が必
要であった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】請求項１〜５に記載の
発明は、上記のような従来技術の問題点を解消し、低誘
電、低吸湿、優れた感光特性及び透明性を有する感光性
樹脂組成物に関する。また、請求項６に記載の発明は、
前記課題に加え、より優れた感光特性を有する感光性樹
脂組成物に関する。また、請求項７に記載の発明は、低
誘電、低吸湿等の膜特性に優れ、形状の良好なパターン
を形成できる樹脂膜の製造法に関する。さらに、請求項
８に記載の発明は、低誘電、低吸湿等の膜特性に優れる
表面保護膜、パッシベーション膜、層間絶縁膜等の樹脂
膜を有する半導体装置、薄膜多層配線板等の電子部品な
どの物品に関する。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、（Ａ）光反応
基を有するフッ素樹脂と、（Ｂ）光重合開始剤及びアジ
ド化合物から選ばれる少なくとも一種の化合物を含有し
てなる感光性樹脂組成物に関する。また本発明は、前記
光反応基を有するフッ素樹脂が、主鎖に含フッ素脂肪族
環構造を有する前記感光性樹脂組成物に関する。また本
発明は、光反応基を有するフッ素樹脂が、主鎖に含フッ
素脂肪族構造を有する前記感光性樹脂組成物に関する。
また本発明は、光反応基がフッ素樹脂にイオン結合を介
して付加している前記感光性樹脂組成物に関する。また
本発明は、光反応基がフッ素樹脂に共有結合を介して付
加している前記感光性樹脂組成物に関する。また本発明
は、光反応基が不飽和二重結合を有する有機基である前
記感光性樹脂組成物に関する。

【０００６】また本発明は、前記感光性樹脂組成物から
得られたフィルムに、フォトマスクを介して活性光線の
照射を行ったのち、現像液にて未露光部分を除去するこ
とを特徴とする樹脂膜の製造法に関する。さらに本発明
は、前記感光性樹脂組成物を用いて形成された樹脂膜を
有してなる物品に関する。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明における（Ａ）は光反応基
を有するフッ素樹脂であり、溶剤可溶性のものが好まし
く用いられる。溶剤可溶性は、単量体の種類及びその共
重合組成をコントロールすることにより調整できる。フ
ッ素樹脂において、光反応基とは、活性光線又は化学線
により二量化又は重合可能な基を意味する。このような
基としては、少なくとも１個以上の不飽和二重結合を有
する有機基又はアジド化合物から生成するナイトレンラ
ジカルと反応する有機基が好ましい。具体的には、アク
リロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基、
シンナモイル基、ジアゾ基、アジド基、シンナミリデン
基等の基、カルコン、イソクマリン、２，５−ジメトキ
シスチルベン、スチリルピリジウム、チミン、α−フェ
ニルマレイミド、アントラセン、２−ピロン等の化合物
の、化合物上の水素原子１つが外れた構造の一価の残基
などが例示される。これらの中では不飽和二重結合を有
する基が感光特性に優れるのでより好ましい。光反応基
の導入は、前記のような光反応基を有する化合物をイオ
ン結合又は共有結合で反応させることにより行うことが
良好な光反応性を簡易に付与できるので好ましい。

【０００８】本発明における（Ａ）光反応基を有するフ
ッ素樹脂としては、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有す
るフッ素樹脂（１）又は主鎖に含フッ素脂肪族構造を有
するフッ素樹脂（２）が膜特性に優れるので好ましい。

【０００９】主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有すると
は、脂肪族環を構成する炭素原子の１以上が主鎖を構成
する炭素連鎖中の炭素原子であり、かつ脂肪族環を構成
する炭素原子の少なくとも一部にフッ素原子またはフッ
素含有基が結合している構造を有していることを意味す
る。このようなフッ素樹脂（１）としては、２つ以上の
重合性二重結合を有する含フッ素モノマーを環化重合し
て得られるものや、含フッ素脂肪族環構造を有するモノ
マーを重合して得られる主鎖に含フッ素脂肪族環構造を
有するフッ素樹脂に官能基を導入したものが挙げられ
る。

【００１０】２つ以上の重合性二重結合を有する含フッ
素モノマーとしては、下記の式（ａ）、式（ｂ）、式
（ｃ）または式（ｄ）で表されるものが例示される。た
だし、式（ａ）〜式（ｄ）中のＴ¹〜Ｔ¹²、Ｙ¹〜Ｙ¹⁰、
Ｚ¹〜Ｚ⁸およびＷ¹〜Ｗ⁸は、それぞれ独立にＦまたはＣ
Ｆ₃である。含フッ素脂肪族環構造を有するモノマーと
しては、下記の式（ｅ）、式（ｆ）または式（ｇ）で表
されるものが例示される。ただし、式（ｅ）〜式（ｇ）
中のＸ¹〜Ｘ⁶はそれぞれ独立にＦまたはＣＦ₃であり、
Ｒ¹〜Ｒ⁶はそれぞれ独立にＦ、Ｃ_nＦ_2n+1、またはＣ_nＦ
_2n+1-pＨ_pＯ_qであり、ここでｎは１〜５の整数、ｐは０
〜５の整数、ｑは０〜２の整数であり、また、Ｒ¹と
Ｒ²、Ｒ³とＲ⁴、Ｒ⁵とＲ⁶が連結して環を形成していて
もよい。

【００１１】

【化１】

【００１２】２つ以上の重合性二重結合を有する含フッ
素モノマーを環化重合して得られる主鎖に脂肪族環構造
を有するフッ素樹脂は、特開昭６３−２３８１１１号公
報、特開昭６３−２３８１１５号公報、特開平７−３１
６２３５号公報などにて公知である。すなわち、ペルフ
ルオロ（アリルビニルエーテル）、ペルフルオロ（ブテ
ニルビニルエーテル）、ペルフルオロ（ビスビニルオキ
シメタン）などのモノマーを単独重合、またはこれらの
モノマーと他のラジカル重合性モノマーを共重合して得
られるフッ素樹脂である。これらの２つ以上の重合性二
重結合を有する含フッ素モノマーの中ではペルフルオロ
エーテルが好ましいものとして挙げられ、例えば、下記
一般式（Ｉ）：

【化２】 （但し、ｎは繰り返し数を意味する０又は１以上の整数
を示し、ｍは繰り返し数を意味する０又は１以上の整数
を示し、ｎとｍの合計は１以上である）で示されるペル
フルオロエーテルの１種又は２種以上の単量体の重合体
又はこれらの単量体と他の単量体の共重合体が挙げられ
る。

【００１３】上記一般式（Ｉ）で示されるペルフルオロ
エーテルとしては、例えば、ｎが０〜５、ｍが０〜５の
ものがあり、ｎ＋ｍは１〜６のものが好ましい。具体的
には、ペルフルオロ（アリルビニルエーテル）、ペルフ
ルオロ（ブテニルビニルエーテル）、ペルフルオロ（ジ
アリルエーテル）、ペルフルオロ（ブテニルアリルエー
テル）、ペルフルオロ（ジブテニルエーテル）等が挙げ
られる。また、その他のペルフルオロエーテルとして
は、ペルフルオロ（ビスビニルオキシメタン）、ペルフ
ルオロ（ビスアリルオキシメタン）、ペルフルオロ（ビ
スビニルオキシエタン）、ペルフルオロ（ビスアリルオ
キシエタン）などが挙げられる。

【００１４】これらのモノマーと共重合し得る他のラジ
カル重合性モノマーとしては、テトラフルオロエチレン
等のペルフルオロオレフィン、ペルフルオロジビニルエ
ーテル等のペルフルオロビニルエーテル、メチルペルフ
ルオロ（４−ビニロキシ−ブタノエート）、ペルフルオ
ロ（３，６−ジオキサ−４−メチル−７−オクテンスル
フィニル）フルオリド等のカルボン酸またはスルホン酸
の誘導体を有するフッ素含有単量体、フッ化ビニル、フ
ッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレンなどのフ
ッ素含有単量体、エチレン、プロピレン等の炭化水素系
単量体、アクリル酸、メタクリル酸、これらのアルキル
エステル等のアクリル系単量体、スチレン、ビニルトル
エン等のスチレン系単量体などが挙げられるが、フッ素
含有単量体が好ましいものとして挙げられる。他の単量
体を併用する場合、含フッ素脂肪族環構造を与える単量
体（前記２つ以上の重合性二重結合を有する含フッ素単
量体等）は、単量体総量に対して２０モル％以上用いる
ことが透明性、機械的特性などの面から好ましい。

【００１５】また、含フッ素脂肪族環構造を有するモノ
マーを重合して得られる主鎖に脂肪族環構造を有するフ
ッ素樹脂は、特公昭６３−１８９６４号公報、特開平７
−７０１０７号公報などにて公知である。すなわち、ペ
ルフルオロ（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソー
ル）、ペルフルオロ（２−メチル−１，３−ジオキソー
ル）、ペルフルオロ（２−エチル−１，３−ジオキソー
ル）、ペルフルオロ（２−プロピル−１，３−ジオキソ
ール）、ペルフルオロ（２−ブチル−１，３−ジオキソ
ール）、２，２，４−トリフルオロ−５−トリフルオロ
メトキシ−１，３−ジオキソール、２，２，４−トリフ
ルオロ−５−トリフルオロメトキシ−１，３−ジオキソ
ール、２，２，４−トリフルオロ−５−ペンタフルオロ
エトキシ−１，３−ジオキソール、２，２，４−トリフ
ルオロ−５−ヘプタフルオロプロポキシ−１，３−ジオ
キソール、２，２，４−トリフルオロ−５−ノナフルオ
ロブトキシ−１，３−ジオキソール、２，２，４，５−
テトラフルオロ−１，３−ジオキソールなどなどの含フ
ッ素環構造を有するモノマーを単独重合、または、これ
らのモノマーと上記ラジカル重合性モノマーを共重合し
て得られるフッ素樹脂である。

【００１６】また、上記のペルフルオロ（２，２−ジメ
チル−１，３−ジオキソール）、２，２，４−トリフル
オロ−５−トリフルオロメトキシ−１，３−ジオキソー
ルなどの含フッ素脂肪族環構造を有するモノマーと，上
記のペルフルオロ（アリルビニルエーテル）、ペルフル
オロ（ブテニルビニルエーテル）、ペルフルオロ（ビス
ビニルオキシメタン）などの２つ以上の重合性二重結合
を有する含フッ素モノマーを共重合して得られるフッ素
樹脂でもよい。主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有するフ
ッ素樹脂は、フッ素樹脂の繰り返し単位中に含フッ素脂
肪族環構造を２０〜１００モル％含有するものが透明
性、機械的特性などの面から好ましい。

【００１７】上記フッ素樹脂においては、官能基を導入
し、この官能基を介して、光反応性基をイオン結合又は
共有結合により導入することができる。官能基の導入方
法としては、以下の１）〜１１）の方法が好ましい。 １）分子内にカルボキシル基などの官能基、またはこれ
らの前駆体基、例えばアシル基を有する開始剤または連
鎖移動剤の存在下で重合を行うことにより、フッ素樹脂
の末端基にカルボキシル基を導入する方法。 ２）分子内にスルホン酸などの官能基、またはこれらの
前駆体基を有する開始剤または連鎖移動剤の存在下で重
合を行うことにより、フッ素樹脂の末端にスルホン酸基
を導入する方法。 ３）酸素存在下にてフッ素樹脂を高温処理することによ
り、フッ素樹脂の側鎖、または末端を酸化分解させ、つ
いでこれを水処理してカルボキシル基を導入する方法。 ４）メチル ペルフルオロ（５−オキサ−６−ヘプテノ
エート）などのカルボン酸誘導体基を有するモノマーを
共重合させてフッ素樹脂の側鎖にカルボン酸誘導体基を
導入する方法。

【００１８】５）ペルフルオロ（３，３−ジオキサ−４
−メチル−７−オクテンスルフィニル）フルオリドなど
のスルホン酸誘導体基を有するモノマーを共重合させて
フッ素樹脂の側鎖にスルホン酸誘導体基を導入する方
法。 ６）カルボン酸誘導体基を加水分解してカルボキシル基
に、カルボン酸誘導体基を還元して水酸基に、カルボン
酸誘導体基とアミン類を反応させてカルボン酸アミド基
に変換する方法。 ７）カルボキシル基を還元して水酸基に、カルボキシル
基とアミン類を反応させてカルボン酸アミド基に変換す
る方法。 ８）カルボン酸誘導体基にアンモニアを反応させ、さら
に脱水反応を行うことによりニトリル基に変換する方
法。 ９）スルホン酸誘導体基を加水分解してスルホン酸基に
変換する方法。 １０）スルホン酸誘導体基またはスルホン酸基に、アミ
ン類を反応させてスルホン酸アミド基に変換する方法。 １１）カルボキシル基または水酸基にシランカップリン
グ剤などを反応させてアルコキシシリル基またはシラノ
ール基を導入する方法。

【００１９】次に、主鎖に含フッ素脂肪族構造を有する
フッ素樹脂（２）としては、メチルペルフルオロ（５−
オキサ−６−ヘプテノエート）、ペルフルオロ（４，７
−ジオキサ−５−メチル−８−ノネノエート）、ペルフ
ルオロ（３，５−ジオキサ−４−メチル−７−オクテン
スルフィニル）フルオリドなどのカルボン酸誘導体基ま
たはスルホン酸誘導体基を有するモノマーとテトラフル
オロエチレンとの共重合体、または、エチレン、ヘキサ
フルオロプロピレン、ペルフルオロ（アルキルビニルエ
ーテル）などから選ばれるモノマーと上記カルボン酸誘
導体基またはスルホン酸誘導体基を有するモノマーとテ
トラフルオロエチレンとの共重合体が挙げられる。主鎖
に含フッ素脂肪族構造を有するとは、主鎖を構成する炭
素連鎖中の炭素原子は脂肪族環を構成する炭素原子を含
まず、かつ炭素連鎖中の炭素原子の少なくとも一部にフ
ッ素原子またはフッ素含有基が結合している構造を有す
ることを意味する。

【００２０】これらのフッ素樹脂（２）中のカルボン酸
誘導体基またはスルホン酸誘導体基を利用して、前述の
官能基の導入方法１）〜１１）と同様にしてカルボキシ
ル基、水酸基、カルボン酸アミド基、ニトリル基、スル
ホン酸アミド基、アルコキシシリル基、シラノール基な
どを導入できる。

【００２１】官能基を導入した重合体に、光反応基をイ
オン結合で付加させるには、溶媒中でカルボン酸基、ス
ルホン酸基等を持つ重合体と光反応性基、例えば、不飽
和二重結合を有するアミン化合物等を配合する方法が好
ましいものとして挙げられる。この場合、重合体のカル
ボン酸基、スルホン酸基等と不飽和二重結合を有するア
ミン化合物のアミンがイオン結合で付加し、重合体に光
反応基が導入される。また、官能基を導入した重合体
に、光反応基を共有結合で付加させるには、重合体のカ
ルボン酸基又は水酸基とエステル結合又はアミド結合す
る官能基を持ちかつ不飽和二重結合を有する化合物との
反応により、光反応基を導入する方法等が挙げられる。
例えば、重合体のカルボン酸基とヒドロキシアルキルア
クリレート又はヒドロキシアルキルメタクリレートとを
反応させる方法が好ましいものとして例示できる。

【００２２】樹脂にイオン結合で光反応性基を導入する
化合物の好ましいものである、不飽和二重結合を有する
アミン化合物の例としては、３−アミノプロピルメタク
リレート、３−アミノエチルメタクリレート、２−アミ
ノプロピルメタクリレート、２−アミノエチルメタクリ
レート、２−ジメチルアミノエチルメタクリレート、３
−ジメチルアミノプロピルメタクリレート、２−ジエチ
ルアミノエチルメタクリレート、３−ジエチルアミノプ
ロピルメタクリレート、アリルアミン、ジアリルアミ
ン、トリアリルアミン、２−メチル−２−ブテニルアミ
ン、１−メチル−１−ブテニルアミン、２，４−ジエチ
ル−１−ペンテニルアミン、トリ（２−ブテニル）アミ
ン、トリ（２−メチル−２−プロペニル）アミン、２−
（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピルアクリレート、３
−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピルアクリレート、
３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピルメタクリレー
ト、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピルシンナメ
ート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアリルアミン、Ｎ−メチル−ジ
アリルアミン、Ｎ−プロピルジアリルアミン、２−ビニ
ルピリジン、４−ビニルピリジン、２−ビニル−６−メ
チルピリジン、４−ブテニルピリジン、４−（１−プロ
ペニルブテニル）−ピリジン、４−ペンテニルピリジ
ン、４−（１−ブテニルペンテニル）ピリジン、２−
（４−ピリジル）−アリルアルコールなどが挙げられ
る。

【００２３】本発明において、樹脂と光反応基を有する
化合物との混合溶液を調製するに当たり、溶剤としてこ
れらを同時に溶解せしめるものを選択することが好まし
い。樹脂が、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有するフッ
素樹脂である場合、たとえば特開平７−１１２１２６号
公報に記載のような、非プロトン性含フッ素溶剤とプロ
トン性含フッ素溶剤の混合物が好ましいものとして例示
される。ここで特徴的なのは、主鎖に含フッ素脂肪族環
構造を有するフッ素樹脂は非プロトン性含フッ素溶剤に
は溶解するが、プロトン性含フッ素溶剤には溶解せず、
逆に光反応基を有する化合物は、プロトン性含フッ素溶
剤には溶解するが、非プロトン性含フッ素溶剤には溶解
しない場合があり、したがって混合溶剤にすることによ
り両者を同時に溶解するという点である。

【００２４】非プロトン性含フッ素溶剤とは、通常の反
応条件下では解離せずプロトンを生じない含フッ素溶剤
であり、公知のものが使用できる。ペルフルオロデカリ
ン、ペルフルオロシクロヘキサン、ペルフルオロヘキサ
ン、ペルフルオロオクタン、１Ｈ，１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，
２Ｈ−ペルフルオロオクタン、１Ｈ，１Ｈ，１Ｈ，２
Ｈ，２Ｈ−ペルフルオロデカンなどの含フッ素脂肪族炭
化水素類、ペルフルオロトリペンチルアミン、ペルフル
オロトリブチルアミン、ペルフルオロトリプロピルアミ
ンなどの含フッ素アルキルアミン類、ペルフルオロ（２
−ブチルテトラヒドロフラン）などの含フッ素環状エー
テル、直鎖フルオロエーテル類が例示される。これらを
２種以上混合して使用してもよい。

【００２５】プロトン性含フッ素溶剤とは解離してプロ
トンを生じやすい含フッ素溶剤であり、公知のものが使
用される。ＣＦ₃ＣＨ₂ＯＨ、ＣＦ₃ＣＦ₂ＣＨ₂ＯＨ、Ｃ
Ｆ₃(ＣＦ₂)₃ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ、ＣＦ₃(ＣＦ₂)₅ＣＨ₂ＣＨ₂
ＯＨ、ＣＦ₃ＣＦ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ、ＣＦ₃(ＣＦ₂)₃
ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨなどの含フッ素アルコールが好適
に例示される。これらを２種以上併用してもよい。

【００２６】非プロトン性含フッ素溶剤とプロトン性含
フッ素溶剤を混合して用いる場合その混合比は、フッ素
樹脂と光反応性基を有する化合物との両者が溶解するよ
うに選定するが、前者／後者の重量比で１／９９〜９９
／１が好ましい。なお、両者が溶解する場合は、非プロ
トン性含フッ素溶剤を単独又はそのうちの２種以上を混
合して使用してもよい。

【００２７】樹脂が前述の主鎖に含フッ素脂肪族構造を
有するフッ素樹脂の場合、特開平２−４８５７９号公報
に記載のようなアルコール類、ケトン類、有機酸類、ア
ルデヒド類、アミン類などの親水性有機溶剤と水の混合
溶剤、特開平７−７６６４４号公報に記載のような含酸
素炭化水素及び含フッ素化合物の混合溶剤が好ましいも
のとして例示される。

【００２８】含酸素炭化水素としては、メチルアルコー
ル、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソ
プロピルアルコール、tert-プロピルアルコール等のア
ルコール類、エチレングリコールモノエチルエーテル、
エチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル
類、ジメチルスルホキシドなどがあり、これらの中で
は、極性溶媒が好ましく、炭素原子数が１〜４の範囲に
あるものが好ましい。また、含フッ素化合物としては、
１，１−ジクロロ−１−フルオロエタン、２，２，２−
トリフルオロ−１，１−ジクロロエタン、ジクロロペン
タフルオロプロパン等のハイドロクロロフルオロカーボ
ン類、ヘキサフルオロプロパン、オクタフルオロプロパ
ン、デカフルオロペンタン、ドデカフルオロヘキサン等
のフルオロカーボン類、テトラフルオロエチル−トリフ
ルオロエチルエ−テル、メチル−ヘキサフルオロプロピ
ルエーテル等のフルオロエーテル類、トリフルオロエタ
ノール、５フッ化プロパノール、ヘキサフルオロイソプ
ロパノール等のフッ素アルコール類などが用いられる。
これらの混合比は、含酸素炭化水素／含フッ素化合物の
混合重量比で１／９９〜９９／１が好ましく、１０／９
０〜９０／１０がより好ましい。

【００２９】溶剤の樹脂に対する使用量は特に制限はな
いが、溶剤／樹脂の重量比で１／９９〜９９／１が好ま
しい。

【００３０】本発明において、（Ｂ）成分の一つである
光重合開始剤としては例えば、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテル、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−エチ
ルアントラキノン、４，４′−ビス（ジメチルアミノ）
ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、
２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１
−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチ
ル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリ
ノ−１−プロパノン、ジフェニルジスルフィド、フェナ
ンスレンキノン、２−イソプロピルチオキサントン、リ
ボフラビンテトラブチレート、Ｎ−フェニルジエタノー
ルアミン、２−（Ｏ−エトキシカルボニル）オキシイミ
ノ−１，３−ジフェニルプロパンジオン、１−フェニル
−２−（Ｏ−エトキシカルボニル）オキシイミノプロパ
ン−１−オン、３，３′，４，４′−テトラ（ｔ−ブチ
ルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、ベンジルジ
メチルケタール、１−（４′−メチルチオフェニル）−
２，２−ジメチル−２−モルフォリノアセトフェノン、
チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、
２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２−クロロチ
オキサントン、４，４′−ビス（ジエチルアミノ）ベン
ゾフェノン、カンファーキノン、ベンジル、４，４′−
ジメトキシベンジル、Ｏ−エトキシカルボニル−１−フ
ェニル−１，２−プロパンジオン−２−オキシム、Ｏ−
エトキシカルボニル−１，３−ジフェニル−１，２，３
−プロパントリオン−２−オキシム、Ｏ−ベンゾイル−
１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−オキシ
ム、Ｏ−ベンゾイル−１，３−ジフェニル−１，２，３
−プロパントリオン−２−オキシム、Ｎ−フェニルグリ
シン、Ｎ−（４−クロロフェニル）グリシン、Ｎ−（４
−シアノフェニル）グリシン、Ｎ−（４−メチルスルホ
ニルフェニル）グリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（４−クロ
ロフェニル）グリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（４−シアノ
フェニル）グリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（４−メチルス
ルホニルフェニル）グリシン、２−（２−クロロフェニ
ル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル２量体、９−フ
ェニルアクリジン、７−ジエチルアミノ−３−ベンゾイ
ルクマリン、３，３′−カルボニルビス（７−ジエチル
アミノクマリン）、７−ジエチルアミノ−３−（４′−
シアノベンゾイル）クマリン、３，３′−カルボニルビ
ス（７−メトキシクマリン）などが挙げられる。これら
は二種類以上組み合わせて用いてもよい。

【００３１】光重合開始剤の使用量については特に制限
はないが、一般に光反応性基を有するフッ素樹脂１００
重量部に対して０．１〜１０重量部用いることが好まし
い。

【００３２】（Ｂ）成分のうち、アジド化合物として
は、４，４′−ビスアジド−３，３′−ジメトキシビフ
ェニル、２，６−ビス（４−アジドベンザル）シクロヘ
キサノン、２，６−ビス（４−アジドベンザル）−４−
カルボキシシクロヘキサノン、２，６−ビス（４−アジ
ドベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン、４−アジ
ドカルコンなどが挙げられる。これらは二種類以上組み
合わせて用いてもよい。また、分子の両端に芳香族アジ
ド基をもつビスアジド化合物でもさしつかえない。アジ
ド化合物の使用量については特に制限はないが、一般に
光反応性基を有するフッ素樹脂１００重量部に対して
０．１〜１０重量部用いることが好ましい。

【００３３】本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応
じて公知の増感剤をさらに含有してもよい。用いられる
増感剤としては例えば、３−置換クマリン化合物（例え
ば３−ベンゾイルクマリン、３−ベンゾイル−７−メト
キシクマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジメトキシク
マリン、３−（４′シアノベンゾイル）−クマリン、３
−（４′−シアノベンゾイル）−７−メトキシクマリ
ン、３−（４′−シアノベンゾイル）−５，７−ジメト
キシクマリン、３−チエニルカルボニルクマリン、３−
チエニルカルボニル−７−メトキシクマリン、３−チエ
ニルカルボニル−５，７−ジメトキシクマリン、３−チ
エニルカルボニル−７−ジエチルアミノクマリン、３−
チエニルカルボニル−７−ジメチルアミノクマリン、３
−（４′−メトキシベンゾイル）クマリン、３−（４′
−メトキシベンゾイル）−７−メトキシクマリン、３−
（４′−メトキシベンゾイル）−５，７−メトキシクマ
リン、３，３′−カルボニルビス−７−（ジエチルアミ
ノ）クマリン、３，３′−カルボニルビス−７−（メト
キシ）クマリン、３，３′−カルボニルビス−５，７−
（ジメトキシ）クマリンなど）、アザベンザルシクロヘ
キサノン化合物（例えば２，６−ビス（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ
エチルアミノベンザル）−４−メチル−４−アザシクル
ヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミ
ノベンザル）−４−メチル−４−アザシクルヘキサノ
ン、２，６−ビス（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノベンザ
ル）−４−エチル−４−アザシクルヘキサノン、２，６
−ビス（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンザル）−４−
エチル−４−アザシクルヘキサノン、２，６−ビス（ｐ
−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノベンザル）−４−ｎ−プロピ
ル−４−アザシクルヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンザル）−４−ｎ−プロピル
−４−アザシクルヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノベンザル）−４−フェネチル−４−
アザシクルヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアミノベンザル）−４−ベンジル−４−アザシク
ルヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ミノベンザル）−４−アセチル−４−アザシクルヘキサ
ノン、２，６−ビス（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベン
ザル）−４−ベンゾイル−４−アザシクルヘキサノンな
ど）、ミヒラーズケトン類（例えば４，４′−ビス（ジ
メチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４′−ビス（ジエ
チルアミノ）ベンゾフェノンなど）などが挙げられる。
これらは二種類以上組み合わせて用いてもよい。

【００３４】これらの増感剤の使用量は特に制限はされ
ないが、一般に光反応性基を有するフッ素樹脂１００重
量部に対して０．０５〜５重量部用いることが好まし
い。

【００３５】本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応
じて光橋かけ剤として、次のような付加重合性化合物を
さらに含有してもよい。例えば、２，２−ビス（ω−メ
タクリロキシペンタエトキシフェニル）プロパン、ジエ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエチレング
リコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアク
リレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、
テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ジビニル
ベンゼン等の不飽和二重結合を２つ以上有する化合物が
挙げられる。これら光橋かけ剤の使用量は特に制限はさ
れないが、一般に光反応性基を有するフッ素樹脂１００
重量部に対して５〜１００重量部用いることが好まし
い。

【００３６】また、下記一般式で表される含フッ素重合
性不飽和化合物等を含有してもよい。

【化３】 （ここで、Ｒ⁷は水素原子又はフッ素原子であり、ｃ及
びｄは０〜３０の数であり、Ｒ⁷が水素原子の場合はｄ
は１〜３０の数である）

【化４】 （ここで、Ｒ⁸は水素原子又はフッ素原子であり、ｅ及
びｆは０〜３０の数であり、Ｒ⁸が水素原子の場合はｆ
は１〜３０の数である）

【００３７】

【化５】 （ここで、ｇ及びｉは０〜３０の数であり、ｈは１〜３
０の数である）

【化６】 （ここで、ｊ及びｍは０〜３０の数であり、ｋは１〜３
０の数である）

【化７】 （ここで、ｐ及びｒは０〜３０の数であり、ｑは１〜３
０の数である）等。これらは、単独で又は二種類以上組
み合わせて用いることができる。これらを用いる場合、
その使用量は特に制限はされないが、一般に光反応性基
を有するフッ素樹脂１００重量部に対して５〜１００重
量部用いることが好ましい。

【００３８】本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応
じて光開始助剤のようなものをさらに含有してもよい。
用いられる光開始助剤としては例えば、４−ジメチルア
ミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソ
プロピル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ト
リエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエタノールアニリンな
どが挙げられる。これらは二種以上を組み合わせて用い
てもよい。これらを用いる場合、その使用量は特に制限
はされないが、一般に光反応性基を有するフッ素樹脂１
００重量部に対して０．１〜１０重量部用いることが好
ましい。

【００３９】また、感光性樹脂組成物には、必要に応じ
てさらに他の添加物、例えば、保存時の安定性を高める
ために公知のラジカル重合禁止剤又はラジカル重合抑止
剤、現像液による未露光部分の溶解除去速度を速めるた
めに溶解促進剤、接着助剤などをさらに含有してもよ
い。このようなラジカル重合禁止剤又はラジカル重合抑
止剤としては例えば、ｐ−メトキシフェノール、ｐ−ベ
ンゾキノン、ハイドロキノン、ピロガロール、ナフチル
アミン、フェノチアジン、アリルフォスファイト、ニト
ロソアミン等を挙げることができる。

【００４０】また、接着助剤としては、例えばγ−アミ
ノプロピルジメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチ
ル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタ
クリロキシプロピルジメトキシメチルシラン、３−メタ
クリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、ジメトキ
シメチル−３−ピペリジノプロピルシラン、ジエトキシ
−３−グリシドキシプロピルメチルシラン、Ｎ−（３−
ジエトキシメチルシリルプロピル）スクシンイミド、Ｎ
−［３−（トリエトキシシリル）プロピル］フタルアミ
ド酸、ベンゾフェノン−３，３′−ビス（Ｎ−［３−ト
リエトキシシリル］プロピルアミド）−４，４′−ジカ
ルボン酸、ベンゼン−１，４−ビス（Ｎ−［３−トリエ
トキシシリル］プロピルアミド）−２，５−ジカルボン
酸等が挙げられる。本発明になる感光性樹脂組成物は、
上記の各種成分を含むが、これらの混合順序、混合方法
には、結果として均一な溶液が作製できれば特に制限は
ない。

【００４１】本発明の感光性樹脂組成物を用いて樹脂膜
を製造する方法の一例を以下に示す。用いられる基板と
しては、化合物半導体、シリコンやリチウムナイオベー
トなどの単結晶ウエーハ、ガラス基板、ポリイミドやポ
リエステルなどの重合体フィルム、金属箔を表面に持つ
樹脂基板、ステンレスや銅といった金属基板などが挙げ
られる。

【００４２】基板上に本発明の感光性樹脂組成物からな
るフィルムを形成するためには、溶媒を含む感光性樹脂
組成物を物品に塗布した後に、ホットプレート、オーブ
ンなどの装置で加熱乾燥して溶媒を揮発させる方法が好
ましく採用される。この際、下地との充分な密着性を確
保するために、下地表面をカップリング剤で処理しても
よい。樹脂組成物の塗布には、溶剤により適当な粘度に
調製し、スピンコート法、ディッピング法、ポッティン
グ法、ダイコート法、スプレーコート法などを用いれば
よく、コーティング対象である物品の形状、必要膜厚な
どから適宜選択すればよい。

【００４３】本発明の感光性樹脂組成物を、半導体素子
の層間絶縁膜、半導体素子のα線遮蔽膜等に適用する場
合、膜圧の面内分布の均一性からスピンコート法が好ま
しい。多層配線板の層間絶縁膜に適用する場合、スピン
コート法とともに、より高い液歩留りである方法とし
て、ダイコート法が好ましい。まず、溶媒を含む本発明
の感光性樹脂組成物をシリコンウエハーなどの支持基板
に乾燥後の膜厚が１〜１００μｍ、好ましくは５〜１５
μｍとなるように塗布する。塗布した塗膜を乾燥（例え
ば、７０〜９０℃、５〜２０分程度）した後に、所望形
状のフォトマスクを通して紫外線、可視光、電子線、Ｘ
線などによって露光を行うが、これらの中で紫外線がと
くに好ましい。

【００４４】パターン状に光照射するためには、従来よ
り知られている種々の露光装置が用いられる。たとえ
ば、超高圧水銀灯を光源とするコンタクト露光機、ミラ
ープロジェクション露光機、ｉ線又はｇ線ステッパー、
メタルハライドランプを光源とする露光機、レーザーを
光源とする露光機が使われる。露光機、パターン性を向
上させる目的でホットプレート、オーブンなどの加熱処
理を必要に応じて行うことができる。温度範囲は６０℃
〜１１０℃までが好ましい。次に、スプレー、パドル、
シャワー、揺動浸漬など従来より知られている現像処理
を行う。このとき未露光部では重合体鎖が架橋していな
いため現像液に溶解する。一方、露光部では重合体鎖が
架橋しているため、現像液に不溶となる。現像処理に用
いる現像液としては、露光膜の未照射部分を適当な時間
内に溶解除去できるものが好ましい。

【００４５】樹脂が主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有す
るものである場合、現像液として、種々の非プロトン性
含フッ素溶剤又は種々の非プロトン性含フッ素溶剤とプ
ロトン性含フッ素溶剤との混合物を用いることができ
る。さらに、組成物を溶解した溶媒自体が使用可能な場
合もある。樹脂が、主鎖に含フッ素脂肪族構造を有する
ものである場合、アルコール類、ケトン類、有機酸類、
アルデヒド類、アミン類などの親水性有機溶剤と水の混
合溶剤、含酸素炭化水素及び含フッ素化合物の混合溶剤
が用いられる。含酸素炭化水素としては、メタノール、
エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコー
ル類、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエ
ーテル類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類
が挙げられる。含フッ素化合物としては、ペルフルオロ
（１，２−ジメチルシクロブタン）などのフルオロカー
ボン類、ＨＣＦ₂ＣＦ₂ＯＣＨ₂ＣＦ₃などのフルオロエー
テル類、ＣＦ₃ＣＦ₂ＣＨ₂ＯＨ、ＣＦ₃(ＣＦ₂)₃ＣＨ₂Ｃ
Ｈ₂ＯＨなどの含フッ素アルコール類が挙げられる。さ
らに、組成物を溶解した溶媒自体が使用可能な場合もあ
る。

【００４６】現像後ただちに現像を停止させる目的でリ
ンスを行うことが好ましい。リンス液としてはエタノー
ル、メタノール、水などの貧溶剤などが用いられる。最
後に、現像処理された所定のレリーフパターンを加熱処
理し、レリーフパターン中に残存する溶媒を揮発させフ
ッ素樹脂膜が形成される。

【００４７】このようにして本発明の感光性樹脂組成物
より形成した樹脂膜は半導体素子のバッファーコート
膜、パッシベーション膜、層間絶縁膜、α線遮蔽膜等と
して適用することができる。また、多層配線板の層間絶
縁膜として適用することができる。本発明における物品
は、前記感光性樹脂組成物を用いて形成された樹脂膜を
有してなるものであり、各種電子部品が挙げられる。電
子部品としては、半導体素子、多層配線板等が挙げら
れ、半導体素子としては、ダイオード、トランジスタ、
化合物半導体、サーミスタ、バリスタ、サイリスタ等の
個別半導体、ＤＲＡＭ（ダイナミック・ランダム・アク
セス・メモリ）、ＳＲＡＭ（スタティック・ランダム・
アクセス・メモリ）、ＥＰＲＯＭ（イレイザブル・プロ
グラマブル・リード・オンリー・メモリ）、マスクＲＯ
Ｍ（マスク・リード・オンリー・メモリ）、ＥＥＰＲＯ
Ｍ（エレクトリカル・イレイザブル・プログラマブル・
リード・オンリー・メモリ）、フラッシュメモリ等の記
憶素子、マイクロプロセッサ、ＤＳＰ、ＡＳＩＣ等の理
論回路素子、ＭＭＩＣ（モノリシック・マイクロウェー
ブ集積回路）に代表される化合物半導体等の集積回路素
子、混成集積回路（ハイブリッドＩＣ）、発光ダイオー
ド、電荷結合素子等の光電変換素子などが挙げられる。

【００４８】本発明の感光性樹脂組成物を用いて形成し
た樹脂膜を半導体素子のバッファーコート膜、パッシベ
ーション膜、層間絶縁膜、α線遮蔽膜として適用するこ
とにより、低誘電率、高絶縁耐圧といった優れた電気特
性による素子の信号伝搬遅延時間の低減などの高性能化
を達成でき、かつ高温域における優れた機械物性による
高信頼性化を図ることができる。本発明における多層配
線板とは、ＭＣＭ（マルチ・チップ・モジュール）など
の高密度配線板を含む。本組成物より形成した塗膜を層
間絶縁膜として適用することにより、上記と同じく信号
伝搬遅延時間の低減などの高性能化と同時に高信頼性化
を達成できる。

【００４９】

【実施例】以下、実施例によりさらに詳しく本発明を説
明する。 例１（合成例） フッ素樹脂の合成 ペルフルオロ（ブテニルビニルエーテル）３５ｇ、イオ
ン交換水１５０ｇ、メタノール２０ｇ及び重合開始剤と
して ((ＣＨ₃)₂ＣＨＯＣＯＯ)₂ ９０mgを、内容積２
００ccの耐圧ガラス製オートクレーブに入れ、系内を３
回窒素で置換した後、４０℃で２２時間懸濁重合を行っ
て重合体（以下、重合体Ａという）を２８ｇ得た。重合
体Ａの固有粘度［η］は、ペルフルオロ（２−ブチルテ
トラヒドロフラン）中３０℃で０．２dl/gであった。さ
らに、重合体Ａを空気中３００℃で３時間熱処理した後
に、水中に浸漬して重合体（以下、重合体Ｂという）を
得た。重合体ＢのＩＲスペクトルにはカルボン酸に帰属
されるピークが確認され、カルボン酸量は、０．０３ミ
リモル／ｇ重合体であった。

【００５０】例２（合成例） フッ素樹脂の合成 ペルフルオロ（ブテニルビニルエーテル）４０ｇ、メチ
ルペルフルオロ（４−ビニロキシ−ブタノエート）１．
６ｇ、イオン交換水１５０ｇ及び重合開始剤として
((ＣＨ₃)₂ＣＨＯＣＯＯ)₂ ９０mgを、内容積２００cc
の耐圧ガラス製オートクレーブに入れ、系内を３回窒素
で置換した後、４０℃で２４時間懸濁重合を行い、重合
体を３０ｇ得た。この重合体の固有粘度［η］は、ペル
フルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）中３０℃で
０．３４dl/gであった。さらに、この重合体のメチルエ
ステル基を、周知の方法で加水分解させ、０．１２ミリ
モル／ｇ重合体のカルボン酸基を有する重合体（以下、
重合体Ｃという）を得た。

【００５１】例３（合成例） フッ素樹脂の合成 テトラフルオロエチレンとメチルペルフルオロ（４−ビ
ニロキシ−ブタノエート）を、((ＣＨ₃)₂ＣＨＯＣＯＯ)
₂を開始剤として、４０℃、７．０kg/cm²の条件でバル
ク重合させて得られた共重合体を加水分解し、１．３ミ
リモル／ｇ重合体のカルボン酸基を有する重合体（以
下、重合体Ｄという）を得た。さらに重合体Ｄを水素化
ホウ素ナトリウム存在下、ジクロロペンタフルオロエタ
ン／１−プロパノール中に浸漬して、５時間還流させた
後に、洗浄、乾燥を行い、重合体（以下、重合体Ｅとい
う）を得た。重合体ＥのＩＲスペクトルには水酸基に帰
属されるピークが確認された。

【００５２】例４（実施例） 重合体Ｂ１０ｇをパーフルオロトリブチルアミン８０ｇ
に溶解した。イエローライトの照明下、この溶液９０ｇ
と、光開始剤としてベンゾフェノン２００mg、光反応基
を導入するための化合物として３−アミノプロピルメタ
クリレート５０mg、架橋剤として３，３，４，４，５，
５，６，６−オクタフルオロオクタン１，８−ジアクリ
レート６００mgを２−（パーフルオロヘキシル）エタノ
ール１０ｇに溶解した溶液を混合、濾過した。

【００５３】得られた感光性樹脂溶液をシリコンウエハ
ー上にスピンコートで３μｍの膜厚になるようにスピン
塗布し、ついで窒素オーブンで８０℃／１０分間のプリ
ベークを行った。次にフォトマスクを介して、超高圧水
銀灯を光源とするコンタクト露光機にてパターン露光を
行った。このときの露光量は５００mJ/cm²であった。露
光後窒素オーブンで９０℃／５分間のポストベークを行
い、パーフルオロトリブチルアミンで浸漬現像し、引き
続いて純水でリンス処理を行い、乾燥させ、レリーフパ
ターンを得た。

【００５４】現像後のパターンを拡大鏡にて観察し、ク
ラックの発生やパターンの変形がなく、シリコンウエハ
ーとの密着性も良好であった。また、得られたフッ素樹
脂パターンについて、開口径（最小開口スルホール径、
数字が小さいほど解像度が優れている）を測定した。ま
た、得られたフッ素樹脂を基板から剥離し、誘電率及び
光透過率を測定した。表１に検討した材料と評価結果を
示す。

【００５５】例５〜１５（実施例） 例４（実施例）と同様の操作で、例１、２及び３（合成
例）で得られた重合体Ｂ、Ｃ及びＤを用いて、検討を行
った。表１及び表２に検討した材料と評価結果を示す。

【００５６】例１６〜１７（比較例） ポリイミド前駆体の合成例 撹拌器、温度計及び 窒素導入管を備えた２００mlのガ
ラスフラスコに、４，４′−ジアミノジフェニルエーテ
ル（０．０４モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン１０
０ｇへ溶解させ、ピロメリット酸二無水物（０．０４モ
ル）を室温で加え反応させた。５時間撹拌し、粘稠なポ
リアミド酸溶液を得た。さらにこの溶液を７０℃で５時
間加熱して粘度を８０ポアズ（２５℃）に調整し、これ
をポリアミド酸溶液１とした。このポリアミド酸溶液に
表２に示す感光剤の配合を行い、実施例と同様の評価を
行った。その結果を表２に示す。

【００５７】

【表１】

【００５８】

【表２】

【００５９】

【発明の効果】請求項１〜５に記載の感光性樹脂組成物
は、低誘電、低吸湿、優れた感光特性及び透明性を有す
る。請求項６に記載の感光性樹脂組成物は、前記課題に
加え、より優れた感光特性を有する。請求項７に記載の
樹脂膜の製造法によれば、低誘電、低吸湿等の膜特性に
優れ、形状の良好なパターンの樹脂膜を形成できる。請
求項８に記載の物品は、低誘電、低吸湿等の膜特性に優
れるバッファーコート膜、パッシベーション膜、層間絶
縁膜、α線遮蔽膜などを有するものである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 克巳 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社中央研究所内 (72)発明者 松倉 郁生 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社中央研究所内 (72)発明者 横塚 俊亮 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社中央研究所内

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）光反応基を有するフッ素樹脂と、
   （Ｂ）光重合開始剤及びアジド化合物から選ばれる少な
   くとも一種の化合物を含有してなる感光性樹脂組成物。
2. 【請求項２】 光反応基を有するフッ素樹脂が、主鎖に
   含フッ素脂肪族環構造を有するものである請求項１記載
   の感光性樹脂組成物。
3. 【請求項３】 光反応基を有するフッ素樹脂が、主鎖に
   含フッ素脂肪族構造を有するものである請求項１記載の
   感光性樹脂組成物。
4. 【請求項４】 光反応基がフッ素樹脂にイオン結合を介
   して付加している請求項１、２又は３記載の感光性樹脂
   組成物。
5. 【請求項５】 光反応基がフッ素樹脂に共有結合を介し
   て付加している請求項１、２、３又は４記載の感光性樹
   脂組成物。
6. 【請求項６】 光反応基が不飽和二重結合を有する有機
   基である請求項１、２、３、４又は５記載の感光性樹脂
   組成物。
7. 【請求項７】 請求項１〜６のいずれかに記載の感光性
   樹脂組成物から得られたフィルムに、フォトマスクを介
   して活性光線の照射を行ったのち、現像液にて未露光部
   分を除去することを特徴とする樹脂膜の製造法。
8. 【請求項８】 請求項１〜６のいずれかに記載の感光性
   樹脂組成物を用いて形成された樹脂膜を有してなる物
   品。