JP2013538147A - 高解像度で耐溶剤性の薄いエラストマー印刷版 - Google Patents
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Abstract
Description
高解像度で、耐溶剤性の薄いエラストマー印刷版(HIGH RESOLUTION,SOLVENT RESISTANT,THIN ELASTOMERIC PRINTING PLATES)(譲受人整理番号:CL4351)米国特許出願第12/873567号明細書。
a)親水性基板を与える工程;
b)
i)疎水性フルオロアルキル側鎖基を有するエラストマーポリマー;
ii)光開始剤;ならびに
iii)
を含むポリマー層を基板上に堆積させる工程;
c)架橋ポリマーパターンおよび非架橋ポリマーパターンを形成するポリマー層上にパターンを画像形成させる工程;ならびに
d)非架橋ポリマーパターンが溶解している画像形成されたポリマー層を現像する工程
を含む方法である。
a)基板を与える工程;
b)
i)疎水性フルオロアルキル基を有するエラストマーポリマー;
ii)開始剤;
iii)
を含む第1のポリマー層を基板上に堆積させる工程;
c)第1のポリマー層を架橋させる工程;
d)
i)親水性ヒドロキシル基を有するエラストマーポリマー;
ii)光開始剤;および
iii)非フッ素化アクリレートまたはメタクリレートから選択されるモノマー
を含む第2のポリマー層を第1のポリマー層上に堆積させる工程;
e)架橋ポリマーパターンおよび非架橋ポリマーパターンを形成する第2のポリマー層上にパターンを画像形成させる工程;ならびに
d)非架橋ポリマーパターンが溶解している画像形成された第2のポリマー層を現像する工程
を含む方法に関する。
a)基板を与える工程;
b)
i)親水性ヒドロキシル側鎖基を有するエラストマーポリマー;
ii)開始剤;
iii)非フッ素化アルリレートまたはメタクリレートから選択されるモノマー
を含む第1のポリマー層を基板上に堆積させる工程;
c)第1のポリマー層を架橋させる工程;
d)
i)疎水性フルオロアルキル側鎖基を有するエラストマーポリマー;
ii)光開始剤;ならびに
iii)
を含む第2のポリマー層を第1のポリマー層上に堆積させる工程;
e)架橋ポリマーパターンおよび非架橋ポリマーパターンを形成する第2のポリマー層上にパターンを画像形成させる工程;ならびに
d)非架橋ポリマーパターンが溶解している画像形成された第2のポリマー層を現像する工程
を含む方法に関する。
b)
i)エラストマーポリマー;
ii)開始剤;
iii)非フッ素化アクリレートまたはメタクリレートから選択されるモノマー;
を含む第1のポリマー層を基板上に堆積させる工程;
c)第1のポリマー層を架橋させる工程;
d)
i)疎水性フルオロアルキル側鎖基を有するエラストマーポリマー;
ii)光開始剤;ならびに
iii)
を含む第2のポリマー層を第1のポリマー層上に堆積させる工程;
e)架橋ポリマーパターンおよび非架橋ポリマーパターンを形成する第2のポリマー層上にパターンを画像形成させる工程;ならびに
d)非架橋ポリマーパターンが溶解している画像形成された第2のポリマー層を現像する工程
を含む方法。
10%ヒドロキシル化スチレン−ブタジエン−スチレンコポリマー(SBS−OH)の調製:無水テトラヒドロフラン(500mL)に溶解させたKraton D1184KSBSブロックコポリマー(Kraton Polymers LLC社、Houston、テキサス州)(26.0g、0.337molの反応性2重結合)の溶液をアルゴンで12時間パージし、次いで、テトラヒドロフラン中9−ボラビシクロ−[3.3.1]ノナンの0.50M溶液(68mL、0.034mol)で滴下処理した。添加が終了後直ちに、反応混合物をアルゴン下で24時間加熱還流させ、次いで、氷浴で0℃に冷却した。次に、反応混合物を6N水酸化ナトリウム溶液(7.3mL)で処理し、続いて、過酸化水素の30%水溶液(15mL)をゆっくり添加し、次いで、さらに24時間加熱還流させた。得られた混合物を真空中で濃縮し、粗ポリマー固体を得て、これをテトラヒドロフラン(100mL)中に再溶解させた。テトラヒドロフラン溶液を水(500mL)中に注ぎ入れることによって、ポリマー生成物を再度単離した。2回のさらなるテトラヒドロフラン−水の溶解−沈殿工程を用いて、所望の生成物を精製形態で得た。次いで、コポリマーを真空中40℃で48時間乾燥させて、白色のエラストマー固体を得た。この生成物をアルゴン雰囲気下暗所に保存した。FTIRによる生成物の分析により、コポリマーの骨格内のヒドロキシル基の取り込みと一致する3329cm−1近くに中心があるブロードピークが明らかになった。
10%フルオロアルキル化スチレン−ブタジエン−スチレンコポリマー(SBS−F)の調製:無水テトラヒドロフラン(250mL)に溶解させた10%ヒドロキシル化SBSコポリマー(3.5g、4.5mmolの反応性OH基)の溶液を最初にピリジン(0.72g、9.1mmol)、続いて、ペンタデカフルオロオクタノイルクロライド(2.08g、4.81mmol)で処理した。得られた溶液をアルゴン下室温で1時間撹拌し、次いで、さらに24時間穏やかに加熱還流させた。反応混合物を水(500mL)中に注ぎ入れ、直ちに白色沈殿物を得た。粗生成物をテトラヒドロフラン(200mL)中に再溶解させ、次いで、水中に再沈殿させた。2回のさらなるテトラヒドロフラン−水の溶解−沈殿工程を用いて、所望の生成物を精製形態で得た。次いで、フルオロアルキル化コポリマーを真空中40℃で48時間乾燥させて、白色のエラストマー固体を得た。この生成物をアルゴン雰囲気下で暗所に保存した。FTIRによる生成物の分析により、コポリマーの骨格内の反応性ヒドロキシル基のエステル化と一致する3329cm−1近くに中心があるブロードピークの不存在が明らかになった。1780cm−1近くのさらなるシグナル(エステルカルボニル伸縮)も認められた。
この実施例は、コポリマーを薄膜形態で調べた場合、スチレン−ブタジエン−スチレンコポリマーの化学修飾がそれらの表面濡れ特性にどのように影響したかを例証する。
以下の実施例は、フレキソ様式で運転する2層プレートの所望の部分のみを選択的にインキングする能力を例証する(上部層は親水性インクにより濡らされるが、一方底部層は同様には濡らされない)。2層印刷版は、ST504Melinexベース(DuPont Teijin Films社、Bristol、英国)のクリーンシートのアクリル側に加工した。ベースは、メタノールすすぎ洗い、続いて、順次にDI水およびイソプロピルアルコールのすすぎ洗いで清浄にした。DI水による最終のすすぎ洗い後、高圧窒素ガンを用いてベースを完全に乾燥させた。2つの異なる化学修飾SBSコポリマーを含有する2つの別個の処方物(組成物Aおよび組成物B)を室温で一晩混合し、次いで、1.5umのGMFフィルターを通してろ過した。
78.5重量%の10%フルオロアルキル化SBSコポリマー(メチルイソブチルケトンに10重量パーセントで溶解させた)
14重量%のフッ素化ジメタクリレート:
2重量%のグリシジルメタクリレート
0.5重量%のIgracure907
78.5重量%の10%ヒドロキシル化SBSコポリマー(メチルイソブチルケトンに10重量パーセントで溶解させた)
11重量%のCD262
4重量%のTMPEOTA
4重量%のTMPTA
2重量%のグリシジルメタクリレート
0.5重量%のIrgacure907
以下の実施例は、グラビア様式(底部層は親水性インクで濡らされるが、一方上部層は濡らされない)で運転する2層プレートの所望の部分のみを選択的にインキングする能力を例証する。2層印刷版は、ST504 Melinexベース(DuPont Teijin Films社、Bristol、英国)のクリーンシートのアクリル側に加工した。ベースを、メタノールすすぎ洗い、続いて、順次のDI水およびイソプロピルアルコールのすすぎ洗いによって清浄にした。DI水による最終のすすぎ洗い後、高圧窒素ガンを用いてベースを完全に乾燥させた。異なるSBSコポリマーを含有する2つの別個の処方物(組成物Aおよび組成物B)を室温で一晩混合し、次いで、1.5umのGMFフィルターを通してろ過した。
73.5重量%のKraton DKX222CS SBSコポリマー(メチルイソブチルケトンに10重量パーセントで溶解させた)
19.5重量%のTMPEOTA
2重量%のグリシジルメタクリレート
5重量%のPerkadox16
80.5重量%の10%フルオロアルキル化SBSコポリマー(メチルイソブチルケトンに10重量%で溶解させた)
14重量%のフッ素化ジメタクリレート
0.5重量%のIrgacure907
Claims (16)
- 前記エラストマーポリマーが、疎水性フルオロアルキル側鎖基を有するスチレン−ブタジエン−スチレンまたはスチレン−イソプレン−スチレンのブロックコポリマーである、請求項2に記載の方法。
- 前記単一のポリマー層が、10から100MPaの範囲の弾性率を有する、請求項1または2に記載の方法。
- 前記単一のポリマー層が、20から40MPaの範囲の弾性率を有する、請求項1または2に記載の方法。
- a)基板を与える工程;
b)
i)疎水性フルオロアルキル基を有するエラストマーポリマー;
ii)開始剤;
iii)
を含む第1のポリマー層を前記基板上に堆積させる工程;
c)前記第1のポリマー層を架橋させる工程;
d)
i)親水性ヒドロキシル基を有するエラストマーポリマー;
ii)光開始剤;および
iii)非フッ素化アクリレートまたはメタクリレートから選択されるモノマー
を含む第2のポリマー層を前記第1のポリマー層上に堆積させる工程;
e)前記架橋ポリマーパターンおよび非架橋ポリマーパターンを形成する第2のポリマー層上にパターンを画像形成させる工程;ならびに
d)前記非架橋ポリマーパターンが溶解している前記画像形成された第2のポリマー層を現像する工程
を含む方法。 - 前記第1のポリマー層におけるエラストマーポリマーが、疎水性フルオロアルキル側鎖基を有するスチレン−ブタジエン−スチレンまたはスチレン−イソプレン−スチレンのブロックコポリマーであり、前記第2のポリマー層におけるエラストマーポリマーが、親水性ヒドロキシル側鎖基を有するスチレン−ブタジエン−スチレンまたはスチレン−イソプレン−スチレンのブロックコポリマーである、請求項5に記載の方法。
- a)基板を与える工程;
b)
i)疎水性ヒドロキシル側鎖基を有するエラストマーポリマー;
ii)開始剤;
iii)非フッ素化アルリレートまたはメタクリレートから選択されるモノマー
を含む第1のポリマー層を前記基板上に堆積させる工程;
c)前記第1のポリマー層を架橋させる工程;
d)
i)疎水性フルオロアルキル側鎖基を有するエラストマーポリマー;
ii)光開始剤;ならびに
iii)
を含む第2のポリマー層を前記第1のポリマー層上に堆積させる工程;
e)前記架橋ポリマーパターンおよび非架橋ポリマーパターンを形成する第2のポリマー層上にパターンを画像形成させる工程;ならびに
d)前記非架橋ポリマーパターンが溶解している前記画像形成された第2のポリマー層を現像する工程
を含む方法。 - 前記第1のポリマー層におけるエラストマーポリマーが、親水性ヒドロキシル側鎖基を有するスチレン−ブタジエン−スチレンまたはスチレン−イソプレン−スチレンのブロックコポリマーであり、前記第2のポリマー層におけるエラストマーポリマーが、疎水性フルオロアルキル側鎖基を有するスチレン−ブタジエン−スチレンまたはスチレン−イソプレン−スチレンのブロックコポリマーである、請求項7に記載の方法。
- a)基板を与える工程;
b)
i)エラストマーポリマー;
ii)開始剤;
iii)非フッ素化アクリレートまたはメタクリレートから選択されるモノマー;
を含む第1のポリマー層を前記基板上に堆積させる工程;
c)前記第1のポリマー層を架橋させる工程;
d)
i)疎水性フルオロアルキル側鎖基を有するエラストマーポリマー;
ii)光開始剤;ならびに
iii)
を含む第2のポリマー層を前記第1のポリマー層上に堆積させる工程;
e)前記架橋ポリマーパターンおよび非架橋ポリマーパターンを形成する第2のポリマー層上にパターンを画像形成させる工程;ならびに
d)前記非架橋ポリマーパターンが溶解している前記画像形成された第2のポリマー層を現像する工程
を含む方法。 - 前記第1のポリマー層におけるエラストマーポリマーが、スチレン−ブタジエン−スチレンまたはスチレン−イソプレン−スチレンのブロックコポリマーであり、前記第2のポリマー層におけるエラストマーポリマーが、疎水性フルオロアルキル側鎖基を有するスチレン−ブタジエン−スチレンまたはスチレン−イソプレン−スチレンのブロックコポリマーである、請求項9に記載の方法。
- 前記第1のポリマー層および前記第2のポリマー層が、10から100MPaの範囲の弾性率を有する、請求項5に記載の方法。
- 前記第1のポリマー層および前記第2のポリマー層が、10から100MPaの範囲の弾性率を有する、請求項7に記載の方法。
- 前記第1のポリマー層および前記第2のポリマー層が、10から100MPaの範囲の弾性率を有する、請求項9に記載の方法。
- 前記第1のポリマー層および前記第2のポリマー層が、20から40MPaの範囲の弾性率を有する、請求項5に記載の方法。
- 前記第1のポリマー層および前記第2のポリマー層が、20から40MPaの範囲の弾性率を有する、請求項7に記載の方法。
- 前記第1のポリマー層および前記第2のポリマー層が、20から40MPaの範囲の弾性率を有する、請求項9に記載の方法。
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