JPH1190177A - バッファを備えた有害ガスの浄化装置及び浄化方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 有害ガスの発生量又は濃度が変動する場合に
有害ガスの浄化を経済的かつ安全に行うことができるバ
ッファ付きの浄化装置を提供する。 【解決手段】 有害ガス成分を含む気体の供給路１と、
供給された気体中の有害ガス成分を一旦吸着し、吸着し
た成分を後に放出する媒体４を用いたバッファ３と、バ
ッファ３を通過した気体中の有害ガス成分を取り除く浄
化部６とを備えている。バッファ３の媒体４は、供給さ
れた気体に含まれる有害ガス成分の濃度が高いときは有
害ガス成分を吸着し、濃度が低いときはそれまでに吸着
した有害ガス成分を放出する。好ましくは、気体の供給
路１と別に清浄空気の導入路１１を備え、清浄空気をバ
ッファ３に導入することにより、バッファ３に吸着され
ている有害ガス成分を放出する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、各種の有害成分や
悪臭成分を含む有害ガスを加熱したのち触媒に通すこと
により有害ガスを浄化するガス浄化装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】病院等での殺菌処理に使用される酸化エ
チレンガス、あるいは燃焼装置や有機溶剤の乾燥装置等
から排出される一酸化炭素や炭化水素等のように、有害
成分や悪臭成分を含む有害ガスは、大気中に放出する前
にこれらの有害成分や悪臭成分を取り除く浄化を行う必
要がある。このような有害ガスを浄化する方法として、
酸化触媒を通す方法がある。酸化触媒を用いれば、直接
燃焼させる場合に比べて低温（２００〜４００℃）で酸
化エチレンガス、一酸化炭素、炭化水素等の酸化反応を
促進して無害な二酸化炭素や水蒸気に変えることができ
る。

【０００３】このようなガス浄化装置は、内蔵する触媒
の量等に応じて単位時間当たりに浄化できる有害ガス成
分の量（以下、処理能力という）に制限がある。この処
理能力の上限を越える有害ガスが浄化装置に供給されれ
ば、有害ガスは十分に浄化されることなく排出されてし
まうことになる。従って、この種のガス浄化装置の使用
にあたっては、有害ガス成分の供給量が一時的であって
も浄化装置の処理能力を超えないようにすることが重要
である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、有害ガ
スは一定の量及び濃度で発生するとは限らず、むしろ発
生量及び濃度にかなり大きい変動があるのが通常であ
る。発生源によっては間欠的に有害ガスを発生する場合
も多い。一方、このように発生量及び濃度が変動する有
害ガスのピーク量をカバーする処理能力を有する浄化装
置を設置することは、装置のコスト及び占有スペースの
面で非経済的である。

【０００５】そこで、このように変動する有害ガスの量
及び濃度をできるだけ平滑化、つまり変動を少なくして
から浄化装置に供給するバッファ装置を設けることが考
慮される。このようなバッファの最も簡単な例として、
プラスチック袋のような可変容積の容器を使用すること
が考えられる。この場合、発生した有害ガスは一旦プラ
スチック袋に溜められ、浄化装置の吸い込みファン等の
働きで、ほぼ一定量ずつ浄化装置に供給される。

【０００６】しかし、可変容積の容器をバッファとして
使用すれば有害ガスの供給量の変動を少なくすることは
できるが、有害ガスの濃度、つまり有害ガス中に含まれ
る有害成分（浄化される成分）の濃度の変動を抑えるこ
とはできない。また、プラスチック袋は安価であるが、
十分なバッファ作用を奏するためには相当の大きさが必
要である。したがって、設置スペースが大きくなり、設
置方法も難しい。安全性を確保するためには、ある程度
の機械強度を有する外箱の中にプラスチック袋を収納す
る二重構造が必要となると考えられ、コスト面でもさほ
どメリットがない可能性もある。

【０００７】本発明は上記のような従来の問題点に鑑
み、有害ガスの発生量又は濃度が変動する場合に有害ガ
スの浄化を経済的かつ安全に行うことができるバッファ
付き浄化装置を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明による有害ガス浄
化装置の第１の構成は、有害ガス成分を含む気体の供給
路と、供給された気体中の有害ガス成分を一旦吸着し、
吸着した成分を後に放出する媒体を用いたバッファと、
バッファを通過した気体中の有害ガス成分を取り除く浄
化部とを備えていることを特徴とする。バッファの媒体
は、供給された気体に含まれる有害ガス成分の濃度が高
いときは有害ガス成分を吸着し、濃度が低いときはそれ
までに吸着した有害ガス成分を放出する。したがって、
有害ガスの供給量又は濃度が変動する場合であっても、
バッファを通って浄化部に供給される有害ガスは、有害
ガス成分の濃度変動が抑えられ、経済的、効率的に浄化
を行うことができる。

【０００９】上記のようなバッファ付き浄化装置の具体
的な構造として、バッファのバイパス路と、バイパス路
に設けられた開閉弁とを更に備えていることが好まし
い。この構造によれば、有害ガスの供給量や濃度に応じ
て、バッファを介して有害ガスを浄化部へ供給するモー
ドとバッファをバイパスして有害ガスを浄化部へ直接供
給するモードとを切り換えることができる。

【００１０】供給される気体に含まれる有害ガス成分の
濃度を検出する濃度センサーと、濃度センサーの検出情
報に基づいて開閉弁の開閉制御を行う制御装置とを更に
備えることにより、例えば、有害ガスの濃度が低く、浄
化部の処理能力を超えるおそれがない場合はバッファを
バイパスして有害ガスを浄化部へ直接供給することもで
きる。

【００１１】また、気体の供給路と別に清浄空気の導入
路を備え、清浄空気をバッファに導入することにより、
バッファに吸着されている有害ガス成分を放出する構成
が好ましい。この構成により、有害ガスが間欠的に発生
する場合に、清浄空気によって希釈された有害ガス成分
の濃度変動をできるたけ抑えて浄化部に供給することが
できる。

【００１２】上記構造において更に好ましくは、気体の
供給路がバッファの一端側に接続され、清浄空気の導入
路がバッファの他端側に接続され、気体がバッファをバ
イパスして浄化部に直接導入されるバイパス路と、清浄
空気がバッファをバイパスして浄化部に直接導入される
バイパス路とが設けられ、気体のバイパス路と清浄空気
のバイパス路とが合流して浄化部に接続されている。こ
のような構造によれば、有害ガスの濃度が変動する場
合、及び、有害ガスが間欠的に供給される場合の両方に
柔軟に対応することができる。

【００１３】例えば、気体がバッファを通り清浄空気の
バイパス路を経由して浄化部に至る経路と、清浄空気が
バッファを通り気体のバイパス路を経由して浄化部に至
る経路とを選択的に形成する手段を更に備えることによ
り、有害ガスの濃度が高いときは有害ガスをバッファを
通して濃度を下げた後に、必要に応じて清浄空気と合流
させて浄化部へ供給し、有害ガスの濃度が低い場合又は
有害ガス（気体）が供給されない期間は清浄空気をバッ
ファに通して有害ガスを放出させた後、場合によっては
有害ガスと合流させて浄化部へ供給することができる。

【００１４】つまり、上記の構造において、気体が前記
バイパス路を通って直接浄化部に至る経路が選択された
ときは清浄空気がバッファを通って気体の供給路に合流
することが好ましい。あるいは、気体が供給されていな
いときに清浄空気をバッファに導入し、有害ガスを放出
させた後に有害ガスのバイパス路を通して浄化部へ供給
することが好ましい。

【００１５】気体の供給路にヒータを設け、気体の濃度
が低いときはヒータにより気体を加熱したのちバッファ
に供給することにより、バッファ吸着されている有害ガ
ス成分の放出を促進することが好ましい。清浄空気の導
入路にヒータを設け、加熱した清浄空気をバッファに供
給することにより、バッファ吸着されている有害ガス成
分の放出を促進することも好ましい。

【００１６】特に、浄化部が触媒を用いて有害ガス成分
の浄化を行うものである場合、有害ガス成分の浄化に伴
って上昇する触媒の温度を検出する温度センサーと、温
度センサーの検出温度に基づいてヒーターの加熱量を制
御する制御装置とを備えている構成が好ましい。例えば
制御装置は、温度センサーの検出温度がしきい値を越え
たときに、ヒーターによる加熱を停止又は減量すること
により、バッファからの有害ガス成分の放出を抑制す
る。触媒は浄化作用に伴って発熱するので、その温度上
昇を検出することによって浄化能力に余裕が無くなって
きたことを検出することができることを利用したもので
ある。

【００１７】あるいは、温度センサーの検出温度に基づ
いて清浄空気の導入量を制御することによりバッファか
らの有害ガス成分の放出を抑制することもできる。この
場合、浄化部の直前に別の空気導入口をさらに備えるこ
とにより、触媒に供給される有害ガスを含む空気の風量
を確保して触媒の冷却を促進することが好ましい。

【００１８】また、本発明による有害ガス成分を含む気
体の浄化方法は、有害ガス成分を一旦吸着し、吸着した
成分を後に放出する媒体を用いたバッファを介して気体
を浄化装置に供給することにより、間欠的に供給され又
は間欠的に有害ガス成分の濃度が高くなる気体の有害ガ
ス成分の濃度ピーク値を低減して浄化装置に供給するこ
とを特徴とする。

【００１９】上記の浄化方法において、清浄空気をバッ
ファに導入することにより、媒体に吸着されている有害
ガスの放出を促進することが好ましい。また、清浄空気
又は有害ガス成分の濃度が低い気体を加熱してバッファ
に導入することにより、媒体に吸着されている有害ガス
の放出を促進することが好ましい。

【００２０】有害ガス成分の浄化を触媒によって行う場
合は、有害ガス成分の浄化に伴って上昇する触媒の温度
を検出し、その検出情報に基づいて（例えば触媒の温度
がしきい値より高くなれば）、バッファの媒体に吸着さ
れている有害ガスの放出を抑制することが好ましい。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。 （実施形態１）図１に本発明の実施形態１に係る浄化装
置の概略構成を示す。図１において、１は有害ガスの供
給路、２は供給路に挿入されたポンプ、３は有害ガス成
分を一旦吸着し、吸着した成分を後に放出する媒体４を
内蔵したバッファ、５は有害ガスを浄化する酸化触媒６
を内蔵する浄化部である。媒体４として、例えば活性炭
を酸で洗浄して触媒能力を落としたものを用いることが
できる。７はバッファ３をバイバスして有害ガスを浄化
部に直接導入するためのバイパス路であり、その途中に
開閉弁８が設けられている。

【００２２】開閉弁８が閉じているとき、ポンプ２によ
って吸引され、供給路１を通って供給される有害ガス、
例えば酸化エチレンを含むガスはバッファ３に導入さ
れ、その内部に装着された媒体４を通過する。この際、
有害ガス成分（酸化エチレン）の濃度が高ければ、その
成分の一部が媒体（活性炭）４に吸着され、有害ガス成
分の濃度が低下したガスがバッファ３から出て浄化部５
に導入される。有害ガス成分は浄化部５に内蔵された酸
化触媒６でほぼ完全に浄化されて排出される。

【００２３】一方、バッファ３に導入される有害ガスの
濃度が低い場合は、それまでに媒体４に吸着されていた
有害ガス成分が放出され、有害ガス成分の濃度が高くな
ったガスがバッファ３から出て浄化部５に導入される。
したがって、供給される有害ガス中の有害ガス成分（酸
化エチレン）濃度が時間と共に大きく変動する場合に、
有害ガス成分の吸着・放出を繰り返す媒体（活性炭）４
を内蔵するバッファ３の働きにより、有害ガス成分濃度
の変動が平均化され、濃度ピークが低減されて浄化部５
に供給される。

【００２４】浄化部５に内蔵された酸化触媒６の単位時
間当たりの処理能力には限界があり、供給される有害ガ
スの濃度が変動する場合は、その濃度ピークが酸化触媒
６の処理能力を超えないようにすることが必要である。
本実施形態によれば、供給される有害ガスの濃度ピーク
が上記のようにバッファ３によって低減されるので、バ
ッファ３が無い場合に比べて小さな処理能力の酸化触媒
で間に合うことになる。従って、浄化装置の小型化及び
コスト低減を達成することができる。

【００２５】バッファ媒体４として酸で洗浄した活性炭
を用い、有害ガスである酸化エチレン（エチレンオキサ
イド）の吸着及び放出（脱離ともいう）を行った実験結
果について説明する。まず、酸化エチレンを２０％（２
００，０００ｐｐｍ）含み、他の成分はほとんど二酸化
炭素である有害ガスを約１０リットル／分の流量で約５
分間、バッファ３内の媒体４に供給した。このとき、バ
ッファから出るガス中の酸化エチレン濃度は８、０００
〜１５、０００ｐｐｍに低減した。したがって、酸化エ
チレン成分の多くが活性炭に吸着されることが確かめら
れた。なお、バッファ入口部の温度が１４〜２４℃のと
き、バッファ中央部の温度は活性炭の吸着による温度上
昇により３０〜３５℃となった。

【００２６】次に、有害ガスの供給を止め、代わりに空
気を毎分１０リットル以上の流量で約３時間バッファ３
に供給した。このとき、バッファから出るガスは酸化エ
チレンを５、０００〜７、５００ｐｐｍの濃度で含んで
いた。したがって、バッファ３内の媒体４に吸着されて
いた酸化エチレンが供給された空気中に放出されること
が確認された。なお、このときのバッファ入口部及び中
央部の温度は共に１５〜３０℃であった。

【００２７】上記のような有害ガスの供給と空気の供給
とを２０回程度交互に繰り返し、バッファ３中の媒体
（活性炭）４による酸化エチレンの吸着と放出が繰り返
されることを確認した。なお、この実験では、有害ガス
として酸化エチレンと二酸化炭素との混合ガスを用い、
媒体に吸着された有害ガス成分の放出のために空気を供
給したが、図１の実施形態は供給される有害ガスが予め
空気で希釈されている場合に有効であろう。上記の実験
のように、清浄空気をそのまま媒体に導入して有害ガス
成分を媒体から放出させる構成の実施形態については後
述する。

【００２８】図１において、開閉弁８を開くと、供給さ
れる有害ガスの一部はバイパス路を通って直接浄化部５
に導入され、残りがバッファ３を通って浄化部５に導入
される。供給される有害ガスの濃度が低い場合や濃度変
動が少なく濃度ピークが酸化触媒６による浄化能力を超
えない期間は開閉弁８を開いて有害ガスを浄化部５に直
接導入することができる。

【００２９】（実施形態２）上記の実施形態の変形例と
して、図２に示すように、有害ガスの供給路１に有害ガ
ス成分の濃度を検出する濃度センサー９を設け、その検
出情報に基づいて開閉弁８の開閉制御を行う制御装置１
０を設けてもよい。例えば、濃度センサー９によって検
出された有害ガス成分の濃度が低く、浄化部５の酸化触
媒６の処理能力を超えない状態が所定時間継続すれば、
制御装置１０が開閉弁８を開成して有害ガスの一部を浄
化部５に直接導入するようにできる。開閉弁８として流
量調節が可能な弁を用いれば、バッファ３を通過させる
有害ガスの流量とバイパスさせる流量との比率を変える
こともできる。

【００３０】（実施形態３）実施形態１の別の変形例と
して、図３に示すように、有害ガスの供給路１と別に清
浄空気の導入路１１を設けてもよい。清浄空気の導入路
１１にはポンプ１２と開閉弁１３とが備えられている。
この実施形態は、有害ガスが間欠的に有害ガス供給路１
に供給される場合を想定しており、有害ガス供給路１に
はポンプが設けられていない。また、バッファ３のバイ
パス路は省略されている。

【００３１】この実施形態では、有害ガスが供給されて
いる期間は開閉弁１３は閉じており、ポンプ１２は停止
している。供給された有害ガスは実施形態１で説明した
ように、バッファ３内の媒体４を通って有害ガス成分濃
度を低減された後、浄化部５に供給される。有害ガスが
供給されていない期間は、開閉弁１３が開かれ、ポンプ
１２が作動して清浄空気が導入路１１から導入され、バ
ッファ３に供給される。この結果、それまで媒体４に吸
着されていた有害ガス成分が放出されて浄化部５に導入
される。

【００３２】したがって、この実施形態は浄化部５内の
酸化触媒６の浄化能力を超える量の有害ガスが間欠的に
供給される場合に有効である。このような場合であって
も、バッファ３内の媒体４による有害ガス成分の吸着作
用によって有害ガスの濃度が低減されて浄化部５に供給
されるので、バッファ３が無い場合に比べて小さな処理
能力の酸化触媒で間に合うことになる。媒体４に吸着さ
れた有害ガス成分は、間欠的に供給される有害ガスが供
給されていない期間に清浄空気を導入して徐々に放出さ
せることができる。

【００３３】（実施形態４）図４に本発明の実施形態４
に係る浄化装置の概略構成を示す。この実施形態４は図
１に示した実施形態１及び図３に示した実施形態３と同
じ構成要素を含んでおり、それぞれの構成要素には同じ
番号を付している。この実施形態４は実施形態３と同様
に、清浄空気の導入路１１を備え、導入路１１にはポン
プ１２及び開閉弁１３が設けられている。

【００３４】但し、図４から分かるように、導入路１１
から導入された清浄空気がバッファ３を通る方向は、供
給路１に導入された有害ガスがバッファ３を通過する方
向と逆になっている。つまり、バッファ３の有害ガス供
給路１に接続された側と反対側が清浄空気の導入路１１
に接続されている。そして、清浄空気がバッファ３をバ
イパスして直接浄化部５に至るバイパス路１５が設けら
れ、このバイパス路１５と有害ガスのバイパス路７とが
合流して浄化部５に連通している。清浄空気のバイパス
路１５には開閉弁１６が設けられている。

【００３５】本実施形態の浄化装置は、有害ガスのバイ
パス路７及び清浄空気のバイパス路１５にそれぞれ設け
られた開閉弁８，１６の開閉制御によって、有害ガスの
濃度が変動する場合、及び、有害ガスが間欠的に供給さ
れる場合の両方に柔軟に対応することができる。

【００３６】例えば、図４は、有害ガスのバイパス路７
の開閉弁８が閉じられ、清浄空気のバイパス路１５の開
閉弁１６が開けられた状態を示している。この状態で
は、供給路１に供給された有害ガスはバッファ３を通
り、清浄空気のバイパス路１５を通って浄化部５に至
る。通常、このモードは、有害ガスの濃度が高く、バッ
ファ３を通すことにより媒体４に有害ガス成分を吸着さ
せ、ガス中の有害ガス成分濃度を下げて浄化部５に供給
する場合に使用される。

【００３７】図４では清浄空気の導入路の開閉弁１３が
閉じられ、したがってポンプ１２は停止している。この
状態から開閉弁１３を開けてポンプ１２を作動させれ
ば、清浄空気が導入路１１から供給され、バッファ３を
通過した有害ガスと合流し、混合したガスがバイパス路
１５を通って浄化部５に供給される。

【００３８】図５は、図４とは逆に、有害ガスのバイパ
ス路７の開閉弁８が開けられ、清浄空気のバイパス路１
５の開閉弁１６が閉じられた状態を示している。また、
清浄空気の導入路１１の開閉弁１３が開けられ、ポンプ
１２が作動している。この状態では、導入路１１に供給
される清浄空気がバッファ３を通ってバッファ３内の媒
体４に吸着されていた有害ガス成分を放出させた後、バ
イパス路７を通って浄化部６に供給される。

【００３９】したがって、有害ガスが間欠的に供給され
る場合であって、有害ガスが供給路１に供給されていな
い期間に、バッファ３内の媒体４から有害ガス成分を放
出させる場合にこのモードが使用される。あるいは、供
給路１に供給された有害ガスの濃度が低い場合にもこの
モードを使用することができ、この場合はバッファ３を
通過し媒体４から放出された有害ガス成分を含む空気
が、供給路１に供給された有害ガスと合流して、混合ガ
スがバイパス路７を通って浄化部５に供給される。

【００４０】図５において、清浄空気の導入路１１の開
閉弁１３を閉じ、ポンプ１２を停止すれば、供給路１に
供給された有害ガスがバイパス路７を通って浄化部５に
供給されるだけのモードとなる。これは、図１を用いて
実施形態１の中で説明したモードと同じである。したが
って、この実施形態においても、図２を用いて説明した
実施形態２と同様に、有害ガスの供給路１に有害ガス成
分の濃度を検出する濃度センサーを設け、その検出情報
に基づいて開閉弁８の開閉制御を行う制御装置を設けて
もよい。

【００４１】また、図５において、清浄空気のバイパス
路１５の開閉弁１６を開けるモードも考えられる。この
場合、導入路１１に供給された清浄空気の一部はバッフ
ァ３を通って有害ガスの供給路１に合流し、残りの清浄
空気はバイパス路１５を通り、バイパス路７から来た有
害ガスと合流して浄化部５に供給されることになる。こ
のように、本実施形態の浄化装置は、有害ガスのバイパ
ス路７及び清浄空気のバイパス路１５にそれぞれ設けら
れた開閉弁８，１６の開閉制御により、更に清浄空気の
導入路１１に設けられたポンプ１２及び開閉弁１３の制
御と組み合わせて、多彩な動作モードの切り換えを実現
することができる。したがって、有害ガスの濃度が変化
する場合及び間欠的に有害ガスが供給される場合を含む
多くの場合に対応することができる。

【００４２】（実施形態５）図５に示した実施形態の変
形例として、図６に示す本発明の第５の実施形態では、
清浄空気の導入路１１にピータ１８を有する加熱室１９
が挿入されている。導入路１１に供給された清浄空気を
ヒータ１８によって加熱した後、バッファ３に供給す
る。加熱されて温度が上昇した清浄空気を媒体４に導入
することにより、媒体に吸着されていた有害ガス成分の
放出が促進される。

【００４３】清浄空気を加熱するヒータに代えて、又は
加えて、有害ガスの供給路１にヒータを設けても良い。
この場合は、低濃度の有害ガスを加熱した後バッファに
供給することにより、媒体に吸着されていた有害ガス成
分の放出を促進することになる。

【００４４】（実施形態６）図７に本発明の実施形態６
に係る浄化装置の概略構成を示す。この実施形態では、
図６に示した実施形態５の構成に、酸化触媒６の温度を
検出する温度センサー２０と、その検出情報に基づいて
ヒータ１８の通電制御を行う制御装置２１とが加えられ
ている。

【００４５】実施形態５で説明したように、清浄空気を
ヒータで加熱してバッファ３に供給することにより、常
温の清浄空気を供給する場合に比べて、バッファ３内の
媒体４に吸着されていた有害ガス成分の放出速度を高め
ることができる。しかし、有害ガス成分の媒体４からの
放出が促進される結果、浄化部５内の酸化触媒６の浄化
能力を超える濃度の有害ガスが酸化触媒６に供給される
おそれがある。特に、バッファ３を通過した有害ガス成
分を含む空気を導入路１からの有害ガスと合流して浄化
部に供給する場合にその可能性が高くなる。酸化触媒６
は、その化学的性質上、有害ガス成分の浄化作用に伴っ
て自己発熱する。したがって、酸化触媒の温度上昇をモ
ニターすれば、その処理能力の上限に対して余裕がある
か否かを判断することができる。

【００４６】そこで、本実施形態の制御装置２１は、温
度センサー２０が検出した酸化触媒の温度に基づいてヒ
ータ１８の加熱量を制御する。例えば制御装置２１は、
温度センサー２０の検出温度がしきい値を越えたとき
に、ヒーター１８による加熱を停止又は減量することに
より、バッファからの有害ガス成分の放出を抑制する。
ヒータの加熱量の制御は通常、デューティ比（単位時間
当たりの通電時間の割合）を変えることによって行う。
あるいは、所定時間内の温度上昇値がしきい値を越えた
ときにヒーターの通電を停止するように制御しても良
い。

【００４７】（その他の実施形態）図３、図４に示した
各実施形態の変形例として、酸化触媒６の温度を検出す
る温度センサーと、その検出情報に基づいてポンプ１２
の能力制御を行う制御装置とを設けてもよい。ポンプ１
２の能力制御によって清浄空気の導入量を変化させるこ
とにより、バッファ３内の媒体４から放出される有害成
分の量を変化させることができる。例えば、酸化触媒６
の温度が高くなり過ぎたときは、清浄空気の導入量を低
減することにより浄化部５に供給される有害成分の量を
低減すればよい。

【００４８】また、図３ではバッファ３と浄化部５とが
直結されているが、この間を切り離して別の空気導入口
を設け、導入した空気をバッファ３から供給された有害
ガスと混合して浄化部５に供給するようにしてもよい。
同様に図４において、バイパス路７，１５の合流部から
浄化部５までの間に別の空気導入口を設けることができ
る。こうすることにより、有害ガスの流量が減少しても
浄化部５の直前の空気導入口から十分な空気を導入する
ことにより、浄化部５内の酸化触媒６の冷却を促進する
ことができる。酸化触媒に供給する有害ガスと空気の混
合ガスの風量を一定の維持するために、空気導入口と浄
化部５との間に定速ファンを設けてもよい。

【００４９】本発明を実施するに際して、上記の各実施
形態を組み合わせて実施しても良い。また、他の種々の
変更を上記実施形態に加えて実施してもよい。また、本
発明は、酸化エチレンガスの浄化装置の他にも、各種燃
焼装置や有機溶剤の乾燥装置から排出される有害ガスの
浄化装置等に広く適用することができる。

【００５０】

【発明の効果】以上のように、本発明によるガス浄化装
置は、有害ガス成分を一旦吸着し、吸着した成分を後に
放出する媒体を用いたバッファを備えたことにより、有
害ガスの発生量又は濃度が変動する場合に有害ガスの浄
化を経済的かつ安全に行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態１に係る浄化装置の概略構成
を示す図

【図２】本発明の実施形態２に係る浄化装置の概略構成
を示す図

【図３】本発明の実施形態３に係る浄化装置の概略構成
を示す図

【図４】本発明の実施形態４に係る浄化装置の概略構成
を示す図

【図５】図４の浄化装置の別の動作モードを示す図

【図６】本発明の実施形態５に係る浄化装置の概略構成
を示す図

【図７】本発明の実施形態６に係る浄化装置の概略構成
を示す図

【符号の説明】

１ 有害ガスの供給路 ２，１２ ポンプ ３ バッファ ４ バッファ媒体 ５ 浄化部 ６ 酸化触媒 ７，１５ バイパス路 ８，１３，１６ 開閉弁 ９ ガス濃度センサー １０、２１ 制御装置 １１ 清浄空気の導入路 １８ ヒータ １９ 加熱室 ２０ 温度センサー

Claims (19)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 有害ガス成分を含む気体の供給路と、供
   給された気体中の有害ガス成分を一旦吸着し、吸着した
   成分を後に放出する媒体を用いたバッファと、前記バッ
   ファを通過した気体中の有害ガス成分を取り除く浄化部
   とを備えている有害ガスの浄化装置。
2. 【請求項２】 前記バッファの媒体は、供給された気体
   に含まれる有害ガス成分の濃度が高いときは前記有害ガ
   ス成分を吸着し、前記濃度が低いときはそれまでに吸着
   した有害ガス成分を放出する請求項１記載の浄化装置。
3. 【請求項３】 前記バッファのバイパス路と、前記バイ
   パス路に設けられた開閉弁とを更に備えている請求項１
   記載の浄化装置。
4. 【請求項４】 供給される気体に含まれる有害ガス成分
   の濃度を検出する濃度センサーと、前記濃度センサーの
   検出情報に基づいて前記開閉弁の開閉制御を行う制御装
   置とを更に備えている請求項３記載の浄化装置。
5. 【請求項５】 前記気体の供給路と別に清浄空気の導入
   路を備え、前記清浄空気を前記バッファに導入すること
   により、前記バッファに吸着されている有害ガス成分を
   放出する請求項１記載の浄化装置。
6. 【請求項６】 前記気体の供給路が前記バッファの一端
   側に接続され、前記清浄空気の導入路が前記バッファの
   他端側に接続され、前記気体が前記バッファをバイパス
   して前記浄化部に直接導入されるバイパス路と、前記清
   浄空気が前記バッファをバイパスして前記浄化部に直接
   導入されるバイパス路とが設けられ、前記気体のバイパ
   ス路と前記清浄空気のバイパス路とが合流して前記浄化
   部に接続されている請求項５記載の浄化装置。
7. 【請求項７】 前記気体が前記バッファを通り前記清浄
   空気のバイパス路を経由して前記浄化部に至る経路と、
   前記清浄空気が前記バッファを通り前記気体のバイパス
   路を経由して前記浄化部に至る経路とを選択的に形成す
   る手段をさらに備えている請求項６記載の浄化装置。
8. 【請求項８】 供給される気体に含まれる有害ガス成分
   の濃度を検出する濃度センサーと、前記濃度センサーの
   検出した濃度がしきい値より低いときは前記気体が前記
   バイパス路を通って直接浄化部に至る経路を選択し、前
   記濃度がしきい値より高いときは前記気体がバッファを
   通る経路を選択する手段とを更に備えている請求項７記
   載の浄化装置。
9. 【請求項９】 前記気体が前記バイパス路を通って直接
   浄化部に至る経路が選択されたときは前記清浄空気が前
   記バッファを通って前記気体に合流する請求項７又は８
   記載の浄化装置。
10. 【請求項１０】 前記気体が供給されていないときに前
    記清浄空気を前記バッファに導入する請求項５〜９のい
    ずれか１項記載の浄化装置。
11. 【請求項１１】 前記気体の供給路にヒータを設け、前
    記気体の濃度が低いときは前記ヒータにより前記気体を
    加熱したのち前記バッファに供給することにより、前記
    バッファ吸着されている有害ガス成分の放出を促進する
    請求項１〜４のいずれか１項記載の浄化装置。
12. 【請求項１２】 前記清浄空気の導入路にヒータを設
    け、加熱した清浄空気を前記バッファに供給することに
    より、前記バッファ吸着されている有害ガス成分の放出
    を促進する請求項５〜１０のいずれか１項記載の浄化装
    置。
13. 【請求項１３】 触媒を用いて有害ガス成分の浄化を行
    う浄化部と、前記有害ガス成分の浄化に伴って上昇する
    前記触媒の温度を検出する温度センサーと、前記温度セ
    ンサーの検出温度に基づいて前記ヒーターの加熱量を制
    御する制御装置とを備えている請求項１１又は１２記載
    の浄化装置。
14. 【請求項１４】 触媒を用いて有害ガス成分の浄化を行
    う浄化部と、前記有害ガス成分の浄化に伴って上昇する
    前記触媒の温度を検出する温度センサーと、前記温度セ
    ンサーの検出温度に基づいて前記清浄空気の導入量を制
    御する制御装置とを備えている請求項５〜１０のいずれ
    か１項記載の浄化装置。
15. 【請求項１５】 前記浄化部の直前に別の空気導入口を
    さらに備えている請求項１４記載の浄化装置。
16. 【請求項１６】 有害ガス成分を含む気体の浄化方法で
    あって、前記有害ガス成分を一旦吸着し、吸着した成分
    を後に放出する媒体を用いたバッファを介して前記気体
    を浄化装置に供給することにより、間欠的に供給され又
    は間欠的に有害ガス成分の濃度が高くなる気体の有害ガ
    ス成分の濃度ピーク値を低減して浄化装置に供給するこ
    とを特徴とする浄化方法。
17. 【請求項１７】 清浄空気を前記バッファに導入するこ
    とにより、前記媒体に吸着されている有害ガスの放出を
    促進する請求項１６記載の浄化方法。
18. 【請求項１８】 前記清浄空気又は有害ガス成分の濃度
    が低い気体を加熱して前記バッファに導入することによ
    り、前記媒体に吸着されている有害ガスの放出を促進す
    る請求項１６又は１７記載の浄化方法。
19. 【請求項１９】 前記有害ガス成分の浄化を触媒によっ
    て行い、前記有害ガス成分の浄化に伴って上昇する前記
    触媒の温度を検出し、その検出情報に基づいて、前記バ
    ッファの媒体に吸着されている有害ガスの放出を抑制す
    る請求項１６、１７又は１８記載の浄化方法。