JPH1176908A - 塗布膜形成装置及びその方法並びに基板搬送装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ＬＣＤ基板の表面全体にレジスト膜を形成
し、次いで基板の縁部の不要なレジスト膜を除去するに
あたって、工程数が少なく高いスループットを得るこ
と。 【解決手段】 スピンコーティングによりＬＣＤ基板１
の表面全体にレジスト膜を形成した後、塗布膜形成部２
から基板１を搬送アーム３２が受け取り、Ｘレール３１
に沿って基板１をＸ方向に搬送する。このとき基板１の
搬送路の両側に設けた側縁がガイド部５１及び両面ガイ
ド部５２で基板の両縁が及び上下両面をガイドし、第１
の塗布膜除去部４０にて溶剤により基板１の長辺の縁部
の不要なレジスト膜を除去する。次いで搬送Ｙレール３
５に沿って基板１をＹ方向に搬送し、第２の塗布膜除去
部６０にて溶剤により基板１の短辺の縁部の不要なレジ
スト膜を除去する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、角型の基板の表面
に塗布膜を形成し、次いで基板の縁部の不要な塗布膜を
除去する装置及びその方法、並びに基板搬送装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】一般に、液晶表示ディスプレイ（ＬＣ
Ｄ）装置の製造工程においては、ＬＣＤ基板（ガラス基
板）上に例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉ
ｄｅ）の薄膜や電極パターン等を形成するために、半導
体製造工程において用いられるものと同様なフォトリソ
グラフィ技術を用いて回路パターン等を縮小してフォト
レジストに転写し、これを現像処理する一連の処理が施
される。

【０００３】上記のような処理を行う場合、例えば、レ
ジスト膜の形成方法として、角形のＬＣＤ基板（以下に
基板という）を、処理容器内に配設される保持手段例え
ばスピンチャック上に載置固定した状態で、処理容器の
開口部を蓋体で閉止して、処理容器とスピンチャックを
回転させ、例えば、この基板上面の中心部に溶剤と感光
性樹脂とからなるレジスト液を滴下し、そのレジスト液
を基板の回転力と遠心力とにより基板中心部から周縁部
に向けて放射状に拡散させて塗布する回転カップ式の塗
布膜形成装置が知られている。

【０００４】この塗布処理の際、塗布直後における膜厚
は均一であっても、回転が停止して遠心力が働かなくな
った後や時間が経つに従い表面張力の影響で基板周縁部
でレジスト液が盛り上がるように厚くなる。また、レジ
スト液が基板の下面周縁部にまで回り込んで不要な膜が
形成される現象が発生する。このように基板の周縁部に
不均一な厚い膜が形成されていると、集積回路パターン
等の現像時に周縁部のレジスト膜が完全には除去されず
に残存することになり、その後の基板の搬送工程中にそ
の残存したレジストが剥がれ、パーティクル発生の原因
となる。

【０００５】そこで、従来では、基板の表面にレジスト
液等を塗布した後、基板の周縁部の不要な塗布膜を除去
する処理が行われている。このように基板全体にレジス
ト膜を形成し、次いで縁部の不要な塗布膜を除去して、
基板のパターン形成領域にレジスト膜を形成する装置と
しては、例えば図１０に示すものが知られている。

【０００６】図１０中１００は塗布膜形成部、２００は
塗布膜除去部であり、基板１は、先ず塗布膜形成部１０
０内のスピンチャック１１に保持され、回動アーム１２
の先端部のノズル１３から滴下されたレジスト液を遠心
力で振り切ってレジスト膜が形成される。次いで一対の
アーム１４ａ、１４ｂが基板１の両辺を挾持してレール
１５ａ、１５ｂにガイドされながら塗布膜除去部２００
内の図示しない保持台１６に搬送される。塗布膜除去部
２００内には、基板１の辺に沿ってレール１７ａ、１７
ｂ、１７ｃ、１７ｄにガイドされながら移動する溶剤吐
出ユニット１８ａ、１８ｂが設けられており、保持台１
６に置かれた基板１に対して、溶剤吐出ユニット１８
ａ、１８ｂ、１８ｃ、１８ｄが夫々一辺に沿って溶剤を
基板１の縁部に供給しながら移動し、縁部の不要な膜を
除去するようにしている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上述の装
置では、スピンコーティングが終った後、基板１を塗布
膜除去部２００まで搬送して保持台１６に受け渡す工
程、塗布膜除去工程及び保持台１６から基板１を受け取
って外部に搬送する工程を行っており、工程数が多く、
全体の処理に長い時間を要するという問題がある。

【０００８】また溶剤吐出ユニットは横から見た断面形
状がコ字型に形成され、この中に基板の縁部が入り込
み、溶解物を吸引する構造になっているが、溶剤である
シンナーは有毒であるため、溶剤吐出ユニットの近傍に
その移動領域を包含する大きさの排気口（図示せず）を
設けている。しかしながら排気すべき領域が広いため、
大きな排気能力を必要とするという問題もあった。

【０００９】本発明はこのような事情の下になされたも
のであり、その目的は基板全面に塗布膜を形成した後基
板の縁部の不要な薄膜を除去するにあたって工程数の少
ない塗布膜形成装置及びその方法を提供することにあ
る。本発明の他の目的は、基板間でのコンタミネーショ
ンを抑えることができ、例えば上述の塗布膜形成装置に
おいて基板を搬送するのに好適な基板搬送装置を提供す
ることにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の塗布膜形成装置
は、角型の基板を保持して基板表面全体に塗布膜を形成
する塗布膜形成部と、この塗布膜形成部から基板を受け
取って搬送する基板搬送手段と、この基板搬送手段によ
る基板の搬送路の側部に設けられた塗布膜除去部と、を
備え、前記塗布膜除去部は、塗布膜が形成された基板の
一面側の縁部の通路と隙間を介して対向して設けられ、
基板の縁部の塗布膜を溶剤を吐出して溶解除去する溶剤
吐出部を有し、前記塗布膜形成部で塗布膜が形成された
基板を基板搬送手段により搬送しながら塗布膜除去部に
より基板の縁部の不要な塗布膜を除去することを特徴と
する。

【００１１】なお例えば前記塗布膜除去部は、溶剤吐出
部から吐出した溶剤及び塗布膜の溶解物を吸引する吸引
手段を更に備えている。この場合塗布膜形成部と塗布膜
除去部との間に基板の両面をガイドする両面ガイド部を
設けることが好ましい。また塗布膜形成部と塗布膜除去
部との間に基板の両側縁をガイドする側縁ガイド部を設
けることが好ましい。

【００１２】また例えば塗布膜除去部の下方側には、溶
剤吐出部から吐出した溶剤の蒸気を排気するための排気
路の排気口が設けられる。前記基板搬送手段は、例えば
Ｘ方向とこれに交差するＹ方向の両方に移動できるよう
に構成され、塗布膜除去部は、Ｘ方向の基板の搬送路の
側部に設けられた第１の塗布膜除去部と、Ｙ方向の基板
の搬送路の側部に設けられた第２の塗布膜除去部と、を
含む構成とすることができる。

【００１３】また塗布膜形成部が、基板を保持しながら
基板の面に沿って回転させる保持台を備えている場合に
は、基板を基板搬送手段により搬送しながら、基板の互
いに対向する一対の辺に沿った縁部の不要な塗布膜を除
去した後、当該基板を例えば前記保持台に戻してこの保
持台の回転により基板の向きを変え、この基板を基板搬
送手段により搬送しながら、前記基板における一対の辺
とは異なる他の一対の辺に沿った縁部の不要な塗布膜を
除去するようにしてもよい。

【００１４】本発明の塗布膜形成方法は、角型の基板を
保持して基板表面全体に塗布膜を形成する塗布膜形成工
程と、次いでこの基板を搬送する搬送工程と、この搬送
工程中に行われ、基板の縁部の不要な塗布膜を除去する
塗布膜除去工程と、を備えたことを特徴とする。

【００１５】また本発明の基板搬送装置は、基板の裏面
を保持する搬送ア−ムと、この搬送ア−ムに設けられ、
基板を保持するときには静止してア−ム表面に露出して
いる面が基板の載置面を形成するエンドレスベルトと、
前記ア−ム表面に露出しているエンドレスベルトの表面
が送られて再び露出するまでに当該ベルトの表面を洗浄
するための洗浄部と、を備えたことを特徴とする。

【００１６】この場合、エンドレスベルトの表面に長さ
方向に設けられ、基板を載置する多数のパッドと、前記
エンドレスベルトで囲まれる空間に設けられ、エンドレ
スベルトの載置面側にパッドの間隔に対応して吸引孔が
配列された吸引機構と、を備え、パッドの静止位置が前
記吸引孔の位置に対応するようにエンドレスベルトが静
止し、吸引孔にパッドが吸着された状態で基板が保持さ
れるように構成することができる。この基板搬送装置
は、上記の塗布膜形成装置の基板搬送手段として用いる
ことができる。

【００１７】

【発明の実施の形態】図１は本発明の実施の形態に係る
塗布膜形成装置の全体の概略構成を示す図、図２は図１
の一部を側面からみた図（一部断面で示してある）であ
る。図中２は塗布膜形成部であり、この塗布膜形成部２
は、ＬＣＤ基板（以下単に基板という）１を水平に保持
して回転するスピンチャック２１と、このスピンチャッ
ク２１上の基板１を囲むように設けられた処理容器をな
す回転カップ２２と、この回転カップ２２の外側に設け
られた固定カップ２３と、基板１にレジスト液を滴下す
るためのレジスト液ノズル２４と、を備えている。

【００１８】回転カップ２２の上面部は蓋体２２ａに相
当し、この蓋体２２ａは図示しない操作機構により上下
できるようになっていて、回転カップ２２の上面を開閉
するように構成されている。そしてレジスト液をレジス
ト液ノズル２４から滴下するときには蓋体２２ａは当該
ノズル２４の上方側に位置している。レジスト液ノズル
２４は、アーム２５によりスピンチャック２１上の基板
１の中心部上方と、固定カップ２３の側方との間で移動
できるように構成されている。２６はスピンチャック２
１及び回転カップ２２を回転させる駆動部、２７、２８
は夫々排気口及び排液口である。

【００１９】前記塗布膜形成部２の外側には、例えば固
定カップ２３の直径の延長線に沿って伸びるガイドレー
ル３１が配置されており、このガイドレール３１上には
搬送アーム３２が当該ガイドレール３１に沿って移動自
在に設けられている。ガイドレール３１が伸びている方
向をＸ方向とし、これをＸレールと呼ぶことにすると、
Ｘレール３１及び搬送アーム３２は、前記塗布膜形成部
２のスピンチャック２１が固定カップ２３の上方まで上
昇したときに、搬送アーム３２がスピンチャック２１か
ら基板１を受け取ることができるように位置設定されて
いる。

【００２０】前記Ｘレール３１における塗布膜形成部２
とは反対側の端部には、Ｘレール３１とは別体のレール
３３がわずかな隙間を介して連続して設けられている。
このレール３３は搬送アーム３２の基台３２ａが載るの
に十分な長さに形成されると共に移動台３４の上に固定
されている。この移動台３４はＹ方向に伸びるＹレール
３５にガイドされながら移動できるように構成されてい
る。従ってＸレール３１に沿って端部まで移動してきた
搬送アーム３２は、この端部を越えてレール３３まで更
に移動し、次いでこの姿勢のままＹ方向に移動すること
になる。この例では搬送アーム３２、Ｘレール３１及び
Ｙレール３５が基板搬送手段を構成している。

【００２１】搬送アーム３２がＸレール３１に沿って移
動するときの基板１の搬送路の両側には、塗布膜除去ユ
ニット４Ａ、４Ｂが互に対向して設けられると共に、こ
の塗布膜除去ユニット４Ａ、４Ｂよりも前記搬送路の下
流側には洗浄ユニット５Ａ、５Ｂが互に対向して設けら
れている。塗布膜除去ユニット４Ａ（４Ｂ）は、図３及
び図４に示すように断面形状はコ字型の基体４１を備え
ており、この基体４１は基板１の搬送路を間隔を介して
挟み込むように設けられている。基体４１の上面部分に
は、基板１の搬送路に沿って多数の溶剤吐出孔４２が配
列されたノズル４３が設けられると共に基体４１の背面
部分には、溶剤と溶剤による基板１上の溶解物とを吸引
排出するための吸引手段である吸引排出路４４が設けら
れており、この吸引排出路４４には図示しない吸引ポン
プが接続されている。またこの例では、基体４１の下面
部分にも、基板１の搬送路に沿って多数の溶剤吐出孔４
５が配列されたノズル４６が設けられている。

【００２２】なお洗浄ユニット５Ａ（５Ｂ）も塗布膜除
去ユニット４Ａ（４Ｂ）と同様の構成であり、これらユ
ニット４Ａ（４Ｂ）及び５Ａ（５Ｂ）により第１の塗布
膜除去部４０が構成されている。

【００２３】前記塗布膜除去ユニット４Ａ（４Ｂ）と塗
布膜形成部２との間には、基板２の両側縁をガイドする
側縁ガイド部５１と、基板１の上下両面をガイドする両
面ガイド部５２とが、上流側からこの順に設けられてい
る。側縁ガイド部５１は、基板１の搬送路の両側に各々
例えば２個ずつ設けられた、水平回転するローラ５１
ａ、５１ｂよりなる。両面ガイド部５２は、基板１の搬
送路の両側において基板１の縁部の上下両面をガイドす
るように水平な軸のまわりに回転自在なローラ５２ａ、
５２ｂを設けて構成されている。

【００２４】また前記第１の塗布膜除去部４０の下方
側、即ち塗布膜除去ユニット４Ａ（４Ｂ）から洗浄ユニ
ット５Ａ（５Ｂ）に亘るまでの領域の下方側には、溶剤
の蒸気が作業者のいる環境に流出しないように排気路を
なす排気ダクト５３の排気口５４が上を向いて配置され
ている。この排気口５４は、第１の塗布膜除去部４０の
下方側領域をカバ−するように、排気ダクト５３の先端
部を拡径化して例えば楕円形状に形成されており、例え
ばパンチングメタル板５５（図２参照）が嵌め込まれて
いる。また排気ダクト５３は図２に示すように、排気口
５４の付近では垂直に立ち下がっているが、途中でＬ字
型に屈曲しており、この屈曲部分の底部に突出部５６を
設けて、上から垂れてきた溶剤が下流側に流れないよう
になっている。５７は排液管である。

【００２５】そしてユニット４Ａ（４Ｂ）、５Ａ（５
Ｂ）、側縁ガイド部５１及び両面ガイド部５２は、基板
２の搬送路に対して接近、離隔できるように構成されて
おり、基板１のサイズに合わせてその位置を調整できる
ようになっている。

【００２６】更に搬送アーム３２がＹレール３５に沿っ
て移動するときの基板１の搬送路の両側には、第２の塗
布膜除去部６０をなす塗布膜除去ユニット６Ａ、６Ｂ及
び洗浄ユニット７Ａ、７Ｂが設けられると共に、第２の
塗布膜除去部６０の上流側には、基板２の上下両面をガ
イドする両面ガイド部７１が設けられている。塗布膜除
去ユニット６Ａ、６Ｂ、洗浄ユニット７Ａ、７Ｂ及び両
面ガイド部７１は、夫々既述の塗布膜除去ユニット４
Ａ、４Ｂ、洗浄ユニット５Ａ、５Ｂ及び両面ガイド部７
１と同様の構成であり、基板２の搬送路に対して接近、
隔離できるように構成されている。なお第２の塗布膜除
去部６０の下方側には同様に排気ダクト７３の排気口７
４が上を向いて設けられている。

【００２７】次に上述の実施の形態の作用について、図
１〜図４に基づいて、また図５のフロ−図を参照しなが
ら述べる。まず図示しないメイン搬送アームから塗布膜
形成部２のスピンチャック２１に基板１が受け渡され
る。この受け渡しは、回転カップ２２及び固定カップ２
３の蓋体２２ａ、２３ａを上昇させると共にスピンチャ
ック２１を固定カップ２３の上方まで上昇させることに
よって行われる。そしてレジスト液ノズル２４から基板
１の中心部にレジスト液を滴下し、両カップ２２、２３
の蓋体２２ａ、２３ａを閉じて、スピンチャック２１を
回転させることによりレジスト液を基板１の表面にスピ
ンコーティングする。

【００２８】その後蓋体２２ａ、２３ａを開くと共にス
ピンチャック２１を上昇させ、前記搬送アーム３２をス
ピンチャック２１上の基板２の下方側に進入させて、ス
ピンチャック２１から搬送アーム３２に基板１を受け渡
す。次いで搬送アーム３２を図示しないモータによりＸ
レール３１に沿って塗布膜形成部２から離れる方向に移
動すると、基板１は、先ず側縁ガイド部５１をなすロー
ラ５１ａ、５１ｂによって基板１の長辺に相当する両側
縁がガイドされ、左右の姿勢が整えられる。続いて両面
ガイド５２をなすローラ５２ａ、５２ｂによって基板１
の両面がガイドされ、塗布膜除去ユニット４Ａ（４Ｂ）
及び洗浄ユニット５Ａ（５Ｂ）のコ字形の基体４１で囲
まれる空間を基板１の長辺に沿った両縁部が通ってい
く。

【００２９】このとき塗布膜除去ユニット４Ａ（４Ｂ）
の溶剤吐出孔４３から溶剤例えばシンナーが基板１の上
面の縁部に吹き付けられ、この縁部に付着している不要
なレジスト膜を溶解する。溶剤及び溶解物は吸引排出路
４４から吸引排出される。更に洗浄ユニット５Ａ（５
Ｂ）においても基板１の縁部に溶剤の吹き付けが行われ
るが、ここでは既に塗布膜が除去された基板１の縁部を
洗浄するという工程が行われる。

【００３０】そして基板１の後端が洗浄ユニット５Ａ
（５Ｂ）から抜け出し、搬送アーム３２がＸレール３１
の先端側に位置するレール３３上に達すると、移動体３
３がＹレール３５に沿って移動し、基板１の短辺に相当
する縁部の上下両面が両面ガイド部７１をなすローラに
よりガイドされながら塗布膜除去ユニット６Ａ（６Ｂ）
及び洗浄ユニット７Ａ（７Ｂ）のコ字形基体で囲まれる
空間を基板１の短辺に沿った両側縁が通り、同様にして
基板１の縁部の不要なレジスト膜の除去と洗浄とが行わ
れる。しかる後、例えば基板１の後端が洗浄ユニット７
Ａ（７Ｂ）を抜けた後、図示しないメイン搬送アームに
受け渡される。

【００３１】このような実施の形態によれば、基板１に
塗布膜を形成した後、基板１を搬送しながら縁部の不要
な塗布膜の除去処理を行っているため、工程数が少なく
効率のよい処理を行うことができ、スループットの向上
を図ることができる。また塗布膜除去部４０、６０の位
置を固定して基板１側を動かしているため塗布膜除去部
４０、６０が配置されている領域に対応した領域だけ排
気すればよいので排気領域が狭くてよく、大きな排気能
力を必要としない。

【００３２】更に塗布膜形成部２から取り出された基板
１は、側縁ガイド部５１により両サイドをガイドされて
水平方向の姿勢が整えられるので基板１の予定としてい
る縁部の領域に対して確実に塗布膜の除去処理を行うこ
とができる。更にまた基板１は両面ガイド部５２（７
１）によりガイドされながら塗布膜除去部４０（６０）
に導入されるので、基板１が大型化し、撓みがあって
も、支障なく処理を行うことができる。

【００３３】以上において基板１の長辺の塗布膜除去処
理を行った後、短辺の塗布膜除去処理を行う手法として
は、基板１を塗布膜形成部２のスピンチャック２１に戻
してここで基板１の向きを９０度変え、ガイド部５１、
５２の位置及び塗布膜除去部４０の位置（基板１の搬送
路を介して対向している部材間の距離）を変えて処理を
行うようにしてもよい。この手法による全体のフロ−を
図６に示す。この場合Ｙレール３５及び第２の塗布膜除
去部６０などは不要になる。なお基板の向きを９０度変
えるためには、スピンチャックを用いる代わりに、別途
設けた回転ステ−ジを利用してもよい。

【００３４】ここで上述の搬送アーム３２の構造の一例
について図７〜図９を参照しながら述べる。この搬送ア
ーム３２は、アーム本体８のＵ字形部分の両サイドにエ
ンドレスベルト８１を備えている。即ちアーム本体８の
両サイドには、前後に伸びるように細長い凹部８２が形
成されており、この凹部８２の前端部及び後端部には、
水平な軸のまわりに回動するローラ８３、８４が設けら
れている。前記エンドレスベルト８１はこれらローラ８
３、８４の間に掛けられており、表面（外側を向いた
面）には間隔をおいて多数のゴムパッド８５が設けられ
ている。なお例えばローラ８３はアーム本体８内に設け
られた図示しない駆動部により駆動される。これらゴム
パッド８５は２つのグループに分かれており、一方のグ
ループのゴムパッド８５がアーム本体８の表面に露出し
ている基板１の載置面側、即ちエンドレスベルト８１の
上側搬送面に位置しているときには、他方のグループの
ゴムパッド８５は載置面とは反対側、即ち下側搬送面に
位置するように位置設定されている。

【００３５】前記エンドレスベルト８５で囲まれた空間
には、吸着機構９が設けられている。この吸着機構９
は、吸引管９０に接続された、通気室を区画する空洞体
９１と、この空洞体９１の上面に、前記ゴムパッド８５
の配列間隔に対応した間隔で各グループのゴムパッド８
５の数に応じた数だけ形成された吸引孔９２とを有して
おり、基板１の載置面側に位置するゴムパッド８５を吸
着する役割をもつ。また凹部８２の−端には、その先端
がゴムパッド８５の通路に臨むように洗浄部をなす洗浄
液ノズル９３が設けられると共に、凹部８２の他端に
は、その先端がゴムパッド８５の通路に臨むように乾燥
部をなす乾燥用ガスノズル９４が設けられている。

【００３６】このような搬送アームの動作について述べ
ると、先ずゴムパッド８５の−のグループがアーム本体
８１の表面に露出する位置にエンドレスベルト８１を停
止させ、吸着機構９の吸引孔９２に夫々当該−のグルー
プのゴムパッド８５を吸引孔９２により吸引して各ゴム
パッド８５の位置を安定させた状態で、基板１をゴムパ
ッド８５で保持する。そしてこの基板１を搬送アームか
ら受け渡した後、エンドレスベルト８１を図８中反時計
回りに回転させて、今まで載置面側に位置していたゴム
パッド８５の−のグループと下側に位置していたゴムパ
ッド８５の他のグループとの位置を逆転させる。このエ
ンドレスベルト８１の回転時において、−のグループの
ゴムパッド８５が洗浄液ノズル９３の前を通るときに当
該ノズル９３から洗浄液をゴムパッド８５に吹き付けて
洗浄する。そして載置面側に位置しているゴムパッド８
５に基板１を載せて所定の搬送が終った後、再び同様に
上と下とのゴムパッド８１の位置を逆転させるが、この
とき、既に洗浄された下側のゴムパッド８５を乾燥用ガ
スノズル９４から吹き出すガスによって乾燥させる。

【００３７】このような搬送アームによれば、ある基板
を搬送した後、当該基板を載置していたゴムパッド８５
が次に基板を保持するまでの間にゴムパッド８５が洗浄
されるので、基板間において搬送アームを仲介したゴミ
の付着（コンタミネーション）を防止することができ
る。なおこの実施の形態におけるゴムパッド８５は、特
許請求の範囲でいう「エンドレスベルトの表面」に相当
するものである。

【００３８】また上述の搬送アームは、塗布膜形成部と
塗布膜除去部との間で基板を搬送する基板搬送装置とし
て用いることに限らず、例えば基板にレジスト液を塗布
する工程と露光後の基板に対して現像処理を行う、いわ
ゆる塗布／現像装置のメイン搬送装置として用いてもよ
い。

【００３９】

【発明の効果】以上のように本発明の塗布膜形成装置及
びその方法によれば、基板を搬送しながら基板の縁部の
不要な塗布膜を除去しているので工程数が少なく、短時
間で処理することができる。

【００４０】また本発明の基板搬送装置によれば基板間
におけるゴミの転写を防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の塗布膜形成装置の実施の形態の全体構
成を示す概略斜視図である。

【図２】本発明の塗布膜形成装置の実施の形態の全体構
成を示す縦断側面図である。

【図３】塗布膜除去部を示す断面図である。

【図４】塗布膜除去部を示す平面図である。

【図５】本発明の塗布膜形成装置の上記実施の形態にお
ける工程を示すフロ−図である。

【図６】本発明の塗布膜形成装置の他の実施の形態にお
ける工程を示すフロ−図である。

【図７】本発明の基板搬送装置の実施の形態を示す斜視
図である。

【図８】本発明の基板搬送装置の実施の形態を示す断面
図である。

【図９】本発明の基板搬送装置の実施の形態の要部を示
す分解斜視図である。

【図１０】従来の塗布膜形成装置を示す平面図である。

【符号の説明】

１ 基板 ２ 塗布膜形成部 ２１ スピンチャック ２２ 回転カップ ２３ 固定カップ ２４ レジスト液ノズル ３１ Ｘレール ３２ 搬送アーム ３５ Ｙレール ４０ 第１の塗布膜除去部 ６０ 第２の塗布膜除去部 ４Ａ、４Ｂ、６Ａ、６Ｂ 塗布膜除去ユニット ５Ａ、５Ｂ、７Ａ、７Ｂ 洗浄ユニット ５１ 側縁ガイド部 ５２、６２ 両面ガイド部 ５３、７３ 排気路 ５４、７４ 排気口 ８ アーム本体 ８１ エンドレスベルト ８２ 凹部 ８５ ゴムパッド ９ 吸着機構 ９３ 洗浄液ノズル ９４ 乾燥用ガスノズル

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｂ０８Ｂ 3/08 Ｂ０８Ｂ 3/08 Ｚ Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５００ Ｇ０３Ｆ 7/16 ５０１ Ｇ０３Ｆ 7/16 ５０１ 7/38 ５０１ 7/38 ５０１ Ｇ０９Ｆ 9/35 ３２０ Ｇ０９Ｆ 9/35 ３２０

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 角型の基板を保持して基板表面全体に塗
   布膜を形成する塗布膜形成部と、 この塗布膜形成部から基板を受け取って搬送する基板搬
   送手段と、 この基板搬送手段による基板の搬送路の側部に設けられ
   た塗布膜除去部と、を備え、 前記塗布膜除去部は、塗布膜が形成された基板の一面側
   の縁部の通路と隙間を介して対向して設けられ、基板の
   縁部の塗布膜を溶剤を吐出して溶解除去する溶剤吐出部
   を有し、 前記塗布膜形成部で塗布膜が形成された基板を基板搬送
   手段により搬送しながら塗布膜除去部により基板の縁部
   の不要な塗布膜を除去することを特徴とする塗布膜形成
   装置。
2. 【請求項２】 塗布膜除去部は、溶剤吐出部から吐出し
   た溶剤及び塗布膜の溶解物を吸引する吸引手段を備えた
   ことを特徴とする請求項１記載の塗布膜形成装置。
3. 【請求項３】 塗布膜形成部と塗布膜除去部との間に基
   板の両面をガイドする両面ガイド部を設けたことを特徴
   とする請求項１または２記載の塗布膜形成装置。
4. 【請求項４】 塗布膜形成部と塗布膜除去部との間に基
   板の両側縁をガイドする側縁ガイド部を設けたことを特
   徴とする請求項１、２または３記載の塗布膜形成装置。
5. 【請求項５】 溶剤吐出部から吐出した溶剤の蒸気を排
   気するための排気路の排気口が設けられていることを特
   徴とする請求項１、２、３または４記載の塗布膜形成装
   置。
6. 【請求項６】 排気路の排気口は、塗布膜除去部の下方
   側に設けられていることを特徴とする請求項５記載の塗
   布膜形成装置。
7. 【請求項７】 基板搬送手段は、Ｘ方向とこれに交差す
   るＹ方向の両方に移動できるように構成され、 塗布膜除去部は、Ｘ方向の基板の搬送路の側部に設けら
   れた第１の塗布膜除去部と、Ｙ方向の基板の搬送路の側
   部に設けられた第２の塗布膜除去部と、を含むことを特
   徴とする請求項１、２、３、４、５または６記載の塗布
   膜形成装置。
8. 【請求項８】 基板を基板搬送手段により搬送しなが
   ら、基板の互いに対向する一対の辺に沿った縁部の不要
   な塗布膜を除去した後、基板の向きを変え、この基板を
   基板搬送手段により搬送しながら、前記基板における一
   対の辺とは異なる他の一対の辺に沿った縁部の不要な塗
   布膜を除去することを特徴とする請求項１、２、３、
   ４、５または６記載の塗布膜形成装置。
9. 【請求項９】 塗布膜形成部は、基板を保持しながら基
   板の面に沿って回転させる保持台を備え、 基板の向きを変える動作は、基板を前記保持台に戻して
   この保持台の回転により行うことを特徴とする請求項８
   記載の塗布膜形成装置。
10. 【請求項１０】 基板搬送手段は、基板の裏面を保持す
    る搬送ア−ムと、この搬送ア−ムに設けられ、基板を保
    持するときには静止してア−ム表面に露出している面が
    基板の載置面を形成するエンドレスベルトと、前記ア−
    ム表面に露出しているエンドレスベルトの表面が送られ
    て再び露出するまでに当該ベルトの表面を洗浄するため
    の洗浄部と、を備えた請求項１、２、３、４、５、６、
    ７、８または９記載の塗布膜形成装置。
11. 【請求項１１】 角型の基板を保持して基板表面全体に
    塗布膜を形成する塗布膜形成工程と、 次いでこの基板を搬送する搬送工程と、 この搬送工程中に行われ、基板の縁部の不要な塗布膜を
    除去する塗布膜除去工程と、を備えたことを特徴とする
    塗布膜形成方法。
12. 【請求項１２】 基板の表面または裏面を保持する搬送
    ア−ムを備えた基板搬送装置において、 前記搬送ア−ムに設けられ、基板を保持するときには静
    止してア−ム表面に露出している面が基板の載置面を形
    成するエンドレスベルトと、前記ア−ム表面に露出して
    いるエンドレスベルトの表面が送られて再び露出するま
    でに当該ベルトの表面を洗浄するための洗浄部と、を備
    えたことを特徴とする基板搬送装置。
13. 【請求項１３】 エンドレスベルトの表面に長さ方向に
    設けられ、基板を載置する多数のパッドと、前記エンド
    レスベルトで囲まれる空間に設けられ、エンドレスベル
    トの載置面側にパッドの間隔に対応して吸引孔が配列さ
    れた吸引機構と、を備え、パッドの静止位置が前記吸引
    孔の位置に対応するようにエンドレスベルトが静止し、
    吸引孔にパッドが吸着された状態で基板が保持されるよ
    うに構成したことを特徴とする請求項１２記載の基板搬
    送装置。