JPH1173689A - スクライブ洗浄機構 - Google Patents

スクライブ洗浄機構

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JPH1173689A
JPH1173689A JP23228797A JP23228797A JPH1173689A JP H1173689 A JPH1173689 A JP H1173689A JP 23228797 A JP23228797 A JP 23228797A JP 23228797 A JP23228797 A JP 23228797A JP H1173689 A JPH1173689 A JP H1173689A
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Katsunori Shimo
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Abstract

(57)【要約】 【課題】光ディスクのスタンパーの表面を、損傷するこ
となく、効率よく、しかも、確実に洗浄することができ
る。 【解決手段】無端帯状に形成された含水性を有する洗浄
シート12の外周面が、ターンテーブル11上に載置さ
れた光ディスクのスタンパー20に接触するように、支
持ロッド13に垂下した状態で支持されており、支持ロ
ッド13の下方に配置された洗浄液噴射管14から洗浄
シート12の内周面に洗浄液が噴射される。これによ
り、洗浄シート12の外周面がスタンパー20に押圧さ
れた状態になる。このような状態で、ターンテーブル1
1の回転によりスタンパー20が回転されると、洗浄液
が含浸された洗浄シート12がスタンパー20の表面に
付着した汚れを除去する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、表面に微
細パターンが設けられた光ディスクのスタンパーを、表
面の微細パターンを傷つけないように、効率よく、しか
も、確実に洗浄することができるスクライブ洗浄機構に
関する。
【0002】
【従来の技術】光ディスクの表面に、所定の微細パター
ンを形成するために使用されるスタンパーは、その表面
に、微細なパターンが形成されてており、そのスタンパ
ーの微細パターンが光ディスクの表面に転写されるよう
になっている。このようなスタンパーは、微細パターン
に汚れが付着しやすいために、その汚れを除去するため
に洗浄する必要がある。
【0003】光ディスクのスタンパーは、通常、図6に
示すように、有機溶剤によって洗浄した後に、仕上げ洗
浄されるようになっている。有機溶剤洗浄では、洗浄槽
に収容された有機溶剤を超音波振動子によって振動させ
ることにより、スタンパーの微細パターンに付着した汚
れを効率よく除去することができる。スタンパー表面に
比較的弱い付着力で付着したダスト等の汚れは、有機溶
剤洗浄および仕上げ洗浄によって容易に除去することが
できる。
【0004】しかしながら、レジスト残渣、容器溶剤の
乾燥ムラ等のように、スタンパーの表面に強固に付着し
た汚れは、有機溶剤洗浄および仕上げ洗浄だけでは確実
に除去することができず、汚れが残ったまま、ドライア
ッシングを行った場合には、その汚れがスタンパ表面に
付着した状態でこげ付き、除去することができなくな
る。このために、仕上げ洗浄されたスタンパーは、スタ
ンパー表面に、乾燥ムラ、レジスト残渣等の汚れが付着
しているかを目視によって外観検査され、スタンパー表
面に、乾燥ムラ、レジスト残渣等の汚れが付着している
場合には、スタンパーは、スクライブ洗浄される。
【0005】この場合のスクライブ洗浄は、ブラシによ
る手作業によって実施される。スクライブ洗浄されたス
タンパーは、再度、有機溶剤洗浄および仕上げ洗浄が実
施された後に、外観検査によって、スタンパー表面に汚
れが付着していないことが確認されると、ドライアッシ
ングされる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】このようなスタンパー
の洗浄工程では、スクライブ洗浄がブラシによる手作業
によって実施されているために、洗浄ムラ等によって、
スタンパー表面に強固に付着した汚れを完全に除去する
ことができないおそれがある。また、スクライブ洗浄す
るかどうかは、作業員の目視による外観検査によって判
断しなければならず、効率が悪く、また、判断ミスによ
って、スタンパーに汚れが付着していることを見逃すお
それもある。
【0007】また、特開平5−160098号公報に
は、被洗浄物の表面に洗浄液をジェット噴射しつつブラ
ッシング装置によってブラッシングする洗浄装置が開示
されている。しかし、このような洗浄装置では、ブラッ
シング装置によって、被洗浄液の表面をブラッシングす
るために、被洗浄物の表面が損傷するおそれがある。ま
た、被洗浄物に対して洗浄液が直接ジェット噴射される
ようになっているために、多量の洗浄液が必要になり、
経済性が損なわれるおそれもある。
【0008】本発明は、このような問題を解決するもの
であり、その目的は、光ディスクのスタンパーのような
被洗浄物に付着した汚れを、効率よく確実に、しかも、
被洗浄物の表面を損傷させることなく、除去することが
できるスクライブ洗浄機構を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明のスクライブ洗浄
機構は、無端帯状に形成された含水性を有する洗浄シー
トの外周面が、被洗浄物に接触するように支持されてお
り、被洗浄物に接触した洗浄シートの内周面に、洗浄液
を噴射して洗浄シートの外周面を被洗浄物に押圧するこ
とを特徴とする。
【0010】前記被洗浄物がターンテーブルに載置され
て回転される。前記洗浄シートは、洗浄液が圧力供給さ
れるようになった洗浄液噴射管に支持されている。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
面に基づいて詳細に説明する。
【0012】図1は、本発明のスクライブ洗浄機構の実
施の形態の一例を示す要部の斜視図である。このスクラ
イブ洗浄機構10は、円板状をした光ディスクのスタン
パー20における微細パターンが形成された表面を洗浄
するために使用される。光ディスクのスタンパー20
は、図2のフローチャートに示すように、有機溶剤によ
ってその表面が洗浄された後に、本発明のスクライブ洗
浄機構10によって洗浄される。そして、本発明のスク
ライブ洗浄機構10によって洗浄されたスタンパー20
が、仕上げ洗浄されて乾燥された後に、ドライアッシン
グによって表面の有機物が完全に除去される。
【0013】本発明のスクライブ洗浄機構10は、スタ
ンパー20が載置されて回転されるターンテーブル11
を有している。被洗浄物である光ディスクのスタンパー
20は、微細パターンが形成された表面を上方に向けた
状態で、ターンテーブル11上に載置される。
【0014】ターンテーブル11の上方には、無端帯状
の洗浄シート12が配置されている。この洗浄シート1
2は、ターンテーブル11上に載置されたスタンパー2
0の半径とほぼ同様の幅方向寸法を有しており、不織布
等のように、含水性を有する材質によって構成されてお
り、例えば、カネボウ株式会社製の合成不織布(商品名
「サヴィーナ」)のように、含水性が高く柔軟性に優れ
たシートが好適に使用される。
【0015】無端帯状の洗浄シート12は、ターンテー
ブル11とは適当な間隔をあけて、ターンテーブル11
の半径方向に沿って水平に配置された支持ロッド13
に、上端部が巻き掛けられて、支持ロッド13にて垂下
した状態で支持されている。洗浄シート12の幅方向寸
法は、スタンパー20の半径長さにほぼ等しくなってお
り、支持ロッド13に支持された洗浄シート12の下端
部は、ターンテーブル11上に載置されたスタンパー2
0の微細パターンが形成された表面に、適当な面積で接
触し得るようになっている。
【0016】支持ロッド13の下方には、洗浄液噴射管
14が、支持ロッド13に対して適当な間隔をあけて支
持ロッド13とは平行な水平状態で配置されている。洗
浄液噴射管14は、その内部に、アルカリ系界面活性剤
によって構成された洗浄液が供給されるようになってお
り、その先端部が無端帯状になった洗浄シート12の内
部に挿入されている。そして、洗浄シート12内に位置
する洗浄液噴射管14の先端部の下側周面には、洗浄シ
ート12の下端部内周面に向かって洗浄液を噴射する複
数のノズル部(図示せず)が、洗浄液噴射管14の軸方
向に沿って並んだ状態で設けられている。洗浄液噴射管
14の各ノズル部は、例えば、それぞれ、0.1mmの
直径であって、0.3mmのピッチで設けられており、
各ノズル部からは、洗浄液噴射管14に圧力供給される
アルカリ系界面活性剤である洗浄液が、2〜6 kgf/cm
2 の圧力で噴射されるようになっている。
【0017】このような構成のスクライブ洗浄機構で
は、被洗浄物であるスタンパー20が載置されたターン
テーブル11が、所定の回転速度で回転されると、洗浄
液噴射管14内に洗浄液が所定の圧力で供給されて、先
端部のノズル部から洗浄液が、下方の洗浄シート12の
内周面に向かって噴射される。洗浄液噴射管14の先端
部から噴射される洗浄液は、無端帯状になった洗浄シー
ト12の下端部内周面に吹きつけられるために、洗浄シ
ート12の下端部が下方に押圧され、下方に引っ張られ
る。これにより、洗浄シート12の下端部は、ターンテ
ーブル11上に載置されて回転しているスタンパー20
に、適当な面積で摺接し、回転しているスタンパー20
の表面が、洗浄液が噴射されて洗浄液が含浸された洗浄
シートによって拭き取られる。従って、スタンパー20
における微細パターンが形成された表面にこびりついた
汚れが、微細パターンを損傷することなく、洗浄液を含
浸した洗浄シート12によって、確実に除去される。
【0018】スタンパー20の表面が全体にわたって洗
浄シート12によって洗浄されると、洗浄されたターン
テーブル11から取り除かれて、新たに洗浄すべきスタ
ンパー20がターンテーブル11に載置される。このと
き、支持ロッド13に巻き掛けられた洗浄シート12の
上端部が、周回移動されて、スタンパー20に摺接する
洗浄シート12の下端部位置が変更される。これによ
り、ターンテーブル11上に新たに載置されたスタンパ
ー20の表面は、洗浄に使用されていない新たな洗浄シ
ート12部分によって洗浄されることになる。
【0019】図3は、本発明のスクライブ洗浄機構10
が使用される光ディスクのスタンパー20の洗浄システ
ムの構成の一例を示すブロック図である。被洗浄物であ
る光ディスクのスタンパー20は、ローダー31によっ
て、搬送装置32に載置されて、前洗浄である有機溶剤
槽33に搬送されて有機溶剤洗浄された後に、本発明の
スクライブ洗浄機構10に搬送されて洗浄される。その
後、搬送装置によって、スタンパー20が、仕上げ洗浄
槽および乾燥槽が一体化された仕上げ装置34に搬送さ
れて仕上げ洗浄および乾燥される。そして、最後に、ア
ッシング装置35に搬送されてアッシングされた後に、
アンローダー36によって、搬送装置32から排出され
る。
【0020】このように、有機溶剤によって前洗浄され
た全てのスタンパー20を、連続して、本発明のスクラ
イブ洗浄機構10によって洗浄するようになっているた
めに、有機溶剤洗浄によって完全に汚れが除去されてい
るかを目視によって外観観察することなく、全てのスタ
ンパー20を効率よく洗浄することができる。しかも、
スタンパー20は、搬送装置32によって、順次、各工
程に搬送されるために、人手によって搬送することによ
る汚れの付着が防止される。
【0021】図4は、本発明のスクライブ洗浄機構10
が使用される光ディスクのスタンパー20の洗浄システ
ムの構成の他の例を示すブロック図である。この洗浄シ
ステムでは、ローダー31によって搬送装置32に移載
されたスタンパー20が、有機溶剤槽33にて前洗浄さ
れた後に、洗浄および仕上げ装置37によって、洗浄
と、仕上げ洗浄および乾燥とが順次、実施される。洗浄
および仕上げ装置37は、本発明のスクライブ洗浄機構
10と、仕上げ洗浄および乾燥機構37aとが一体的に
設けられており、スクライブ洗浄機構10のターンテー
ブル11上に載置されて洗浄シート12によって洗浄さ
れたスタンパー20が、ターンテーブル11上に載置さ
れた状態で、仕上げ洗浄および乾燥機構37aによっ
て、仕上げ洗浄および乾燥が、順次、実施される。そし
て、洗浄および仕上げ装置37によって乾燥されたスタ
ンパー20は、アッシング装置35に搬送されてアッシ
ングされ、アンローダー36によって搬送装置32から
排出される。
【0022】このように、洗浄および仕上げ装置37と
して、本発明のスクライブ洗浄機構10と、そのターン
テーブル11を利用した仕上げ洗浄および乾燥機構37
aとを一体化することにより、構成を著しく簡略化する
ことができる。
【0023】図5は、本発明のスクライブ洗浄機構10
の実施の形態の他の例を示す概略構成図である。このス
クライブ洗浄機構10は、無端帯状に構成された洗浄シ
ート12が、洗浄液供給部15に支持された洗浄液噴射
管14に巻き掛けられている。洗浄液噴射管14の周面
には、洗浄液供給部15とは反対側に向かって複数のノ
ズル部が軸方向に沿って設けられている。
【0024】洗浄液供給部15は、洗浄液供給チューブ
15bから洗浄液が供給される洗浄液供給管15aを有
しており、洗浄液供給管15aの先端部に、洗浄液噴射
管14の長手方向の中央部が直交状態で支持されてい
る。洗浄液供給管15aの基端部には、片手で把持でき
る把手部15dが設けられており、また、洗浄液供給管
15aの中央部には、洗浄液供給チューブ15bから圧
力供給される洗浄液を、洗浄液供給管15aを通して洗
浄液噴射管14に供給および停止させるトリガー部15
cが設けられている。
【0025】このようなスクライブ洗浄機構10は、片
手にて洗浄液供給部15の把手部15dを把持した状態
で、洗浄シート12が、被洗浄物である光ディスクのス
タンパー20における微細パターンが形成された表面に
接触するように対向される。このような状態で、トリガ
ー部15cを牽引すると、洗浄液供給チューブ15bか
ら圧力供給される洗浄液が、洗浄液供給管15aを通っ
て、洗浄液噴射管14に供給される。そして、洗浄液噴
射管14に供給された洗浄液が、各ノズル部から、スタ
ンパー20に接触した洗浄シート12の内周面に噴射さ
れ、洗浄シート12がスタンパー20に押圧される。こ
のような状態で、洗浄シート12を、スタンパー20の
表面に沿って移動させることにより、スタンパー20の
表面が洗浄シート12の表面に摺接させると、スタンパ
ー20の表面に付着したレジスト残渣や乾燥ムラ等の汚
れが、洗浄液が含浸された洗浄シート12によって除去
される。
【0026】なお、本発明の洗浄装置10は、光ディス
クのスタンパー20の洗浄の使用に限らず、表面が傷つ
きやすいプラスチック平板等の洗浄にも好適に使用する
ことができる。
【0027】
【発明の効果】本発明のスクライブ洗浄機構は、このよ
うに、無端帯状に形成された洗浄シートの内周面に洗浄
液を噴射して、洗浄シートを被洗浄物に押圧するように
なっているために、洗浄液が含浸された洗浄シートによ
って、被洗浄物が効率よく、また、確実に洗浄される。
しかも、洗浄シートは洗浄液によって被洗浄物に押圧さ
れているために、被洗浄物の表面が損傷するようなおそ
れもない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のスクライブ洗浄機構の実施の形態の一
例を示す概略構成図である。
【図2】そのスクライブ洗浄機構を使用して実施される
光ディスクのスタンパーの洗浄工程を示すフローチャー
トである。
【図3】そのスクライブ洗浄機構が使用された光ディス
クのスタンパーの洗浄システムの構成の一例を示すブロ
ック図である。
【図4】そのスクライブ洗浄機構が使用された光ディス
クのスタンパーの洗浄システムの構成の他の例を示すブ
ロック図である。
【図5】本発明のスクライブ洗浄機構の実施の形態のさ
らに他の例を示す概略構成図である。
【図6】従来の光ディスクのスタンパーの洗浄工程を示
すフローチャートである。
【符号の説明】
10 スクライブ洗浄機構 11 ターンテーブル 12 洗浄シート 13 支持ロッド 14 洗浄液噴射管 15 洗浄液供給部 15a 洗浄液供給管 20 スタンパー

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 無端帯状に形成された含水性を有する洗
    浄シートの外周面が、被洗浄物に接触するように支持さ
    れており、被洗浄物に接触した洗浄シートの内周面に、
    洗浄液を噴射して洗浄シートの外周面を被洗浄物に押圧
    することを特徴とするスクライブ洗浄機構。
  2. 【請求項2】 前記被洗浄物がターンテーブルに載置さ
    れて回転される請求項1に記載のスクライブ洗浄機構。
  3. 【請求項3】 前記洗浄シートは、洗浄液が圧力供給さ
    れるようになった洗浄液噴射管に支持されている請求項
    1に記載のスクライブ洗浄機構。
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