JPH1160514A - 低級炭化水素を原料とする芳香族化合物の製造方法 - Google Patents

低級炭化水素を原料とする芳香族化合物の製造方法

Info

Publication number
JPH1160514A
JPH1160514A JP23911597A JP23911597A JPH1160514A JP H1160514 A JPH1160514 A JP H1160514A JP 23911597 A JP23911597 A JP 23911597A JP 23911597 A JP23911597 A JP 23911597A JP H1160514 A JPH1160514 A JP H1160514A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
catalyst
hydrogen
aromatic compound
reaction
metallosilicate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP23911597A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3745885B2 (ja
Inventor
Masaru Ichikawa
勝 市川
Ryuichiro Onishi
隆一郎 大西
Shiyaden Riyuu
社田 劉
Gun To
群 董
Takao Kawamura
隆夫 川村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
OSAKA SEKIYU KAGAKU KK
Original Assignee
OSAKA SEKIYU KAGAKU KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by OSAKA SEKIYU KAGAKU KK filed Critical OSAKA SEKIYU KAGAKU KK
Priority to JP23911597A priority Critical patent/JP3745885B2/ja
Publication of JPH1160514A publication Critical patent/JPH1160514A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3745885B2 publication Critical patent/JP3745885B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2/00Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a smaller number of carbon atoms
    • C07C2/76Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a smaller number of carbon atoms by condensation of hydrocarbons with partial elimination of hydrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2529/00Catalysts comprising molecular sieves
    • C07C2529/04Catalysts comprising molecular sieves having base-exchange properties, e.g. crystalline zeolites, pillared clays
    • C07C2529/06Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof
    • C07C2529/40Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof of the pentasil type, e.g. types ZSM-5, ZSM-8 or ZSM-11
    • C07C2529/48Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof of the pentasil type, e.g. types ZSM-5, ZSM-8 or ZSM-11 containing arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium

Abstract

(57)【要約】 【課題】 天然ガス等の低級炭化水素を用いてベンゼ
ン、ナフタレン等の芳香族化合物と水素ガスとを同時に
製造するための芳香族化方法を提供する。 【解決手段】 モリブデン、亜鉛、ガリウム、鉄及びコ
バルトからなる金属並びにそれらの金属の化合物からな
る群から選ばれた少なくとも一種とメタロシリケートと
からなる触媒の存在下、一酸化炭素及び/又は二酸化炭
素の共存下に低級炭化水素の芳香族化反応を行う事を特
徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、天然ガス等の低級
炭化水素から化学工業、薬品類、プラスチック類などの
化学製品の原料であるベンゼン及びナフタレン類を主成
分とする芳香族化合物と高純度の水素ガスを効率的に製
造し得る触媒とその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族化合物は主にナフサから製造されている。ま
た、ナフタレン類の製造方法としては石炭などの溶剤抽
出法、天然ガスやアセチレンなどのガス熱分解法などの
非触媒方法が採られている。しかし、これら従来法では
ベンゼン及びナフタレン類は石炭やアセチレンなどの原
料に対して数パーセントしか得られず、また副生芳香族
化合物や炭化水素、タールや非溶解性の炭素残留物が多
く、問題点を有している。また石炭などの溶剤抽出法で
は多量の有機溶剤を必要とする難点もある。またメタン
やアセチレンの熱分解法による製造方法では、数%以上
の変換効率でナフタレン類を製造するには1000℃以
上の反応温度が必要であるにもかかわらず、ナフタレン
類の収量は変換メタンあるいはアセチレンの1%以下で
あり、実用上問題があった。
【0003】他に、触媒を用いたナフタレン類の製造法
としては、オルトキシレン等のアルキルベンゼン類を高
温で白金類担持触媒を用いて脱水素縮合化反応すること
によりナフタレン類を製造する方法も知られているが、
ナフタレン類の変換効率は低く、また原料として用いる
アルキルベンゼン類が高価であることもあって実用上問
題があった。
【0004】さらに、本発明において併産される水素ガ
スの製造法としては、水成ガス(ウォターガスシフト)
反応あるいは原油の熱分解法、製鉄廃ガスを用いる水素
製造法などがあげられるが、製造ガス中に触媒毒である
硫黄類、一酸化炭素等が含まれることから、これら従来
法で製造された水素ガスの場合は触媒毒の除去、精製に
多大な負荷と設備を必要とする工業的問題があった。
【0005】一方、低級炭化水素とりわけメタンからベ
ンゼン等の芳香族化合物と水素とを併産する方法として
は、触媒の存在下、酸素あるいは酸化剤の非存在下にメ
タンを反応させる方法が知られている。この際の触媒と
してはZSM−5に担持されたモリブデンが有効とされ
ている〔「JOURNAL OF CATALYSIS」165,150−1
61(1997)、及び該文献に引用された文献等〕。
しかしながら、これらの触媒した場合でも、炭素析出が
多いことやメタンの転化率が低いという問題点のほか
に、触媒のライフが非常に短いという問題点を有してい
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は斯かる従来技
術の実状と問題点に鑑み、天然ガス等の低級炭化水素を
用いて有用な化学原料であるベンゼン、ナフタレン等の
芳香族化合物と水素ガスとを同時に製造する有効な低級
炭化水素変換用触媒並びにそれを用いた芳香族化合物の
製造法を提供することを課題とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記課題を
達成するために、鋭意検討を行った結果、本発明を完成
するに至った。本発明は、触媒の存在下に低級炭化水素
を反応させて芳香族炭化水素を主成分とする芳香族化合
物及び水素を製造するにあたり、一酸化炭素及び/又は
二酸化炭素の共存下に反応を行う事を特徴とする、芳香
族炭化水素を主成分とする芳香族化合物及び水素の製造
方法に関する。
【0008】また本発明は、モリブデン、亜鉛、ガリウ
ム、鉄及びコバルトからなる金属並びにそれらの金属の
化合物からなる群から選ばれた少なくとも一種とメタロ
シリケートとからなる触媒の存在下、低級炭化水素を反
応させて芳香族炭化水素を主成分とする芳香族化合物及
び水素を製造するにあたり、一酸化炭素及び/又は二酸
化炭素の共存下に反応を行う事を特徴とする芳香族炭化
水素を主成分とする芳香族化合物及び水素の製造方法に
関する。
【0009】また本発明は、モリブデン及びその化合物
から選ばれた少なくとも一種と、亜鉛、ガリウム、鉄、
コバルト、クロム、ランタン、ネオジム、サマリウム及
びイットリウムからなる金属並びにそれらの金属の化合
物からなる群から選ばれた少なくとも一種と、メタロシ
リケートとからなる触媒の存在下、低級炭化水素を反応
させて芳香族炭化水素を主成分とする芳香族化合物及び
水素を製造するにあたり、一酸化炭素及び/又は二酸化
炭素の共存下に反応を行う事を特徴とする芳香族炭化水
素を主成分とする芳香族化合物及び水素の製造に関す
る。
【0010】また本発明は、モリブデン、タングステン
及びバナジウムから選ばれた少なくとも一種類の金属を
含有するヘテロポリ酸とメタロシリケートからなる触媒
の存在下、低級炭化水素を反応させて芳香族炭化水素を
主成分とする芳香族化合物及び水素を製造するにあた
り、一酸化炭素及び/又は二酸化炭素の共存下に反応を
行う事を特徴とする芳香族炭化水素を主成分とする芳香
族化合物及び水素の製造方法に関する。
【0011】また本発明は、一酸化炭素及び/又は二酸
化炭素の添加量が、反応に供給する全原料ガスにおける
容量%として0.01〜30%の範囲であることを特徴
とする、低級炭化水素を反応させて芳香族炭化水素を主
成分とする芳香族化合物及び水素を製造する前記の各芳
香族化合物及び水素の製造方法に関する。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明では、触媒の存在下、低級
炭化水素を反応させ芳香族炭化水素を主成分とする芳香
族化合物及び水素を製造するにあたり、一酸化炭素及び
二酸化炭素から選ばれた一種又は二種のガスの共存下に
反応を行うことが重要である。一酸化炭素及び/又は二
酸化炭素の共存下に反応を行うことにより、低級炭化水
素の反応転化率を向上させ、さらにベンゼンの生成速度
の低下を著しく抑制することができる。
【0013】一酸化炭素や二酸化炭素は、それぞれ、単
独で添加しても両者を混合して添加しても差し支えな
い。一酸化炭素及び/又は二酸化炭素の添加量は、反応
系に供給する原料ガスにおける容量%として0.01〜
30%、好ましくは0.1〜25%の範囲である。この
範囲よりも添加量が少ないとその効果が小さく、また、
この範囲より添加量が多いと反応器の容積効率が悪くな
るため好ましくない。
【0014】本発明で原料として用いられる低級炭化水
素は、重量%で少なくとも50%、好ましくは、少なく
とも70%のメタンを含有するものである。メタン含有
量がこの範囲であれば、その他に炭素数が2〜6の飽和
及び不飽和炭化水素が含まれていても差し支えない。こ
れらの炭化水素の例としては、エタン、エチレン、プロ
パン、プロピレン、n−ブタン、イソブタン、n−ブテ
ン及びイソブテン等が例示できる。
【0015】本発明で触媒として用いるメタロシリケー
トとしては、例えばアルミノシリケートの場合、シリカ
及びアルミナからなる多孔質担体であるモレキュラーシ
ーブ5A(UTA)、フォジャサイト(NaY)及びN
aX,ZSM−5やリン酸を主成分とするALPO−
5、VPI−5等の多孔質担体で6〜13Åのミクロ細
孔やチャンネルからなることを特徴とするゼオライト担
体やシリカを主成分とし一部アルミナを成分として含む
メゾ細孔(10〜100Å)の筒状細孔(チャンネル)
で特徴づけられるFSM−16やMCM−41などのメ
ゾ細孔多孔質担体などが例示できる。アルミノシリケー
トの他に、シリカ及びチタニアから成るチタノシリケー
ト等も用いることが出来る。
【0016】本発明で用いるメタロシリケートは表面積
が200〜1000m2 /gであり、ミクロ及びメゾ細
孔は5〜100Åの範囲のものが好ましい。また、例え
ばアミルノシリケートの場合のシリカとアルミナの含有
比としては、通常入手し得る多孔質担体のシリカ/アル
ミナ=1〜8000のものを用いることができるが、本
発明の低級炭化水素の芳香族化反応を、実用的な低級炭
化水素の転化率及び芳香族化合物への選択率で実施する
ためには、シリカ/アルミナ比は10〜100であるこ
とが好ましい。
【0017】本発明の触媒に用いられるモリブデン、亜
鉛、ガリウム、鉄及びコバルトからなる金属並びにそれ
らの化合物からなる群から選ばれた少なくとも一種とメ
タロシリケートからなる低級炭化水素の芳香族化触媒
は、モリブデン、亜鉛、ガリウム、鉄及びコバルトを含
む前駆体をメタロシリケートに担持することにより得る
ことができる。本発明で用いられるモリブデン、亜鉛、
ガリウム、鉄及びコバルトを含む前駆体の例としては、
モリブデン、亜鉛、ガリウム、鉄及びコバルトの塩化
物、臭化物等のハロゲン化物、硝酸塩、硫酸塩、リン酸
塩等の鉱酸塩、炭酸塩、酢酸塩、蓚酸塩等のカルボン酸
塩を例示することができる。
【0018】モリブデン、亜鉛、ガリウム及びコバルト
からなる成分をメタロシリケートに担持させる際の、前
記金属又はその化合物の担持量に特に制限はないが、通
常、全触媒重量に基づいて0.001〜50%、好まし
くは0.01〜40%が良好な担持量範囲である。
【0019】モリブデン、亜鉛、ガリウム、鉄及びコバ
ルトから選ばれた成分をメタロシリケートに担持させる
方法としては、前述した金属の前駆体の水溶液あるいは
アルコール等の有機溶媒の溶液としてメタロシリケート
に含浸担持させるか、あるいはイオン変換方法により担
持させた後、不活性ガスあるいは酸素ガス中で加熱処理
する方法がある。この方法の一例をより具体的に説明す
ると、まず最初に、例えばメタロシリケート担体に硝酸
亜鉛の水溶液を含浸担持させ、さらに乾燥して溶媒を適
当量除いた後、窒素含有酸素気流中又は純酸素気流中で
250〜800℃、好ましくは350〜600℃で加熱
処理して亜鉛を担持したメタロシリケート触媒を製造す
ることができる。
【0020】本発明で用いられる(1)モリブデン及び
/又はその化合物(以下、第一成分ともいう)、(2)
亜鉛、ガリウム、鉄、コバルト、クロム、ランタン、ネ
オジム、サマリウム、イットリウム及びそれらの化合物
からなる群から選ばれた少なくとも一種類の金属及び/
又はそれらの化合物(以下、第二成分ともいう)、及び
(3)メタロシリケートからなる低級炭化水素の芳香族
化触媒は、以下の各方法で製造することができる。即
ち、(1)メタロシリケートにまず第一成分を担持した
後、第二成分を担持させる。(2)メタロシリケートに
まず第二成分を担持させた後、第一成分を担持させる。
(3)メタロシリケートに第一成分と第二成分を同時に
担持させる。これらの方法の中では、(1)の方法が好
ましい。
【0021】モリブデンを含む第一成分の前駆体の例と
しては、パラモリブデン酸アンモニウム、リンモリブデ
ン酸、12ケイモリブデン酸の他に、塩化物、臭化物等
のハロゲン化物、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩等の鉱酸
塩、炭酸塩、酢酸塩、蓚酸塩等のカルボン酸塩等が例示
できる。
【0022】また、第二成分を含む前駆体の例として
は、第二成分の塩化物、臭化物等のハロゲン化物、硝酸
塩、硫酸塩、リン酸塩等の鉱酸塩、炭酸塩、酢酸塩、蓚
酸塩等のカルボン酸塩等が例示できる。
【0023】モリブデンをメタロシリケートに担持させ
て触媒を形成する際の、金属としてのモリブデンの担持
量は、全触媒重量に基づいて0.001以上、50%未
満、好ましくは0.01〜40%が良好な担持量範囲で
あり、第二成分の担持量は0.001以上、50%未
満、好ましくは0.01〜40%が良好な担持量範囲で
ある。ただし、モリブデンと第二成分の担持量の合計
は、全触媒重量に基づいて0.002〜50%、好まし
くは0.02〜40%の担持量範囲である。また、メタ
ロシリケートへの金属の担持方法や、加熱処理方法は上
述した方法と同様に実施できる。
【0024】本発明で用いられるモリブデン、タングス
テン及びバナジウムから選ばれた少なくとも一種類の金
属を含有するヘテロポリ酸とメタロシリケートとからな
る低級炭化水素の芳香族化触媒は、ヘテロポリ酸をメタ
ロシリケートに担持することにより製造出来る。ヘテロ
ポリ酸の例としては、12−リンモリブデン酸、12−
リンタングステン酸、12−リンモリブデンタングステ
ン酸、12−リンモリブデンバナジン酸等が例示でき
る。
【0025】ヘテロポリ酸をメタロシリケートに担持す
る際の、金属と担体の重量割合(使用されるヘテロポリ
酸中に含まれるモリブデン、タングステン及び/又はバ
ナジウム金属の重量と担体の重量割合)は、全触媒重量
に基づいてそれぞれ0.001〜50%、好ましくは
0.01〜40%の範囲である。また、メタロシリケー
トへのヘテロポリ酸の担持方法や、加熱処理方法は上述
した方法と同様に実施できる。本発明に用いる触媒は粉
末状又はペレット状及びその他の形状のいずれの形状で
あっても使用できる。
【0026】本発明に用いる低級炭化水素変換触媒は、
芳香族化合物を生成する誘導期を短縮するため、水素ガ
スやヒドラジン、金属水素化合物、例えばBH3 、Na
H、AlH3 等による前処理を含む触媒活性化過程を施
してもよい。
【0027】本発明の低級炭化水素の変換反応は、回分
式あるいは流通式の反応形式で実施されるが、固定床、
移動床又は流動化床等の流通式反応形式で実施すること
が好ましい。反応は、メタン等の低級炭化水素原料を、
一酸化炭素及び/又は二酸化炭素の存在下で300〜8
00℃、好ましくは450〜775℃で触媒と接触させ
ることによって行われる。反応は、0.1〜10気圧、
好ましくは1〜7気圧で好適に実施される。重量時間空
間速度(WHSV)は0.1〜10であり、好ましくは
0.5〜5.0である。反応生成物から回収される未反
応原料及び反応に添加される一酸化炭素又は二酸化炭素
は、芳香族化反応に再循環させることができる。
【0028】
【実施例】以下に、本発明を実施例によりさらに詳細に
説明する。なお、メタン転化率、炭化水素選択率、炭化
水素の分布及び水素生成速度は以下のように定義した。 メタン転化率(%)=〔(原料メタンモル数−未反応の
メタンモル数)/原料メタンモル数〕×100 炭化水素選択率(%)=〔生成した全炭化水素のメタン
換算モル数/(原料メタンモル数−未反応のメタンモル
数)〕×100 炭化水素の分布(%)=〔着目する炭化水素のメタン換
算モル数/生成した全炭化水素のメタン換算モル数〕×
100 水素生成速度=触媒1gあたり、1秒間に生成した水素
のnmol数 ベンゼン生成速度=触媒1gあたり、1秒間に生成した
ベンゼンのnmol数
【0029】実施例1 HZSM−5にモリブデンを担持した触媒の調製方法 パラモリブデン酸アンモニウム塩0.66gを10ml
の蒸留水に溶解し、HZSM−5(シリカ/アルミナ比
=23、表面積800m2 /g、細孔径=7Å)の粉末
12gを加え、充分に攪拌しながら回転式減圧エバポレ
ーターを用いて蒸発乾固して、パラモリブデン酸アンモ
ニウムのHZSM−5担持体を得た。これを石英製反応
管(1.2φ、長さ30cm、V字タイプ)に充填後、
純酸素ガス流下(40ml/分、1気圧)、400℃で
4時間焼成して薄草色粉末として、全触媒重量に基づい
て3%のモリブデンをHZSM−5に担持した触媒(以
下、Mo(3%)/HZSM−5と略記する)を得た。
【0030】実施例2 実施例1で調製したMo(3%)/HZSM−5触媒を
用いて、メタンの芳香族化反応を行った。Mo(3%)
/HZSM−5触媒(シリカ/アルミナ比=23)0.
3gを固定床流通式反応装置の石英製反応管(内径8m
m)に充填し、反応温度700℃、常圧で原料ガスとし
てメタンガスに一酸化炭素を所定量添加したガスを7.
5ml/minの流量で供給し、メタンの芳香族化反応
を行った。反応管流出物中には未反応のメタンの他に、
水素、一酸化炭素、二酸化炭素、炭素数2〜5の炭化水
素、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ナフ
タレン、メチルナフタレン、ジメチルナフタレン、アン
トラセン等が存在していた。反応開始後、200分経過
後の結果を表1に、400分経過後の結果を表2に、1
440分経過後の結果を表3に示す。
【0031】比較例1 実施例2において、原料ガス中に一酸化炭素を添加しな
い以外は、実施例2と同様の方法でメタンの芳香族化反
応を行った。反応開示後、200分経過後の結果を表1
に、400分経過後の結果を表2に、1440分経過後
の結果を表3に示す。
【0032】
【表1】
【0033】注(表1〜4に共通) CO濃度:供給原料ガス中の一酸化炭素の容量% 転化率 :メタン転化率 HC選択率:炭化水素選択率 HC分布:炭化水素の分布 C6 6 :ベンゼン C108 :ナフタレン
【0034】
【表2】
【0035】
【表3】
【0036】実施例3 実施例2において、原料ガス中に一酸化炭素に変えて二
酸化炭素を用いた以外は、実施例2と同様の方法でメタ
ンの芳香族化反応を行った。反応開始後、1300分経
過後の結果を表4に、1840分経過後の結果を表5に
示す。
【0037】
【表4】
【0038】
【表5】
【0039】
【発明の効果】以上の結果から、本発明によれば、触媒
の存在下、低級炭化水素を芳香族化反応に付して高付加
価値製品であるベンゼン、トルエン、キシレン及びナフ
タレン等の芳香族炭化水素及び水素を製造する際に、一
酸化炭素又は二酸化炭素の共存下に反応を行うことによ
り、低級炭化水素の反応転化率を向上させることがで
き、さらにベンゼン等の芳香族化合物及び水素の生成速
度の低下を著しく抑制することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 触媒の存在下、低級炭化水素を反応させ
    芳香族炭化水素を主成分とする芳香族化合物及び水素を
    製造するにあたり、一酸化炭素及び/又は二酸化炭素の
    共存下に反応を行う事を特徴とする芳香族炭化水素を主
    成分とする芳香族化合物及び水素の製造方法。
  2. 【請求項2】 触媒がモリブデン、亜鉛、ガリウム、鉄
    及びコバルトからなる金属並びにそれらの金属の化合物
    からなる群から選ばれた少なくとも一種とメタロシリケ
    ートとからなる触媒であることを特徴とする請求項1記
    載の芳香族化合物及び水素の製造方法。
  3. 【請求項3】 触媒がモリブデン及びその化合物から選
    ばれた少なくとも一種と、亜鉛、ガリウム、コバルト、
    鉄、クロム、ランタン、ネオジム、サマリウム及びイッ
    トリウムからなる金属並びにそれらの金属の化合物から
    なる群から選ばれた少なくとも一種と、メタロシリケー
    トとからなる触媒であることを特徴とする請求項1記載
    の芳香族化合物及び水素の製造方法。
  4. 【請求項4】 触媒がモリブデン、タングステン及びバ
    ナジウムから選ばれた少なくとも一種の金属を含有する
    ヘテロポリ酸とメタロシリケートからなる触媒であるこ
    とを特徴とする請求項1記載の芳香族化合物及び水素の
    製造方法。
  5. 【請求項5】 一酸化炭素及び/又は二酸化炭素の添加
    量が、反応に供給する全原料ガスにおける容量%として
    0.01〜30%の範囲であることを特徴とする請求項
    1〜4記載の芳香族化合物及び水素の製造方法。
JP23911597A 1997-08-21 1997-08-21 メタンを原料とする芳香族化合物の製造方法 Expired - Lifetime JP3745885B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23911597A JP3745885B2 (ja) 1997-08-21 1997-08-21 メタンを原料とする芳香族化合物の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23911597A JP3745885B2 (ja) 1997-08-21 1997-08-21 メタンを原料とする芳香族化合物の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH1160514A true JPH1160514A (ja) 1999-03-02
JP3745885B2 JP3745885B2 (ja) 2006-02-15

Family

ID=17040027

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23911597A Expired - Lifetime JP3745885B2 (ja) 1997-08-21 1997-08-21 メタンを原料とする芳香族化合物の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3745885B2 (ja)

Cited By (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001110437A (ja) * 1999-10-12 2001-04-20 Kansai Research Institute 燃料電池用水素燃料供給システム
JP2001334152A (ja) * 2000-05-30 2001-12-04 Masaru Ichikawa 低級炭化水素の芳香族化合物化触媒ならびに低級炭化水素を原料とする芳香族化合物及び水素の製造方法
JP2001334151A (ja) * 2000-05-30 2001-12-04 Masaru Ichikawa 低級炭化水素の芳香族化合物化触媒ならびに低級炭化水素を原料とする芳香族化合物及び水素の製造方法
JP2006016353A (ja) * 2004-07-02 2006-01-19 Taisei Corp 低級炭化水素からの芳香族化合物及び水素の製造方法
WO2008114550A1 (ja) 2007-03-20 2008-09-25 Meidensha Corporation 低級炭化水素芳香族化触媒及び芳香族化合物の製造方法
JP2008260006A (ja) * 2007-03-20 2008-10-30 Meidensha Corp 低級炭化水素芳香族化触媒及び芳香族化合物の製造方法
WO2008149591A1 (ja) 2007-06-07 2008-12-11 Meidensha Corporation 低級炭化水素の芳香族化触媒の再生方法
DE112006002572T5 (de) 2005-09-30 2009-01-02 Masaru Sapporo Ichikawa Verfahren zur Herstellung einer aromatischen Verbindung
WO2009004843A1 (ja) 2007-06-29 2009-01-08 Meidensha Corporation 低級炭化水素の芳香族化触媒、芳香族化合物の製造方法
JP2009029771A (ja) * 2007-06-29 2009-02-12 Meidensha Corp 芳香族化合物の製造方法
WO2009020045A1 (ja) 2007-08-03 2009-02-12 Mitsui Chemicals, Inc. 芳香族炭化水素の製造方法
JP2009119319A (ja) * 2007-11-12 2009-06-04 Meidensha Corp 低級炭化水素芳香族化触媒及び芳香族化合物の製造方法
JP2009195784A (ja) * 2008-02-20 2009-09-03 Meidensha Corp 低級炭化水素芳香族化触媒及び芳香族化合物の製造方法
JP2009534382A (ja) * 2006-04-21 2009-09-24 エクソンモービル・ケミカル・パテンツ・インク メタン転換製造プロセス
JP2009538908A (ja) * 2006-05-31 2009-11-12 エクソンモービル・ケミカル・パテンツ・インク メタンから製造された芳香族炭化水素の同位体分析による同定
JP2009274061A (ja) * 2008-04-18 2009-11-26 Meidensha Corp 触媒及びその製造方法
JP2010137173A (ja) * 2008-12-12 2010-06-24 Meidensha Corp 低級炭化水素芳香族化触媒及びその触媒の製造方法
JP2010260051A (ja) * 2010-07-02 2010-11-18 Masaru Ichikawa 低級炭化水素の芳香族化合物化触媒ならびに低級炭化水素を原料とする芳香族化合物及び水素の製造方法
JP2010274261A (ja) * 2010-07-02 2010-12-09 Masaru Ichikawa 低級炭化水素の芳香族化合物化触媒ならびに低級炭化水素を原料とする芳香族化合物及び水素の製造方法
CN102112417A (zh) * 2008-07-29 2011-06-29 株式会社明电舍 芳香族化合物的制备方法
WO2011118279A1 (ja) * 2010-03-23 2011-09-29 株式会社明電舎 芳香族化合物製造方法
US8148590B2 (en) 2004-07-28 2012-04-03 Meidensha Corporation Process for producing aromatic hydrocarbon and hydrogen
JP2012107016A (ja) * 2005-12-02 2012-06-07 Exxonmobile Chemical Patents Inc メタンからの芳香族炭化水素の製造
US8951929B2 (en) 2008-01-16 2015-02-10 Agency For Science, Technology And Research Catalyst preparation and methods of using such catalysts
JP2015063560A (ja) * 2014-12-25 2015-04-09 株式会社明電舎 芳香族化合物製造方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5577587B2 (ja) 2008-11-25 2014-08-27 株式会社明電舎 低級炭化水素芳香族化触媒の製造方法及び低級炭化水素芳香族化触媒
JPWO2014208757A1 (ja) 2013-06-27 2017-02-23 株式会社ブリヂストン 老化防止剤、ゴム組成物、及びタイヤ

Cited By (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001110437A (ja) * 1999-10-12 2001-04-20 Kansai Research Institute 燃料電池用水素燃料供給システム
JP2001334152A (ja) * 2000-05-30 2001-12-04 Masaru Ichikawa 低級炭化水素の芳香族化合物化触媒ならびに低級炭化水素を原料とする芳香族化合物及び水素の製造方法
JP2001334151A (ja) * 2000-05-30 2001-12-04 Masaru Ichikawa 低級炭化水素の芳香族化合物化触媒ならびに低級炭化水素を原料とする芳香族化合物及び水素の製造方法
JP2006016353A (ja) * 2004-07-02 2006-01-19 Taisei Corp 低級炭化水素からの芳香族化合物及び水素の製造方法
US8148590B2 (en) 2004-07-28 2012-04-03 Meidensha Corporation Process for producing aromatic hydrocarbon and hydrogen
US8097763B2 (en) 2005-09-30 2012-01-17 Meidensha Corporation Process for production of aromatic compound
DE112006002572T5 (de) 2005-09-30 2009-01-02 Masaru Sapporo Ichikawa Verfahren zur Herstellung einer aromatischen Verbindung
JP2012107016A (ja) * 2005-12-02 2012-06-07 Exxonmobile Chemical Patents Inc メタンからの芳香族炭化水素の製造
JP2009534382A (ja) * 2006-04-21 2009-09-24 エクソンモービル・ケミカル・パテンツ・インク メタン転換製造プロセス
JP2009538908A (ja) * 2006-05-31 2009-11-12 エクソンモービル・ケミカル・パテンツ・インク メタンから製造された芳香族炭化水素の同位体分析による同定
JP2008260006A (ja) * 2007-03-20 2008-10-30 Meidensha Corp 低級炭化水素芳香族化触媒及び芳香族化合物の製造方法
US8278237B2 (en) 2007-03-20 2012-10-02 Meidensha Corporation Catalyst for aromatization of lower hydrocarbons and process for production of aromatic compounds
WO2008114550A1 (ja) 2007-03-20 2008-09-25 Meidensha Corporation 低級炭化水素芳香族化触媒及び芳香族化合物の製造方法
WO2008149591A1 (ja) 2007-06-07 2008-12-11 Meidensha Corporation 低級炭化水素の芳香族化触媒の再生方法
US8735310B2 (en) 2007-06-07 2014-05-27 Meidensha Corporation Method of regenerating lower hydrocarbon aromatizing catalyst
WO2009004843A1 (ja) 2007-06-29 2009-01-08 Meidensha Corporation 低級炭化水素の芳香族化触媒、芳香族化合物の製造方法
JP2009029771A (ja) * 2007-06-29 2009-02-12 Meidensha Corp 芳香族化合物の製造方法
US8558045B2 (en) 2007-06-29 2013-10-15 Meidensha Corporation Catalyst for aromatization of lower hydrocarbons and process for production of aromatic compounds
WO2009020045A1 (ja) 2007-08-03 2009-02-12 Mitsui Chemicals, Inc. 芳香族炭化水素の製造方法
JP2009119319A (ja) * 2007-11-12 2009-06-04 Meidensha Corp 低級炭化水素芳香族化触媒及び芳香族化合物の製造方法
US8951929B2 (en) 2008-01-16 2015-02-10 Agency For Science, Technology And Research Catalyst preparation and methods of using such catalysts
JP2009195784A (ja) * 2008-02-20 2009-09-03 Meidensha Corp 低級炭化水素芳香族化触媒及び芳香族化合物の製造方法
JP2009274061A (ja) * 2008-04-18 2009-11-26 Meidensha Corp 触媒及びその製造方法
US9052139B2 (en) 2008-04-18 2015-06-09 Meidensha Corporation Catalyst and process for producing the same
CN102112417A (zh) * 2008-07-29 2011-06-29 株式会社明电舍 芳香族化合物的制备方法
JP2010137173A (ja) * 2008-12-12 2010-06-24 Meidensha Corp 低級炭化水素芳香族化触媒及びその触媒の製造方法
WO2011118279A1 (ja) * 2010-03-23 2011-09-29 株式会社明電舎 芳香族化合物製造方法
JP2011195535A (ja) * 2010-03-23 2011-10-06 Meidensha Corp 芳香族化合物製造方法
CN102811983A (zh) * 2010-03-23 2012-12-05 株式会社明电舍 芳族化合物的制备方法
JP2010274261A (ja) * 2010-07-02 2010-12-09 Masaru Ichikawa 低級炭化水素の芳香族化合物化触媒ならびに低級炭化水素を原料とする芳香族化合物及び水素の製造方法
JP2010260051A (ja) * 2010-07-02 2010-11-18 Masaru Ichikawa 低級炭化水素の芳香族化合物化触媒ならびに低級炭化水素を原料とする芳香族化合物及び水素の製造方法
JP2015063560A (ja) * 2014-12-25 2015-04-09 株式会社明電舎 芳香族化合物製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP3745885B2 (ja) 2006-02-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH1160514A (ja) 低級炭化水素を原料とする芳香族化合物の製造方法
JP3755955B2 (ja) 低級炭化水素の芳香族化触媒及び該触媒を用いた芳香族化合物の製造方法
US6239057B1 (en) Catalyst for the conversion of low carbon number aliphatic hydrocarbons to higher carbon number hydrocarbons, process for preparing the catalyst and process using the catalyst
JP3707607B2 (ja) エチレンおよびプロピレンの製造方法
JP3985038B2 (ja) 低級炭化水素から芳香族炭化水素と水素を製造する方法
KR101019518B1 (ko) 방향족 화합물의 제조방법
AU2009235497B2 (en) Method for the dehydroaromatisation of mixtures containing methane by regenerating the corresponding catalysts that are devoid of precious metal
JP3755968B2 (ja) 低級炭化水素の芳香族化触媒及び該触媒を用いた芳香族化合物の製造法
JP2001334151A (ja) 低級炭化水素の芳香族化合物化触媒ならびに低級炭化水素を原料とする芳香族化合物及び水素の製造方法
EP0068542B1 (en) A process for alkylating benzene or c1 to c5-alkyl-substituted benzenes
US6204422B1 (en) Process for producing dialklylnaphthalenes
WO2012002269A1 (ja) 芳香族炭化水素製造方法
HU180654B (en) Process for producing nitrozo-benzene
JP2001334152A (ja) 低級炭化水素の芳香族化合物化触媒ならびに低級炭化水素を原料とする芳香族化合物及び水素の製造方法
EP2121645B1 (en) Catalyst system and process for the production of epoxides
JP4943671B2 (ja) 低級炭化水素の芳香族化触媒及びそれを用いて低級炭化水素から芳香族炭化水素と水素とを製造する方法
US10450247B2 (en) Method of producing hydrocarbons from methane
CS213407B1 (en) Catalyser for dealkylating the alkylbenzens and fractions of aromatic benzines by interchange under activation of water wapour
JP5283666B2 (ja) 低級炭化水素の芳香族化合物化触媒ならびに低級炭化水素を原料とする芳香族化合物及び水素の製造方法
WO2011118279A1 (ja) 芳香族化合物製造方法
JP5283665B2 (ja) 低級炭化水素の芳香族化合物化触媒ならびに低級炭化水素を原料とする芳香族化合物及び水素の製造方法
JP3171877B2 (ja) エタンから液状炭化水素混合物の製造方法
JP5151951B2 (ja) 低級炭化水素芳香族化触媒及びその触媒の製造方法
US20230271170A1 (en) Oxides of sulfur and their use as oxygen transfer reagents
JP2021041330A (ja) メタンの脱水素芳香族化反応用触媒及び芳香族化合物の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20050315

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20050719

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20050808

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050902

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20051026

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20051118

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20051118

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S201 Request for registration of exclusive licence

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R314201

R371 Transfer withdrawn

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S201 Request for registration of exclusive licence

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R314201

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R371 Transfer withdrawn

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371

S201 Request for registration of exclusive licence

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R314201

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081202

Year of fee payment: 3

S202 Request for registration of non-exclusive licence

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R315201

S221 Written request for registration of change of exclusive licence

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R314221

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081202

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091202

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091202

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101202

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101202

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111202

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111202

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121202

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131202

Year of fee payment: 8

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term