JPH11501759A - アナログ記録及び再生用記憶セル - Google Patents

アナログ記録及び再生用記憶セル

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JPH11501759A
JPH11501759A JP9515059A JP51505997A JPH11501759A JP H11501759 A JPH11501759 A JP H11501759A JP 9515059 A JP9515059 A JP 9515059A JP 51505997 A JP51505997 A JP 51505997A JP H11501759 A JPH11501759 A JP H11501759A
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トラン,ヒュー・ヴァン
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Abstract

(57)【要約】 集積回路によるアナログ信号の記録及び再生に用いられるゲート・フォロワ記憶セル(12)及びダイオード接続記憶セル(32)が開示される。ゲート・フォロワ記憶セル(12)を負帰還モードて利用することによって、セルのしきい値と読み取りモードにおけるゲート電圧との間に1対1の変動が生じる。ダイオード接続記憶セル(32)をダイオード構成をなすように接続することによって、セルのしきい値と読み取りモードにおけるゲート電圧との間に1対1の変動が生じる。ゲート・フォロワまたはダイオード接続記憶セルは、アナログ信号を記憶するためのメモリ・アレイをなすように実施することが可能である。望ましい実施形態の場合、メモリ・アレイによって、列ドライバ(52)を介してアクセスすることが可能な語線が得られる。各行または語線は、アレイに選択トランジスタを挿入することによって複数のセクタ語線に分割される。読み取り及びプログラミング・モードの場合、セクタ語線は、互いに分離され、付加選択トランジスタを介して列ドライバ(52)に提供される。所定の時間に、各セクタ語線毎に1つのメモリ・セルについてのみ、読み取りまたはプログラミングが実施される。消去モードの場合、語線の全てのセクタが、選択トランジスタを介して互いに接続されるので、所定の時間に完全な1行分の消去操作を実施することが可能である。

Description

【発明の詳細な説明】 アナログ記録及び再生用記憶セル 技術分野 本発明は、一般に、不揮発性集積回路によるアナログ信号記録及び再生システ ムに関するものである。 背景技術 Blyth他に対して発行された米国特許第5,220,531号には、不揮 発性メモリ集積回路を利用したアナログ信号記録及び再生集積回路が開示されて いる。このシステムにおいて、プログラミング・サンプルの書き込みには、プロ グラミング・パルスが一連の粗パルスと一連の精密パルスに分割される多重反復 プロセスが必要になる。不揮発性メモリ・セルは、まず、一連の粗パルスを利用 して、ほぼ所望のプログラム値が得られるようにプログラムされる。その後、メ モリ・セルの精緻な分解能の記憶が得られるように、最後の粗パルスを基準にし た、一連の精密パルスが利用される。 米国特許第5,220,531号に開示のように、まず、Fowler−No rdheimトンネリング技法を用いて、セルを消去することによって、各メモ リ・セルのプログラミングが可能になる。これは、メモリ・セルのゲートに例え ば21Vの高電圧、ソースにゼロ・ボルトを印加して、ドレインをフローティン グ状態またはゼロ・ボルトにすることによって行われる。ゲートに高電圧を印加 すると、フローティング・ゲートが高電圧になり、フローティング・ゲートとド レインの間におけるトンネル酸化物の両端間に強力な電界が生じる。この電界に よって、電子がトンネル効果でフローティング・ゲートに達し、しきい値電圧( VT)を有効に約6Vまで上昇させる。次に、ドレインに例えば9〜19ボルト の高電圧、ゲートにゼロ・ボルトを印加し、ソースをプリチャージした6Vでフ ローティングさせることによって、Fowler−Nordheimのトンネリ ング・メカニズム利用して、セルのプログラミングが行われる。ドレインに高電 圧を印加すると、フローティング・ゲートとドレインの間に逆方向の高電界が生 じ、電子がトンネル効果でフローティング・ゲートからドレインに達し、しきい 値電圧が、ドレインの電圧レベル及びパルス幅に従って、例えば、−1V〜3 Vにに低下する(空乏状態になる)。 プログラム・パルス列を一連の粗パルス及び一連の精密パルスに分割すること によって、メモリ・セルの精緻な分解能が得られる。望ましい実施形態の場合、 セルのダイナミック・レンジは、約12ミリボルト(mV)の分解能で約3Vで あり、各セル毎に3000/12=250レベルの記憶が可能であるため、8ビ ットの(2進符号化された)メモリ記憶の同等物が有効に得られることになる。 各粗パルス及び各精密パルスは、高電圧においてランプ・アップ時間部分及びフ ラット時間部分に分割され、サンプル及び比較時間部分が後続する。 比較時間部分は、各粗または精密インクリメンタル・プログラミング後に、メ モリに記憶された電圧を読み返し、所望の値に達しているか否かを確認するため に用いられる。サンプル時間部分は、入力信号の次のサンプルをサンプリングし 、保持するために用いられる。サンプル及び比較時間部分は、沈黙時間である、 すなわち、チャージ・ポンプのような高電圧源はノイズのためにディスエイブル される。連続する粗レベル間のステップ電圧は、約220mVであり、連続する 精密レベル間のステップ電圧は、メモリ・セルに記憶される電圧の12mVと同 等の約22mVである。 粗レベルに対する大きいステップ電圧は、付加電圧限界を含むセルのプログラ ミングしきい値ウインドウの全範囲をカバーする必要がある。それはメモリ・セ ルのドレインにおいて約9〜19ボルトであり、メモリ・セルのしきい値電圧の 約0〜3Vに対応し、ほぼメモリ・セルのアナログ・ダイナミック・レンジであ る。望ましい実施形態の場合、プログラミングに利用するため、45の粗パルス が選択されるが、これは、45×220mV=10ボルト・フルレンジに変換さ れる。各粗パルスは、短い書き込み時間を実現するために利用される。精密ラン プの全範囲は、約2Vになるように選択される。90以上の精密パルスによって 、約22mVの書き込み分解能が得られる。ランプ・アップに最短時間が要求さ れ、プログラミングのフラット部分に対して別の最短時間が必要になる。 ’531特許では、読み取りモードにおいて、ドレインからアースへの負荷電 流が一定になるように、ソース・フォロワとして構成された記憶セルが利用され る。メモリ・セルのゲート及びソースは、互いに接続され、一方、メモリ・セル のドレインは定バイアス電流に接続されており、選択トランジスタのゲートは、 選択ゲートのサイズが小さいことによるゲート電圧降下の影響及び抵抗の影響を 排除するため、中間電圧に接続される。ドレインにおける電圧である、セルから 読み出された電圧によるゲート/ソース電圧の変動を回避するため、調整電源が 、メモリ・セルのゲート/ソースに接続されている。従って、セルは、そのドレ インとソースを入れ換えて、ソース・フォロワとして接続される。この結果、セ ルのしきい値とセルの読み取り電圧との間の変動が1対1になる。記憶セルは、 そのゲートとソースが互いに有効に結合されて、飽和領域で動作する。 発明の要旨 集積回路によるアナログ信号記録及び再生に用いられるゲート・フォロワ記憶 セル及びダイオード接続記憶セルが開示される。ゲート・フォロワ記憶セルは、 論理的に高電圧源からドレインに接続された定負荷電流を備えた負帰還モードを なすように構成されている。ドレインは、演算増幅器の正端子に接続され、ゲー トは、論理的に演算増幅器の出力に接続される。定電圧源が、演算増幅器の負端 子に接続される。演算増幅器によって生じる負帰還によって、メモリ・セルのド レイン電圧が強制的に基準電圧になる。セルのゲート電圧(やはり、演算増幅器 の出力である)は、メモリ・セルの読み出し電圧である。線形または飽和モード で動作する場合、ゲート・フォロワ記憶セルによって、セルのしきい値と読み取 りモードにおけるゲート電圧との間に1対1の変動が生じる。 ダイオード接続記憶セルが、定負荷電流を備えた(そのドレイン及びゲートが 互いに論理的に結合される)ダイオード接続構成をなすように設けられ、その定 負荷電流は電源電圧からゲート/ドレインに論理的に接続される。セルのゲート /ドレイン電圧は、メモリ・セルの読み出し電圧である。飽和モードで動作する 場合、ダイオード接続記憶セルによって、セルのしきい値と読み取りモードにお けるゲート電圧の間に1対1の変動が生じる。 ゲート・フォロワ記憶セルとダイオード接続記憶セルとは、メモリ・アレイを なすように実施される。望ましい実施態様の場合、メモリ・アレイによって、列 ドライバを介してアクセス可能な語線が得られる。各行または語線は、アレイに 選択トランジスタを挿入することによって、複数のセクタ語線に分割される。各 セクタは、列ドライバによって駆動される。読み取り及びプログラミング・モー ドの場合、セクタ語線は、互いに分離され、追加選択トランジスタを介して列ド ライバに与えられる。所定の時間に、各セクタ語線毎に1メモリ・セルの読み取 りまたはプログラミングだけしか行われない。消去モードの場合、語線の全セク タが、選択トランジスタを介して互いに接続されるので、所定の時間に、完全な 1行分の消去操作が実施可能になる。 ソース・フォロワ記憶セルと比較した、ダイオード接続記憶セルまたはゲート ・フォロワ記憶セルを設ける本発明の利点は、次の通りである。ソース・フォロ ワ記憶セルのソース接続は、アレイをなす全てのメモリ・セルと共用されるので 、その極めて大きいキャパシタンスと全拡散接合からのキャパシタンスとが結合 することになる。さらに、読み取りモードにおいて、選択された行の全てのセル が低しきい値電圧を有しているものと仮定すると、セルは導通する。読み取られ ているソース・フォロワ・セルのソースとゲートが、例えば、3.5Vといった 調整電圧まで充電されるので、アレイにおける全てのビット線は、他の全ての導 電性メモリ・セルによって、ほぼ同じ電圧まで充電されている。このことは、読 み取りモードにおいて、調整回路における容量負荷に、全てのメモリ・セルのソ ース接合キャパシタンス及び全てのビット線キャパシタンスが含まれることを表 している。このため、調整回路に過酷な要件が課せられることになる。このため 、厳しい負荷キャパシタンスによって調整電圧のポンプ・アップが困難になるの で、とりわけ低電圧において、メモリ・セルのダイナミック・レンジを拡大する のが困難になる。本発明のダイオード接続記憶セル及びゲート・フォロワ記憶セ ルの場合、電圧は、ドレイン接合から読み取られるので、共用ソース接合キャパ シタンスの影響はない。また、本発明の場合、ソースに調整電圧はなく、従って 、非選択ビット線の充電は生じない。 図面の簡単な説明 図1は、本発明のある態様の望ましい実施形態によるメモリ・アレイの一部及 びゲート・フォロワ記憶セルの概略図である。 図2は、本発明の第2の態様の望ましい実施形態によるメモリ・アレイの一部 及びダイオード接続記憶セルの概略図である。 図3は、本発明の第3の態様によるゲート・フォロワまたはダイオード接続記 憶セルを利用したメモリ・アレイの望ましい実施形態の概略図である。 図4は、本発明の教示に従って得られる50セクタ・メモリ・アレイの望まし い実施形態の概略図である。 好ましい実施形態の詳細な説明 本発明の形態の1つは、セルのしきい値と読み取りモードにおけるセルのゲー ト電圧との間に1対1の変動が生じるように、負帰還モードに構成されたゲート ・フォロワ記憶セルに関するものである。本発明のもう1つの形態は、やはり、 セルのしきい値と読み取りモードにおけるセルのゲート電圧との間に1対1の変 動が生じるように、ダイオード接続構成とされ、ダイオード接続記憶セルに関連 している。本発明の第3の実施形態は、選択トランジスタに関連してゲート・フ ォロワまたはダイオード接続記憶セルを利用するメモリ・アレイに関連している 。 図1は、本発明の態様の1つの望ましい実施形態によるメモリ・アレイの一部 とゲート・フォロワ読み取り回路の概略図である。ゲート・フォロワ読み取り回 路10には、2つのトランジスタ14及び16を有するゲート・フォロワ・メモ リ・セル12と、選択トランジスタM1及びM3と、演算増幅器18とが含まれ ている。望ましい実施形態の場合、トランジスタ16は、電気的に消去書き込み 可能な読み出し専用メモリ(「EEPROM」)トランジスタであり、選択トラ ンジスタ14、M1、及びM3は、Nチャネル金属酸化物半導体(「NMOS」 )トランジスタである。トランジスタ14のゲートで実施されるメモリ・セル1 2の選択ゲートは、トランジスタ14の選択ゲートのサイズが小さいことによる ゲート電圧の降下及び抵抗の影響を排除するため、例えば10Vの中間電圧レベ ルに接続される。電源VCCまたはチャージ・ポンプから給電される電流源20 によって、メモリ・セル12に対して必要な定負荷電流バイアスが加えられる。 望ましい実施形態の場合、電流源20は、チャージ・ポンプを通じて給電される が、これは、セル読み出し電圧の出力範囲を超える。すなわち、選択トランジス タ14のドレインは、NMOSスイッチ22を介して電流源20に結合される。 望ましい実施形態の場合、NMOSスイッチ22は、デコーダ(不図示)によっ て駆動されるNMOSトランジスタZ0、YO、...、YNを利用して実施さ れる。 NMOSスイッチ22は、後続セクションにおいて詳述するように、読み取り回 路10がメモリ・アレイによって実施される場合の列復号化に用いられる。 望ましい実施形態の1つでは、メモリ・セル12が選択から外れると、NMO Sスイッチ22のゲート電圧はゼロに等しくなり、プログラミングのために選択 されると、ゲート電圧は高(例えば、21V)になり、読み取りモードで動作す るように選択されると、復号化NMOSスイッチのサイズが小さいことによるゲ ート電圧降下の影響及び抵抗の影響を排除するため、ゲート電圧は中間レベル( 例えば、10V)になる。電流源20によって供給されるバイアス電流は、電源 変動を除去するため、調整電源から得ることが可能である。電流源20(並びに 演算増幅器18)によって供給されるバイアス電流は、セルの読み出し電圧のダ イナミック・レンジを拡大するように、チャージ・ポンプで調整を施すことが可 能である。さらに、電流源20によって供給されるバイアス電流は、当該技術に おいて既知のように、電源変動を最小限に抑えるため、各種カスコーディング電 流ミラー回路を用いて実施することが可能である。さらに、電流源20及び演算 増幅器18の基準電圧VREFによって得られるバイアス電流は、標準CMOS バンド・ギャップ回路のような基準回路から供給することが可能である。 望ましい実施形態の場合、演算増幅器18は、MOS微分演算増幅器である。 演算増幅器18は、VCCまたは標準チャージ・ポンプ出力(後者によって、演 算増幅器18はその出力範囲を拡大することが可能になる)から電圧源を得る。 演算増幅器18の負端子は、基準電圧VREFに接続されるが、その正端子は、 列復号化NMOSトランジスタ22を介して選択トランジスタ14のドレインに 接続される。読み取りモードで動作する場合、READ信号がアサートされると 、選択トランジスタM3がオンになり、ROW信号がアサートされると、NMO SトランジスタM1がオンになり、M1とM3がオンになると、演算増幅器18 の出力がメモリ・セル12のトランジスタ16のゲートに接続される。ROW信 号は、当該技術において既知の典型的な行デコーダ(不図示)から供給される。 READ信号は、読み取りモードによる動作中、ディスエーブルされると、接地 電位に等しくなり、イネーブルされると、中間電圧レベルに等しくなるように( ゲート電圧降下の影響を排除するため)設計されている。 演算増幅器18は、後続セクションにおいて詳述する、図3に示すメモリ・ア レイ50における列ドライバ回路52aまたは52bの一部として実施すること が可能である。列ドライバ回路52aまたは52bは、プログラミング中に高電 圧を選択された列に駆動し、メモリ・セル12からセル読み出し電圧を読み取る 働きもする。演算増幅器18は、負帰還動作によって、強制的にメモリ・セル1 2のドレイン電圧が基準電圧VREFに等しくなるようにする。 当該技術において既知のように、下記の線形MOS方程式は、メモリ・セル1 2が線形モードで動作する場合に有効である: I=beta[(Vgs−Vt)Vds−Vds*Vds/2)] ここで、Vgs>Vds+Vt =>Vgs=I/(beta*Vds)+Vt+Vds/2 I=1μA、Vds=0.5V、beta−40μA/Vと仮定すると、下記の 結果が得られる: Vgs=1*10-6/(40*10−6*0.5)+Vt+0.25 Vgs=0.050+Vt+0.25 Vgs=0.3+Vt=VOUT 明らかに、セルのしきい値電圧VtとVOUT(Vgs)の間に1対1の変動 が得られる。ベータに変化が生じると(例えば、移動性から)、VOUT(Vg s)に極めて小さい変化が生じるという点に留意されたい。 当該技術において既知のように、下記の飽和MOS方程式は、メモリ・セル1 2が飽和モードで動作する場合に有効である: I=0.5*beta[(Vgs−Vt)*(Vgs−*Vt)] ここで、Vgs<Vds+Vt =>Vgs=sqrt{I/(0.5*beta)}+Vt I=1μA、Vds=0.5V、beta=40μA/Vと仮定すると、下記の 結果が得られる: =>Vgs=sqrt{1*10-6/(40*10-6*0.5)}+Vt =>Vgs=0.224+Vt =>Vgs=0.224+Vt=VOUT 従って、同様に、セルのしきい値電圧VtとVOUT(Vgs)の間における 1対1の変動が得られる。ベータ値の変動によって、同様に、VOUT(Vgs )にごくわずかな変化が生じる点に留意されたい。 従って、メモリ・セル12のドレインに定電圧を強制する演算増幅器18を介 して、閉ループ構成をなすように設けられたゲート・フォロワ読み取り回路10 によって、セル12が飽和領域で動作するか、あるいは、線形領域で動作するか に関係なく、ゲートとメモリ・セル12のしきい値電圧との間に線形関係が得ら れる。 こうした1対1の変動は、ベータ変動が最小限に保たれる場合だけにしか実現 することができないので、電流源20によって供給されるバイアス電流は、セル 12が飽和モードで動作しているか、あるいは、線形モードで動作しているかに 関係なく、十分に小さくなるように選択すべきである。さらに、読み取りプロセ スの開始時に、短い持続時間にわたって、電流源20によって供給されるバイア ス電流を一時的に増大させることによって、ループの整定時間を短縮することが 可能である。さらに、本発明の譲受人に譲渡された、参考までに本書に組み込ま れている、Simkoに対して発行された米国特許第5,126,967号に解 説の基準方式を利用して、ある温度範囲にわたるVOUTの変動を最小限に抑え ることが可能である。 図2は、本発明の第2の態様の望ましい実施形態によるメモリ・アレイの一部 及びダイオード接続読み取り回路の概略図である。ダイオード接続読み取り回路 30には、2つのトランジスタ34及び36を有するダイオード接続メモリ・セ ル32と、選択トランジスタM1及びM3とが含まれている。望ましい実施形態 の場合、トランジスタ36は、EEPROMトランジスタであり、選択トランジ スタ34、M1、及び、M3は、NMOSトランジスタである。メモリ・セル3 2のトランジスタ34の選択ゲートは、選択ゲートのサイズが小さいことによる ゲート電圧降下の影響及び抵抗の影響を排除するため、中間電圧レベル、例えば 、10Vに接続されている。 望ましい実施形態の場合、M1及びM3は、読み取りモードにおいて、トラン ジスタ36のゲート(メモリ・セル32のゲートとしての働きもする)をメモリ ・セル32のドレインに接続するために利用される。M3は、READ信号によ ってイネーブルされ、M1は、ROW信号によってイネーブルされる。選択から 外れると、READ及びROW信号は、接地電位に等しくなる。読み取りモード で動作する場合、READ及びROW信号は、中間電圧レベル(10V)に等し いので、セルの最高ゲート/ドレイン電圧を十分に超える。M3は、プログラミ ング中オフになる。 バイアス電流を供給する電流源38は、列復号化に用いられるNMOSスイッ チ40を介して、電源VCCまたはチャージ・ポンプからメモリ・セル32の選 択トランジスタ34のドレインに与えられる。NMOSスイッチ40のゲート電 圧は、選択から外れる場合には、接地電位に等しく、プログラミングのために選 択される場合には、高電圧(例えば、21V)に等しく、読み取りモードにおい て選択される場合には、中間電圧レベル(例えば、復号化スイッチ40のサイズ の小さいことによるゲート電圧降下の影響及び抵抗の影響を排除するため、10 V)に等しい。電流源38によって供給されるバイアス電流に電源VCCから調 整を加えることによって、電源の変動を軽減することが可能である。また、前記 バイアス電流にチャージ・ポンプから調整を加えることによって、セルの読み出 し電圧のダイナミック・レンジを拡大することも可能である。さらに、各種カス コード電流ミラー回路を用いて、電流源38によって供給されるバイアス電流を 実施することによって、当該技術において既知の電源変動を最小限に抑えること も可能である。さらに、バイアス電流は、標準CMOSバンド・ギャップ回路の ような基準回路から供給することも可能である。 READ信号及びROW信号がアサートされると(約10Vに等しい)、M3 及びM1がオンになり、メモリ・セル32がダイオード構成をなすように接続さ れる。セルのしきい値がゼロを超えるものと仮定すると、これによって、メモリ ・セル32は飽和モードで動作することになる。従って、当該技術において既知 の下記の飽和MOS方程式が当てはまる: I=0.5*beta[(vgs−vt)*(vgs−vt)]、Vgs<V d s+Vt=>Vgs=sqrt{I/(0.5*beta)}+Vt I=1ua、beta=40uA/vと仮定すると、下記の結果が得られる: =>Vgs=sqrt{1×10-6/(40×10-6*0.5)}+Vt =>Vgs=0.224+Vt =>Vgs=0.224+Vt−VOUT 従って、読み取りモードにおいて、VtとVOUT(Vgs)の間に1対1の 変動が得られる。VOUT(Vgs)の変化を生じるベータ変動(例えば、移動 性のため)は、小バイアス電流38(電流源によって得られる)を選択すること によって最小限に抑えることができる。さらに、ある温度範囲にわたるVOUT の変動は、Simkoに対して発行され、本発明の譲受人に対して譲渡された米 国特許第5,126,967号に解説のような基準方式を利用して最小限に抑え ることが可能である。 各記憶セル12または32のプログラミングは、当該技術において既知の任意 の適合手段によって実施することが可能である。こうしたプログラミングの一例 が、本発明の譲受人に譲渡された、組み込まれ、論じられている米国特許第5, 220,531号に記載されている。 図3は、本発明の第3の態様によるメモリ・アレイの望ましい実施形態に関す る概略図である。メモリ・アレイ50は、ゲート・フォロワ記憶セル12または ダイオード接続記憶セル32を用いて実施することが可能である。論述のため、 図3には、4行(行1〜行4)、2セクタ(セクタ1及びセクタ2)、及び、2 列のドライバ52a及び52bを含むメモリ・アレイ50が示されている。当該 技術の熟練者には明らかなように、設計目標に従って、より少ないか、または、 より多い数の行、セクタ、または、列ドライバで実施することが可能である。 望ましい本実施形態の場合、各セクタ(セクタ1またはセクタ2)には、32 列BL1〜BL32と、それぞれ、32:1マルチプレクサ56a及び56bを 介して32列に接続された単一の列ドライバ52aまたは52bが含まれている 。各列ドライバ52aまたは52bには、プログラミング中、メモリ・セルに選 択的に高電圧を供給するための高電圧列スイッチ回路(不図示)、次のアナログ 入力信号のサンプリングを行い、保持するためのサンプル及びホールド回路(不 図示)、各インクリメンタル・プログラミング・パルス後に、メモリ・セル12 または32の読み出し電圧をアナログ入力信号と比較し、メモリ・セルの所望の し きい値が得られたか否かを判定するための比較回路(不図示)、及び、メモリ・ セルのしきい値電圧を読み取るための読み取り回路10または30が含まれてい る。実施形態の1つでは、上述の読み取り回路10または30が、列ドライバ5 2aまたは52bにおいて実施される点を除けば、本発明の譲受人に譲渡され、 参考までに本書に組み込まれている、Blyth他に対する米国特許第5,22 0,531号に記載の列ドライバを列ドライバ52aまたは52bとして利用す ることが可能である。 上述のように、メモリ・アレイ50は、ゲート・フォロワ記憶セル12または ダイオード接続記憶セル32を利用して実施することが可能である。図1に示す ゲート・フォロワ記憶セル12を利用する場合、ゲート・フォロワ読み取り回路 10は、電流源20及び演算増幅器18によって供給されるバイアス電流が、図 3に示すメモリ・アレイ50における列ドライバ回路52a及び52bの一部を なすように実施される。列ドライバ回路52aまたは52bは、プログラミング 中、高電圧を選択された列に駆動し、メモリ・セル12から電圧を読み取る働き もする。演算増幅器18は、負帰還動作によって、強制的にセル12のドレイン 電圧が基準電圧VREFに等しくなるようにする。この実施形態の場合、32: 1のマルチプレクサ56が、NMOSスイッチ22を利用して実施される。 ダイオード接続記憶セル32を図2に示すように利用する場合、ダイオード接 続読み取り回路30は、電流源38によって供給されるバイアス電流が列ドライ バ回路52aまたは52bの一部をなすように、メモリ・アレイ50における列 ドライバ回路52aまたは52bの一部として実施される。列ドライバ回路52 aまたは52bは、プログラミング中、高電圧を選択された列に駆動し、メモリ ・セル12から電圧を読み取る働きもする。この実施形態の場合、32:1のマ ルチプレクサ56が、NMOSスイッチ40を利用して実施される。 NMOSスイッチ22または40には、並列に結合された複数のトランジスタ Y0、Y1、...、YNと、直列に接続された選択トランジスタZ0が含まれ ている(ここで、Nは、32に等しく、NMOSスイッチ22または40が、直 接的に復号化される32対1のマルチプレクサ56として実施される場合、選択 トランジスタZ0は不要になる)。トランジスタY0〜YNは、直接的な列復号 化に用いられる。当該技術において既知のように、トランジスタZ0〜ZN(Z 1、Z2、...、ZMは図示されていない)とY0〜YNとを連係させて利用 することによって、列復号化に利用する信号ラインをより少なくすることが可能 になり、例えば、Z0〜Z1とY0〜Y15を連係させて用いることにより、3 2対1のマルチプレクサを実施することが可能である。トランジスタY0、Y1 、...、YNは、メモリ・アレイ50の各列BL1、BL2、...、BL3 2における記憶セル12または32に対応している。トランジスタY0、Y1、 ...、YNのそれぞれは、メモリ・アレイ50において実施される場合、列デ コーダ(不図示)に従ってオンになり、これによって、さらに、各セクタ、セク タ1及びセクタ2の各コラムBL1、BL2、BL32における対応する記憶セ ル12または32がオンになる。 電源ライン金属ストラップ(VCCS)58が、メモリ・アレイ50における 64列毎に、または、2セクタ毎に設けられている。VCCS58は、読み取り 及び消去モードにおいてアースに接続され、プログラミング中はフローティング される(または6Vにプリチャージされる)。さらに、それぞれ、各セクタ、セ クタ1またはセクタ2における32列BL1〜BL32またはBL33〜BL6 4毎に、選択トランジスタM2が、語線(または行)分割に用いられて、各語線 は、セクタ語線に分割される。図1または図2に示す読み取り回路10または3 0の選択トランジスタM1は、語線選択に用いられ、行1、行2、行3、または 、行4において得られる信号が高であるとアサートされると、その特定の行に関 する全てのトランジスタM1がオンになる。図1または図2に示す読み取り回路 10または30の選択トランジスタM3は、下記のセクションにおいて詳述され るように、読み取り動作中、選択されたメモリ・セル12または32の語線を列 ドライバ52aまたは52b、...、52(50)にパスするために用いられ る。 信号ライン60において得られるREAD/信号によって、プログラミング及 び消去中、M2をオンにするのに必要な電圧が供給される。信号ライン62によ って、READ信号が得られ、アサートされると、それによって、読み取り動作 中にM3をオンにするのに必要な電圧が供給される。さらに、それぞれ、各セク タ、セクタ1またはセクタ2における32列BL1〜BL32またはBL33〜 BL64毎に、メモリ・セル12または32のしきい値電圧の読み取りを容易に するため、それぞれ、信号ラインWL_SEC1またはWL_SEC2が設けら れる。このしきい値電圧は、出力端子VOUTに供給される。 次に、60秒のオーディオ信号を供給するアナログ信号を記憶するための典型 的なメモリ・アレイについて説明を行う。図4は、本発明の教示による50セク タ・メモリ・アレイの望ましい実施形態に関する概略図である。サンプリング・ レートが8Khzの場合、1/8Khz=125μsのオーディオ信号を1つの メモリ・セル12または32に記憶することが可能である。60秒の信号の記憶 に必要なメモリ・アレイ100のサイズは、従って、60秒/125×10-6= 480,000メモリ・セル12または32になる。この論考のため、図4に示 すように、メモリ・アレイ100は、1600列と300行に分割される。当該 技術の熟練者には明らかなように、他の分割または指定も可能である。上述のよ うに、32:1マルチプレクサ56を介して、32列を駆動するには、1つの列 ドライバ52(1)または52(2)が必要になる。さらに、本例における16 00列の駆動には、50の列ドライバ56(1)〜56(50)(1600列/ 32)が必要になる。 プログラミング及び消去モード中、READ信号が低にアサートされ、例えば 、21Vの高電圧が信号ライン60に加えられる。READ/信号が高にアサー トされ、これによって、1本の語線(又は行)の50セクタ、例えば行1CGの セクタ1〜セクタ50に接続された全てのM2トランジスタがオンになる。同時 に、信号ライン62で生じるREAD信号が低にアサートされると、M3がオフ になり、語線行1CGに供給される高電圧が、列ドライバ52(1)、52(2 )、...、52(50)における読み取り回路から有効に分離される。 行1CGの、すなわちセクタ50のそれぞれの列BL32のメモリセル12又 は32のプログラミングを行うため、行1に供給される電圧は、例えば、21V といった高電圧になり、行CG1に供給される電圧は、例えば、0Vといった低 電圧になる。各セクタの各32番目の列BL32、BL64、...、BL16 00に供給される電圧は、9〜19Vであり、VCCSは、フローティングされ るか、または、6Vにプリチャージされる。既述のように、プログラミングは、 50の列ドライバ56(1)〜56(50)が、ある特定の選択行に対して、5 0の対応する32:1マルチプレクサ56(1)〜56(50)を介して、32 列の1つにおけるメモリ・セル12または31を選択することにより実施される 。従って、列ドライバ56(1)〜56(50)は、例えば、行1CGといった 一行全体の全メモリ・セル12または32にプログラムするためには、32回の 書き込み(1回の書き込み走査で、50セクタのそれぞれにおける1列のプログ ラミングを行うとして、32回の走査による)が必要になる。 これとは対照的に、1行全体のメモリ・セル12または32の消去は、1回の 消去操作によって実施可能である。行1CGのメモリ・セル12または32の内 容を消去するためには、READ信号が低にアサートされ、一方、行1及び行C G1において得られる信号が、高、例えば、21Vになるようにする。行2、行 3、...、行300、50のセクタ全ての列(BL1〜BL1600)、及び 、VCCに供給される電圧は、全て、ゼロにする。このように構成されると、メ モリ・セル12または32または行1CGは、全て、消去される。 表1には、行1、行1CG、列BL32、及び、BL64のメモリ・セル12 または32に関する消去、プログラミング、及び、読み取りモード時における個 々のノードの電圧レベルが示されている。 ここで、FL=フロート、及び、列マルチプレクサ56を介して加えられる読 み取りバイアス電流、Ibias=1μA。 読み取り動作時に、READ信号が高にアサートされると、READ/信号は 低になり、これによって、さらに、全てのM2トランジスタを遮断する。この結 果、1つの行が1600/32=50セクタに分割される。トランジスタM1は 、行デコーダ(不図示)によってオンにされる。READ信号が高(約10Vに 等しい)にアサートされると、やはり、M3がオンになり、それぞれ50セクタ からなる各語線WL_SEC1...WL_SEC50に生じる電圧が、対応す る列ドライバ56(1)〜56(50)に供給される。各セクタ、セクタ1〜セ クタ50は、対応する32:1マルチプレクサ56(1)〜56(50)を介し て、列ドライバ52(1)〜52(50)によって駆動される。 各語線(メモリ・セルのゲート)は、行デコーダによって選択された選択トラ ンジスタM1を介して列ドライバ52(1)、...、52(50)に接続され る。1つの行が選択され、各列ドライバ52(1)....52(50)毎に、 1つのセクタが選択されるので、1つの選択されたメモリ・セル12または32 の語線だけが、列ドライバ52(1)...52(50)にパスされる。各列の メモリ・セル12または32は、対応する32:1のマルチプレクサ56(1) 〜56(50)によって選択される。 ゲート・フォロワ記憶セル12及びダイオード接続記憶セル32の同等のMO S方程式を利用した上述の分析では、メモリ・セル12または32のドレインか らフローティング・ゲートにそれぞれ結合する電圧の影響が無視される。しかし 、ドレイン結合を考慮しても、メモリ・セルのしきい値とセル読みだし電圧との 関係は、やはり線形である。 従って、本発明によれば、ゲート・フォロワまたはダイオード接続記憶セルの 形をとる不揮発性メモリを利用して、アナログ信号を記憶する集積回路によるア ナログ信号記録及び再生システムが得られる。 当該技術の熟練者であれば、本発明の真の範囲及び精神の内を越えることなく 、上述の実施形態に修正及び変更を施すことが可能である。例えば、本発明は、 本発明の譲受人に譲渡され、その内容が本書に組み込まれている、Blyth他 に対して発行された米国特許第5,220,531号に解説のソース・フォロワ ・メモリ・セルを利用して実施することが可能である。さらに、メモリ・セル1 2または32、及び、メモリ・アレイ50または100は、当該技術において既 知 の適合する手段を利用してプログラムすることが可能である。 従って、本発明の説明はいくつかの特定の実施形態に関して行ってきたが、当 該技術の通常の技術者に明らかな他の実施形態も、本発明の範囲内に含まれる。 従って、本発明の範囲は、後続の請求項によってのみ規定されるように意図され ている。
───────────────────────────────────────────────────── 【要約の続き】 ・セルについてのみ、読み取りまたはプログラミングが 実施される。消去モードの場合、語線の全てのセクタ が、選択トランジスタを介して互いに接続されるので、 所定の時間に完全な1行分の消去操作を実施することが 可能である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.集積回路による信号の記録及び後続の再生のために、アナログ電圧を記憶 し、読み出す回路であって、 第1のトランジスタ及び第2のトランジスタを備えており、第1のトランジス タにソース、ドレイン、及び、ゲートが設けられ、第2のトランジスタにソース 、ドレイン、ゲート、及び、フローティング・ゲートが設けられていて、第2の トランジスタのドレインが第1のトランジスタのソースに接続されている記憶セ ルと、 第1のトランジスタのドレインに結合された電流源と、 第3のトランジスタであって、ソース、ドレイン、及び、ゲートを有し、ドレ インが電流源に結合され、ソースが第2のトランジスタのゲートに結合され、ゲ ートが入力信号に結合されていて、入力信号に応答する第3のトランジスタと、 第3のトランジスタのドレインに結合され、第3のトランジスタが入力信号に 応答してオンになると、記憶セルに記憶された電圧を送り出す出力端子と を有する回路。 2.第3のトランジスタがオンになると、第2のトランジスタのゲートが、第 1のトランジスタのドレインに結合されることを特徴とする請求項1に記載の回 路。 3.記憶セルが、セルしきい値電圧とセル・ゲート/ドレイン電圧を有してい ることと、記憶セルが飽和領域で動作することとを特徴とする請求項2に記載の 回路。 4.さらに、電流源と第1のトランジスタの間に接続されたスイッチが含まれ ることを特徴とする請求項1に記載の回路。 5.さらに、第1の入力端子、第2の入力端子、及び、増幅出力を備えた演算 増幅器が含まれ、その第1の入力端子が第1のトランジスタのドレインと電流源 に結合され、その増幅出力が前記出力端子に結合されることを特徴とする請求項 1に記載の回路。 6.集積回路による記録及び後続の再生のため信号サンプルを記憶し、読み返 す回路であって、 それぞれ、複数の記憶セルを備え、各記憶セル毎に、第1のトランジスタ及び 第2のトランジスタが含まれており、第1のトランジスタに、ソース、ドレイン 、及び、ゲートが設けられ、第2のトランジスタにソース、ドレイン、ゲート、 及び、フローティング・ゲートが設けられていて、第2のトランジスタのドレイ ンが第1のトランジスタのソースに接続されており、複数の記憶セルが複数の行 及び列をなすように構成されている複数のセクタと、 各列ドライバが複数のセクタの1つと組み合わせられて、列内の記憶セルを駆 動する複数の列ドライバと、 それぞれ、複数の列ドライバの1つと組み合わせられて、ある列内の記憶セル にアクセスする複数のマルチプレクサと、 各行毎に記憶セルにアクセスするための語線セクタ化手段とから構成され、 第1のトランジスタがオンになると、各行の各セクタにおける記憶セルにアク セスすることが可能になることを特徴とする回路。 7.第3のトランジスタがオンになると、第2のトランジスタのゲートが、第 1のトランジスタのドレインに結合されることを特徴とする請求項6に記載の回 路。 8.記憶セルが、セルしきい値電圧及びセル・ゲート/ドレイン電圧を有し、 記憶セルが飽和領域で動作することを特徴とする請求項7に記載の回路。 9.さらに、複数の電流源、及び、それぞれ、第1のトランジスタと複数の電 流源の対応する1つとの間に接続された複数のスイッチが含まれることを特徴と する請求項6に記載の回路。 10.さらに、複数の電流源と、第1の入力端子、第2の入力端子、及び、増 幅出力を備えた演算増幅器とが含まれ、その第1の入力端子が第1のトランジス タのドレインと複数の電流源の対応する1つに結合され、その増幅出力が出力端 子に結合されることを特徴とする請求項6に記載の回路。
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