JPH11501733A - 光学伝送材料に電気光学特性を誘導または増加する方法 - Google Patents

光学伝送材料に電気光学特性を誘導または増加する方法

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JPH11501733A JP8516383A JP51638396A JPH11501733A JP H11501733 A JPH11501733 A JP H11501733A JP 8516383 A JP8516383 A JP 8516383A JP 51638396 A JP51638396 A JP 51638396A JP H11501733 A JPH11501733 A JP H11501733A
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Abstract

(57)【要約】 光ファイバ(1)のような光学伝送融解石英材料に電気光学特性を誘導または増加する方法であって、電極(4)によって電界を光ファイバに印加し光学伝送融解石英材料に紫外線放射線(9)を受けさせる光学伝送融解石英材料に電気光学特性を誘導または増加する方法。

Description

【発明の詳細な説明】 光学伝送材料に電気光学特性を誘導または増加する方法発明の技術分野 この発明は、光学伝送材料に電気光学特性を誘導または増加する方法またはこ の方法による材料を備えたまたは組み入れた装置に関する。特に、しかし、これ に限定されることはないが、この発明は、光ファイバのような導波管で使用する ための電気光学特性を有する光学伝送材料の製造方法に関する。発明の背景 現在知られている電気光学材料即ち電界の印加でその屈折率(RI)が変化す る材料として、例えばニオブ酸塩リチウム(LiNbO3)の材料がある。電気光学特 性の存在は、そのRIを電界の印加で制御できる種々の光学/光伝送装置の改善 をもたらす。 ニオブ酸塩リチウム導波管変調器は市販されているが、その存在する技術に関 連して固有の制限がある。ニオブ酸塩リチウムを用いる装置の製造は複雑であり 、その材料も高価である。その高誘電率は高速で、低電圧の装置の実現にとって 全く適当でなく、線形屈折率および導波管の形状の両方の点からニオブ酸塩リチ ウムとシリカ光ファイバの差は、標準のファイバシステムに対する低損失の結合 を困難にする。更に、短い(例えば青の)波長において、ニオブ酸塩リチウムは 光屈折の損失を受ける。 光学装置に対する断然最も実用的で容易に利用できる材料は融解石英ガラスま たはケイ酸塩ガラス(便宜上ここでは“融解石英ガラス”または“ガラス”と称 する)であるが、あいにく融解石英ガラスは殆ど表示せず、または電気光学特性 を有しない。 印加された電界がある状態で装置を加熱することにより、ドープされた融解石 英ガラスの電気光学特性を増加させることが行われている。これはある効果があ るが、結果として得られた電気光学効果は実用的な目的にとって不十分なものと なる。 また、ドープされた融解石英ガラスの電気光学特性を増加させる際に、印加さ れた電界がある状態で可視光を用いることがなされている。1988年7月光学 書簡第13巻第7号第592〜594頁(バーゴット等)に見られるバーゴット (Bergot)等による“ポーリングによって光ファイバに永久に光学的に誘導され た2次非線形の発生”は高輝度の光の存在下で横DCポーリング電界を印加する ことによりケイ酸塩ゲルマニウムファイバに2次光学非線形を誘導する方法を吟 味している。バーゴット等は485nmで動作するパルスレーザおよび488n mで動作するCWアルゴンレーザを使用することを開示している。更に、それは これらのレーザからの光をDC電界の存在下でファイバのコアーに軸方向に発射 することを開示している。発明の要約 これに対し、この発明では、より高い周波数例えば紫外線(UV)の電磁放射 線を用いることによって、実質的に改善された結果が得られることが分かった。 更に、バーゴット等は、より低い周波数の可視光を用いる際に、光をファイバの 軸方向に発射させた。しかしながら、そのスペクトラムのUV部分の電磁放射線 は、融解石英ガラスで非常に吸収される。しかしながら、ファイバに光を横に発 射することによって、UV光に増加された電気光学特性を持った光学伝送材料を 作る際に効果を持たせることができる。 それ故、この発明は、光学伝送材料に電気光学特性を誘導するかまたは増加す る方法を提供し、これは電界を光学伝送材料に印加し、その材料にスペクトラム の紫外線部分の電磁放射線を入射させる。 この発明は、更に上記に規定された方法を条件とする光学伝送材料を備えまた は含む光学装置を提供する。 UV電磁放射線の強度または位相は、不均一な増加した電気光学応答を作るた めに、装置に沿って時間的に或は空間的に変化させてもよい。また或は交互に電 界を空間的にまたは時間的に変化させてもよい。 この方法を受ける材料は、通常融解石英ガラスであり、好適実施の形態では、 その方法は直接融解石英ガラス光ファイバに適用してもよい。光ファイバを照射 する際に使用される電磁放射線の波長は、被覆を介して横方向に照射されるとき に、光ファイバの被覆が全体にその放射線を吸収しないようなものでなければな らず、その結果、放射線はファイバのコアー領域に侵入し、実質的に吸収される 。 好適実施の形態では、電磁放射線は融解石英ガラス光ファイバと強く相互に作 用するように選択される。また、放射線はコアーおよび伝播モードが及ぶ被覆ガ ラスの部分と強く相互に作用するように選択できる。強い相互作用を起こすには 、電磁放射線が吸収されなければならない。シリカの吸収端はUV(約160n m)の深さである。しかしながら、融解石英ガラスの欠陥の存在、特にコアーへ のドーピングの為に、より長い波長で吸収帯域を生じる。例えば、ケイ酸塩ゲル マニウム光ファイバでは、強い吸収帯域が約193nmおよび240nmで見ら れる。これらの波長の電磁放射線は、大いに吸収される。代表的には放射線のパ ワーの半分は、代表的な単一モードファイバコアー直径程度の数十または数百の 波長内に吸収される。バーゴット等が使用したようなより長い波長では、電磁放 射線は、波長がスペクトル的に任意の吸収ピーク値から遠いので光ファイバコア ーと弱い相互作用のみを有し、その結果得られた吸収はほぼ百万倍小さいもので ある。更に、吸収ピーク値から離れた波長で放射線を使用するとき、光は全般に ファイバに沿って相当な距離を伝播して任意の有益な誘導効果を作らなければな らず、光ファイバの側面を通る横に投射された放射線を用いることは、光はその 寸法が吸収波長と比較して小さいコアーを横切る際の吸収が低レベルの為に実用 的でない。それ故、バーゴット等が示したような放射線波長は実際的でない小さ な電気光学効果を生じる。 光ファイバに適用されるような方法の好適実施の形態では、放射線は150n mおよび400nmの間にあるように選択でき、特に好ましくは150nm〜3 50nmの範囲にあるように選択できる。重要な係数は、光ファイバが電界に対 して露出されるとき使用される放射線波長が要求される電気光学効果を暗示的に 誘導しまたは増加することができなければならないことである。より一般的な用 語で表せば、入射する紫外線の電磁放射線の波長およびエネルギーは、ガラスの 構成物およびガラス内のドーパントの型と濃度によって決定できる。 融解石英ガラスに含むためのドーパントの種類は、電気光学効果の最適の増加 に対して選択できる。好ましいドーパントの範囲は、光ファイバで通常使用され るものを含む。このようなドーパント合成物は、グループIA〜VA、IB〜IV Bから選択された少なくとも1つの金属酸化物、および遷移元素、希土類元素お よびアクチニドに変換できるものを含む。更に、P25はドーパントとして通常 使用される。代表的に組み合わされるドーパントは、ゲルマニウム、アルミニウ ム、ボロンおよび/またはエルビウムのような希土類元素(即ちランタニド)で よい。電磁放射線に対するシリカおよび/または融解石英ガラスの感度を増加す るのに水素が知られており、高圧の水素雰囲気中でその構造を記憶することによ って取り入れてもよい。使用できるその他のドーパントはH2Oおよび水酸化物 イオンである。 好ましくは、材料を通る光の伝播の意図した方向を横切る方向の放射線に対し て露出される材料の領域の少なくとも一部にかかるように電界が印加される。約 100V/μmの電界強度が印加される。好適実施の形態では、融解石英ガラス ファイバに印加する際には、100V/μmより大きな電界強度がシリカの絶縁 破壊を生じさせることが可能であるが、非常に大きな電界強度を印加することも 可能である。一般に、好ましい電界強度範囲は1V/μm〜1000V/μmで あり、より好ましくは、特に融解石英ガラス光ファイバに印加する際には、10 V/μm〜150V/μmの間である。 この発明の1つの実施の形態では、光ファイバに印加する際には、このような 大きな電界強度の印加は、光ファイバ被覆内のドーピングされた融解石英ガラス コアーの横側に電極を含ませることによって助長される。実際には、光ファイバ のコアーと出来るだけ接近してアノード電極を維持することが好ましいことが分 かる。これは改善されたポーリング結果を与えることは明らかである。また、フ ァイバコアーに接近して電極を設けることは、電気光学装置として処理されるフ ァイバの連続した適用を助長し、その電極はファイバの光伝送特性を制御するよ うに電界の印加を助長する。 コアーと接近し且つ並列に延びる被覆に埋められた電極を持つ光ファイバは、 以下のように作られる。 (i)コアーと並列で、接近して延び且つコアーを横切って直径の方向に置かれ た穴を有するファイバを引っ張り、次に細い線(またはその他の導線または導体 材料)を挿入し、 (ii)既にコアーと並列で、接近して延び且つコアーを横切って直径の方向に置 かれた穴に電極を有するプレフォームからファイバを引っ張り、この場合、電極 材料は代表的にシリカの温度特性に十分近いものを有し、両方の材料を同時に引 っ張ることができるようにさせる。 ある例では、(相互および/またはコアーに関連して)並列でない電極を持つ ことは有益であり、および/または電極の軸はコアーの軸を含む任意の面に対し て置き換えられる面に含んでもよい。更に、この発明のある用途では、2つ以上 の電極を用いてもよい。多重コアーファイバがこの処理技術から利益を得る多く の用途がある。また、少なくとも1つの電極、好ましくはアノードが光ファイバ のコアーと接触しているかまたは殆ど接触状態にあることが好ましい。電極は最 終的な装置では変調電極として用いてもよいし、用いなくともよい。ある用途で は、それらはポーリング電界を印加することの唯一の目的のために存在するだけ である。このような用途の簡単な例は、二次高調波発生の領域でその光学非線形 特性に対して誘導電気光学作用を用いることである。更に、このような使用は、 その他の光学非線形や周期的にポーリングする装置で二次高調波にマッチした疑 似位相に適用される。 また、この発明は、平面の導波管構造にも容易に拡大できる。より大きな電界 強度の印加は埋め込んだ電極を介して生じることができる。また、大きな電界強 度ポーリングは露出した電極で可能である。この場合に、雰囲気の電気破壊を避 けるために、真空でまたは高圧ガス(例えばSF6)で電界を印加することが必 要である。また、表面にかかるトラッキングを避けるために、調整層で表面を処 理することが必要である。また、調整された雰囲気は、光ファイバの具体化の処 理の際に更なる増加に有益である。 好ましくは、電磁放射線および電界は同時に印加される。また、電気光学効果 を導くのにパルス状の電磁放射線やパルス状の電界を使用することが可能である 。電磁放射線と電界のパルスを交互に印加してもよい。 明らかに、非線形は電界に材料の屈折率を調整させる。勿論、光自身は電界お よび磁界を発生することからなる。従って、また光の固有の電界はその非線形を 通して屈折率を調整するように作用できる。これは光のより高い光高調波の発生 と、異なる周波数の光を混合して和および差の周波数を発生するのを可能にする 。 方法を変形して、所定の整った電気光学特性を持つ装置を作ることができる。 1つの変形例では、ビームの位置、パワー、空間的分布またはパルス速度を変え ることにより投射する電磁放射線を変更して特に整った構造を記録して所望の光 学装置を作ることができる。交替してまたは付加的に、印加される電界を変更し て所望の装置の特性を作ることができる。このような整った装置は組み合わされ る特性に応じて任意の数の用途を持つことができる。 この発明はシリカや融解 石英ガラス以外の材料にも適用できる。その他の可能な光伝送材料はフルオロジ ルコニウム酸塩またはカルコゲン化物ガラスと光伝送プラスチック材料を含む。 異なる波長と多分異なるドーパントを必要とする。この発明は、種々の実用的な 実施例に実施でき、光ファイバや平面の導波管を含む種々の光伝送装置に適用で きる。図面の簡単な説明 この発明の特徴と利点は、添付図面に関連しているだけの例による光ファイバ 形態のその実施の形態の下記の説明から明らかになるであろう。 図において、 図1はこの発明の一実施の形態による処理の適用された光ファイバの端面から 見た構造図、 図2は光ファイバ被覆内に挿入された電極を有する図1の光ファイバの側面図 、 図3は光ファイバのコアーに紫外線電磁放射線を印加する方法を示す図である 。好適実施の形態の説明 図において、参照符号1で全体に示す光ファイバは、シリカまたはドーピング されたシリカガラスの被覆3で覆われているドーピングされたシリカガラスコア ー2を備える。シリカガラスコアー2は(光ファイバ1から行き出す前に)ドー ピングされた。この例で使用されるドーパントは、12モル%のゲルマニウム、 3モル%のアルマニウムおよび350ppmのエルビウムの濃度であった。 光ファイバ1はシリカガラスコアー2を挟叉している一対の空洞チャネル4と 共に引き出された。 長さ3〜4cm程度の細線電極5、6(図2)は、それらがそれから少し離れ たコアー2の横側にあるように空洞チャネル4に挿入された。その寸法は、適例 だけの図面中でに特定された。 細線電極5および6は、約80V/mの強さのポーリング電界の印加で励磁さ れ、一方35mJ/cm2のパワーで193nmの波長の放射線は、約10分の 間パルスレーザ源9から(秒当たりパルス)10ppsの速度でファイバコアー の上で横方向に収束された。この処理は、ドーピングされたシリカガラスでバー ゴット等によって報告されたものより遥かにもっと有意の明らかに有意の線形電 気光学係数を生じた。 紫外線電磁放射線および電界の印加は、予め決定された特性を有する数多くの 装置を作るのに変更してもよい。更に、光ファイバコアーに隣接して電極が存在 すると、変調している電界の印加中にそれらを連続して使用できる。 図3は、紫外線電磁放射線を光ファイバのコアーに光ファイバを通る光の伝播 の方向に対して横切る方向に印加する好適な方法を示す。 第2の実施の形態では、周期構造を持つポーリングされたブラッグ格子が作ら れた。ファイバは図1に従って構成されたが、しかし、このときのファイバは3 00μmの外径であった。空洞チャネル4の直径は70μmで、2つの空洞チャ ネル4は18μmだけ分離され、8μmの直径を持つ中央のコアー2が2つの空 洞チャネル4間に設けられた。直径50μmの2つの電極がほぼ6cmの長さを 有する光ファイバに挿入された。ほぼ100V/μmの電界強度でセットアップ するために、2つの電極間にある電圧が印加された。 次に、その構造は、0.8mJ(25mJ/cm2)および20Hzで約1時間 の間エキサイマー(excimer)ポンプ周波数二度染めレーザからの240nmで 照射された。そのレーザ照射は、1.53μmの範囲で内部のファイバ反射波長 を有するブラッグ格子構造に対応する照射の周期パターンを作るのに位相マスク (図示せず)通して通過した。その結果得られた同調可能なブラッグ格子反射器 は、最高+/−300Vを電極に印加することによって変調され、約15dBの 反射力の変化および約0.5nmのブラッグ波長移動が観察された。これらの観 察では、通常露出していない領域で約1μm/V、露出している領域で約10μ m/Vの誘導電気光学係数と変化はなかった。 好適実施の形態の上記説明は、一例に過ぎない。当業者には、種々の変形例が この発明の要旨を逸脱することなくなし得るであろう。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 フレミング、サイモン オーストラリア国、ニュー・サウス・ウェ イルズ 2042、ニュータウン、チェルムス フォード・ストリート 6/85 (72)発明者 ツァオ、ユッシン オーストラリア国、ニュー・サウス・ウェ イルズ 2967、チャッツウッド、モブレ イ・ロード 3/382 (72)発明者 シーツ、マーク オーストラリア国、ニュー・サウス・ウェ イルズ 2006、シドニー、パーラマッタ・ ロード、ザ・ユニバーシティ・オブ・シド ニー (72)発明者 プール、サイモン オーストラリア国、ニュー・サウス・ウェ イルズ 2066、レーン・コーヴ、カレン・ ストリート 21エイ (72)発明者 タウン、グレアム オーストラリア国、ニュー・サウス・ウェ イルズ 2043、アースキンヴィル、ヴィク トリア・ストリート 5

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.光学伝送融解石英材料に電気光学特性を誘導または増加する方法であって、 電界を上記光学伝送融解石英材料に印加し、該光学伝送融解石英材料に紫外線電 磁放射線を入射させる光学伝送融解石英材料に電気光学特性を誘導または増加す る方法。 2.上記光学伝送融解石英材料は光学電磁信号の伝送を第1の方向にさせるよう になされ、上記入射される紫外線電磁放射線は上記第1の方向を実質的に横切る ように印加される請求項1記載の光学伝送融解石英材料に電気光学特性を誘導ま たは増加する方法。 3.上記光学伝送融解石英材料は光ファイバを備え、上記第1の方向は上記光フ ァイバの伝送軸に実質的に沿っている請求項2記載の光学伝送融解石英材料に電 気光学特性を誘導または増加する方法。 4.上記紫外線電磁放射線は上記光学伝送融解石英材料によって実質的に吸収さ れる請求項1記載の光学伝送融解石英材料に電気光学特性を誘導または増加する 方法。 5.上記光学伝送融解石英材料の吸収長は上記光学伝送材料の厚さの実質的に半 分である請求項4記載の光学伝送融解石英材料に電気光学特性を誘導または増加 する方法。 6.上記紫外線電磁放射線は150nmおよび400nmの間にある請求項1記 載の光学伝送融解石英材料に電気光学特性を誘導または増加する方法。 7.上記紫外線電磁放射線は150nmおよび350nmの間にある請求項1記 載の光学伝送融解石英材料に電気光学特性を誘導または増加する方法。 8.上記紫外線電磁放射線は実質的に240nmに等しい請求項1記載の光学伝 送融解石英材料に電気光学特性を誘導または増加する方法。 9.上記紫外線電磁放射線は実質的に193nmに等しい請求項1記載の光学伝 送融解石英材料に電気光学特性を誘導または増加する方法。 10.上記光学伝送融解石英材料は融解石英光導波管である請求項1記載の光学 伝送融解石英材料に電気光学特性を誘導または増加する方法。 11.上記融解石英光導波管はドーピングされたコアーを有する光ファイバを備 える請求項10記載の光学伝送融解石英材料に電気光学特性を誘導または増加す る方法。 12.上記紫外線電磁放射線は実質的に上記融解石英光導波管によって吸収され 、上記融解石英光導波管の吸収長は実質的に上記コアーの直径の大きさの程度内 にある請求項11記載の光学伝送融解石英材料に電気光学特性を誘導または増加 する方法。 13.上記融解石英光導波管は、グループIA〜VA、IB〜IVBから選択され た少なくとも1つの金属酸化物、遷移元素、希土類元素およびアクチニドを含む ドーパント合成物でドーピングされる請求項10記載の光学伝送融解石英材料に 電気光学特性を誘導または増加する方法。 14.上記ドーパント合成物は、P25,ゲルマニウム,アルミニウム,ボロン およびエルビウムのグループから選択される請求項13記載の光学伝送融解石英 材料に電気光学特性を誘導または増加する方法。 15.更に水素雰囲気中に上記融解石英光導波管を貯蔵することを含む請求項1 0記載の光学伝送融解石英材料に電気光学特性を誘導または増加する方法。 16.上記融解石英材料は平坦な導波管を備える請求項1記載の光学伝送融解石 英材料に電気光学特性を誘導または増加する方法。 17.上記電界は上記平坦な導波管の表面に埋め込まれた少なくとも2つの電極 によって作られる請求項16記載の光学伝送融解石英材料に電気光学特性を誘導 または増加する方法。 18.上記電界は上記平坦な導波管の表面に露出した少なくとも2つの電極によ って作られ、上記平坦な導波管は上記電極を取り囲む雰囲気の電気破壊を避ける ために真空または高圧ガス中に配置される請求項16記載の光学伝送融解石英材 料に電気光学特性を誘導または増加する方法。 19.上記電界は実質的に上記光電磁信号の方向に横切って印加される請求項2 記載の光学伝送融解石英材料に電気光学特性を誘導または増加する方法。 20.上記電界の強度は実質的に1〜1000V/μmの範囲にある請求項1記 載の光学伝送融解石英材料に電気光学特性を誘導または増加する方法。 21.上記電界の強度は実質的に10〜150V/μmの範囲にある請求項1記 載の光学伝送融解石英材料に電気光学特性を誘導または増加する方法。 22.上記電界の強度はほぼ100V/μmである請求項1記載の光学伝送融解 石英材料に電気光学特性を誘導または増加する方法。 23.上記電界は少なくとも2つの電極によって作られ、アノード電極が上記ド ーピングされたコアーに近接してある請求項11記載の光学伝送融解石英材料に 電気光学特性を誘導または増加する方法。 24.上記少なくとも2つの電極は上記ファイバの軸を含む面に対して転置され た面に含まれる請求項23記載の光学伝送融解石英材料に電気光学特性を誘導ま たは増加する方法。 25.上記電界は実質的に上記電磁放射線と同じ時間に印加される請求項1記載 の光学伝送融解石英材料に電気光学特性を誘導または増加する方法。 26.上記紫外線電磁放射線の強度または位相は時間の変動を受ける請求項1記 載の光学伝送融解石英材料に電気光学特性を誘導または増加する方法。 27.上記紫外線電磁放射線の強度または位相は上記光伝送材料の異なる部分を 通して変動を受ける請求項1記載の光学伝送融解石英材料に電気光学特性を誘導 または増加する方法。 28.上記光学伝送融解石英材料はフルオロジルコニウム酸塩ガラス、カルコゲ ン化物ガラスまたはプラスチックのグループの1つである請求項1記載の光学伝 送融解石英材料に電気光学特性を誘導または増加する方法。 29.上記方法は上記光電磁信号の2次高調波発生のために使用される請求項2 記載の光学伝送融解石英材料に電気光学特性を誘導または増加する方法。 30.上記光電磁信号の上記2次高調波発生は準位相整合される請求項29記載 の光学伝送融解石英材料に電気光学特性を誘導または増加する方法。 31.上記電界は電磁放射線の振動電界である請求項1記載の光学伝送融解石英 材料に電気光学特性を誘導または増加する方法。 32.上記振動電界は上記光学伝送融解石英材料を通過する光のより高い光高調 波を発生するのに使用される請求項31記載の光学伝送融解石英材料に電気光学 特性を誘導または増加する方法。 33.上記振動電界は上記光学伝送融解石英材料を通過する光の周波数の和と差 の周波数を持つ光を発生するのに使用される請求項31記載の光学伝送融解石英 材料に電気光学特性を誘導または増加する方法。 34.光学伝送融解石英材料を備えた電気光学特性を有する装置であって、先ず 上記光学伝送融解石英材料に電界発生手段による電界を受けさせて電気光学特性 を作り、次に紫外線放射線源による紫外線放射線を受けさせて上記所定の電気光 学特性を作るようになされた電気光学特性を有する装置。 35.上記紫外線放射線源は上記光学伝送融解石英材料を通して伝送される光の 入射路を実質的に横切って紫外線放射線を発射する請求項34記載の電気光学特 性を有する装置。 36.上記光学伝送融解石英材料は光ファイバを備え、上記光学伝送融解石英材 料を通して伝送される光は上記光ファイバの伝送軸に実質的に沿っている請求項 35記載の電気光学特性を有する装置。 37.上記紫外線電磁放射線は上記光学伝送融解石英材料によって実質的に吸収 される請求項34記載の電気光学特性を有する装置。 38.上記光学伝送融解石英材料の吸収長は該光学伝送融解石英材料の厚さの実 質的に半分である請求項37記載の電気光学特性を有する装置。 39.上記紫外線電磁放射線は150nmおよび400nmの間にある請求項3 4記載の電気光学特性を有する装置。 40.上記紫外線電磁放射線は150nmおよび350nmの間にある請求項3 4記載の電気光学特性を有する装置。 41.上記紫外線電磁放射線は実質的に240nmに等しい請求項34記載の電 気光学特性を有する装置。 42.上記紫外線電磁放射線は実質的に193nmに等しい請求項34記載の電 気光学特性を有する装置。 43.上記光学伝送融解石英材料は融解石英光導波管である請求項34記載の電 気光学特性を有する装置。 44.上記融解石英光導波管はドーピングされたコアーを有する光ファイバを備 える請求項43記載の電気光学特性を有する装置。 45.上記コアーの吸収長は実質的に上記コアーの厚さの10倍に実質的に等し い請求項44記載の電気光学特性を有する装置。 46.上記融解石英光導波管は、グループIA〜VA、IB〜IVBから選択され た少なくとも1つの金属酸化物、遷移元素、希土類元素およびアクチニドを含む ドーパント合成物でドーピングされる請求項43記載の電気光学特性を有する装 置。 47.上記ドーパント合成物は、P25,ゲルマニウム,アルミニウム,ボロン およびエルビウムのグループから選択される請求項46記載の電気光学特性を有 する装置。 48.上記融解石英光導波管は水素雰囲気中に貯蔵される請求項43記載の電気 光学特性を有する装置。 49.上記融解石英材料は平坦な導波管である請求項34記載の電気光学特性を 有する装置。 50.上記電界は上記平坦な導波管の表面に埋め込まれた少なくとも2つの電極 によって作られる請求項49記載の電気光学特性を有する装置。 51.上記電界は上記平坦な導波管の表面に露出した少なくとも2つの電極によ って作られ、上記平坦な導波管は上記電極を取り囲む雰囲気の電気破壊を避ける ために真空または高圧ガス中に配置される請求項49記載の電気光学特性を有す る装置。 52.上記電界は実質的に上記光電磁信号の方向に横切って印加される請求項3 5記載の電気光学特性を有する装置。 53.上記電界の強度は実質的に1〜1000V/μmの範囲にある請求項34 記載の電気光学特性を有する装置。 54.上記電界の強度は実質的に10〜150V/μmの範囲にある請求項34 記載の電気光学特性を有する装置。 55.上記電界の強度はほぼ100V/μmである請求項34記載の電気光学特 性を有する装置。 56.上記電界は少なくとも2つの電極を備え、アノード電極が上記ドーピング されたコアーに接触している請求項34記載の電気光学特性を有する装置。 57.上記少なくとも2つの電極は上記ファイバの軸を含む面に対して転置され た面に含まれる請求項56記載の電気光学特性を有する装置。 58.上記電界発生手段は上記電磁放射線と実質的に同じ時間に上記電界を発生 する請求項34記載の電気光学特性を有する装置。 59.上記紫外線電磁放射線の強度または位相は時間の変動を受ける請求項34 記載の電気光学特性を有する装置。 60.上記紫外線電磁放射線の強度または位相は上記光学伝送融解石英材料の異 なる部分を通して変動を受ける請求項34記載の電気光学特性を有する装置。 61.上記光学伝送融解石英材料はフルオロジルコニウム酸塩ガラスまたはカル コゲン化物ガラスのグループの1つである請求項34記載の電気光学特性を有す る装置。 62.上記装置は上記光電磁信号の2次高調波発生のために使用される請求項3 5記載の電気光学特性を有する装置。 63.上記光電磁信号の上記2次高調波発生は準位相整合される請求項62記載 の電気光学特性を有する装置。 64.上記光学伝送融解石英材料は更に使用の際に電磁放射線の振動電界による 照射を受ける請求項34記載の電気光学特性を有する装置。 65.上記振動電界は上記光学伝送融解石英材料を通過する光のより高い光高調 波を発生するのに使用される請求項64記載の電気光学特性を有する装置。 66.上記振動電界は上記光学伝送融解石英材料を通過する光の周波数の和と差 の周波数を持つ光を発生するのに使用される請求項64記載の電気光学特性を有 する装置。 67.添付図面を参照して実質的に上述した電界および紫外線電磁放射線を使用 して光学伝送融解石英材料に電気光学特性を誘導または増加する方法。
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