JPH11500826A - 固相結合アッセイのためのコンポジット・ウェーブガイド - Google Patents

固相結合アッセイのためのコンポジット・ウェーブガイド

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JPH11500826A JP8525862A JP52586296A JPH11500826A JP H11500826 A JPH11500826 A JP H11500826A JP 8525862 A JP8525862 A JP 8525862A JP 52586296 A JP52586296 A JP 52586296A JP H11500826 A JPH11500826 A JP H11500826A
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ライカート、ダブリュ.モンティー
エヌ. ヘロン、ジェイムス
ウォン、ス−クン
エー. クリステンセン、ダグラス
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ユニバーシティー オブ ユタ リサーチ ファンデーション
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Abstract

(57)【要約】 蛍光結合アッセイにおけるエバネッセント・センシングのためのステップ・グラディエント・コンポジット・ウェーブガイド(100)は厚い基体層(102)と、同基体層(102)上に堆積された1つ以上の薄膜ウェーブガイド・チャネル(104)とを有する。

Description

【発明の詳細な説明】 固相結合アッセイのためのコンポジット・ウェーブガイド 発明の背景 発明の分野 本発明は生化学的固相結合アッセイ(Solid-state biochemical binding assa ys)のための装置、より詳細には同装置及びアッセイに使用するエバネッセント 検出原理を利用した光学構造体に関する。従来技術 全内反射(以下、TIRと称する)として知られる光学技術の特性を利用した イムノアッセイは10-10〜10-13モル以下の濃度の分析物を洗浄工程を実施す ることなく検出するための効果的なツールであることか証明されている。ウェー ブガイド内を伝搬される光線ビームがウェーブガイドと、同ウェーブガイドより 低い屈折率を備えた隣接する媒体との間のインターフェースにおいて全内反射す る際、TIR光線の電磁界の一部は隣接する媒体内に浅く侵入する。この現象は “エバネッセント透過(Evanescent penetration)”または“エバネッセント光 線”と称される。エバネッセント光線の強度はウェーブガイド表面から遠ざかる とともに指数関数的に低減する。 一般的に、結合アッセイは所望の分析物に対して特異的に結合する選択された “捕獲”分子(”Capture"molecule)の強力な親和力に基づいて実施される。当 該技術分野において知られるように、捕獲分子/分析物ペアーは抗体/抗原ペア ー若しくはその逆、または受容体/リガンド・ペアー若しくはその逆等であり得 る。蛍光結合アッセイ(Fluorescent binding assay)では、抗体に対する分析 物の結合は入力光線ビームによる励起に反応して蛍光を放射するトレーサー分子 を用いて監視される。 蛍光測定を実施すべくエバネッセント・ライト・フィールドの特性を利用する 幾つかの技術のうちの1つを以下に詳述する。TIRを通じて光線ビームを伝搬 する光学構造体上に抗体を不動化する場合、TIRによって生じるエバネッセン ト光線は不動化された抗体に結合(直接的または間接的)するトレーサー分子を 選択的に励起すべく使用できる。この際、エバネッセント透過深度より深い溶液 中を浮遊するトレーサー分子は励起されない。このため、同トレーサー分子は蛍 光を発しない。シリカをベースとする光学材料またはポリスチレン等の光学プラ スチックでは、隣接する媒体として水溶液を使用した際のエバネッセント透過深 度は一般的に約1000〜2000オングストロームである。従って、蛍光の量 は不動化された捕獲分子に結合したトレーサーの量を示す尺度となる。結合する トレーサーの量は存在する分析物の量に依存しており、これはイムノアッセイ・ プトシージャの詳細に基づいて決定される。 カーターに付与された米国再発行特許第33,064号と、フラナガン他に付 与された米国特許第5,081,012号と、ケックに付与された米国特許第4 ,880,752号と、アトリッジに付与された米国特許第5,166,515 号と、スロバッキ及びラブに付与された米国特許第5,156,976号と、ス ロバッキ他が出願した欧州特許出願公開第0517516号及び欧州特許出願公 開第0519623号とはエバネッセント検出原理を利用したイムノアッセイの ための装置を開示している。 イムノセンサ(Immunosensor)は10-13〜10-15M(モル)の濃度、さらに 好ましくはこれ以下の濃度の分析物分子を反復して正確に検出し得ることが望ま しい。現時点において、この感度は市販の実用的、かつ安価なイムノセンサでは 得られない。更に、イムノセンサは複数のチャネルを1つのウェーブガイド基体 上に有することが望ましい。即ち、イムノセンサは複数の分析物の測定と、一種 類の分析物に関する複数の測定とを1つのウェーブガイド上で実施する能力を有 することが望ましい。この種のイムノセンサは既知スタンダードを用いた自己較 正と、特定の特異的診断プロシージャ(Differential diagnostic procedure) を実施すべく選択された複数の異なる分析物のパネルに関するスクリーニングと を可能にする。 蛍光イムノセンサの感度を改善(検出限界を下げる)する1つのアプローチと しては、アイブス他(1987年に発行されたNATO ASIシリーズE(NATO ASI Series E)第132刊の391〜397頁に記載されているアイブス,ジェ イ.ティ.;ライヘルト,ダブリュ.エム.;リン,ジェイ.エヌ.;ラディ, ブイ.;ラインエッケ.ディ;スシ,ピー.エイ.;ヴァンヴァンゲネン,アー ル.エイ;ニューヒィ,ケイ.;ヘロン,ジェイ.;ドライデン,ピー.及びア ンドレド,ジェイ.ディ.によるエイ.エヌ.チェスタ、エス.マテルッチ及び エイ.エム.ヴェルガ シェッジ版の光ファイバ・センサに記載されている“全 内反射蛍光表面センサ”)が開示する非常に薄い(約1μmの厚さ)ウェーブガ イドの使用が挙げられる。この種の薄膜ウェーブガイドは更に高いエバネッセン ト強度及び500〜1000反射/cm以上の反射濃度を実現できる。しかし、 薄膜ウェーブガイドを使用した検出限界の低減は同ウェーブガイドを構成する材 料が非蛍光性及び低い伝搬損を有する場合にのみ実現可能である。最新のエバネ ッセント・イムノセンシング技術(“厚膜”ウェーブガイド)は本質的に非蛍光 性を有するシリカ・ガラス(SiO2)を使用している。高価なUVグレード石英に 代表される最も純粋なグレードのシリカのみが蛍光を発する添加物及び不純物を 含まない(ディエルカ他1987年)。 更に、SiO2を石英基体上に堆積させることにより、シリカ・オン・シリカ ・ウェーブガイド(Silica-on-silica waveguides)を簡単に形成できない。こ れは屈折率の差がSiO2及び石英基体間に存在しないことに起因する。これに 代わり、(1)シリカ基体より高い屈折率を有するガラス・ウェーブガイドを同 シリカ基体上に形成するか、または(2)シリカ・ウェーブ・ガイドより低い屈 折率を有する透明基体上に同シリカ・ウェーブガイドを堆積させる必要がある。 従って、他の材料を使用する必要がある。 薄膜ウェーブガイドはスローパー他(1990年に発行されたセンサ及びアク チュエータ B1(sensors and Actuators B1)の589〜591頁に記載されて いる“平坦な燐酸インジウム・モノモード・ウェーブガイド・エバネッセ ント・フィールド・イムノセンサ”参照)と、ゾウ他(1991年に発行された バイオセンサ及びバイオエレクトロニクス6(Biosensors and Bioelectronics 6 )の595〜607頁に記載されている“イオン交換埋没型ウェーブガイドを 使用するエバネッセント蛍光バイオセンサ及びピーク蛍光発光の強化”参照)と によって開示されている。しかし、両者の装置は10-10モルより更に低い分析 物濃度の検出を達成できない。スローパーが開示するウェーブガイド構造はドー プ剤をシリカ・ベース内へ拡散することによって形成されたグラディエントイン デックス・タイプ(Gradient-index type)である。この場合、ドープ剤の濃度 はインターフェースから遠ざかるとともに低減する。ゾウ他が開示するウェーブ ガイドは1つのチャネル(測定領域)を有するのみである。 従って、伝搬されるTIR光線の量を増大させ、さらにはエバネッセント・フ ィールド強度(Evanescent field intensity)を増大させるとともに、複数の測 定領域を有するエバネッセント・センシング・イムノアッセイ(Evanescent sen sing immunoassay)に効果的な光学的構造体が必要である。同光学構造体は10-13 M、より好ましくは10-15未満の分析物濃度を検出できることが望ましい。 更に、商業用装置として十分に安価で、かつ実用的に製造でき、さらには非熟練 者が反復性のある正確な結果を実現し得る前記の光学構造体を備えたイムノセン サが必要とされる。更に、ホルモンまたは他の生物学的分子とは異なるイオンを 検出できるバイオセンサも必要とされる。 発明の概要 本発明はエバネッセント・センシング・アッセイの実施に効果的なステップ・ グラディエント・ウェーブガイド(コンポジット・ウェーブガイドとも称される )を含む。同ウェーブガイドは屈折率n1を備えた第1の光学材料から形成され 、かつ第1の表面を有する厚い基体と、屈折率n1より大きい屈折率n2を備えた 第2の光学材料から形成された薄膜とを有し、同薄膜は基体に隣接し、かつ同基 体に対して動作可能に当接している。前記の光学基体は使用する材料に基づいて 約0.3μm〜10mmまたはそれ以上の厚さを有する。薄膜は約0.3〜5μ mの厚さを一般的に有する。ウェーブガイドの厚さは1〜4つのモードのみの内 部伝搬を提供すべく選択することが望ましい。 更に、本発明はコンポジット・ウェーブガイド及び少なくとも1つの特異的結 合分子を有するキットを提供し、同少なくとも1つの特異的結合分子は前記の薄 膜に対して不動化され、かつ分析物に対して特異的に結合すべく形成されている 。更に、キットはコンペティション・アッセイ(Competition assay)またはサ ンドイッチ・タイプ・アッセイ(Sandwich type assay)に使用すべく形成可能 である。トレーサー分子は薄膜から隣接する水相内に侵入するエバネッセント光 線によって励起され、さらには同エバネッセント光線による励起に応じて光電検 出町能なトレーサー信号を放射すべく形成されている。 好ましい実施の形態において、コンボジット・ウェーブガイドは基体と、同基 体上に堆積された平行アレイの形態をなす複数の薄膜ストリップとを有し、キッ トは緩衝液内に含まれる既知濃度の分析物を含む第2の溶液をさらに有する。 コンポジット・ウェーブガイドの好ましい実施の形態において、カップリング 手段は入射光線を薄膜内にカップリングすべく同薄膜に対して完全に適合し、か つ動作可能に当接している。1つの実施の形態に基づくカップリング手段は薄膜 に隣接する基体表面にエッチングされたグレーティングである。この種の物理的 グレーティングに代わるグレーティング・タイプ・カプラはグレーティングのリ ッジのように一定間隔で基体上に配置された異なる屈折率n5を備えた複数のセ グメントのアレイを有し得る。別の実施の形態では、比較的厚いウェーブガイド ・カプラをコンポジット・ウェーブガイドの一端付近において基体の反対側に位 置する薄膜ウェーブガイドの平面上に配置している。ウェーブガイド・カプラは 厚い入力ウェーブガイド内をTIRで伝搬された光線を薄いスペース層を通って 薄膜ウェーブガイド内にエバネッセント透過によりカップリングすべく適切な光 学材料から形成されている。 好ましい実施の形態において、コンポジット・ウェーブガイドは薄膜を基体上 に蒸着し、次いで薄膜ストリップをレジスト化合物でマスキングし、さらにはマ スクされていない領域内の基体を露出すべく薄膜をエッチングすることによって 形成されている。次いで、レジスト化合物は薄膜ストリップに対する結合分子の 不動化を可能にすべく除去される。 更に、本発明は特異的結合アッセイを実施するための装置を提供する。同装置 はコンポジット・ウェーブガイドを光学ユニットとともに有し、同光学ユニット はウェーブガイド内における全内反射による伝搬を実現すべく、光線を同ウェー ブガイド内に案内するために位置決めされた光源と、前記の光学構造体に隣接す る領域からの光線を検出すべく配向された検出手段とを有する。 本発明のIOWはフェムトモル(10-18M)範囲の分析物濃度を検出し得る 。前記の感度は他の薄膜エバネッセント・センサが実現し得る感度を遥かに上回 るとともに、薄膜ウェーブガイド内における反射濃度強度の増大のみによって実 現し得る感度を越えている。 図面の簡単な説明 図1Aは本発明のコンポジット・ウェーブガイドの縦断面図である。 図1Bは図1Aに示す縦断面構造を有するコンポジット・ウェーブガイド・モ ジュールの平面図である。 図2Aはエッチングされた一体グレーティング・カプラを有するコンポジット ・ウェーブガイドの側面図である。 図2Bは薄膜ウェーブガイドの誘導モード(Guided mode)内への垂直入射光 線ビームの回折を示す図2Aのコンポジット・ウェーブガイドの拡大図である。 図3Aは一体ウェーブガイド・カプラを有する別の実施の形態に基づくコンポ ジット・ウェーブガイドの縦断面図である。 図3Bは図3Aのコンポジット・ウェーブガイドの斜視図である。 図3Cは入力ウェーブガイド及び薄膜ウェーブガイドの各エバネッセント電磁 界のオーバーラップを示す概略図である。 図4Aはマルチチャネル・コンポジット・ウェーブガイドを有するフロー・セ ルの一部を破断して示す平面図である。 図4Bは図4AのB−B線における縦断面図である。 図5は結合アッセイを実施すべく図4A及び図4Bのフロー・セルを有する光 学装置の概略図である。 図6A及び図6Bは図4の装置を用いて行った蛍光測定の結果を示すグラフで ある。 図7はエッチングされたサンプル・ウェルを備えた別の実施の形態に基づくコ ンポジット・ウェーブガイドの平面図である。 実施の形態の詳細な説明 図1Aに示すように、符号100で示すコンポジット・ウェーブガイドは屈折 率n1を備えた第1の光学材料から形成された基体102と、屈折率n1より大き い屈折率n2を備えた第2の光学材料から形成された薄膜ウェーブガイド層10 3とを有する。ウェーブガイド層103は複数の結合分子106を有する。各結 合分子106は頂面103A上に不動化されるとともに、分析物に特異的に結合 すべく形成されている。基体102は約0.3μm〜10mmまたはそれ以上の 厚さD1を有する。その一方、薄膜ウェーブガイド103は約0.3〜5μmの 厚さD2を有する。図1Aに示すように、基体102が比較的厚い(0.5mm 以上)場合、同基体102は薄膜ウェーブガイド103内における光線の効果的 な導波をサポートするために必要な光学特性を有する以外に、機械的支持体とし ても機能する。しかし、幾つかの実施の形態において、基体102は製造を容易 にすべく比較的薄いことが好ましい。このようなケースでは、別の支持層(図示 略)を光学構造体102(図示略)の真下に配置し得る。 好ましい実施の形態において、基体102は二酸化珪素から形成されている。 二酸化珪素は蒸着若しくは当該技術分野において知られている他の技術によって 形成されたSiO2薄膜と、石英(天然石英及び溶融石英または他の人工石英を 含む)とのいずれか一方の形態をなす。そして、ウェーブガイド層はシリコン・ オキシナイトライド(Sizxyまたは一般的に“SiON”と表記される) から形成されている。“堆積SiO2(Deposited SiO2)”という用語は堆積S iO2を石英/溶融石英等と区別すべく以下に使用する。二酸化珪素はn=1. 47の屈折率を有するうえ、十分な純度の二酸化珪素は非常に低い蛍光性を示す 。シリコン・オキシナイトライドは機械的耐性に優れるとともに、可視光線波長 範囲内で透明であり、さらには実質的に非蛍光性を有する。更に、シリコン・オ キシナイトライドは酸素の窒素に対する化学量論比に基づいて一般的に約1.5 〜2.0の屈折率を備えている。別の好ましい実施の形態において、SiONは Si23Nである。 別の実施の形態において、基体102は屈折率n1を有するSiONから形成 され、ウェーブガイド膜103はn1より大きい屈折率n2を有するSiONから 形成されている。SiON組成物の屈折率は窒素の割合によって制御される。即 ち、基体のSiONはウェーブガイド膜のSiONより低い窒素の割合を有する 。 更に別の実施の形態において、基体102は屈折率n=1.38を備えたMg F2(フッ化マグネシウム)から形成され、ウェーブガイド層103は純粋な二 酸化珪素薄膜である。MgF基体は長い時間及び比較的高いコストを要する蒸着 技術等によって形成される。このため、本実施の形態において、基体102は少 なくとも1つの誘導モードの十分な伝搬を保証する十分な厚さを有すればよい。 SiONウェーブガイド層103はMgF2ウェーブガイドより効果的な基体に 対する付着性を水溶液中において提供するため、同SiONウェーブガイド層1 03の使用は現時点において好ましい。しかし、MgF2ウェーブガイド/Si O2コンポジット・ウェーブガイドは非水性溶媒との併用に適し得る。 好ましい実施の形態に基づく薄膜SiONを有する構造体において、基体10 2はシリコン・ウェハ支持体上に堆積されたSiO2の層である。シリコン・ウ ェハ支持体上に堆積されたSiO2層からなる基体102の表面は更に均一、か つ滑らかであり、同表面は堆積SiON膜に更に滑らかな平面を形成する。この ため、基体102をシリコン・ウェハ支持体上に堆積されたSiO2の層から形 成することは好ましい。このウェーブガイド表面の高い平滑度は石英または溶融 シリカからなる基体上に堆積された薄膜ウェーブガイドと比べて伝搬損を少なく とも2倍低減する。 図1Bにおいて、ウェーブガイド層は基体102の全長より短い複数のストリ ップ104として示されている。これは異なる複数のサンプル溶液のためのマル チプル・ウェーブガイド“チャネル”及び/または異なる複数の不動化された捕 獲分子を有するためのマルチプル・ウェーブガイド“チャネル”を提供すべく設 計されたウェーブガイド層の任意の構成である。さらに任意にて、コンポジット ・ウェーブガイド120は3つのストリップ104をそれぞれ有する複数の矩形 ウェル108A,108B,108Cとして形成可能である。複数のストリップ 104は少なくとも約5mmの距離D3によって互いに分離されている。複数の ウエル108A,108B,108Cは基体102から上に向かって延びる壁1 10によって互いに分離されている。図1Bの装置はSiONを基体102の全 面に蒸着し、次いで薄膜ストリップ104に対応する領域をレジスト化合物でマ スキングし、さらには基体102から露出されたSiONを除去すべく同露出さ れたSiONをエッチングし、そしてレジスト化合物を除去することによって形 成し得る。図1Bにおいて、斜線領域112はエッチャントに露出されなかった ウェーブガイドの領域を示す。次いで、結合分子106を薄膜ストリップ104 に対して不動化する。これは結合アッセイの技術分野において知られている手段 により実現し得る。これに代えて、複数のウェル108A,108B,108C はバックグラウンド溶液、較正溶液(既知分析物濃度)及びテスト・サンプル溶 液(末知)のための互いに独立した流動コンパートメント(Flow-through compa rtments)としてフロー・セル・タイプ・オペレーションのために形成できる。 前記の材料から形成した高品質コンポジット・ウェーブガイドは薄膜を基体の 全面に堆積させるべくプラズマ増速化学蒸着(PECVD)を使用し、次いで薄膜を所 望のストリップ以外の部分からリソグラフィーを介してエッチングすることによ って形成できる。SiONの場合、PECVDは窒素、亜酸化窒素、アンモニア 及びシラン・ガスの混合物を用いて実施され、Sizxyの化学量論は前記の 各成分の分圧を変えることにより変更できる。 リソグラフィーを用いた工程では、市販のフォトレジスト化合物を使用するリ アクティブイオン・エッチング(Reactive-ion etch;略してRIE)プロセスを 用いることが好ましい。ストリップまたはチャネルとなるフィルムの領域はレジ ストによって被覆され、同領域の周辺に位置する領域は基体までエッチングされ る。本実施の形態では、シップレイ・カンパニー(Shipley Co.)から販売され ているDUVネガティブトーン・フォトレジストXP89131(DUV negative -tone photoresist XP89131)が好ましく、エッチャントはO2ガス及びCHCl3 ガスのプラズマである。更に、シップレイ・カンパニーから販売されているX P2198と、IBMから販売されているAPEX−Eと、OCGから販売され ているCAMP6とに代表されるポジティブトーン・レジスト(Positive tone resists)も適切である(これらの組成物の名称は全て登録商標名である)。こ れら全てのレジスト化合物は実質的にフェノール・ポリマーからなる化学的増幅 タイプ(Chemical amplification type)である。PMMA(ポリメタクリル酸 メチル)等の古いタイプのフォトレジストを使用し得る一方、化学的に増幅され たDUVレジストは本発明の目的を実現する更に優れた結果を提供し得る。 チャネルをウェーブガイド膜内にエッチングすべくプラズマ・エッチング、イ オン・ミリング(Ion milling)またはウェット・エッチングを含む任意の他の エッチング技術を使用し得る。しかし、カップリング効率を増大すべく基体にエ ッチングしたグレーティングの使用を望む場合(図2A及び関連する説明を参照 )、RIEプロセスが好ましい。これは同エッチング・プロセスが高い異方性 を備えたグレーティングの形成に重要であることに起因する。RIEエッチング は効果的なグレーティングの形成に最適である。その一方、ウェット・エッチン グは不適切である。エッチングされたグレーティング・カプラを有するウェーブ ガイドの場合、チャネルをウェルとしてエッチングすべくRIEプロセスを使用 することは適切である。 更に、薄膜ウェーブガイド・チャネルをウェット・リフトオフ・プロセス(We tlift-off process)によって形成することもできる。このプロセスでは、ウェ ーブガイドの基体をチャネル領域を露出するようにマスクし、次いでSiON薄 膜をマスキング剤を含む表面全体に堆積させる。薄膜を堆積させた後、全表面は マスクを同マスク上に堆積したウェーブガイド膜とともに“リフトオフ”、即ち 除去し、かつ前記の露出された石英上に堆積した膜を残すべく選択された溶剤中 に浸漬される。 ウェーブガイドを製造する全工程は非常に清浄な環境内、好ましくは少なくと もクラス10のスタンダードに適合したタリーンルーム内で実施すべきである。例1.SiONコンポジット・ウェーブガイドの製造 SiO2上に1μmの厚さのSi23N膜を備えたウェーブガイドは以下の要 領で製造される。10.16センチメートル(4インチ)の石英ウェハを含む加 熱されたサンプル・ホルダをプラズマ増速化学蒸着(PECVD)リアクタ内に 配置する。そして、プロセス・ガスをPECVD容器の外辺部からサンプル上に 流動させ、さらには中央ポートを通じてPECVD容器からポンプで排出する。 堆積中、PECVDリアクタを300℃及び1.25トル(Torr)に維持し、さ らに50Wの電力を13.56MHzジェネレータに供給する。ガス混合物は2 7立方センチメートル毎分(scc)のシラン(SiH4)と、500sccm の窒素と、200sccmのアンモニアと、1300sccmの亜酸化窒素とを 実質的に含む。これらの物質の入口分圧(Inlet partial pressure)はそれぞれ 17ミリトル(mTorr)、308ミリトル、123ミリトル及び802ミリトル である。これらの条件下において、堆積速度は約590オングストローム/分で あり、1μmの膜は約15分で形成された。これらのシリコン・オキシナイトラ イド膜はほぼSi:O:N=2:3:1の元素比と、n=約1.53〜1.54 の屈折率とを有する。 次いで、Si23N膜をフォトレジストで被覆し、マスクし、さらには5mm 間隔で形成された1 x 65mmの大きさの互いに平行な9つのSiON膜スト リップを除く全ての部分を露出すべく現像する。マスクされなかったSiONは 石英ウェハまでエッチングする。フォトレジストを剥離し、次いでエッチングさ れたウェハを23 x 69mmの大きさの3つの矩形片を形成すべく切断する。 各片は1μmの厚さを備えた互いに平行な3つのチャネル・ウェーブガイドを有 する。このうちの2つの外側チャネルのみを本明細書に開示するアッセイに使用 する。 コンポジット・ウェーブガイドは生化学的エバネッセント・センシング結合ア ッセイに適するの幾つかの特性を有する。これらの特性はアッセイに使用する溶 剤(一般的に水を使用)に対する耐性能力と、ウェーブガイド内を伝搬される光 線の単位距離当たりの損失量(dB/cmで表される“伝搬損”)と、使用する 励起波長の光線で照射した際のウェーブガイドの蛍光の固有レベル(トレーサー 蛍光エミッションの帯域幅内で測定)と、ウェーブガイド−スーパーストレイト ・インターフェース(Waveguide-superstrate interface)における反射数/c m(Nr)と、エバネッセント透過の適切な深度(dp)とを含む。例2.SiONウェーブガイドの特徴付け エッチングされたチャネル・ウェーブガイドの形状及び厚さを確認すべく走査 電子顕微鏡を使用する。標準チャネルは光学的に滑らかな矩形エッジ及び均一な 厚さを有する必要がある。チャネル・ウェーブガイドの光学的特徴付けを行うべ ぐ、HeNeレーザーから632.8nmラインのビームをプリズム・カプラを 介してウェーブガイドに入射させる。一般的な実験において、ウェーブガイドの 厚さ(twg)、屈折率(nwg)、内反射角度(qwg)、ウェーブガイド−スーパ ーストレイト・インターフェースにおける反射数/cm(Nr)、透過深度(dp )及び伝搬損(dB/cm)の数値をそれぞれ測定する。表1のデータは例1に 概略を示す方法に基づいて形成された一般的なSiONウェーブガイドについて 測定した特徴を示す。更に、これらのウェーブガイドは高い物理的鮮明度(Highd egree of physical definition)と、低い伝搬損及びウェーブガイド固有の最小 限の蛍光発光という所望の特性とを有する。 例3.MgF 2 /SiO 2 コンポジット・ウェーブガイドの製造 SiO2/MgF2ラミネートをバルザーズBAK760高真空コーター(Balz ers BAK760 high-vacuum coater)内においてマルチポケット電子ビーム・ガン (Multipocket electron beam gum)を使用する電子ビーム蒸着によって適切に 堆積させる。最初に、堆積チャンバを2マイクロトル(μTorr)まで減圧する。 次いで、ラミネートを堆積させる機械的支持体としてのシリカ・チップを200 ℃まで加熱する。チャンバ内の圧力は堆積前におけるシリカ・チップの加熱によ って3.8マイクロトルまで上昇した。回動可能なソース・カルーセル(Source carousel)内に位置するモリブデン及びグラファイトで内面をそれぞれ被覆した 複数の炉の中に、原材料、即ち99.9%の純度のMgF2及び99.999% の純度のSiO2をそれぞれ加える。両原材料をシャッタを閉鎖した状態で堆積 温度まで加熱する。低速で移動する10kV(キロボルト)電子ビーム(約12 mm2の楕円スポット・サイズを有する)を使用することにより、MgF2を最初 に蒸発させる。次いで、SiO2を同様に蒸発させる。MgF2及びSiO2の堆 積速度はオシレーティング・クリスタル・モニタ(Oscillating crystal monito r)を使用することにより、20オングストローム/秒及び10オングストロー ム/秒にそれぞれ制御する。0.36μmの厚さのMgF2膜は3分で堆積され た。更に、1.0μmのSiO2膜は16分で堆積された。 ウェーブガイドの物理的部分を形成した後、複数の特異的結合分子、即ち選択 された分析物に対して特異的に結合する特性を有する分子を薄膜ウェーブガイド ・チャネルの表面上に不動化する。この種の特異的結合分子は対応する分析物に 対して特異的に結合する抗体及び受容体分子等またはこれらのフラグメントであ る。分析物である特定の抗体を検出するための抗原等の逆のペアーも適する。他 の種類の結合分子/分析物ペアーと、結合分子を不動化する手段とは当業者にと って明白である。結合分子を不動化する好ましい方法を以下に詳述する。 図4A及び図4Bは製造方法及び特徴付けを例1及び例2においてそれぞれ詳 述する2チャネル・ウェーブガイドを備えたフロー・セルを示す。コンポジット ・ウェーブガイド100は一対のブラック・シリコーン・ゴム・オーリング・ガ スケット406によって互いに離間された底板402及び頂板404の間に保持 されている(図4B参照)。各ガスケット406は頂板内にフライス削りされた 対応する溝406A内に配置され、さらには長手方向に延びるフロー・チャネル 408を画定している。フロー・チャネルは対応する入口ポート410A,41 2A及び出口ポート410B,412Bを有する。矢印409はチャネル408 内を流動する液体の流動方向を示す。更に、各フロー・チャネルはカップリング ・プリスム416を配置するための孔414を有する。ウェーブガイドを支持し 、 かつシリカ・チップ支持層を通じたウェーブガイド底部のクリアな視界を提供す べく窓418が底板の内側に形成されており、同窓418は底板にフライス削り されている。フロー・セルを構成するアルミニウム部品は迷光を吸収すべく黒く 、かつ平坦であることが望ましい。カップリング・プリズム(カール・ラムブレ ット・カンパニーから入手した4mmの幅及び10mmの高さを備えた面取りさ れた45−45−90LaSFプリズム,np=1.83)をGTE118RT Vシリコーン・ゴム・セメントを使用して窓414の内側の所定位置に固定して ある。一連のフインガ・ネジ(Finger screws)(図示略)は頂板404及び底 板402を基体102上に保持し、さらにはプリズム416に加えるカップリン グ・プレッシャを維持すべく使用される。ポリエチレンねじ込み式チュービング ・コネタタ(Polyethylene screw-in tubing connectors)、テフロン・マイク ロチュービング(TEFLON microtubing)及び使い捨てシリンジ(Disposable syr inges)をサンプル供給システム(図示略)として使用する。各チャネル408 のサンプル体積は300マイクロリットルである。 ウェーブガイドを水相スーパーストレイト(Aqueous superstrate)に対して カップリングするプリズムはウェーブガイドをフロー・セルの底板上に配置し、 基体の反対側に位置するウェーブガイド表面を測定に使用する緩衝液で濡らし、 さらには頂板を同頂板に取付けられたプリズムとともに濡れたウェーブガイド上 に配置することを含む。隆起チャネル・ウェーブガイド構造体(Raised-channel waveguide structure)の効果としては、軽い圧力をカップリング・プリズムに 加えることにより、効果的なプリズム・カップリングを容易に実現できる点が挙 げられる。 2つのモデル・システム内におけるエバネッセント結合アッセイは1993年 に発行されたSPIE第1885刊(蛍光センシング技術における進歩)の28 〜39頁に記載されているヘロン他による“平面ウェーブガイドを使用する蛍光 イムノセンサー”と、米国特許出願第08/064,608号及び米国特許出願 第08/263,522号とに開示されているフォーマットに類似するデュア ル・チャネル・アッセイ・フォーマットを使用して図4A及び図4Bに示すフロ ー・セルを用いて実施した。例4.薄膜ウェーブガイド・フロー・セルを使用するモデル・アッセイ 第1のモデル・システム、即ち直接結合モデル・システムでは、ウェーブガイ ド表面上に不動化されたアビジンに対する蛍光トレーサーでラベル付けしたヒオ チン化抗体(Biotinylated antibody)の結合を測定する。使用する抗体はスタ ンダード・ハイブリドーマ技術を用いて形成した9−40と称される抗フルオレ セイン抗体(Anti-fluorescein antibody)である。9−40抗体を製造業者の プロシージャ(バイオロジカル・ディテクション・システムズ(Biological Det ection Systems))に基づいて染料Cy−5(λabs,max=650nm、λem,ma x =667nm、emax=2x105-1cm-1)でラベル付けした。ラベル付け 効率としては、1つの蛋白質分子に対して染料は約4つであった。アビジンをウ ェーブガイド表面に吸着させるべく、未処理の親水性SiONからなるIOW表 面を燐酸緩衝生理食塩水(略してPBS、pH7.4)に溶解した0.2mg/ ミリリットルのアビジン溶液(シグマ(Sigma)から入手)で8時間処理する。 Cy−5でラベル付けした9−40の一部をN−ヒドロキシスクシンイミドビ オチン(N-hydroxy-succinimidobiotin)(シグマから入手)を用いてビオチン 化する。より詳細には、20倍モル過剰量(20-fold molar excess)のN−ヒド ロキシスクシンイミドビオチンを0.1M炭酸ナトリウム/重炭酸ナトリウム緩 衝液、pH9(CBB)に含まれる9−40の1mg/ミリリットル溶液に対し て加える。この混合物を室温で2時間反応させ、さらには反応生成物(ビオチン 化され、かつCY−5を結合した9−40)をPBS内で平衡を保ったPD−1 0カラム(ファーマシア:Pharmacia)を使用するゲル浸透クロマトグラフィー によって精製する。 アッセイの第2のタイプは間接的サンドイッチ・タイプ・アッセイである。間 接的サンドイッチ・タイプ・アッセイでは、不動化された抗フルオレセイン抗体 (抗体9−40)に対するフルオレセインを結合した浮遊するBSA(Free flu orescein-conjugated BSA)の結合はトレーサーとしてCy−5を結合した抗B SA抗体(Anti-BSA antibody)を用いて測定する。不動化された9−40抗体 を有するIOW表面を以下の要領で準備する。リン他(Lin et al.)(1980 年)が開示する方法に基づき、不動化前の9−40をクェン酸緩衝液(pH3) 内において1時間にわたって予備酸処理し、次いで同9−40を2.3x10-7 M(0.03mg/ミリリットル)の濃度のPBS内において再構成する。Si ONからなるIOWを1%ジクロロジメチルシラン(略してDDS、シグマより 入手)で処理し、さらには脱イオン水中で3回リンスし、次いで予備酸処理した 抗体9−40の溶液内に室温で3時間浸漬する。 マウス・モノクローナル抗ウシ血清アルブミン抗体(Murine monoclonalanti- bovine serum albumin antibody)(抗BSA、シグマより入手可能)を抗体9 −40に関連して詳述した方法を用いてCy−5でラベル付けする。ウシ血清ア ルブミン(シグマより入手)をフルオレセイン・イソシオシアネート(Fluoresc ein isothiocyanate;略してFITC、シグマより入手)でラベル付けする。2 0倍モル過剰量のFITCをCBBに含まれるBSAの1mg/ミリリットル溶 液に加える。この混合物を室温で1時間反応させ、次いで複合物をPBS内で平 衡を保ったPD−10カラムを使用して精製する。ラベル付け効率としては、1 つのBSA分子に対してFITCグループは約2つであった。アッセイはFIT C(λabs,max=492nm)の吸収帯を遥かに上回る波長、即ち632.8n mにおける励起を用いて実施したため、FITCは9−40に対するハプテンと してのみ機能する(蛍光タグとしては機能しない)。 アッセイを実施すべく、前記の方法でコーティングしたIOWを図4に示すフ ロー・セル内に取付け、さらにはCCDカメラ504に付随するスペクトログラ フ502のコレクション通路内に位置する回転ゴニオメータ(図示略)上に配置 する(図5参照)。ゴニオメータの使用は任意であるが、同ゴニオメータはレー サー・ビームをウェーブ・ガイド内にカップリングさせる最適なカップリング角 度を求めるための実験セットアップに効果的である。最適なカップリング角度を 決定し、さらには装置を標準化した後、ゴニオメータはアッセイの実施に不必要 である。入射光線はHeNeレーザー(メレス・グリオ(Melles Griot)が製造 )のレッド・ライン(632.8nmで6mW)であり、同レッド・ラインはデ ュアル・ビーム506に分割され、さらにはコンポジット・ウェーブガイドの2 つのチャネル104内にプリズムを介して同時に入射される。これにより、基準 チャネル及びサンプル・チャネルを励起する。 検出を実施すべく、各チャネル内の1mm幅の誘導モード(1mm wide guided modes)をスペクトログラフの入口スリットに対して直交するように配向した。 2つの平行ストリーク(Streaks)の1mmの長さのセクションから放射された 光線はスペクトログラフ502のスリット上に取付けられた50mmのf/5. 6カメラ・レンズを用いることにより、フロー・セルの底板402内の窓418 を通じて結像させる。集められた光エミッションは700nmにおいてセンター リングされたシングル・グレーティング・モノクロメータ502(スペックス1 681cミニメート2(SPEX 1681c Minimate-2)、f/3.9、溝数300/ mm)を使用することにより波長分散され、さらには熱電冷却されたCCD検出 器504(フォトメトリクス・シリーズ200)上に案内され、さらには基準領 域510及びサンプル領域512を含むイメージ508を形成する。基準イメー ジ領域510及びサンプル・イメージ領域512はそれぞれ独立して結像され、 かつ垂直方向に統合され、さらにはマッキントッシュIIxコンピュータ上におい てそれぞれ強度vs.波長を示す基準スペクトル520及びサンプル・スペクト ル522に変換される。 前記の両アッセイは同一の一般的方法に基づいて実施された。即ち、1)捕獲 蛋白質(Capture protein)をサンプル・チャネル及び基準チャネルの各表面上 に不動化し、2)ハプテン−キャリア蛋白質複合体(蛍光トレーサーを含む)の アリコートをサンプル・チャネルに加え、さらには3)これと同時に同一濃度の 蛍光トレーサー(ハプテンを含まない)を基準チャネルに対して加える。 各測定はPBS緩衝液のベースライン・スペクトルをサンプル・チャネル及び 基準チャネルの両方において集めることから始まる。最も薄い分析物溶液から分 析を行うこととし、表1に示す1ミリリットルのサンプル溶液及び基準溶液をそ れぞれフローセル内に注入する。各溶液をアッセイ1の場合には2分間、そして アッセイ2の場合には5分間にわたってウェーブガイド表面でインキュベートし 、次いで両チャネルの10秒スペクトログラフ・イメージ(10 sec spectrograp h images)を集める。このプロセスは最も濃い溶液のアッセイが終了するまで数 回繰り返される。全てのCCDイメージはサンプル・チャネル及び基準チャネル の体積を満たす蛍光分析物による洗浄工程を実施することなく集められる。各測 定において得られたCCDイメージから形成された基準スペクトル及びサンプル ・スペクトルは653〜693nmに統合される。これらのデータに基づいて結 合曲線を形成する。結合曲線は基準の面積強度に対するサンプルの面積強度の比 (Ratio of the integrated intensity of the sample to that of the referen ce)をそれぞれ求め、さらには同比を分析物のバルク濃度の関数としてプロット することによって形成される。この種の放射測定は2つの影響、即ちトレーサー の非特異的結合と、バルク蛍光の寄生励起(Parasitic excitation of bulk flu orescence)とを補償する。 図6A及び図6Bは2つのアッセイから得られた結果を示す。同結果は2チャ ネルSi23N薄膜ウェーブガイド・フロー・セルを使用することにより、3x 10-15Mという低い濃度の分析物を検出し得ることを示す。これらの測定値は 前記のスローパー他またはゾウ他が開示する薄膜ウェーブガイド・イムノセンサ の少なくとも3.3x104倍の感度を有し、さらには前記のヘロン他が開示す る厚膜センサの少なくとも33倍の感度を有する。 例4に開示するプリズム・カップリングは効果的であって、かつ簡単なうえ、 研究室内実験における使用に適する。しかし、この種の装置は比較的高価であり 、医療現場で使用する光学ユニット(Point-of-care optical unit)とともに使 用 する使い捨てIOWモジュールとしては理想的でない。更に、プリズム・カップ リングはプリズムに加える正確な圧力と、入射レーザー・ビームの正確なアライ メントとを必要とする。 前記の問題点を解消した別の実施の形態に基づくカップリングは基体の反対側 に位置するウェーブガイド表面にエッチングするか、またはウェーブガイドに隣 接する基体にエッチングしたグレーティングを提供することによって実現される 。現時点における好ましい実施の形態としては、基体にエッチングしたグレーテ ィングが挙げられる。図2Aに示すように、基体102は薄膜103に当接する 表面102Aにエッチングされたグレーティング200を有する。結合分子10 6は光線ビームの進行方向に沿ってグレーテイング200の下流側において不動 化されている。任意にて、第2のグレーティング(図示略)を光線ビームの進行 方向に沿って不動化された結合分子の下流側において基体102内にエッチング し得る。第2のグレーティングはウェーブガイドの光学的特徴付けを目的とする ものであり、蛍光結合アッセイには必要ない。 基体にエッチングしたグレーティングを使用することにより、光線を装置の後 ろ側から効果的に入射させ得るうえ、ウェーブガイド表面に結合した巨大分子に よる影響を受けることがないため、同グレーティングは効果的である。更に、堆 積及びチャネル・ウェーブガイドのエッチングを実施する前に、グレーティング を基体内にエッチングすることは製造上に観点から効果的、かつ経済的である。 エッチングされたグレーティングによる入射光線のカップリング効率は間隔、 プロフィールまたはブレーズ(Blaze)と、溝のアスペクト比とに基づいて変化 する。これらのパラメータは入射(励起)光線の波長と、スーパーストレイトの 屈折率と、ウェーブガイドの厚さとに基づいて従来の技術で最適化する必要があ る。このケースでは、m=0モードの薄膜SiONウェーブガイドに対する63 2.8nmの垂直入射レーザー・ビームのカップリング(θ=83度;図2B参 照)に対して、約0.42μmのグレーティング・ピリオドD4が算出された。 別のカップリングは光線をウェーブガイド・カプラから精密に形成されたスペ ース層を横切ってコンポジット・ウェーブガイド内へエバネッセントによりカッ プリングすべくエバネッセント透過原理を使用する(図3A、図3B及び図3C 参照)。ウェーブガイド・カプラは薄膜の露出面に隣接するコンポジット・ウェ ーブガイドの頂面に取付けられている。プリズム・カプラ同様に、ウェーブガイ ド・カプラは特異的結合分子を不動化した領域内まで延びていない。 図3Aに示すように、ウェーブガイド・カプラ300は屈折率n3を備えた材 料から形成された比較的厚い層(1mm以上の厚さ)からなる入力ウェーブガイ ド302と、屈折率n3及びn2より小さい屈折率n4を備えた薄いスペース層3 04とを有する。入力ウェーブガイドは入力レーザー光線を入射させるための入 射エッジと、同入射エッジ内への入力ビームの容易なエンド・カップリングを可 能にする十分な厚さD5とを有する。スペース層は厚さD6を有し、同厚さD6 は導波された最大限の光線を入力ウェーブガイドからコンポジット・ウェーブガ イドの薄膜内にエバネッセント・カップリングすべく選択されている。 カップル・モード理論(Coupled mode theory)に基づき、互いに隣接する2 つのウェーブガイドのエバネッセント領域か両ウェーブガイドを分離する低い屈 折率を備えた領域内において互いに重複している場合、一方のウェーブガイド内 を伝搬された光線を隣接する他方のウェーブガイド内に同期してカップリングで きる(図3C参照)。カップリング効率は2つのウェーブガイドの間隔と、各モ ード伝搬定数(Modal propagation constant)と、相互作用距離(Distance of the interaction)とに依存している。カップリング効率は相互作用距離の余弦 に基づいて変化するため、同カップリング効率は特定の距離において理論的には 100%に達する。従って、同期型エバネッセント・カップリング装置は十分に 効果的である。 最大のカップリング効率を達成すべく、スペース層の厚さは以下の数式に基づ いて調整する必要がある。 K1=(j+1)π/2, (j=0,1,2...) 上記の数式において、Kはカップリング定数であり、かつ屈折率n1,n2,n3 , n4と、入力光線の波長λと、薄膜ウェーブガイド、入力ウェーブガイド及びス ペース層の各厚さD2,D5,D6とに依存している。薄膜ウェーブガイドでは 、1つまたは僅かな数の最低のモード(好ましくは、j=0〜約10であり、j =20を越えない)をウェーブガイド内において伝搬する。好ましいウェーブガ イド・カプラは前記の低いモードで伝搬されたレーザー光線の伝搬量を増大すべ く形成されている。 シリコン・オキシナイトライド・コンポジット・ウェーブガイドでは、スペー ス層はSiO2から形成できる。スペース層304はエピタキシャル成長により 堆積させることが望ましく、これにより同スペース層304の厚さを堆積時に非 常に正確に制御できる。コンポジット・ウェーブガイドの製造における全てのエ ピタキシャル処理工程及びエッチング工程を終了した後、入力ウェーブガイド3 02をスペース層の頂部に取付ける。入力ウェーブガイドはルチル、ジルコニア またはハイインデックス・ガラス(High-index glass)等の高い屈折率を有する 材料から形成され、さらにはほぼn3の屈折率を備えたインデックスマッチング ・セメント(Index-matching cement)を用いてスペース層302に接合できる 。このアッセンブリは比較的安価であり、かつ1度だけ使用する使い捨てモジュ ールに適する。 図3Aに示すように、レーザー光線は入力ウェーブガイドの入射エッジ内に角 度θ’でフォーカスすることが好ましく、角度θ’は入力ウェーブガイド及びス ペース層の間のインターフェースにおける全内反射のための臨界角より1度また は2度小さい。前記の角度を有するビームの入射はエバネッセント・テール(Ev anescent tail)内における内部伝搬された光線の割合を増大させ、これにより エバネッセント強度を増大する。 別の実施の形態では、一体成形されたサンプル・ウェル702,704,70 6(図7参照)を備えたIOWを提供する。各サンプル・ウェル702,704 ,706はマルチプル薄膜ウェーブガイド・チャネル104を有し得る。好まし い実施の形態では、ウェルを囲む壁700は基体光学材料からなるサブミクロン ・ クラッディング・フィルム(Submicron cladding film of the substrate optica lmaterial)をコンポジット・ウェーブガイド上に層状に重ね、さらには適切にマ スキングし、次いでクラッディングをSiONウェーブガイド層までエッチング することによって形成されている。これらの工程は特異的結合分子を不動化する 前に実施される。これによって形成されたサンプル・ウェルは物理的に境界が画 定された複数の領域を提供する。異なる複数の抗体を同複数の領域内にそれぞれ 不動化するか、または異なる複数の溶液(例:バックグラウンドまたはコントロ ール・サンプルvs.テスト・サンプル)を同複数の領域内にそれぞれ加え得る 。図示するボックス型リザーバに代えて、開放端を有する長手方向に延びるフロ ー・チャネルを形成すべく同一の技術を使用できる。更に、リザーバ壁材料をコ ンポジット・ウェーブガイド上に層状に重ねる代わりに、リザーバ壁またはフロ ー・チャネル壁を独立した頂板上に形成すべく同一の技術を使用できる。 現時点において、ウェーブガイド表面に対する特異的結合分子の不動化の化学 的作用に関連する2つの別の要因が感度に影響し得ると考えられる。これらの要 因としては、1)薄膜表面(任意のサンプル・ウェルの壁を含む)に対する非特 異的蛋白質結合の相対量と、2)不動化された結合分子の分析物/トレーサー結 合能力とが挙げられる。 好ましい実施の形態に基づくマルチチャネルIOWでは、IOW表面は複数の チャネル間におけるトレーサー信号の重大な重複を招来し得る非特異的結合を最 小限に抑制すべく処理されている。重複の問題は1つのIOWに含まれるチャネ ル数の増大にともなって急速に悪化する。この問題を6チャネル・ウェーブガイ ドを例として以下に詳述する。6チャネル・ウェーブガイドは対応する3つの分 離したウェル内に配置された互いに隣接する3つのチャネル・ペアに分割されて いる。そして、抗CK−MB(anti-CK-MB)が各ペアの一方のチャネルに対して 不動化されており、さらには抗CK−MM(anti-CK-MM)が各ペアの他方のチャ ネルに対して不動化されている。このように形成されたIOWは2つの異なる分 析物、即ちCK−MB及びCK−MMの結合の同時較正測定(Simultaneous calibrated measurement)を可能にする。しかし、非特異的結合の量が特異的結 合の量の約5%であると仮定した場合、抗CK―MBを共有結合により不動化さ せたチャネルは非特異的に吸着された抗CK−MMによって約5%汚染される。 逆に、抗CK−MMを不動化させたチャネルは非特異的に吸着された抗CK−M Bによって約5%汚染される。従って、この種の2分析物用IOW(2-analyte IOW)を使用した場合、2つのチャネル間に約10%のクロストークが存在し、 同クロストークはバックグラウンド・レベルを望ましくないレベルまで既に増大 させている。4分析物用IOW(4-analyte IOW)(12個のチャネルを有する )では、この種のクロストークの影響を受けたバックグラウンドは約30%増大 し得る。これは検出感度を大きく低減させる。分析物の種類の増大にともなって 問題も明らかに深刻になる。 このため、特異的結合分子をチャネルに対して共有結合で不動化する前に、非 特異的結合の量を特異的結合の量の1%以下に低減するコーティングで同チャネ ルを被覆することが望ましい。 分析物結合部位の総数を増加させる方法としては、分析物結合分子を部位特異 的に不動化することが挙げられる。F(ab')2等の抗原結合フラグメントの場 合、これはペンダント・マレイミド・グループ(Pendant maleimido group)を 有するベース・コーティングを提供することによって実現される。F(ab')2 フラグメントはC−ターミナル・エンドにフリー・チオール・グループを含むF ab'フラグメントを形成すべく還元される。そして、同チオール・グループは F(ab')2フラグメントをマレイミド・グループに対して共有結合すべく容易 に反応する。ペンダント・マレイミド・グループを有するコーティングが前記の 非特異的結合を阻害することが望ましい。例えば、米国特許出願第08/064 ,608号及び米国特許出願第08/263,522号に開示されているように 、これはシリカ親和性成分を介してウェーブガイド表面に付着した親水性重合体 残留物チェーンを含むベース・コーティングによって達成し得る。これら2つの 方法を実現するプロトコルは米国特許出願第08/064,608号及び米 国特許出願第08/263,522号と、1993年に発行されたSPIE 1 885 の28〜39頁に記載されているヘロン他による“平面ウェーブガイドを 使用する蛍光イムノセンサー”とに開示されている。不動化された分析物結合分 子の少なくとも70%が結合可能であることが好ましい。概論 核酸プローブは医学的診断に徐々に採用されてきており、将来的にはイムノア ッセイの重要性に等しいか、またはそれ以上の重要性を有し得る。エバネッセン ト・ウェーブ・センサは適切な感度を有する。このため、エバネッセント・ウェ ーブ・センサは分析物の予備増幅を要することなくDNAハイブリダイゼーショ ンを検出し得る。本発明では、イムノサンドイッチ・アッセイの核酸類自体を使 用する。より詳細には、対象物(分析物)のシーケンスに対して相補的なシーケ ンスを有するオリゴヌクレオチド・プライマー(捕獲オリゴタレオチド)をアミ ン反応性、チオール反応性または(ストレプト)アビジン−ビオチン結合ケミス トリ(amine-reactive,thiol-reactive or the(strep)avidin-biotin coupling chemistry)を使用することにより、ウェーブガイドに対して不動化する(19 93年に発行されたSPIE第1885刊(蛍光センシング技術における進歩) の28〜39頁に記載されているヘロン,ジェイ.エヌ.、コールドウェル,ケ イ.ディ.、クリステンセン,ディ.エイ.、ダイヤー,エス.、レディ,ヴィ .、ホワン,ピー.、ヤナトバ,ヴィ.、ウォン,エッチ.ケイ.及びウェイ, エイ.ピー.による“平面ウェーブガイドを使用する蛍光イムノセンサー”を参 照)。 次いで、Cy−5等の蛍光ラベルを分析物上のシーケンスに対して相補的なシ ーケンスを有する第2のオリゴヌクレオチド・プライマー(トレーサー)の一端 に対して結合させる。アッセイを実施すべく、分析物が二重鎖である場合には同 分析物を最初に加熱し(2つの鎖を分離するため)、次いで分析物をトレーサー ・オリゴヌクレオチドと混合する。この混合物をセンサ上に配置する。センサ上 において、分析物は捕獲分子とともにハイブリッドを形成する。そして、トレー サ ー・オリゴヌクレオチドをエバネッセント・フィールドに移動させる。エバネッ セント・フィールドにおいて、トレーサーは蛍光発光する。 核酸を検出するうえでの主な技術的障害は増幅工程(例:ポリメラーゼ・チェ ーン・リアクション)の削除にある。増幅工程は今日のアッセイにおいて核酸の 量を測定可能レベルまで増大すべく必要とされる。理論的には、エバネッセント ・ウェーブ・センサは増幅されていないDNAを測定するために必要な固有の感 度を有する。しかし、これを実現するためには多くの技術的障害が存在し、同障 害は(1)非常に低いレベルの非特異的結合(今日の技術より10〜100倍低 いレベル)を実現する不動化技術と、(2)フェムトグラムの量の核酸を損失を 伴うことなく適切な時間(5〜10分)内にセンサ表面に移動させる効果的な反 応物分配技術と、(3)ハイブリダイゼーション・アッセイに必要とされる二重 鎖分析物を単鎖形態にする効果的な変性技術とを開発することを含む。材料及び方法 ウェーブガイド 蛍光核酸ハイブリダイゼーション・アッセイを実施すべく平面ウェーブガイド を使用する。核酸プローブは以下に詳述するように溶融シリカ・ウェーブガイド (1.0x1.0x0.1cm、COグレード、ESCO)または射出成形され たポリスチレン・ウェーブガイド(1.0x1.0x0.05cm、HCPダイ アグノースティクス(HPC Diagnostics)、ソルトレイク・シティ)に対して不 動化する。核酸プローブ T3 RNAポリメラーゼの転写プロモーター・サイトを本実験におけるモデ ル・オリグヌクレオチド・シーケンスとして使用する。T3プロモーターは以下 のシーケンス、即ち5’AATTAACCCTCACTAAAGGG3’からな る20−merの大きさを有する。このオリゴヌクレオチドはユニバーシティ・ オブ・ユタの分子生物学サービス施設(Molecular biology service facility) によって合成され、かつ精製された。DNAハイブリダイゼーション・アッセイ に使用した際、このオリゴヌクレオチドはウェーブガイド上に不動化(以下に詳 述する方法を用いて)されるとともに、“捕獲”オリゴヌクレオチドとして使用 される。更に、同オリゴヌクレオチドはコンペティション・アッセイにおける可 溶性インヒビター(Soluble inhibitor)としても使用される。T3プロモータ のシーケンスに対して相補的なシーケンスを有する第2のオリゴヌクレオチド・ シーケンスは前記の分子生物学サービス施設において合成され、かつ蛍光標識を 付され、さらにはDNAハイブリダイゼーション・アッセイにおいて可溶性“ト レーサー”オリゴヌクレオチドとして使用される。このために、オリゴヌクレオ チドは3’末端に位置するターミナル・アミノ・グループとともに合成され、さ らにはレッド放射蛍光染料(red-emitting fluorescent dye)であるCy−5( モレキュラー・ディテクション・システムズ(Molecular Detection Systems) 、ピッツバーグ)でラベル付けされている。シリカ・ウェーブガイドに対するオリゴヌクレオチド・プローブの不動化 オリゴヌクレオチド・プローブはアビジン/ビオチン結合ケミストリ(Avidin /biotin coupling chemistry)を使用することによりシリカ・ウェーブガイドに 対して結合されている。一般的には、アビジンを静電相互作用(中性のpHにお いて、シリカは負に帯電しており、アビジンは正に帯電している)を介してウェ ーブガイドに対して不動化し、次いでビオチン化ヌクレオチドを不動化されたア ビジンに対して結合させる。ビオチン化オリゴヌクレオチドはビオチンアミドカ プロエートN―ヒドロキシサクシンイミドエステル(Biotinamidocaproate N-hy droxysuccinimide ester、以下、BCHSと称し、シグマより入手)を5’アミ ノ・グループを有する修飾オリゴヌクレオチドに対して結合することによって準 備した。BCHS誘導体は6つの炭素を有するスペーサをオリグヌクレオチドの 5’末端及びビオチン成分の間に配置すべく使用さ れる。スペーサは他のヌクレオチドとのハイブリダイセーションにおいて更に適 した柔軟性を提供する。より詳細には、20倍モル過剰量のBCHSを0.1M 炭酸ナトリウム/重炭酸ナトリウム緩衝液,pH9(略して、CBB)に含まれ るオリゴヌクレオチドの1mg/ミリリットル溶液に対して加える。この混合物 を室温で2時間反応させ、さらには反応生成物(ビオチン化オリゴヌクレオチド )をアセチルニトリル/H2Oグラジエント(Acetylnitrile/H2O gradient)を 使用する逆相FPLCクロマトグラフィ(ファーマシア(Pharmacia))で精製 する。アビジンは物理的吸着作用によりシリカ表面に不動化される。このために 、消浄なシリカ・サンプルを室温においてアビジン溶液(燐酸緩衝生理食塩水( PBS)pH7.4内に3x10-6M)中に3時間にわたって浸漬し、次いで吸 着されなかったアビジンを除去すべく同一の緩衝液で数回洗浄する。次いで、ア ビジンで被覆した表面をPBS中に含まれるビオチン化オリゴヌクレオチドの1 .5x10-7M溶液中に室温で1時間浸漬する。末結合のヌクレオチドをPBS 内で洗浄することによって除去する。幾つかのケースでは、ビオチン化オリゴヌ クレオチドの不動化後に、ビオチン化ポリ(エチレングリコール)(以下、ビオ チン−PEGと称する)を表面に結合させる。ビオチン−PEGはN−ヒドロキ シサクシンイミドビオチン(N-hydroxysuccinimidobiotin、以下、NHSBと称 する)をCBB内においてNH2−PEG−OCH3(5000MW、シグマ)と 2時間反応させ、次いでスペクトラ/ポー透析膜(Spectra/Por dialysis membr anes)(1000MWカットオフ)を使用した透析で精製することにより準備さ れる。シリカ表面(アビジン及びオリゴヌクレオチドで被覆されている)をビオ チン−PEGの溶液(5x10-8Mまたは1x10-7M)中に室温で1時間浸漬 する。未結合のビオチン−PEGはPBS内で洗浄することにより除去する。射出成形されたポリスチレン・ウェーブガイドに対するオリゴヌクレオチド・プ ローブの不動化 オリゴヌクレオチドをポリスチレン・ウェーブガイドに対して不動化すべく、 アビジンに代えてストレプトアビジンを使用した点を除いて同様のプロシージャ を使用する。アピジンは静電相互作用によりシリカ基体と強力に相互作用する。 しかし、同アビジンはポリスチレン表面(本質的に帯電していないうえ、疎水性 である)に対してシリカに対する吸着ほどに強力に吸着しない。これとは対照的 に、ストレプトアビジンはポリスチレン表面に対する吸着のために選択された蛋 白質である。ストレプトアビジンはアビジンと機能的に等しい(即ち、ストレプ トアビジンは4つのビオチン結合部位を有する)。その一方、ストレプトアビジ ンは中性のpHにおいて僅かなチャージを有し、さらにはビオチン結合能力を吸 着後に維持する。全内反射蛍光測定 全内反射蛍光(以下、TIRFと称する)分光学はウェーブガイド等の固体面 に結合した蛍光分子の濃度の測定に特に適する光学的技術である。水はシリカま たはポリスチレンより低い屈折率を有する。このため、ウェーブガイド内を伝搬 され、かつ同ウェーブガイドのエッジに達したビーム光線は同エッジへの入射角 度に基づいて水相内に屈折するか、またはウェーブガイド内に全内反射される。 後者のケースでは、エッジにおける入射ビーム及び反射ビームはウェーブガイド 内に定在波を形成すべく互いに干渉する。この波はウェーブガイドのエッジにお いて有限電界振幅(Finite electric field amplitude)を有する一方で、水相 内に移動した際、1000〜2000オングストロームの距離において指数関数 的に減衰する。この減衰する電界はエバネッセント・フィールドと称される。 エバネッセント・フィールドはウェーブガイド表面に比較的近い領域内に存在 するのみである。このため、エバネッセント・フィールドはウェーブガイド表曲 において発生する核酸ハイブリダイゼーション反応を検出すべく使用可能である 。ウェーブガイドは前記のようにオリゴヌクレオチドによって被覆され、さらに は米国特許出願第08/064,608号に開示されるフロー・セル内に取付け ら れる。Cy−5でラベル付けしたトレーサー・オリゴヌクレオチドの蛍光はHe −Neレーザー(メレス・グリオ(Melles Griot))の632.8nmの光線ま たは半導体レーザー(パワー・テクノロジー・インコーポレイテッド(Power Te chnology,Inc.))の633nmの光線によって励起される。レッド・ラインは シート・ビーム(約0.2x3cmの横断面を有する)に成形され、さらには円 筒カップリング・レンズを使用することによりウェーブガイドの2つのチャネル (サンプル及び基準)内にそれぞれ同時にカップリングされる。Cy−5の蛍光 エミッションは電荷結合素子(CCD)(フォトメトリクス・リミテッド・シリ ーズ200またはサンタ・バーバラ・インスツルメント・グループST6(Phot ometrics Ltd Series 200 or Santa Barbara Instrument Group ST6))に取付 けられた50mmのf/5.6カメラ・レンズ(ニコン製)を使用して集められ た。蛍光エミッションはシングル・グレーティング・モノクロメータ(スペッタ ス1681cミニメート2、f/3.9、溝数300/mm)または670nm バンドパス・インターフェアレンス・フィルタ(オメガ(Omega))を使用する ことによりレイリー散乱(Rayleigh Iight scattering)から弁別される。アッセイ DNAハイブリダイゼーションの検出における平面ウェーブガイド及びTIR Fの使用を2つの異なるアッセイで評価する。このうちの第1のアッセイ(アッ セイ1)は直接結合アッセイである。直接結合アッセイでは、DNA二重鎖の一 方の鎖(“不動鎖”と称する)をウェーブガイドに対して不動化し、他方の鎖(“ 可溶性鎖”と称する)を蛍光染料でラベル付けする。ウェーブガイド上における 二重鎖DNA分子の形成を蛍光ラベルを有する可溶性鎖の濃度の関数として監視 する。第2のアッセイ(アッセイ2)はアッセイ1で詳述した反応物と同一の反 応物を使用するコンペティション・アッセイである。しかし、このケースでは、 可溶性鎖のラベルを有する種及びラベルを有さない種の両方が存在する。より詳 細には、異なる複数の濃度のラベル無し可溶性鎖を固定された濃度のラベル付き 可 溶性鎖とそれぞれ混合し、各混合物をウェーブガイド上の不動鎖と反応させる。 二重鎖DNA分子の形成をTIRFを使用して監視する。表1は2つのアッセイ で使用する複数の反応物を示す。 アッセイは米国特許出願第08/064,608号に開示されている2チャネ ル・フロー・セルを使用して実施した。前記の反応物を含む“サンプル”溶液を 一方のチャネルに注入し、“基準”溶液を他方のチャネルに注入する(各アッセ イに使用するサンプル溶液及び基準溶液の詳細は表1を参照のこと)。基準溶液 は蛍光ラベルを付したオリゴヌクレオチド及びウェーブガイドの間の非特異的結 合の度合いを測定し、さらには実験中に発生するレーザー強度の変動を補正すべ く使用される。各測定はサンプル・チャネル及び基準チャネル内のPBS緩衝液 のベースライン蛍光をそれぞれ集めることから始められる。最も薄い分析物溶液 から分析を始めることとして、表1に示す1ミリリットルのサンプル溶液及び基 準溶液をそれぞれフローセル内に注入する。2つの溶液をウェーブガイド表面で 5分間インキュベートし、さらには両チャネルの10秒蛍光イメージ(10 sec f luorescence images)を集める。このプロセスは最も濃い溶液のアッセイが終了 するまで数回繰り返される。全てのCCDイメージはサンプル・チャネル及び基 準チャネルの体積を満たす蛍光分析物による洗浄工程を実施することなく集めら れる。これらのデータから基準の強度に対するサンプルの強度の比をそれぞれ算 出し、さらには同比を分析物バルク濃度の関数としてプロットすることにより、 結合曲線を形成する。この種の放射測定は3つの影響、即ちトレーサーの非特異 的結合と、ウェーブガイド表面から散乱した光線によるバルク蛍光の励起と、レ ーザー強度の変動とを補償する。 コンポジット・ウェーブガイドの詳細を本発明の概念及び範囲から逸脱するこ となく変更し得る。請求の範囲は本明細書中に開示する本発明の範囲を定義する 。
【手続補正書】特許法第184条の8第1項 【提出日】1997年4月28日 【補正内容】 請求の範囲 1.特異的結合アッセイを実施するためのキットであって、 平面基体を備えたステップ・グラディエント・ウェーブガイドと、前記平面基 体は屈折率n1を備えた第1の光学材料から形成され、かつ表面を有し、前記表 面は屈折率n1より大きい屈折率n2を備えた第2の光学材料から形成されたウェ ーブガイド膜に隣接して配置され、かつ同ウェーブガイド膜に当接していること と、 前記ウェーブガイド膜に対して不動化され、かつ分析物に対して特異的に結合 すべく形成された少なくとも1つの特異的結合分子と を含むバイオセンサを有するキット。 2.前記第2の光学材料は屈折率n2を備えたシリコン・オキシナイトライドと 、堆積二酸化珪素とからなるグループから選択され、前記第1の光学材料は堆積 二酸化珪素と、石英または溶融シリカと、屈折率n1を備えたシリコン・オキシ ナイトライドと、フッ化マグネシウムとからなるグループから選択された請求項 1に記載のキット。 3.前記ウェーブガイド膜は前記平面基体の表面に沿って互いに平行、かつ離間 して延びる第2の光学材料からなる複数のストリップとして形成されるとともに 、複数のウェーブガイド・チャネルを含み、さらにはウェーブガイド膜に対して 不動化された特異的結合分子の複数の異なる種を有し、前記複数のウェーブガイ ド・チャネルは同ウェーブガイド・チャネルに対して不動化された互いに異なる 種をそれぞれ有する請求項2に記載のキット。 4.前記平面基体表面は同表面上に形成されたグレーティングを有し、前記グレ ーティングは入射励起ビームからの光線をウェーブガイド膜内にカップリングす ることを促進すべく形成されている請求項2に記載のキット。 5.前記ウェーブガイド膜は前記分析物の特異的結合の総量の約10%より低い 非特異的蛋白質結合のレベルを提供するコーティングによって被覆され、前記コ ーティングはポリメタクリロイル・ポリマー、ポリエチレングリコール及びアビ ジンからなるグループから選択され、前記捕獲分子は前記コーティングに対する 結合によってウェーブガイド膜に対して不動化されている請求項1に記載のキッ ト。 6.前記ステップ・グラディエント・ウェーブガイドは、 表面を有する第1の光学材料からなる片を提供する工程と、 前記ウェーブガイド膜層を形成すべく第2の光学材料を前記表面上に約0.1 〜10μmの厚さまで蒸着する工程と、 前記ウェーブガイド膜層の少なくとも1つの領域をレジスト化合物で被覆する 工程と、前記レジスト化合物は被覆領域及び非被覆領域を形成すべくエッチャン トに抵抗することと、 ウェーブガイド膜を形成すべく前記第2の光学材料を非被覆領域から除去する ためにエッチャントで前記ウェーブガイド膜層をエッチングする工程と を含む製造方法によって形成されている請求項1に記載のキット。 7.前記第2の光学材料は屈折率n2を備えたシリコン・オキシナイトライドと 、二酸化珪素とからなるグループから選択され、前記第1の光学材料は堆積二酸 化珪素と、石英または溶融シリカと、屈折率n1を備えたシリコン・オキシナイ トライドと、フッ化マグネシウムとからなるグループから選択された請求項6に 記載のキット。 8.前記少なくとも1つの領域をレジスト化合物で被覆する工程は、前記表面に 沿って互いに平行に延びる複数のストリップを前記レジスト化合物で被覆し、こ れにより複数のウェーブガイド・チャネルを形成する工程を含み、前記特異的結 合分子の異なる複数の種がウェーブガイド膜に対して不動化されており、前記複 数のウェーブガイド・チャネルは同ウェーブガイド・チャネルに対して不動化さ れた互いに異なる種をそれぞれ有する請求項6に記載のキット。 9.前記製造方法はウェーブガイド膜層を堆積させる工程を実施する前に、互い に離間した複数の溝を前記第1の光学材料の表面にエッチングする工程をさらに 含み、前記互いに離間した複数の溝は前記複数のウェーブガイド・チャネルに対 してほぼ直交する方向に延び、前記互いに離間した複数の溝の間隔はグレーティ ングとして機能し、前記グレーティングは入射励起ビームからの光線をウェーブ ガイド膜内へ効果的にカップリングすることを促進する請求項8に記載のキット 10.前記第2の光学材料はほぼSi23Nの元素比を有するシリコン・オキシ ナイトライドである請求項1に記載のキット。 11.前記ステップ・グラディエント・ウェーブガイドはウェーブガイド膜に当 接して配置されたウェーブガイド・カプラを有し、前記ウェーブガイド・カプラ は、 屈折率n3を備えた光学材料から形成され、かつ約0.5〜5mmの厚さを有 する入力ウェーブガイドと、 前記屈折率n3より小さく、かつ屈折率n2より小さい屈折率n4を備えた光学 材料から形成されたスペース層と、前記スペース層は入力ウェーブガイドからの 光線をウェーブガイド膜内にエバネッセント・カップリングすることを最適化す べく選択された厚さを有すること を含む請求項1に記載のキット。 12.エバネッセント・イムノ蛍光アッセイを実施する装置であって、 コンポジット・ウェーブガイドと、前記コンポジット・ウェーブガイドは、 屈折率n1を備えた第1の光学材料から形成された基体と、前記基体は所定 の厚さによって互いに分離された2つの平行な平面及び周囲を囲むエッジを有し 、前記所定の厚さは約1μm〜10mmであることと、 前記2つの平面の少なくとも一部の上に直接堆積されたウェーブガイド膜と 、前記ウェーブガイド膜は前記屈折率n1より大きい屈折率n2を備えた第2の光 学材料から形成され、かつ約0.1〜10μmの厚さを有し、前記ウェーブガイ ドは同ウェーブガイド膜に対して不動化された複数の特異的結合分子を有するこ と を含むことと、 前記コンポジット・ウェーブガイド内における全内反射による伝搬を実現すべ くビームを同コンポジット・ウェーブガイド内に案内するために動作可能に配置 された光源と、 前記コンポジット・ウェーブガイド内への光線ビームのカップリングを促進す べく同コンポジット・ウェーブガイドに動作可能に付随する光線カップリング手 段と、 前記平行な2つの平面から離間した平面上に入射する光線を集めるべく位置決 めされた集光手段と、 前記集められた光線を検出すべく前記集光手段に対して動作可能に位置決めさ れた検出器と を有する装置。 13.前記第1の光学材料及び第2の光学材料は堆積二酸化珪素/シリコン・オ キシナイトライドと、石英または溶融シリカ/シリコン・オキシナイトライドと 、屈折率n1を備えたシリコン・オキシナイトライド/屈折率n2を備えたシリコ ン・オキシナイトライドと、フッ化マグネシウム/堆積二酸化珪素とからなる対 をなす組合わせのグループからそれぞれ選択された請求項12に記載の装置。 14.前記光線カップリング手段はウェーブガイド膜に当接して配置されたウェ ーブガイド・カプラであり、さらには、 屈折率n3を備えた光学材料から形成された約0.5〜5mmの厚さを有する 入力ウェーブガイドと、 前記屈折率n2より小さく、かつ屈折率n3より小さい屈折率n4を備えた光学 材料から形成されたスペース層と、前記スペース層は入力ウェーブガイドからの 光線をウェーブガイド膜内へエバネッセント・カップリングすることを最適化す べく選択された厚さを有すること を含む請求項12に記載の装置。 15.前記ウェーブガイド膜は空気中において約1dB/センチメートルより低 い伝搬損を有するように形成されている請求項13に記載の装置。 16.光学ユニットとともに特異的結合アッセイを実施するための光学構造体で あって、前記光学ユニットがウェーブガイド内における全内反射による伝搬を実 現すべく、光線をウェーブガイド内に案内するために位置決めされた光源と、光 学構造体に隣接する領域からの光線を検出すべく配向された検出器とを含む光学 構造体において、 屈折率n1を備えた第1の光学材料を含む基体と、前記基体は所定の厚さによ って互いに分離された2つの平行な平面及び周囲を囲むエッジを有し、前記所定 の厚さは約0.3μm〜10mmであることと、 前記基体の平行な2つの平面のうちの一方の少なくとも一部に対して当接する 屈折率n1より大きい屈折率n2を備えた第2の光学材料から形成されたウェーブ ガイド膜と、前記ウェーブガイド膜は約0.3〜5μmの厚さを有し、さらに前 記ウェーブガイド膜は同ウェーブガイド膜に対して不動化された複数の特異的 結合分子を有することと、 光線をウェーブガイド膜内にカップリングすべく同ウェーブガイド膜に完全に に当接するカップリング手段と を備えた光学構造体。 17.前記第2の光学材料は屈折率n2を備えたシリコン・オキシナイトライド と、二酸化珪素とからなるグループから選択され、前記第1の光学材料は純粋な 二酸化珪素と、石英または溶融シリカと、屈折率n1を備えたシリコン・オキシ ナイトライドと、フッ化マグネシウムとからなるグループから選択された請求項 16に記載の光学構造体。 18.前記カップリング手段は前記第1の材料から形成された光学グレーティン グと、前記第2の材料から形成された光学グレーティングと、ウェーブガイド膜 上に完全に取付けられたウェーブガイド・カプラとからるグループから選択され 、前記ウェーブガイド・カプラは、 入力ウェーブガイドと、前記入力ウェーブガイドはエッジを通じて光線を入射 され、さらには入射した光線を全内反射によって伝搬すべく形成されていること と、 前記入力ウェーブガイド及びウェーブガイド膜の間に配置されたスペース層と 、前記スペース層は入力ウェーブガイドからの光線をウェーブガイド膜内にエバ ネッセント・カップリングすることを最適化すべく選択された厚さを有すること を含む請求項17に記載の光学構造体。 19.前記第1の光学材料は石英、溶融シリカまたは堆積SiO2であり、前記 カップリング手段はウェーブガイド・カプラであり、前記入力ウェーブガイドは ルチル、ジルコニア及びハイインデックス・ガラスからなるグループから選択さ れた光学材料から形成され、前記スペース層は二酸化珪素から形成され、かつ約 0.1〜5μmの厚さを有する請求項18に記載の光学構造体。 20.前記ウェーブガイド膜は第2の光学材料からなる複数のストリップとして 形成され、前記複数のストリップは互いに離間した平行なアレイの形態で前記平 行な2つの平面のうちの一方に対して付着されている請求項16に記載の光学構 造体。 21.表面に形成された複数のサンプル・ウェルを有し、前記複数のサンプル・ ウェルは、 屈折率n1を備えた外層をエピタキシャル成長によって前記ウェーブガイド膜 上に堆積させる工程と、 前記サンプル・ウェルを画定する複数のアウトラインに対してレジスト化合物 を加え、この際、被覆されていないアウトラインを有する領域と、被覆されてい ないアウトラインを有さない領域とを残す工程と、 前記非被覆領域内のウェーブガイド膜を露出すべくエッチングにより外層を除 去する工程と によって形成された請求項16に記載の光学構造体。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG ,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN, TD,TG),AP(KE,LS,MW,SD,SZ,U G),AL,AM,AT,AU,AZ,BB,BG,B R,BY,CA,CH,CN,CZ,DE,DK,EE ,ES,FI,GB,GE,HU,IS,JP,KE, KG,KP,KR,KZ,LK,LR,LS,LT,L U,LV,MD,MG,MK,MN,MW,MX,NO ,NZ,PL,PT,RO,RU,SD,SE,SG, SI,SK,TJ,TM,TR,TT,UA,UG,U Z,VN (72)発明者 ヘロン、ジェイムス エヌ. アメリカ合衆国 84109 ユタ州 ソルト レイクシティー エス.プラトウ ドライ ブ 2965 (72)発明者 ウォン、ス−クン アメリカ合衆国 84102 ユタ州 ソルト レイクシティー エリザベス ストリート ナンバー2 73 (72)発明者 クリステンセン、ダグラス エー. アメリカ合衆国 84121 ユタ州 ソルト レイクシティー トップ オブ ザ ワー ルド サークル 8520

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.光線を光学基体内に案内すべく位置決めされた光源と、ウェーブガイドに隣 接する領域からの光線を検出すべく配向された検出手段とを含む光学ユニットと ともに特異的結合アッセイを実施するためのキットであって、 基体を備えたステップ・グラディエント・ウェーブガイドと、前記基体は屈折 率n1を備えた第1の光学材料から形成され、かつ表面を有し、前記表面は屈折 率n1より大きい屈折率n2を備えた第2の光学材料から形成されたウェーブガイ ド膜に隣接して配置され、かつ同ウェーブガイド膜に当接していることと、 前記ウェーブガイド膜に対して不動化され、かつ分析物に対して特異的に結合 すべく形成された少なくとも1つの特異的結合分子と を含むバイオセンサを有するキット 2.前記第2の光学材料は屈折率n2を備えたシリコン・オキシナイトライドと 、堆積二酸化珪素とからなるグループから選択され、前記第1の光学材料は堆積 二酸化珪素と、石英または溶融シリカと、屈折率n1を備えたシリコン・オキシ ナイトライドと、フッ化マグネシウムとからなるグループから選択された請求項 1に記載のキット。 3.前記ウェーブガイド膜は前記表面に沿って長手方向に互いに平行、かつ離間 して延びる第2の光学材料からなる複数のストリップとして形成されるとともに 、複数のウェーブガイド・チャネルを含み、さらにはウェーブガイド膜に対して 不動化された特異的結合分子の複数の異なる種を有し、前記複数のウェーブガイ ド・チャネルは同ウェーブガイド・チャネルに対して不動化された互いに異なる 種をそれぞれ有する請求項2に記載のキット。 4.前記基体表面は同表面上に形成されたグレーティングを有し、前記グレーテ ィングは入射励起ビームからの光線をウェーブガイド膜内にカップリングするこ とを促進すべく形成されている請求項2に記載のキット。 5.前記ウェーブガイド膜は前記分析物の特異的結合の総量の約10%より低い 非特異的蛋白質結合のレベルを提供するコーティングによって被覆され、前記コ ーティングはポリメタクリロイル・ポリマー、ポリエチレングリコール及びアビ ジンからなるグループから選択され、前記捕獲分子は前記コーティングに対する 結合によってウェーブガイド膜に対して不動化されている請求項1に記載のキッ ト。 6.前記ウェーブガイドは、 表面を有する第1の光学材料からなる片を提供する工程と、 前記ウェーブガイド膜を形成すべく第2の光学材料を前記表面上に約0.1〜 10μmの厚さまで蒸着する工程と、 前記ウェーブガイド層の少なくとも1つの領域をレジスト化合物で被覆する工 程と、前記レジスト化合物は被覆領域及び非被覆領域を形成すべくエッチャント に抵抗することと、 前記第2の光学材料を非被覆領域から除去すべくエッチャントで前記ウェーブ ガイド層をエッチングする工程と によって形成された請求項1に記載のキット。 7.前記第2の光学材料は屈折率n2を備えたシリコン・オキシナイトライドと 、二酸化珪素とからなるグループから選択され、前記第1の光学材料は堆積二酸 化珪素と、石英または溶融シリカと、屈折率n1を備えたシリコン・オキシナイ トライドと、フッ化マグネシウムとからなるグループから選択された請求項6に 記載のキット。 8.前記少なくとも1つの領域をレジストで被覆する工程は、前記表面に沿って 長手方向に互いに平行に延びる複数のストリップを前記レジストで被覆し、これ により複数のウェーブガイド・チャネルを形成する工程を含み、前記特異的結合 分子の異なる複数の種かウェーブガイド膜に対して不動化されており、前記複数 のウェーブガイド・チャネルは同ウェーブガイド・チャネルに対して不動化され た互いに異なる種をそれぞれ有する請求項6に記載のキット。 9.前記ウェーブガイド層を堆積させる工程を実施する前に、互いに離間した複 数の溝を基体の表面にエッチングする工程をさらに含み、前記複数の溝はウェー ブガイド・チャネルに対してほぼ直交する方向に延び、前記複数の溝の間隔はグ レーティングとして機能すべく選択され、前記グレーティングは入射励起ビーム からの光線をセンサ・ストリップ内へ効果的にカップリングすることを促進する 請求項8に記載のキット。 10.前記第2の光学材料はほぼSi23Nの元素比を有するシリコン・オキシ ナイトライドである請求項1に記載のキット。 11.前記ステップ・グラディエント・ウェーブガイドはウェーブガイド膜に当 接して配置されたウェーブガイド・カプラを有し、前記ウェーブガイド・カプラ は、 屈折率n3を備えた光学材料から形成され、かつ約0.5〜5mmの厚さを有 する入力ウェーブガイドと、 前記屈折率n3より小さく、かつ屈折率n2より小さい屈折率n4を備えた光学 材料から形成されたスペース層と、前記スペース層は入力ウェーブガイドからの 光線をウェーブガイド膜内にエバネッセント・カップリングすることを最適化す べく選択された厚さを有すること を含む請求項1に記載のキット。 12.エバネッセント・イムノ蛍光アッセイを実施する装置であって、 コンポジット・ウェーブガイドと、前記コンポジット・ウェーブガイドは、 屈折率n1を備えた第1の光学材料から形成された基体と、前記基体は所定 の厚さによって互いに分離された2つの平行な平面及び周囲を囲むエッジを有し 、前記所定の厚さは約1μm〜10mmであることと、 前記屈折率n1より大きい屈折率n2を備えた第2の光学材料から形成され、 かつ約0.1〜10μmの厚さを有するウェーブガイド膜と を有することと、 前記コンポジット・ウェーブガイド内における全内反射による伝搬を実現すべ くビームを同コンポジット・ウェーブガイド内に案内するために動作可能に配置 された光源と、 前記コンポジット・ウェーブガイド内への光線ビームのカップリングを促進す べく同コンポジット・ウェーブガイドに動作可能に付随する光線カップリング手 段と、 前記平面から離間した平面上に入射する光線を集めるべく位置決めされた集光 手段と、 前記集められた光線を検出すべく前記集光手段に対して動作可能に位置決めさ れた検出手段と を有する装置。 13.前記第1の光学材料及び第2の光学材料は堆積二酸化珪素/シリコン・オ キシナイトライドと、石英または溶融シリカ/シリコン・オキシナイトライドと 、屈折率n1を備えたシリコン・オキシナイトライド/屈折率n2を備えたシリコ ン・オキシナイトライドと、フッ化マグネシウム/堆積二酸化珪素とからなる対 をなす組合わせのグループからそれぞれ選択された請求項12に記載の装置。 14.前記光線カップリング手段はウェーブガイド膜に当接して配置されたウェ ーブガイド・カプラであり、さらには、 屈折率n3を備えた光学材料から形成された約0.5〜5mmの厚さを有する 入力ウェーブガイドと、 前記屈折率n2より小さく、かつ屈折率n3より小さい屈折率n4を備えた光学 材料から形成されたスペース層と、前記スペース層は入力ウェーブガイドからの 光線をウェーブガイド膜内へエバネッセント・カップリングすることを最適化す べく選択された厚さを有すること を含む請求項12に記載の装置。 15.前記ウェーブガイド膜は空気中において約1dB/センチメートルより低 い伝搬損を有するように形成されている請求項13に記載の装置。 16.光学ユニットとともに特異的結合アッセイを実施するための光学構造体で あって、前記光学ユニットがウェーブガイド内における全内反射による伝搬を実 現すべく、光線をウェーブガイド内に案内するために位置決めされた光源と、光 学構造体に隣接する領域からの光線を検出すべく配向された検出手段とを含む光 学構造体において、 屈折率n1を備えた第1の光学材料を含む基体と、前記基体は所定の厚さによ って互いに分離された2つの平行な平面及び周囲を囲むエッジを有し、前記所定 の厚さは約0.3μm〜10mmであることと、 前記複数の平面のうちの1つの少なくとも一部に対して動作可能に当接する屈 折率n2を備えた第2の光学材料から形成されたウェーブガイド膜と、前記ウェ ーブガイド膜は約0.3〜5μmの厚さを有することと、 光線をウェーブガイド膜内にカップリングすべく同ウェーブガイド膜に完全に に当接するカップリング手段と を備えた光学構造体。 17.前記第2の光学材料は屈折率n2を備えたシリコン・オキシナイトライド と、二酸化珪素とからなるグループから選択され、前記第1の光学材料は純粋な 二酸化珪素と、石英または溶融シリカと、屈折率n1を備えたシリコン・オキシ ナイトライドと、フッ化マグネシウムとからなるグループから選択された請求項 16に記載の光学構造体。 18.前記カップリング手段は前記第1の材料から形成された光学グレーティン グと、前記第2の材料から形成された光学グレーティングと、ウェーブガイド膜 上に完全に取付けられたウェーブガイド・カプラとからるグループから選択され 、前記ウェーブガイド・カプラは、 入力ウェーブガイドと、前記入力ウェーブガイドはエッジを通じて光線を入射 され、さらには入射した光線を全内反射によって伝搬すべく形成されていること と、 前記入力ウェーブガイド及びウェーブガイド膜の間に配置されたスペース層と 、前記スペース層は入力ウェーブガイドからの光線をウェーブガイド膜内にエバ ネッセント・カップリングすることを最適化すべく選択された厚さを有すること を含む請求項17に記載の光学構造体。 19.前記第1の光学材料は石英、溶融シリカまたは堆積SiO2であり、前記 カップリング手段はウェーブガイド・カプラであり、前記入力ウェーブガイドは ルチル、ジルコニア及びハイインデックス・ガラスからなるグループから選択さ れた光学材料から形成され、前記スペース層は二酸化珪素から形成され、かつ約 0.1〜5μmの厚さを有する請求項16に記載の光学構造体。 20.前記ウェーブガイド膜は第2の光学材料からなる複数のストリップとして 形成され、前記複数のストリップは互いに離間した平行なアレイの形態で前記複 数の平面のうちの1つに対して付着されている請求項16に記載の光学構造体。 21.表面に形成された複数のサンプル・ウェルを有し、前記複数のサンプル・ ウェルは、 屈折率n1を備えた外層をエピタキシャル成長によって前記ウェーブガイド膜 上に堆積させる工程と、 前記サンプル・ウェルを画定する複数のアウトラインに対してレジスト化合物 を加え、この際、被覆されていないアウトラインを有する領域と、被覆されてい ないアウトラインを有さない領域とを残す工程と、 前記非被覆領域内のウェーブガイド膜を露出すべくエッチングにより外層を除 去する工程と によって形成された請求項16に記載の光学構造体。 22.光学ユニットとともに特異的結合アッセイを実施するためのウェーブガイ ド・バイオセンサを形成する方法であって、前記光学ユニットが前記光学構造体 内における全内反射による伝搬を実現すべく、光線を前記光学構造体内に案内す るために位置決めされた光源と、前記光学構造体に隣接する領域からの光線を検 出すべく配向された検出手段とを含む方法において、 屈折率n1を備えた第1の光学材料を含む基体を提供する工程と、前記基体は 所定の厚さによって互いに分離された2つの平行な平面及び周囲を囲むエッジを 有することと、 前記屈折率n1より大きい屈折率n2を備えた第2の光学材料から形成されたウ ェーブガイド層を前記複数の平面のうちの1つの上に堆積させる工程と、前記ウ ェーブガイド層は約0.1〜10μmの厚さを有することと、 前記ウェーブガイド層の少なくとも1つの領域をレジスト化合物で被覆する工 程と、前記レジスト化合物は被覆領域及び非被覆領域を形成すべくエッチャント に抵抗することと、 前記第2の材料を非被覆領域から除去すべくエッチャントで前記ウェーブガイ ド層をエッチングする工程と、 前記被覆領域を露出すべく、レジスト化合物をエッチングされたウェーブガイ ドから除去する工程と、 複数の捕獲分子を前記露出した被覆領域に対して不動化する工程と、前記捕獲 分子は選択された分析物分子に対して特異的に結合すべく形成されていること を含む方法。 23.前記露出した被覆領域を前記分析物の特異的結合の総量の約10%より低 い非特異的蛋白質結合のレベルを提供するコーティングによって被覆する工程を 有し、前記コーティングはポリメタクリロイル・ポリマー、ポリエチレングリコ ール及びアビジンからなるグループから選択され、前記捕獲分子を不動化する工 程において、前記捕獲分子は前記コーティングに対して結合される請求項22に 記載の方法。 24.前記第2の光学材料は屈折率n2を備えたシリコン・オキシナイトライド と、堆積二酸化珪素とからなるグループから選択され、前記第1の光学材料は堆 積二酸化珪素と、石英または溶融シリカと、屈折率n1を備えたシリコン・オキ シナイトライドと、フッ化マグネシウムとからなるグループから選択された請求 項23に記載の方法。
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