JPH1142842A - レーザー彫刻用ゴム印材、これを用いるゴム印及びゴム印の製造方法 - Google Patents
レーザー彫刻用ゴム印材、これを用いるゴム印及びゴム印の製造方法Info
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- JPH1142842A JPH1142842A JP20304597A JP20304597A JPH1142842A JP H1142842 A JPH1142842 A JP H1142842A JP 20304597 A JP20304597 A JP 20304597A JP 20304597 A JP20304597 A JP 20304597A JP H1142842 A JPH1142842 A JP H1142842A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 パターンのエッジのシャープ性に富むととも
に、インクの浸透性に優れるレーザー彫刻用ゴム印材こ
れを用いるゴム印及びゴム印の製造方法を提供するこ
と。 【解決手段】 基材ゴムに炭酸カルシウムが配合された
ゴム組成物を加硫して、ゴム印材を得る。このゴム組成
物は、基材ゴム１００グラムに対して配合される炭酸カ
ルシウム量がＢＥＴ総表面積で４０平方メートル以上の
ものである。従って、このゴム印材の表面をレーザー光
で彫刻して得られるゴム印は、パターンのエッジのシャ
ープ性に優れるものである。ゴム組成物には、炭酸カル
シウムの配合量に応じた無機塩類が配合され、連続気泡
のボリュームが維持される。この結果、ゴム印のインク
浸透性が維持される。
に、インクの浸透性に優れるレーザー彫刻用ゴム印材こ
れを用いるゴム印及びゴム印の製造方法を提供するこ
と。 【解決手段】 基材ゴムに炭酸カルシウムが配合された
ゴム組成物を加硫して、ゴム印材を得る。このゴム組成
物は、基材ゴム１００グラムに対して配合される炭酸カ
ルシウム量がＢＥＴ総表面積で４０平方メートル以上の
ものである。従って、このゴム印材の表面をレーザー光
で彫刻して得られるゴム印は、パターンのエッジのシャ
ープ性に優れるものである。ゴム組成物には、炭酸カル
シウムの配合量に応じた無機塩類が配合され、連続気泡
のボリュームが維持される。この結果、ゴム印のインク
浸透性が維持される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ゴム印材、これを
用いるゴム印及びゴム印の製造方法に関し、特にレーザ
ー光による彫刻に適したゴム印材、これを用いるゴム印
及びゴム印の製造方法に関するものである。
用いるゴム印及びゴム印の製造方法に関し、特にレーザ
ー光による彫刻に適したゴム印材、これを用いるゴム印
及びゴム印の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】氏名印、社名印、住所印、無端ベルトを
用いた日付印、自動発券機に用いられる印字ローラ等に
適したゴム印材として、連続気泡を備えたゴム印材が用
いられている。このゴム印材は、連続気泡を備えている
ためインクの浸透が可能であり、従って連続印字が可能
とされている。
用いた日付印、自動発券機に用いられる印字ローラ等に
適したゴム印材として、連続気泡を備えたゴム印材が用
いられている。このゴム印材は、連続気泡を備えている
ためインクの浸透が可能であり、従って連続印字が可能
とされている。
【０００３】ところで、ゴム印の製造方法として、母型
からパターンを反転させる方法が知られている。この方
法では、まずエッチング等によりパターンニングされた
マスター（雄型）が作成され、このマスターのパターン
を反転させた母型（雌型）が作成され、さらにこの母型
にゴム材料を置いて加圧・加熱して加硫することによ
り、母型のパターンが反転されたゴム印が製造される。
この製造方法では、マスター及び母型を作成する必要が
あり、ゴム印の生産効率が悪く、材料費がかさんでしま
うこととなる。
からパターンを反転させる方法が知られている。この方
法では、まずエッチング等によりパターンニングされた
マスター（雄型）が作成され、このマスターのパターン
を反転させた母型（雌型）が作成され、さらにこの母型
にゴム材料を置いて加圧・加熱して加硫することによ
り、母型のパターンが反転されたゴム印が製造される。
この製造方法では、マスター及び母型を作成する必要が
あり、ゴム印の生産効率が悪く、材料費がかさんでしま
うこととなる。
【０００４】これを改善したゴム印の製造方法として、
レーザー彫刻法が知られている（例えば特開平５−５８
０１５号公報等参照）。この方法では、加硫ゴム板の印
字面にコンピュータ制御されたレーザー光を照射し、ゴ
ム材料を焼き散らしてパターンが彫刻される。従ってマ
スター及び母型を作成する必要がなく、ゴム印の生産効
率を高めることができる。
レーザー彫刻法が知られている（例えば特開平５−５８
０１５号公報等参照）。この方法では、加硫ゴム板の印
字面にコンピュータ制御されたレーザー光を照射し、ゴ
ム材料を焼き散らしてパターンが彫刻される。従ってマ
スター及び母型を作成する必要がなく、ゴム印の生産効
率を高めることができる。
【０００５】しかし、レーザー彫刻されたゴム印のパタ
ーンはエッジのシャープ性に欠けるので、このゴム印を
用いて得られる印形が変形してしまうという問題があ
る。また、レーザー光により焼き散らされたゴム材料が
刻印面に付着する等の理由により前述の連続気泡が塞が
れてしまい、インクの浸透性（又はインクの吸収性）が
低下して連続印字に不向きとなってしまうという問題が
ある。
ーンはエッジのシャープ性に欠けるので、このゴム印を
用いて得られる印形が変形してしまうという問題があ
る。また、レーザー光により焼き散らされたゴム材料が
刻印面に付着する等の理由により前述の連続気泡が塞が
れてしまい、インクの浸透性（又はインクの吸収性）が
低下して連続印字に不向きとなってしまうという問題が
ある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前述の問題に
鑑みてなされたものであり、パターンのエッジのシャー
プ性に富み、インクの浸透性に優れるレーザー彫刻用ゴ
ム印材これを用いるゴム印及びゴム印の製造方法を提供
することをその目的とする。
鑑みてなされたものであり、パターンのエッジのシャー
プ性に富み、インクの浸透性に優れるレーザー彫刻用ゴ
ム印材これを用いるゴム印及びゴム印の製造方法を提供
することをその目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記した問題を解決する
ためなされた発明は、基材ゴムに炭酸カルシウムが配合
されており、その基材ゴム１００グラムに対して配合さ
れる炭酸カルシウムの量がＢＥＴ総表面積で４０平方メ
ートル以上であるゴム組成物を用いた、レーザー彫刻用
ゴム印材、である（請求項１）。
ためなされた発明は、基材ゴムに炭酸カルシウムが配合
されており、その基材ゴム１００グラムに対して配合さ
れる炭酸カルシウムの量がＢＥＴ総表面積で４０平方メ
ートル以上であるゴム組成物を用いた、レーザー彫刻用
ゴム印材、である（請求項１）。
【０００８】この発明によれば、基材ゴム１００グラム
に対して、ＢＥＴ総表面積が４０平方メートル以上とな
る量の炭酸カルシウムが配合されているため、このゴム
印材を用いたゴム印はパターンのエッジのシャープ性に
優れ、またインク浸透性にも優れるものである。ここで
ＢＥＴ総表面積（ｍ2）とは、配合される炭酸カルシウ
ムのＢＥＴ比表面積（ｍ2／ｇ）と炭酸カルシウムの配
合量（ｇ）との積である。なお、以下、本明細書では基
材ゴム１００グラムに対して配合される炭酸カルシウム
のＢＥＴ総表面積のことを「単位ＢＥＴ表面積」とも称
する。
に対して、ＢＥＴ総表面積が４０平方メートル以上とな
る量の炭酸カルシウムが配合されているため、このゴム
印材を用いたゴム印はパターンのエッジのシャープ性に
優れ、またインク浸透性にも優れるものである。ここで
ＢＥＴ総表面積（ｍ2）とは、配合される炭酸カルシウ
ムのＢＥＴ比表面積（ｍ2／ｇ）と炭酸カルシウムの配
合量（ｇ）との積である。なお、以下、本明細書では基
材ゴム１００グラムに対して配合される炭酸カルシウム
のＢＥＴ総表面積のことを「単位ＢＥＴ表面積」とも称
する。
【０００９】炭酸カルシウムの配合量を多くして単位Ｂ
ＥＴ表面積を高めればエッジをよりシャープにすること
ができるが、過剰の炭酸カルシウムの配合はかえってイ
ンクの浸透性を低下させてしまうおそれがある。これを
防ぐには、下記数式（１）を具備するように炭酸カルシ
ウムと無機塩類とを配合し、このゴム組成物を加硫した
後に無機塩類を抽出して、ゴム印材の連続気泡を形成す
ればよい（請求項２）。
ＥＴ表面積を高めればエッジをよりシャープにすること
ができるが、過剰の炭酸カルシウムの配合はかえってイ
ンクの浸透性を低下させてしまうおそれがある。これを
防ぐには、下記数式（１）を具備するように炭酸カルシ
ウムと無機塩類とを配合し、このゴム組成物を加硫した
後に無機塩類を抽出して、ゴム印材の連続気泡を形成す
ればよい（請求項２）。
【００１０】
【数２】
【００１１】（但し、数式（１）中のＹは基材ゴム１０
０グラムに対して配合される無機塩類の量であり、Ｘは
基材ゴム１００グラムに対して配合される炭酸カルシウ
ムのＢＥＴ総表面積である。） このようにして得られたゴム印材の印字面にレーザー光
を照射することにより、パターンのエッジのシャープ性
に優れ、またインク浸透性にも優れるゴム印を得ること
ができる（請求項３、請求項４）。
０グラムに対して配合される無機塩類の量であり、Ｘは
基材ゴム１００グラムに対して配合される炭酸カルシウ
ムのＢＥＴ総表面積である。） このようにして得られたゴム印材の印字面にレーザー光
を照射することにより、パターンのエッジのシャープ性
に優れ、またインク浸透性にも優れるゴム印を得ること
ができる（請求項３、請求項４）。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
まず、本発明の最大の特徴は、ゴム印材用のゴム組成物
中に炭酸カルシウムが配合されており、エッジのシャー
プ性とインク浸透性との向上が図られていることであ
る。
まず、本発明の最大の特徴は、ゴム印材用のゴム組成物
中に炭酸カルシウムが配合されており、エッジのシャー
プ性とインク浸透性との向上が図られていることであ
る。
【００１３】炭酸カルシウムの配合によりパターンのエ
ッジのシャープ性が向上する理由は明らかではないが、
炭酸カルシウムの配合によりレーザー彫刻に必要な総エ
ネルギー量を低減することができ、エッジの軟化を抑え
ることができるためであると思われる。総エネルギーを
低減できる理由としては、（１）レーザー光によるゴム
材料の分解を炭酸カルシウムが助長すること、（２）炭
酸カルシウムが印字面及び飛散粉末の粘着性を抑えて飛
散粉末の再付着を抑制し、飛散粉末再付着による彫刻効
率の低下を防止すること、又は（３）炭酸カルシウムが
無機塩類抽出後の乾燥時の気泡の収縮を抑えて空隙率を
維持するので、結果として彫刻に要する時間を短縮でき
ること、等であると推定される。
ッジのシャープ性が向上する理由は明らかではないが、
炭酸カルシウムの配合によりレーザー彫刻に必要な総エ
ネルギー量を低減することができ、エッジの軟化を抑え
ることができるためであると思われる。総エネルギーを
低減できる理由としては、（１）レーザー光によるゴム
材料の分解を炭酸カルシウムが助長すること、（２）炭
酸カルシウムが印字面及び飛散粉末の粘着性を抑えて飛
散粉末の再付着を抑制し、飛散粉末再付着による彫刻効
率の低下を防止すること、又は（３）炭酸カルシウムが
無機塩類抽出後の乾燥時の気泡の収縮を抑えて空隙率を
維持するので、結果として彫刻に要する時間を短縮でき
ること、等であると推定される。
【００１４】また、炭酸カルシウムの配合によりインク
浸透性が向上する理由は詳細には不明であるが、炭酸カ
ルシウムが印字面及び飛散粉末の粘着性を抑えて飛散粉
末の再付着を抑制し、この再付着した飛散粉末が連続気
泡を防いでしまうのを防止できるためであると思われ
る。
浸透性が向上する理由は詳細には不明であるが、炭酸カ
ルシウムが印字面及び飛散粉末の粘着性を抑えて飛散粉
末の再付着を抑制し、この再付着した飛散粉末が連続気
泡を防いでしまうのを防止できるためであると思われ
る。
【００１５】配合される炭酸カルシウムとしては、例え
ば重質炭酸カルシウム、軽微性炭酸カルシウム、極微細
炭酸カルシウム、沈降性炭酸カルシウム、活性化炭酸カ
ルシウム等が挙げられる。これらの炭酸カルシウムは、
単独で又は混合して用いることができる。炭酸カルシウ
ムは、単位ＢＥＴ表面積が４０平方メートル以上となる
量だけ配合される。単位ＢＥＴ表面積が４０平方メート
ル未満であると、炭酸カルシウムを配合した効果が充分
ではなく、エッジのシャープ性が不良となり、インキ浸
透性も不良となってしまう。単位ＢＥＴ表面積が高すぎ
ると、レーザー光照射により飛散した炭酸カルシウムの
粉末が印字面に再付着して連続気泡を塞ぐため、かえっ
てインクの浸透性を低下させてしまうおそれがある。従
って単位ＢＥＴ表面積は５０００平方メートル以下が好
ましい。
ば重質炭酸カルシウム、軽微性炭酸カルシウム、極微細
炭酸カルシウム、沈降性炭酸カルシウム、活性化炭酸カ
ルシウム等が挙げられる。これらの炭酸カルシウムは、
単独で又は混合して用いることができる。炭酸カルシウ
ムは、単位ＢＥＴ表面積が４０平方メートル以上となる
量だけ配合される。単位ＢＥＴ表面積が４０平方メート
ル未満であると、炭酸カルシウムを配合した効果が充分
ではなく、エッジのシャープ性が不良となり、インキ浸
透性も不良となってしまう。単位ＢＥＴ表面積が高すぎ
ると、レーザー光照射により飛散した炭酸カルシウムの
粉末が印字面に再付着して連続気泡を塞ぐため、かえっ
てインクの浸透性を低下させてしまうおそれがある。従
って単位ＢＥＴ表面積は５０００平方メートル以下が好
ましい。
【００１６】前述の各種炭酸カルシウムは、それぞれ結
晶系、粒径等が異なるものであり、基材ゴム中に同量配
合したとしてもゴム組成物の物性等に与える影響は様々
なものである。本発明では、結晶系、粒径等の影響をほ
とんど受けることなくエッジのシャープ性とインクの浸
透性とに寄与し得る指標としてＢＥＴ総表面積（又は単
位ＢＥＴ表面積）という概念を導入している。従って、
いずれの炭酸カルシウムを用いた場合でも、単位ＢＥＴ
表面積を４０平方メートル以上とすれば、エッジのシャ
ープ性とインクの浸透性とを向上させることができる。
晶系、粒径等が異なるものであり、基材ゴム中に同量配
合したとしてもゴム組成物の物性等に与える影響は様々
なものである。本発明では、結晶系、粒径等の影響をほ
とんど受けることなくエッジのシャープ性とインクの浸
透性とに寄与し得る指標としてＢＥＴ総表面積（又は単
位ＢＥＴ表面積）という概念を導入している。従って、
いずれの炭酸カルシウムを用いた場合でも、単位ＢＥＴ
表面積を４０平方メートル以上とすれば、エッジのシャ
ープ性とインクの浸透性とを向上させることができる。
【００１７】過剰の炭酸カルシウムの配合は、かえって
インクの浸透性を低下させてしまうおそれがある。この
理由はレーザー光照射により飛散した炭酸カルシウムの
粉末が印字面に再付着して連続気泡を塞ぐためであると
推定される。これを防ぐには、炭酸カルシウムの量の増
加に応じて無機塩類を添加すればよい。具体的には、上
記数式（１）を具備するように炭酸カルシウムと無機塩
類とを配合し、このゴム組成物を加硫した後に無機塩類
を抽出して、ゴム印材の連続気泡を形成すればよい。上
記数式（１）を具備するように炭酸カルシウムと無機塩
類とを配合することによりインクの浸透性の低下を防ぐ
ことができる理由は、無機塩類を増量させることにより
この無機塩類を抽出して得られる連続気泡のボリューム
が増すためと推定される。
インクの浸透性を低下させてしまうおそれがある。この
理由はレーザー光照射により飛散した炭酸カルシウムの
粉末が印字面に再付着して連続気泡を塞ぐためであると
推定される。これを防ぐには、炭酸カルシウムの量の増
加に応じて無機塩類を添加すればよい。具体的には、上
記数式（１）を具備するように炭酸カルシウムと無機塩
類とを配合し、このゴム組成物を加硫した後に無機塩類
を抽出して、ゴム印材の連続気泡を形成すればよい。上
記数式（１）を具備するように炭酸カルシウムと無機塩
類とを配合することによりインクの浸透性の低下を防ぐ
ことができる理由は、無機塩類を増量させることにより
この無機塩類を抽出して得られる連続気泡のボリューム
が増すためと推定される。
【００１８】配合される無機塩類としては、例えば塩化
ナトリウム、塩化マグネシウム、硫酸ナトリウム、硝酸
ナトリウム、天然食塩等の、易水溶性の無機塩類が挙げ
られる。これら無機塩類は、単独で又は混合して用いる
ことができる。
ナトリウム、塩化マグネシウム、硫酸ナトリウム、硝酸
ナトリウム、天然食塩等の、易水溶性の無機塩類が挙げ
られる。これら無機塩類は、単独で又は混合して用いる
ことができる。
【００１９】本発明にかかるゴム印材に用いられる基材
ゴムとしては、例えば天然ゴム、スチレンブタジエンゴ
ム、ブタジエンゴム、アクリロニトリルブタジエンゴ
ム、クロロプレンゴム、エチレンプロピレンゴム、ＥＰ
ＤＭ、各種熱可塑性エラストマー等が挙げられる。
ゴムとしては、例えば天然ゴム、スチレンブタジエンゴ
ム、ブタジエンゴム、アクリロニトリルブタジエンゴ
ム、クロロプレンゴム、エチレンプロピレンゴム、ＥＰ
ＤＭ、各種熱可塑性エラストマー等が挙げられる。
【００２０】このゴム印材に用いられるゴム組成物に
は、前述の炭酸カルシウム及び無機塩類の他にも、例え
ば補強剤、充填剤、軟化剤、可塑剤、架橋剤、架橋促進
剤、架橋助剤、活性剤、共架橋剤、発泡剤、発泡助剤、
老化防止剤、加工助剤等の、一般的なゴム用の配合剤が
適宜配合される。
は、前述の炭酸カルシウム及び無機塩類の他にも、例え
ば補強剤、充填剤、軟化剤、可塑剤、架橋剤、架橋促進
剤、架橋助剤、活性剤、共架橋剤、発泡剤、発泡助剤、
老化防止剤、加工助剤等の、一般的なゴム用の配合剤が
適宜配合される。
【００２１】
【実施例】以下に本発明を実施例に沿って具体的に説明
するが、これら実施例の開示に基づいて本発明が限定的
に解釈されるべきでないことは勿論である。
するが、これら実施例の開示に基づいて本発明が限定的
に解釈されるべきでないことは勿論である。
【００２２】［実験１ 炭酸カルシウムの種類と量とを
変更させた実験］基材ゴムとしてアクリロニトリル量が
３５重量％のアクリロニトリルブタジエンゴム（日本合
成ゴム社製の商品名「Ｎ２３０Ｓ」）１００重量部を用
意し、これにＢＥＴ比表面積が２．５ｍ2／ｇの重質炭
酸カルシウム（中国鉱業社製）２０重量部、無機塩類と
しての天然食塩（塩化ナトリウムを主成分とする混合
物）３５０重量部、硫黄１．５重量部、加硫促進剤とし
てのＮ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアゾールスルフ
ェンアミド１．５重量部、酸化亜鉛５重量部、ステアリ
ン酸２重量部、ＤＯＰ５重量部、活性剤としてのトリエ
タノールアミン２重量部、発泡剤（三協化成社製の商品
名「セルマイクＣ２」）１重量部及び発泡助剤（三協化
成社製の商品名「セルトンＮＰ」）を配合し、ミキシン
グロールにて混練した。そして、シーティング後、プレ
スにて摂氏１６０度の架橋温度で１５分間架橋させ、厚
さ４ミリメートルのゴムシートを得た。このゴムシート
を流水中に２４時間侵漬して食塩を抽出し、乾燥させて
実施例１のゴム印材を得た。このゴム印材の単位ＢＥＴ
表面積は５０である。
変更させた実験］基材ゴムとしてアクリロニトリル量が
３５重量％のアクリロニトリルブタジエンゴム（日本合
成ゴム社製の商品名「Ｎ２３０Ｓ」）１００重量部を用
意し、これにＢＥＴ比表面積が２．５ｍ2／ｇの重質炭
酸カルシウム（中国鉱業社製）２０重量部、無機塩類と
しての天然食塩（塩化ナトリウムを主成分とする混合
物）３５０重量部、硫黄１．５重量部、加硫促進剤とし
てのＮ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアゾールスルフ
ェンアミド１．５重量部、酸化亜鉛５重量部、ステアリ
ン酸２重量部、ＤＯＰ５重量部、活性剤としてのトリエ
タノールアミン２重量部、発泡剤（三協化成社製の商品
名「セルマイクＣ２」）１重量部及び発泡助剤（三協化
成社製の商品名「セルトンＮＰ」）を配合し、ミキシン
グロールにて混練した。そして、シーティング後、プレ
スにて摂氏１６０度の架橋温度で１５分間架橋させ、厚
さ４ミリメートルのゴムシートを得た。このゴムシート
を流水中に２４時間侵漬して食塩を抽出し、乾燥させて
実施例１のゴム印材を得た。このゴム印材の単位ＢＥＴ
表面積は５０である。
【００２３】重質炭酸カルシウムの配合量を下記の表１
に示されるように変量させた他は実施例１と同様にし
て、比較例１、比較例２及び実施例２のゴム印材を得
た。また、配合する炭酸カルシウムの種類を、ＢＥＴ比
表面積が４．８ｍ2／ｇの軽微性炭酸カルシウム（白石
工業社製の商品名「シルバー」）とし、その配合量を下
記の表１に示されるように変量させた他は実施例１と同
様にして、比較例３、比較例４、実施例３、実施例４及
び実施例５のゴム印材を得た。また、配合する炭酸カル
シウムの種類を、ＢＥＴ比表面積が３１ｍ2／ｇの極微
細炭酸カルシウム（神島化学社製の商品名「カールスタ
ー７００」）とし、その配合量を下記の表２に示される
ように変量させた他は実施例１と同様にして、実施例６
及び実施例７のゴム印材を得た。また、配合する炭酸カ
ルシウムの種類を、ＢＥＴ比表面積が１．８ｍ2／ｇの
沈降性炭酸カルシウム（丸尾カルシウム社製の商品名
「スーパー１７００」）とし、その配合量を下記の表２
に示されるように変量させた他は実施例１と同様にし
て、比較例５、比較例６及び実施例８のゴム印材を得
た。また、配合する炭酸カルシウムの種類を、ＢＥＴ比
表面積が３１ｍ2／ｇの活性化炭酸カルシウム（井上石
灰工業社製の商品名「ＣＡＬＶＩＣ−ＣＣ」）とし、そ
の配合量を下記の表２に示されるように変量させた他は
実施例１と同様にして、実施例９及び実施例１０のゴム
印材を得た。また、炭酸カルシウムを全く配合しなかっ
た他は実施例１と同様にして、比較例７のゴム印材を得
た。さらに、炭酸カルシウムに代えてＢＥＴ比表面積が
２４０ｍ2／ｇの含水ケイ酸（日本シリカ社製の商品名
「ニップシールＶＮ−３」）を配合し、その配合量を下
記の表２に示されるように変量させた他は実施例１と同
様にして、比較例８及び比較例９のゴム印材を得た。各
ゴム印材の単位ＢＥＴ表面積が、下記の表１及び表２に
示されている。
に示されるように変量させた他は実施例１と同様にし
て、比較例１、比較例２及び実施例２のゴム印材を得
た。また、配合する炭酸カルシウムの種類を、ＢＥＴ比
表面積が４．８ｍ2／ｇの軽微性炭酸カルシウム（白石
工業社製の商品名「シルバー」）とし、その配合量を下
記の表１に示されるように変量させた他は実施例１と同
様にして、比較例３、比較例４、実施例３、実施例４及
び実施例５のゴム印材を得た。また、配合する炭酸カル
シウムの種類を、ＢＥＴ比表面積が３１ｍ2／ｇの極微
細炭酸カルシウム（神島化学社製の商品名「カールスタ
ー７００」）とし、その配合量を下記の表２に示される
ように変量させた他は実施例１と同様にして、実施例６
及び実施例７のゴム印材を得た。また、配合する炭酸カ
ルシウムの種類を、ＢＥＴ比表面積が１．８ｍ2／ｇの
沈降性炭酸カルシウム（丸尾カルシウム社製の商品名
「スーパー１７００」）とし、その配合量を下記の表２
に示されるように変量させた他は実施例１と同様にし
て、比較例５、比較例６及び実施例８のゴム印材を得
た。また、配合する炭酸カルシウムの種類を、ＢＥＴ比
表面積が３１ｍ2／ｇの活性化炭酸カルシウム（井上石
灰工業社製の商品名「ＣＡＬＶＩＣ−ＣＣ」）とし、そ
の配合量を下記の表２に示されるように変量させた他は
実施例１と同様にして、実施例９及び実施例１０のゴム
印材を得た。また、炭酸カルシウムを全く配合しなかっ
た他は実施例１と同様にして、比較例７のゴム印材を得
た。さらに、炭酸カルシウムに代えてＢＥＴ比表面積が
２４０ｍ2／ｇの含水ケイ酸（日本シリカ社製の商品名
「ニップシールＶＮ−３」）を配合し、その配合量を下
記の表２に示されるように変量させた他は実施例１と同
様にして、比較例８及び比較例９のゴム印材を得た。各
ゴム印材の単位ＢＥＴ表面積が、下記の表１及び表２に
示されている。
【００２４】
【表１】
【００２５】
【表２】
【００２６】各ゴム印材を、以下の手順によりエッジシ
ャープ性試験及びインクの浸透性試験に供した。
ャープ性試験及びインクの浸透性試験に供した。
【００２７】［エッジシャープ性試験］ゴム印材の印字
面を炭酸ガスレーザーにより彫刻し、パターンを形成し
てゴム印を得た。このパターンのエッジのシャープさ
を、ビデオマイクロスコープにより比較観察した。エッ
ジが稜線状のものを○、エッジが丸いものを△、エッジ
が不明確なものを×とした。その結果が、上記の表１及
び表２に示されている。
面を炭酸ガスレーザーにより彫刻し、パターンを形成し
てゴム印を得た。このパターンのエッジのシャープさ
を、ビデオマイクロスコープにより比較観察した。エッ
ジが稜線状のものを○、エッジが丸いものを△、エッジ
が不明確なものを×とした。その結果が、上記の表１及
び表２に示されている。
【００２８】［インクの浸透性試験］前述のようにパタ
ーンが形成されたゴム印の印字面に０．５ＣＣのインク
を滴下した。そして、インクがゴム印に完全に吸収され
るまでの時間を測定した。この時間が１０分以内のもの
を○、１０分を越えて１時間以内のものを△、１時間を
越えるものを×とした。その結果が、上記の表１及び表
２に示されている。
ーンが形成されたゴム印の印字面に０．５ＣＣのインク
を滴下した。そして、インクがゴム印に完全に吸収され
るまでの時間を測定した。この時間が１０分以内のもの
を○、１０分を越えて１時間以内のものを△、１時間を
越えるものを×とした。その結果が、上記の表１及び表
２に示されている。
【００２９】表１及び表２において、炭酸カルシウムの
単位ＢＥＴ表面積が４０以上である各実施例のゴム印材
は、炭酸カルシウムの単位ＢＥＴ表面積が４０未満であ
る比較例１から比較例６のゴム印材及び炭酸カルシウム
が配合されていない比較例７のゴム印材に比べて、エッ
ジシャープ性及びインクの浸透性に優れている。このこ
とより、炭酸カルシウムを配合してその単位ＢＥＴ表面
積を４０以上とする必要があることが解る。また、各実
施例のゴム印材は、含水ケイ酸が配合されている比較例
８及び比較例９のゴム印材に比べて、エッジシャープ性
及びインクの浸透性に優れている。このことより、エッ
ジシャープ性及びインクの浸透性を向上させるには、単
に単位ＢＥＴ表面積の大きい無機充填剤を配合するのみ
では不充分であり、炭酸カルシウムを配合する必要があ
ることが解る。
単位ＢＥＴ表面積が４０以上である各実施例のゴム印材
は、炭酸カルシウムの単位ＢＥＴ表面積が４０未満であ
る比較例１から比較例６のゴム印材及び炭酸カルシウム
が配合されていない比較例７のゴム印材に比べて、エッ
ジシャープ性及びインクの浸透性に優れている。このこ
とより、炭酸カルシウムを配合してその単位ＢＥＴ表面
積を４０以上とする必要があることが解る。また、各実
施例のゴム印材は、含水ケイ酸が配合されている比較例
８及び比較例９のゴム印材に比べて、エッジシャープ性
及びインクの浸透性に優れている。このことより、エッ
ジシャープ性及びインクの浸透性を向上させるには、単
に単位ＢＥＴ表面積の大きい無機充填剤を配合するのみ
では不充分であり、炭酸カルシウムを配合する必要があ
ることが解る。
【００３０】［実験２ 炭酸カルシウムと無機塩類とを
変量させた実験］配合する炭酸カルシウムの種類を、Ｂ
ＥＴ比表面積が４．８ｍ2／ｇの軽微性炭酸カルシウム
（前述の商品名「シルバー」）とし、その配合量を下記
の表３に示されるように変量させた他は実施例１と同様
にして、実施例１１から実施例２０のゴム印材を得た。
これらゴム印材を、前述の実験１と同様の手順により、
エッジシャープ性試験及びインクの浸透性試験に供し
た。その結果が、下記の表３に示されている。
変量させた実験］配合する炭酸カルシウムの種類を、Ｂ
ＥＴ比表面積が４．８ｍ2／ｇの軽微性炭酸カルシウム
（前述の商品名「シルバー」）とし、その配合量を下記
の表３に示されるように変量させた他は実施例１と同様
にして、実施例１１から実施例２０のゴム印材を得た。
これらゴム印材を、前述の実験１と同様の手順により、
エッジシャープ性試験及びインクの浸透性試験に供し
た。その結果が、下記の表３に示されている。
【００３１】
【表３】
【００３２】表３より、いずれのゴム印材もエッジシャ
ープ性に優れていることが解る。これは、いずれのゴム
印材も炭酸カルシウムが配合されており、しかもその単
位ＢＥＴ表面積が４０以上とされているからである。
ープ性に優れていることが解る。これは、いずれのゴム
印材も炭酸カルシウムが配合されており、しかもその単
位ＢＥＴ表面積が４０以上とされているからである。
【００３３】表３のインクの浸透性の結果が、前述の比
較例３、比較例４、実施例３、実施例４及び実施例５の
インク浸透性の結果とともに図１のグラフに示されてい
る。図１において、横軸（Ｘ軸）は単位ＢＥＴ表面積
（ｍ2）とされており、縦軸（Ｙ軸）は食塩（無機塩
類）の配合量（ｇ）とされている。直線（Ａ）は方程式
「Ｘ＝４０」で表される直線であり、直線（Ｂ）は方程
式「Ｙ＝０．４・Ｘ＋２８０」で表される直線である。
図１において、直線（Ａ）よりも右側（すなわちＸが大
きい側）であって、直線（Ｂ）よりも上側（すなわちＹ
が大きい側）の領域に含まれるゴム印材は、インクの浸
透性に優れている。これは、単位ＢＥＴ表面積の上昇に
伴って無機塩類の配合量を増量させて連続気泡のボリュ
ームを増すことにより、連続気泡が塞がれるのを防いで
いるためである。
較例３、比較例４、実施例３、実施例４及び実施例５の
インク浸透性の結果とともに図１のグラフに示されてい
る。図１において、横軸（Ｘ軸）は単位ＢＥＴ表面積
（ｍ2）とされており、縦軸（Ｙ軸）は食塩（無機塩
類）の配合量（ｇ）とされている。直線（Ａ）は方程式
「Ｘ＝４０」で表される直線であり、直線（Ｂ）は方程
式「Ｙ＝０．４・Ｘ＋２８０」で表される直線である。
図１において、直線（Ａ）よりも右側（すなわちＸが大
きい側）であって、直線（Ｂ）よりも上側（すなわちＹ
が大きい側）の領域に含まれるゴム印材は、インクの浸
透性に優れている。これは、単位ＢＥＴ表面積の上昇に
伴って無機塩類の配合量を増量させて連続気泡のボリュ
ームを増すことにより、連続気泡が塞がれるのを防いで
いるためである。
【００３４】以上の各実験の結果より、配合する炭酸カ
ルシウの単位ＢＥＴ表面積を高めることによりエッジシ
ャープ性を向上させ得ること、及び炭酸カルシウムを多
量に配合した場合でもそれに応じて無機塩類を増量させ
ればインクの浸透性が維持できることが解る。なお、配
合する炭酸カルシウムの単位ＢＥＴ表面積を高めること
により、連続気泡を有さないゴム印材やいわゆる粒子凝
結法によって連続気泡が形成されるゴム印材において
も、エッジシャープ性向上という効果が得られることは
いうまでもない。
ルシウの単位ＢＥＴ表面積を高めることによりエッジシ
ャープ性を向上させ得ること、及び炭酸カルシウムを多
量に配合した場合でもそれに応じて無機塩類を増量させ
ればインクの浸透性が維持できることが解る。なお、配
合する炭酸カルシウムの単位ＢＥＴ表面積を高めること
により、連続気泡を有さないゴム印材やいわゆる粒子凝
結法によって連続気泡が形成されるゴム印材において
も、エッジシャープ性向上という効果が得られることは
いうまでもない。
【００３５】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、パター
ンのエッジのシャープ性に富み、しかもインクの浸透性
に優れるレーザー彫刻用ゴム印材、これを用いるゴム印
及びゴム印の製造方法を得ることができる。
ンのエッジのシャープ性に富み、しかもインクの浸透性
に優れるレーザー彫刻用ゴム印材、これを用いるゴム印
及びゴム印の製造方法を得ることができる。
【図１】図１は、インク浸透性試験の結果が示されたグ
ラフである。
ラフである。
Claims (4)
- 【請求項１】 基材ゴムに炭酸カルシウムが配合されて
おり、その基材ゴム１００グラムに対して配合される炭
酸カルシウムの量がＢＥＴ総表面積で４０平方メートル
以上であるゴム組成物を用いた、レーザー彫刻用ゴム印
材。 - 【請求項２】 基材ゴムに炭酸カルシウムと無機塩類と
が配合されており、その炭酸カルシウムと無機塩類との
配合量が下記数式（１）を具備するように調製されてい
るゴム組成物を加硫した後、無機塩類が抽出されてなる
請求項１に記載のレーザー彫刻用ゴム印材。 【数１】 （但し、数式（１）中のＹは基材ゴム１００グラムに対
して配合される無機塩類の量であり、Ｘは基材ゴム１０
０グラムに対して配合される炭酸カルシウムのＢＥＴ総
表面積である。） - 【請求項３】 上記請求項１又は２に記載のゴム印材の
印字面に、レーザー光照射にて彫刻されたパターンが形
成されたゴム印。 - 【請求項４】 上記請求項１又は２に記載のゴム印材の
印字面にレーザー光を照射してパターンを彫刻するゴム
印の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20304597A JPH1142842A (ja) | 1997-07-29 | 1997-07-29 | レーザー彫刻用ゴム印材、これを用いるゴム印及びゴム印の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20304597A JPH1142842A (ja) | 1997-07-29 | 1997-07-29 | レーザー彫刻用ゴム印材、これを用いるゴム印及びゴム印の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1142842A true JPH1142842A (ja) | 1999-02-16 |
Family
ID=16467443
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20304597A Withdrawn JPH1142842A (ja) | 1997-07-29 | 1997-07-29 | レーザー彫刻用ゴム印材、これを用いるゴム印及びゴム印の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1142842A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010042657A (ja) * | 2008-07-18 | 2010-02-25 | Fujifilm Corp | レーザー彫刻用樹脂組成物、画像形成材料、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版、及びレリーフ印刷版の製造方法 |
| JP5945791B1 (ja) * | 2015-09-07 | 2016-07-05 | 株式会社タイヨートマー | 合成樹脂製スタンプの製造方法 |
-
1997
- 1997-07-29 JP JP20304597A patent/JPH1142842A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010042657A (ja) * | 2008-07-18 | 2010-02-25 | Fujifilm Corp | レーザー彫刻用樹脂組成物、画像形成材料、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版、及びレリーフ印刷版の製造方法 |
| JP5945791B1 (ja) * | 2015-09-07 | 2016-07-05 | 株式会社タイヨートマー | 合成樹脂製スタンプの製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20041005 |