JP2989453B2 - 連続気孔を有する多孔性ゴム印材 - Google Patents
連続気孔を有する多孔性ゴム印材Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は認印用、住所印用、日付
印用などに使用する連続気孔を有する多孔性ゴム印材に
関するものである。更に詳しくは、無数の連続気孔を有
するスポンジゴム材を用いてゴム印を作り、これにあら
かじめインキを吸蔵させておき、スタンプ台を使用せず
に捺印可能としたゴム印材に関する。
印用などに使用する連続気孔を有する多孔性ゴム印材に
関するものである。更に詳しくは、無数の連続気孔を有
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かじめインキを吸蔵させておき、スタンプ台を使用せず
に捺印可能としたゴム印材に関する。
【０００２】
【従来の技術】捺印のつどスタンプ台を使用することな
く連続して捺印作業ができるようにした印判として、無
数の連続気孔を有するスポンジゴムを印材として使用し
た印判が普及している。
く連続して捺印作業ができるようにした印判として、無
数の連続気孔を有するスポンジゴムを印材として使用し
た印判が普及している。
【０００３】たとえば、特公昭４８−４１９３６号公報
には、ＡシートとＢシートとを重ねて加硫してゴム印を
得る方法が記載されている。すなわち、原料ゴムに加硫
剤、充填剤と高温独立気泡発泡剤を配合しさらに塩化ナ
トリウムとナフタレンスルホン酸ソーダホルマリン縮合
物とを加えて素練りしてＡシートを作製し、これとは別
に前記原料ゴムに加硫剤、充填剤と低温連続気泡発泡剤
と中温独立気泡発泡剤と高温独立気泡発泡剤を配合し、
さらに塩化ナトリウムとナフタレンスルホン酸ソーダホ
ルマリン縮合物とを加えて素練りしてＢシートを作製す
る。つぎに、このＡシートとＢシートとを均密に重ね合
わせ内底面に凹凸文字を形成した金型内に収容し、次い
で、２００ｋｇ／ｃｍ2程度の圧力を加えて「Ａシー
ト」が凹凸文字に圧接した状態とし、逐次上昇する温度
下で加硫し、離型して塩化ナトリウムまたは硫酸ナトリ
ウムおよびナフタレンスルホン酸ナトリウムホルマリン
縮合物が除去されるまで水洗し、脱水、乾燥して、ゴム
印を作製する。
には、ＡシートとＢシートとを重ねて加硫してゴム印を
得る方法が記載されている。すなわち、原料ゴムに加硫
剤、充填剤と高温独立気泡発泡剤を配合しさらに塩化ナ
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物とを加えて素練りしてＡシートを作製し、これとは別
に前記原料ゴムに加硫剤、充填剤と低温連続気泡発泡剤
と中温独立気泡発泡剤と高温独立気泡発泡剤を配合し、
さらに塩化ナトリウムとナフタレンスルホン酸ソーダホ
ルマリン縮合物とを加えて素練りしてＢシートを作製す
る。つぎに、このＡシートとＢシートとを均密に重ね合
わせ内底面に凹凸文字を形成した金型内に収容し、次い
で、２００ｋｇ／ｃｍ2程度の圧力を加えて「Ａシー
ト」が凹凸文字に圧接した状態とし、逐次上昇する温度
下で加硫し、離型して塩化ナトリウムまたは硫酸ナトリ
ウムおよびナフタレンスルホン酸ナトリウムホルマリン
縮合物が除去されるまで水洗し、脱水、乾燥して、ゴム
印を作製する。
【０００４】また、特公昭５９−２８１９３号公報に
は、未加硫ゴム配合物に２００〜３５０メッシュの塩化
ナトリウムまたは硫酸ナトリウムまたは硝酸ナトリウム
および８００〜２００メッシュパスの可溶性馬鈴薯澱粉
を加えたＡシート、および未加硫ゴム配合物に３２〜１
００メッシュの塩化ナトリウムまたは硫酸ナトリウムま
たは硝酸ナトリウムおよび１５０〜２５０メッシュ可溶
性馬鈴薯澱粉を加えたＢシートを作製し、上記と同様に
加工したゴム印が示されている。これらの方法は、いず
れもＡシートが凹凸文字を形成した金型と接して、熱盤
間で圧接することによりゴム印を形成する方法である。
は、未加硫ゴム配合物に２００〜３５０メッシュの塩化
ナトリウムまたは硫酸ナトリウムまたは硝酸ナトリウム
および８００〜２００メッシュパスの可溶性馬鈴薯澱粉
を加えたＡシート、および未加硫ゴム配合物に３２〜１
００メッシュの塩化ナトリウムまたは硫酸ナトリウムま
たは硝酸ナトリウムおよび１５０〜２５０メッシュ可溶
性馬鈴薯澱粉を加えたＢシートを作製し、上記と同様に
加工したゴム印が示されている。これらの方法は、いず
れもＡシートが凹凸文字を形成した金型と接して、熱盤
間で圧接することによりゴム印を形成する方法である。
【０００５】これらの従来の多孔性ゴム印は、スプリン
グ硬さ（スプリングの硬さ試験機による測定値−日本ゴ
ム協会標準規格ＳＲＩＳ ０１０１−１９６８）２０〜
３０の印字層をスプリング硬さ１０〜２０のインキ吸蔵
層の表面に層着したものが多く使用されており、捺印時
に過度の押圧力が印字体に加えられると印字面が圧潰さ
れて吸蔵されているインキが過剰に流出して印影が滲
み、鮮明な印影が得られないという問題があった。ま
た、印字層の表面にスキン層を形成し、インキが流出す
る孔径を小さくした多孔性ゴム印材も市販されている
が、生産時のバラツキが大きく、捺印時に過度の押圧力
が加えられると印字面が圧潰されて吸蔵されているイン
キが過剰に流出して印影が滲み、鮮明な印影が得られな
いとか、逆に滲みはないがインキの流出が少ないため、
連続に捺印作業をするとすぐにかすれが発生するなどの
問題があった。
グ硬さ（スプリングの硬さ試験機による測定値−日本ゴ
ム協会標準規格ＳＲＩＳ ０１０１−１９６８）２０〜
３０の印字層をスプリング硬さ１０〜２０のインキ吸蔵
層の表面に層着したものが多く使用されており、捺印時
に過度の押圧力が印字体に加えられると印字面が圧潰さ
れて吸蔵されているインキが過剰に流出して印影が滲
み、鮮明な印影が得られないという問題があった。ま
た、印字層の表面にスキン層を形成し、インキが流出す
る孔径を小さくした多孔性ゴム印材も市販されている
が、生産時のバラツキが大きく、捺印時に過度の押圧力
が加えられると印字面が圧潰されて吸蔵されているイン
キが過剰に流出して印影が滲み、鮮明な印影が得られな
いとか、逆に滲みはないがインキの流出が少ないため、
連続に捺印作業をするとすぐにかすれが発生するなどの
問題があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の問題を解決することであり、滲みのない、鮮明印影が
えられる連続気孔を有する多孔性ゴム印材を提供するこ
とである。
の問題を解決することであり、滲みのない、鮮明印影が
えられる連続気孔を有する多孔性ゴム印材を提供するこ
とである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の問
題点を解決するため研究を重ねた結果、印字層とインキ
吸蔵層の硬さを特定化することにより、さらにインキ吸
蔵層の外底面に突出部を特設することにより滲みのない
鮮明な印影が得られる連続気孔を有する多孔性ゴム印材
を得ることに成功し、本発明を完成するに至った。すな
わち、
題点を解決するため研究を重ねた結果、印字層とインキ
吸蔵層の硬さを特定化することにより、さらにインキ吸
蔵層の外底面に突出部を特設することにより滲みのない
鮮明な印影が得られる連続気孔を有する多孔性ゴム印材
を得ることに成功し、本発明を完成するに至った。すな
わち、
【０００８】本発明の連続気孔を有する多孔性ゴム印材
は、スプリング硬さ３０〜４０である印字層とスプリン
グ硬さ１０〜２０のインキ吸蔵層からなることを特徴と
する。該インキ吸蔵層の外底面の１５〜３０％に突起部
を設けてなるのが好ましい。
は、スプリング硬さ３０〜４０である印字層とスプリン
グ硬さ１０〜２０のインキ吸蔵層からなることを特徴と
する。該インキ吸蔵層の外底面の１５〜３０％に突起部
を設けてなるのが好ましい。
【０００９】本発明の多孔性ゴム印材はつぎのように作
製する。まず、加硫後のスプリング硬さ（日本ゴム協会
標準規格ＳＲＩＳ ０１０１−１９６８；スプリング硬
さ試験機による測定値）３０〜４０になるように加硫
剤、充填剤、老化防止剤、軟化剤、原料ゴムなどを配合
し、これを混練り機で混和してゴム組成物Ａを造り、更
にこの組成物Ａに易水溶性粉末を加えて素練り混和し、
カレンダーロールによる圧延などの方法によって、印字
層未加硫のシート（以下印字層シートという）を作製す
る。つぎに、加硫後のスプリング硬さが１０〜２０にな
るように加硫剤、充填剤、老化防止剤、軟化剤、原料ゴ
ムを配合し、これを混練り機で混和してゴム組成物Ｂを
造り、この組成物Ｂに更に易水溶性粉末を加えて混和
し、カレンダーロールによる圧延などの方法によりイン
キ吸蔵層の未加硫シート（以下インキ吸蔵層シートとい
う）を作製する。
製する。まず、加硫後のスプリング硬さ（日本ゴム協会
標準規格ＳＲＩＳ ０１０１−１９６８；スプリング硬
さ試験機による測定値）３０〜４０になるように加硫
剤、充填剤、老化防止剤、軟化剤、原料ゴムなどを配合
し、これを混練り機で混和してゴム組成物Ａを造り、更
にこの組成物Ａに易水溶性粉末を加えて素練り混和し、
カレンダーロールによる圧延などの方法によって、印字
層未加硫のシート（以下印字層シートという）を作製す
る。つぎに、加硫後のスプリング硬さが１０〜２０にな
るように加硫剤、充填剤、老化防止剤、軟化剤、原料ゴ
ムを配合し、これを混練り機で混和してゴム組成物Ｂを
造り、この組成物Ｂに更に易水溶性粉末を加えて混和
し、カレンダーロールによる圧延などの方法によりイン
キ吸蔵層の未加硫シート（以下インキ吸蔵層シートとい
う）を作製する。
【００１０】一方、これらの両シートを重ね合わせて一
体化するために、内底面が所用の文字あるいは図形など
の凹凸を形成し上底面が平滑な金型を準備する。そうし
て、この金型の内底面に接するように印字層シートを入
れ、次いでインキ吸蔵層を上に重ね、１５０〜１８０
℃、１００〜２００ｋｇ／ｃｍ2、５〜２０分の条件で
加熱、加圧して加硫し一体成形加工する。一体成形加工
後、冷水ないし温水を使用して充分な水洗を行い含有す
る易水溶性粉末を洗除・乾燥し、連続気孔を有する多孔
性印材を得る。インキ吸蔵層に突起部を設ける場合は、
前述の金型の上底面に所望突起の凹凸を形成したものを
準備すればよい。
体化するために、内底面が所用の文字あるいは図形など
の凹凸を形成し上底面が平滑な金型を準備する。そうし
て、この金型の内底面に接するように印字層シートを入
れ、次いでインキ吸蔵層を上に重ね、１５０〜１８０
℃、１００〜２００ｋｇ／ｃｍ2、５〜２０分の条件で
加熱、加圧して加硫し一体成形加工する。一体成形加工
後、冷水ないし温水を使用して充分な水洗を行い含有す
る易水溶性粉末を洗除・乾燥し、連続気孔を有する多孔
性印材を得る。インキ吸蔵層に突起部を設ける場合は、
前述の金型の上底面に所望突起の凹凸を形成したものを
準備すればよい。
【００１１】この両シートの作製における各材料の配合
量は、原料ゴム１００重量部に対して加硫剤０．３〜５
重量部、充填剤５０〜１１０重量部、老化防止剤１〜３
重量部、軟化剤５〜２０重量部であるゴム組成物を調合
し、このゴム組成物１００容量％に対し印字層シートに
加える易水溶性粉末は７０〜２４０容量％であり、イン
キ吸蔵層シートに加える易水溶性粉末は１００〜４００
容量％である。
量は、原料ゴム１００重量部に対して加硫剤０．３〜５
重量部、充填剤５０〜１１０重量部、老化防止剤１〜３
重量部、軟化剤５〜２０重量部であるゴム組成物を調合
し、このゴム組成物１００容量％に対し印字層シートに
加える易水溶性粉末は７０〜２４０容量％であり、イン
キ吸蔵層シートに加える易水溶性粉末は１００〜４００
容量％である。
【００１２】これらの両シートに用いる易水溶性粉末と
しては、塩化ナトリウム・硫酸ナトリウム・炭酸カリウ
ム・硫酸アルミニウム・硝酸ナトリウムなどがあげられ
る。加硫剤としては、硫黄やその同族元素（セレン．テ
ルル）の他、一般に使用されているもの、例えば含硫黄
有機化合物、有機過酸化物、金属酸化物（ＭｇＯ、Ｐｂ
Ｏ、ＺｎＯ等）、有機多価アミンなどがあげられる。ま
た、テトラメチルチウラムジサルファイド、ｎ−シクロ
ヘキシル−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミドなど
の加硫促進剤が使用される。充填剤としては、炭酸カル
シウム、コロイド粘土、二酸化珪素、カーボンブラッ
ク、硫酸バリウム、炭酸マグネシウムなどがあげられ
る。老化防止剤としては、芳香族アミン類、ヒドロキノ
ン、アルデヒドアミン縮合物などがあげられる。軟化剤
としては、プロセスオイル、パインタール、ジブチルフ
タレート、トリクレジルホスフェートなどがあげられ
る。原料ゴムとしては、天然ゴムまたはスチレン、ブタ
ジエンゴム（ＳＢＲ）、ブタジエン・アクリロニトリル
ゴム（ＭＢＲ）、イソプレンゴム、クロロプレンなどの
合成ゴムがあげられる。
しては、塩化ナトリウム・硫酸ナトリウム・炭酸カリウ
ム・硫酸アルミニウム・硝酸ナトリウムなどがあげられ
る。加硫剤としては、硫黄やその同族元素（セレン．テ
ルル）の他、一般に使用されているもの、例えば含硫黄
有機化合物、有機過酸化物、金属酸化物（ＭｇＯ、Ｐｂ
Ｏ、ＺｎＯ等）、有機多価アミンなどがあげられる。ま
た、テトラメチルチウラムジサルファイド、ｎ−シクロ
ヘキシル−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミドなど
の加硫促進剤が使用される。充填剤としては、炭酸カル
シウム、コロイド粘土、二酸化珪素、カーボンブラッ
ク、硫酸バリウム、炭酸マグネシウムなどがあげられ
る。老化防止剤としては、芳香族アミン類、ヒドロキノ
ン、アルデヒドアミン縮合物などがあげられる。軟化剤
としては、プロセスオイル、パインタール、ジブチルフ
タレート、トリクレジルホスフェートなどがあげられ
る。原料ゴムとしては、天然ゴムまたはスチレン、ブタ
ジエンゴム（ＳＢＲ）、ブタジエン・アクリロニトリル
ゴム（ＭＢＲ）、イソプレンゴム、クロロプレンなどの
合成ゴムがあげられる。
【００１３】本発明の多孔性印材におけるインキ吸蔵層
の突起部は、該吸蔵層の外底面の１５〜３０％の面積を
しめるのが適当であり、その形状は、柱状、格子状、平
行状など如何なる形状でもよいが、突起部がインキ吸蔵
層の外底面に均等に設けられるようにする必要がある。
好ましくは断面が円形、正方形、多角形などの柱状突起
部があげられ、また、台形状でもよい。柱状突起部の断
面積は０．１２〜１．１３ｍｍ2が好ましい。
の突起部は、該吸蔵層の外底面の１５〜３０％の面積を
しめるのが適当であり、その形状は、柱状、格子状、平
行状など如何なる形状でもよいが、突起部がインキ吸蔵
層の外底面に均等に設けられるようにする必要がある。
好ましくは断面が円形、正方形、多角形などの柱状突起
部があげられ、また、台形状でもよい。柱状突起部の断
面積は０．１２〜１．１３ｍｍ2が好ましい。
【００１４】本発明の連続気孔を有する多孔性ゴム印材
は、印字層のスプリング硬さを３０以上４０以下、イン
キ吸蔵層のスプリング硬さを１０以上２０以下としたこ
とによって、該多孔性ゴム印材をホルダーに取り付けて
予めインキを吸蔵させたゴム印として使用する場合、押
圧力が加えられても印字部が圧潰されることなく、イン
キ吸蔵層が常に適度のクッション性を発揮して快適に捺
印感を与えるものである。その結果、捺印される印字が
滲んだり、太くなったりすることがなく、鮮明な印影が
得られるものである。印字層のスプリング硬さが３０未
満であると印面がつぶれて鮮明な印影が得られず、４０
を超えると印字層は圧潰されないが印面が捺印面に平行
でないと文字の一部が捺印できないいわゆる片押し現象
となる。インキ吸蔵層のスプリング硬さが１０未満であ
るとゴム印材の構造強度が弱くなり、また耐久性が悪く
なり、２０を超えるとインキ吸蔵層の適度のクッション
性が発揮できず、印字部が圧潰され、捺印された印字が
滲んで太くなり鮮明な印影が得られない。
は、印字層のスプリング硬さを３０以上４０以下、イン
キ吸蔵層のスプリング硬さを１０以上２０以下としたこ
とによって、該多孔性ゴム印材をホルダーに取り付けて
予めインキを吸蔵させたゴム印として使用する場合、押
圧力が加えられても印字部が圧潰されることなく、イン
キ吸蔵層が常に適度のクッション性を発揮して快適に捺
印感を与えるものである。その結果、捺印される印字が
滲んだり、太くなったりすることがなく、鮮明な印影が
得られるものである。印字層のスプリング硬さが３０未
満であると印面がつぶれて鮮明な印影が得られず、４０
を超えると印字層は圧潰されないが印面が捺印面に平行
でないと文字の一部が捺印できないいわゆる片押し現象
となる。インキ吸蔵層のスプリング硬さが１０未満であ
るとゴム印材の構造強度が弱くなり、また耐久性が悪く
なり、２０を超えるとインキ吸蔵層の適度のクッション
性が発揮できず、印字部が圧潰され、捺印された印字が
滲んで太くなり鮮明な印影が得られない。
【００１５】また、多孔性ゴム層であるインキ吸蔵層の
底部に突起部を設けた場合、該層の底面積の１５〜３０
％有しているため、また０．１２〜１．１３ｍｍ2の断
面積を有するため、過度の押圧力が加えられても印字部
が圧潰されることなく、インキ吸蔵及びインキ吸蔵層底
部の突起が常に適度のクッション性を発揮して快適な捺
印感を与えるものである。その結果、捺印される印字が
滲んだり、太くなったりすることがなく、非常に鮮明な
印影が得られるものである。
底部に突起部を設けた場合、該層の底面積の１５〜３０
％有しているため、また０．１２〜１．１３ｍｍ2の断
面積を有するため、過度の押圧力が加えられても印字部
が圧潰されることなく、インキ吸蔵及びインキ吸蔵層底
部の突起が常に適度のクッション性を発揮して快適な捺
印感を与えるものである。その結果、捺印される印字が
滲んだり、太くなったりすることがなく、非常に鮮明な
印影が得られるものである。
【００１６】
実施例１ 重量比で合成ゴム（ＮＢＲ）１００部に対し、硫黄０．
３部、亜鉛華５部、テトラメチルチウラムジサルファイ
ド２部、ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアゾールス
ルホンアミド２部、フタル酸ジオクチル（ＤＯＰ）８
部、カーボンブラックを７５部、ジフェニルアミンとア
セトン縮合物を２部加えて混和して、ゴム組成物Ａを造
る。このゴム組成物Ａの１００容量部に粒径０．０３０
〜０．０６０ｍｍの塩化ナトリウム６００容量部を加え
て素練り混和し、厚さ１．５ｍｍの印字層シートを造っ
た。同様に、重量比で合成ゴム（ＮＢＲ）１００部に対
し、硫黄０．３部、亜鉛華５部、テトラメチルチウラム
ジサルファイド２部、ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾ
チアゾールスルホンアミド２部、ＤＯＰ８部、カーボン
ブラックを７５部、ジフェニルアミンとアセトン縮合物
を２部加えて混和し、ゴム組成物Ｂを造る。このゴム組
成物Ｂの１００容量部に粒径０．０９０〜０．３０ｍｍ
の塩化ナトリウム７００部混和し、厚さ３．５ｍｍのイ
ンキ吸蔵層を造った。次に内底面に所用の文字あるいは
図形などの凹凸を形成した金型の内底面に接するように
印字層シートを入れ、その上にインキ吸蔵層シートを金
型の平滑な上面に接するように重ね、１５０℃、１５０
ｋｇ／ｃｍ2、１５分間の条件で加熱、加圧して加硫し
一体加工した。一体化後、冷水ないし温水を使用して充
分に水洗を行い含有する塩化ナトリウム粉末を洗除後、
乾燥し、スプリング硬さ３５の印字層がスプリング硬さ
１５のインキ吸蔵層の表面に層着した連続気孔を有する
図１のような多孔性ゴム印材を得た。この多孔性ゴム印
材に４００〜１５００ｍＰａ・ｓの顔料インキを充填し
捺印したところ、押圧力が加えられても印字部が圧潰さ
れることなく、インキ吸蔵層が常に適度のクッション性
を発揮し、捺印された印字が滲んだり、太くなったりす
ることがなく、鮮明な印影が得られた。
３部、亜鉛華５部、テトラメチルチウラムジサルファイ
ド２部、ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアゾールス
ルホンアミド２部、フタル酸ジオクチル（ＤＯＰ）８
部、カーボンブラックを７５部、ジフェニルアミンとア
セトン縮合物を２部加えて混和して、ゴム組成物Ａを造
る。このゴム組成物Ａの１００容量部に粒径０．０３０
〜０．０６０ｍｍの塩化ナトリウム６００容量部を加え
て素練り混和し、厚さ１．５ｍｍの印字層シートを造っ
た。同様に、重量比で合成ゴム（ＮＢＲ）１００部に対
し、硫黄０．３部、亜鉛華５部、テトラメチルチウラム
ジサルファイド２部、ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾ
チアゾールスルホンアミド２部、ＤＯＰ８部、カーボン
ブラックを７５部、ジフェニルアミンとアセトン縮合物
を２部加えて混和し、ゴム組成物Ｂを造る。このゴム組
成物Ｂの１００容量部に粒径０．０９０〜０．３０ｍｍ
の塩化ナトリウム７００部混和し、厚さ３．５ｍｍのイ
ンキ吸蔵層を造った。次に内底面に所用の文字あるいは
図形などの凹凸を形成した金型の内底面に接するように
印字層シートを入れ、その上にインキ吸蔵層シートを金
型の平滑な上面に接するように重ね、１５０℃、１５０
ｋｇ／ｃｍ2、１５分間の条件で加熱、加圧して加硫し
一体加工した。一体化後、冷水ないし温水を使用して充
分に水洗を行い含有する塩化ナトリウム粉末を洗除後、
乾燥し、スプリング硬さ３５の印字層がスプリング硬さ
１５のインキ吸蔵層の表面に層着した連続気孔を有する
図１のような多孔性ゴム印材を得た。この多孔性ゴム印
材に４００〜１５００ｍＰａ・ｓの顔料インキを充填し
捺印したところ、押圧力が加えられても印字部が圧潰さ
れることなく、インキ吸蔵層が常に適度のクッション性
を発揮し、捺印された印字が滲んだり、太くなったりす
ることがなく、鮮明な印影が得られた。
【００１７】実施例２ 重量比で合成ゴム（ＮＢＲ）１００部に対し、硫黄０．
３部、亜鉛華５部、テトラメチルチウラムジサルファイ
ド２部、ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアゾールス
ルホンアミド２部、ＤＯＰ８部、カーボンブラックを７
５部、ジフェニルアミンとアセトン縮合物を２部加えて
混和し、ゴム組成物Ａを造る。このゴム組成物Ａの１０
０容量部に粒径０．０３０〜０．０６０ｍｍの塩化ナト
リウム６００容量部を加えて素練り混和し、厚さ１．５
ｍｍの印字層シートを造った。同様に、重量比で合成ゴ
ム（ＮＢＲ）１００部に対し、硫黄０．３部、亜鉛華５
部、テトラメチルチウラムジサルファイド２部、ｎ−シ
クロヘキシル−２−ベンゾチアゾールスルホンアミド２
部、ＤＯＰ８部、カーボンブラックを７５部、ジフェニ
ルアミンとアセトン縮合物を２部加えて混和し、ゴム組
成物Ｂを造る。このゴム組成物Ｂの１００容量部に粒径
０．０９０〜０．３０ｍｍの塩化ナトリウムを７００部
混和し、厚さ３．５ｍｍのインキ吸蔵層シートを造っ
た。次に内底面に所用の文字あるいは図形などの凹凸を
形成した金型の内底面に接するように印字層を入れ、そ
の上にインキ吸蔵層シートを直径０．５ｍｍ、高さ０．
６ｍｍの円柱突起をピッチ２ｍｍで形成した金型の上底
面に接するように重ね、１５０℃、１５０ｋｇ／ｃ
ｍ2、１５分間の条件で加熱、加圧して一体加工した。
一体加工後、冷水ないし温水を使用して充分な水洗を行
い含有する塩化ナトリウム粉末を洗除後、乾燥し、スプ
リング硬さ３５の印字層がスプリング硬さ１５のインキ
吸蔵層の表面に層着した連続気孔を有した図２のような
多孔性ゴム印材を得た。この多孔性ゴム印材に４００〜
１５００ｍＰａ・ｓの顔料インキを充填し捺印したとこ
ろ、実施例１よりも過度の押圧力が加えられても印字部
が圧潰されることなく、インキ吸蔵層が常に適度のクッ
ション性を発揮し、捺印された印字がにじんだり、太く
なったりすることがなく、非常に鮮明な印影が得られ
た。
３部、亜鉛華５部、テトラメチルチウラムジサルファイ
ド２部、ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアゾールス
ルホンアミド２部、ＤＯＰ８部、カーボンブラックを７
５部、ジフェニルアミンとアセトン縮合物を２部加えて
混和し、ゴム組成物Ａを造る。このゴム組成物Ａの１０
０容量部に粒径０．０３０〜０．０６０ｍｍの塩化ナト
リウム６００容量部を加えて素練り混和し、厚さ１．５
ｍｍの印字層シートを造った。同様に、重量比で合成ゴ
ム（ＮＢＲ）１００部に対し、硫黄０．３部、亜鉛華５
部、テトラメチルチウラムジサルファイド２部、ｎ−シ
クロヘキシル−２−ベンゾチアゾールスルホンアミド２
部、ＤＯＰ８部、カーボンブラックを７５部、ジフェニ
ルアミンとアセトン縮合物を２部加えて混和し、ゴム組
成物Ｂを造る。このゴム組成物Ｂの１００容量部に粒径
０．０９０〜０．３０ｍｍの塩化ナトリウムを７００部
混和し、厚さ３．５ｍｍのインキ吸蔵層シートを造っ
た。次に内底面に所用の文字あるいは図形などの凹凸を
形成した金型の内底面に接するように印字層を入れ、そ
の上にインキ吸蔵層シートを直径０．５ｍｍ、高さ０．
６ｍｍの円柱突起をピッチ２ｍｍで形成した金型の上底
面に接するように重ね、１５０℃、１５０ｋｇ／ｃ
ｍ2、１５分間の条件で加熱、加圧して一体加工した。
一体加工後、冷水ないし温水を使用して充分な水洗を行
い含有する塩化ナトリウム粉末を洗除後、乾燥し、スプ
リング硬さ３５の印字層がスプリング硬さ１５のインキ
吸蔵層の表面に層着した連続気孔を有した図２のような
多孔性ゴム印材を得た。この多孔性ゴム印材に４００〜
１５００ｍＰａ・ｓの顔料インキを充填し捺印したとこ
ろ、実施例１よりも過度の押圧力が加えられても印字部
が圧潰されることなく、インキ吸蔵層が常に適度のクッ
ション性を発揮し、捺印された印字がにじんだり、太く
なったりすることがなく、非常に鮮明な印影が得られ
た。
【００１８】比較例１ 重量比で合成ゴム（ＮＢＲ）１００部に対し、硫黄０．
３部、亜鉛華５部、テトラメチルチウラムジサルファイ
ド２部、ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアゾールス
ルホンアミド２部、ＤＯＰ８部、カーボンブラックを７
５部、ジフェニルアミンとアセトン縮合物を２部加えて
混和し、ゴム組成物Ａを造る。このゴム組成物Ａの１０
０容量部に粒径０．０３０〜０．０６０ｍｍの塩化ナト
リウム６００部を加えて素練り混和し、厚さ１．５ｍｍ
の印字層シートを造った。同様に、重量比で合成ゴム
（ＮＢＲ）１００部に対し、硫黄０．３部、亜鉛華５
部、テトラメチルチウラムジサルファイド２部、ｎ−シ
クロヘキシル−２−ベンゾチアゾールスルホンアミド２
部、ＤＯＰ７部、カーボンブラックを８５部、ジフェニ
ルアミンとアセトン縮合物を２部加えて混和し、ゴム組
成物Ｂを造る。このゴム組成物Ｂの１００容量部に粒径
０．０９０〜０．３０ｍｍの塩化ナトリウムを６５０部
混和し、厚さ３．５ｍｍのインキ吸蔵層シートを造っ
た。次に内底面に所用の文字あるいは図形などの凹凸を
形成した金型の内底面に接するように印字層シートを入
れ、その上にインキ吸蔵層シートを金型の平滑な上底に
接するように重ね、１５０℃、１５０ｋｇ／ｃｍ2、１
５分間の条件で加熱、加圧して加硫し一体加工した。一
体加工後、冷水ないし温水を使用し充分の水洗を行い含
有する塩化ナトリウム粉末を洗除後、乾燥し、スプリン
グ硬さ３５の印字層がスプリング硬さ２５のインキ吸蔵
層の表面に層着した連続気孔を有する多孔性ゴム印材を
得た。この多孔性ゴム印材に４００〜１５００ｍＰａ・
ｓの顔料インキを充填し捺印した所、押圧力が加えられ
た時、印字層とインキ吸蔵層のスプリング硬さの差が小
さいため、インキ吸蔵層が適度のクッション性を発揮で
きず、印字部が圧潰され、捺印された印字が滲んで太く
なり鮮明な印影が得られなかった。
３部、亜鉛華５部、テトラメチルチウラムジサルファイ
ド２部、ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアゾールス
ルホンアミド２部、ＤＯＰ８部、カーボンブラックを７
５部、ジフェニルアミンとアセトン縮合物を２部加えて
混和し、ゴム組成物Ａを造る。このゴム組成物Ａの１０
０容量部に粒径０．０３０〜０．０６０ｍｍの塩化ナト
リウム６００部を加えて素練り混和し、厚さ１．５ｍｍ
の印字層シートを造った。同様に、重量比で合成ゴム
（ＮＢＲ）１００部に対し、硫黄０．３部、亜鉛華５
部、テトラメチルチウラムジサルファイド２部、ｎ−シ
クロヘキシル−２−ベンゾチアゾールスルホンアミド２
部、ＤＯＰ７部、カーボンブラックを８５部、ジフェニ
ルアミンとアセトン縮合物を２部加えて混和し、ゴム組
成物Ｂを造る。このゴム組成物Ｂの１００容量部に粒径
０．０９０〜０．３０ｍｍの塩化ナトリウムを６５０部
混和し、厚さ３．５ｍｍのインキ吸蔵層シートを造っ
た。次に内底面に所用の文字あるいは図形などの凹凸を
形成した金型の内底面に接するように印字層シートを入
れ、その上にインキ吸蔵層シートを金型の平滑な上底に
接するように重ね、１５０℃、１５０ｋｇ／ｃｍ2、１
５分間の条件で加熱、加圧して加硫し一体加工した。一
体加工後、冷水ないし温水を使用し充分の水洗を行い含
有する塩化ナトリウム粉末を洗除後、乾燥し、スプリン
グ硬さ３５の印字層がスプリング硬さ２５のインキ吸蔵
層の表面に層着した連続気孔を有する多孔性ゴム印材を
得た。この多孔性ゴム印材に４００〜１５００ｍＰａ・
ｓの顔料インキを充填し捺印した所、押圧力が加えられ
た時、印字層とインキ吸蔵層のスプリング硬さの差が小
さいため、インキ吸蔵層が適度のクッション性を発揮で
きず、印字部が圧潰され、捺印された印字が滲んで太く
なり鮮明な印影が得られなかった。
【００１９】比較例２ 重量比で合成ゴム（ＮＢＲ）１００部に対し、硫黄０．
３部、亜鉛華５部、テトラメチルチウラムジサルファイ
ド２部、ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアゾールス
ルホンアミド２部、ＤＯＰ８部、カーボンブラックを７
５部、ジフェニルアミンとアセトン縮合物を２部加えて
混和し、ゴム組成物Ａを造る。このゴム組成物Ａの１０
０容量部に粒径０．０３０〜０．０６０ｍｍの塩化ナト
リウム６００部を加えて素練り混和し、厚さ１．５ｍｍ
の印字層シートを造った。同様に、重量比で合成ゴム
（ＮＢＲ）１００部に対し、硫黄０．３部、亜鉛華５
部、テトラメチルチウラムジサルファイド２部、ｎ−シ
クロヘキシル−２−ベンゾチアゾールスルホンアミド２
部、ＤＯＰ７部、カーボンブラックを８５部、ジフェニ
ルアミンとアセトン縮合物を２部加えて混和し、粒径
０．０９０〜０．３０ｍｍの塩化ナトリウム６５０部混
和し、厚さ３．５ｍｍのインキ吸蔵層シートを造った。
次に内底面に所用の文字あるいは図形などの凹凸を形成
した金型の内底面に接するように印字層を入れ、その上
にインキ吸蔵層を直径０．５ｍｍ、高さ０．６ｍｍの円
柱の突起を２ｍｍピッチで形成した金型の上底面に接す
るように重ね、１５０℃、１５０ｋｇ／ｃｍ2、１５分
間の条件で加熱、加圧して一体加工した。一体加工後、
冷水ないし温水を使用して充分の水洗を行い含有する塩
化ナトリウム粉末を洗除後、乾燥し、スプリング硬さ３
５の印字層がスプリング硬さ２５のインキ吸蔵層の表面
に層着した連続気孔を有した多孔性ゴム印材を得た。こ
の多孔性ゴム印材に４００〜１５００ｍＰａ・ｓの顔料
インキを充填し捺印したところ、図４のように押圧力が
加えられた時、印字層とインキ吸蔵層のスプリング硬さ
の差が小さいため、インキ吸蔵層が適度のクッション性
を発揮できず、印字部が圧潰され、捺印された印字が滲
んで太くなり鮮明な印影が得られなかった。
３部、亜鉛華５部、テトラメチルチウラムジサルファイ
ド２部、ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアゾールス
ルホンアミド２部、ＤＯＰ８部、カーボンブラックを７
５部、ジフェニルアミンとアセトン縮合物を２部加えて
混和し、ゴム組成物Ａを造る。このゴム組成物Ａの１０
０容量部に粒径０．０３０〜０．０６０ｍｍの塩化ナト
リウム６００部を加えて素練り混和し、厚さ１．５ｍｍ
の印字層シートを造った。同様に、重量比で合成ゴム
（ＮＢＲ）１００部に対し、硫黄０．３部、亜鉛華５
部、テトラメチルチウラムジサルファイド２部、ｎ−シ
クロヘキシル−２−ベンゾチアゾールスルホンアミド２
部、ＤＯＰ７部、カーボンブラックを８５部、ジフェニ
ルアミンとアセトン縮合物を２部加えて混和し、粒径
０．０９０〜０．３０ｍｍの塩化ナトリウム６５０部混
和し、厚さ３．５ｍｍのインキ吸蔵層シートを造った。
次に内底面に所用の文字あるいは図形などの凹凸を形成
した金型の内底面に接するように印字層を入れ、その上
にインキ吸蔵層を直径０．５ｍｍ、高さ０．６ｍｍの円
柱の突起を２ｍｍピッチで形成した金型の上底面に接す
るように重ね、１５０℃、１５０ｋｇ／ｃｍ2、１５分
間の条件で加熱、加圧して一体加工した。一体加工後、
冷水ないし温水を使用して充分の水洗を行い含有する塩
化ナトリウム粉末を洗除後、乾燥し、スプリング硬さ３
５の印字層がスプリング硬さ２５のインキ吸蔵層の表面
に層着した連続気孔を有した多孔性ゴム印材を得た。こ
の多孔性ゴム印材に４００〜１５００ｍＰａ・ｓの顔料
インキを充填し捺印したところ、図４のように押圧力が
加えられた時、印字層とインキ吸蔵層のスプリング硬さ
の差が小さいため、インキ吸蔵層が適度のクッション性
を発揮できず、印字部が圧潰され、捺印された印字が滲
んで太くなり鮮明な印影が得られなかった。
【００２０】
【発明の効果】本発明の連続気孔を有する多孔性ゴム印
材は従来の欠陥をなくして、どんな押圧力でも非常に鮮
明な印影を得ることができるようにしたものであって、
認印、住所印、日付印など連続捺印に使用できるもので
ある。
材は従来の欠陥をなくして、どんな押圧力でも非常に鮮
明な印影を得ることができるようにしたものであって、
認印、住所印、日付印など連続捺印に使用できるもので
ある。
【図１】本発明の多孔性ゴム印材の断面図（実施例１）
【図２】インキ吸蔵層に突起部を有する本発明の多孔性
ゴム印材の断面図（実施例２）
ゴム印材の断面図（実施例２）
【図３】図２で示したゴム印材の捺印時の断面形状を示
す図
す図
【図４】従来の多孔性ゴム印材を使用したゴム印板の捺
印時における断面形状（比較例１）
印時における断面形状（比較例１）
１ インキ吸蔵層 ２ 印字層 ３ 突起部 ３′ 捺印時の突起部 ４ 印字面 ４′ 捺印時の印字面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭55−22962（ＪＰ，Ａ) 特公 昭59−28193（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭48−41936（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B41K 1/00 - 1/02 B41K 1/50
Claims (3)
- 【請求項１】 スプリング硬さ３０〜４０である印字層
とスプリング硬さ１０〜２０のインキ吸蔵層からなるこ
とを特徴とする連続気孔を有する多孔性ゴム印材。 - 【請求項２】 インキ吸蔵層の外底面の１５〜３０％に
突起部を設けてなる請求項１記載の多孔性ゴム印材。 - 【請求項３】 突起部が断面積０．１２〜１．１３ｍｍ
2の柱状である請求項２記載の多孔性ゴム印材。
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|---|---|---|---|
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| WO2011094317A2 (en) * | 2010-01-26 | 2011-08-04 | Molecular Imprints, Inc. | Micro-conformal templates for nanoimprint lithography |
| WO2011094696A2 (en) * | 2010-01-29 | 2011-08-04 | Molecular Imprints, Inc. | Ultra-compliant nanoimprint lithography template |
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| EP3135738B1 (en) * | 2014-04-24 | 2021-11-03 | Kabushiki Kaisha Pilot Corporation (also trading as Pilot Corporation) | Ink composition for reversibly thermochromic stamps and stamp |
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|---|---|---|---|---|
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| US4509045A (en) * | 1982-07-01 | 1985-04-02 | Sperry Corporation | Low cost addressing system for AC plasma panels |
| JPS5916945A (ja) * | 1982-07-20 | 1984-01-28 | Seiko Epson Corp | 時計用外装部品 |
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- 1993-11-30 JP JP5299807A patent/JP2989453B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-11-17 US US08/341,427 patent/US5620777A/en not_active Expired - Fee Related
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