JP2005096154A - 浸透印 - Google Patents

Abstract

【課題】 多孔質印字体を枠や短筒体の内面に圧入し、多孔質印字体の弾性を利用して固定する浸透印において、多孔質印字体に押圧力が常に加えられている状態であっても、印面が圧潰されず、過剰なインキの吐出による押印時の印影の滲みを防止でき、むらのない濃く鮮明な印影を得ることができ、かつ、長時間にわたって物性が低下しない浸透印を提供するものである。
【解決手段】 印字部とインキ保持部を有する多孔質印字体であって、その印面を函体の下端より若干突出させて函体内に嵌装した浸透印において、多孔質印字体のインキ保持部が函体に嵌装されるのみで、印字部は函体に嵌装されないことを特徴とする浸透印。
【選択図】図２

Description

本発明は、連続気泡を有する多孔質印字体にインキを内蔵させたタイプの印判、いわゆる浸透印に関するものである。

一般に浸透印と呼ばれ、無数の連続気泡を有する多孔質印字体にインキを内蔵させた印判は、押印の都度スタンプ台を使用することなく連続押印できるようにした利便性の高いものであって、本出願人も実公昭３１−００２９１２号等を開示している。このような浸透印は、比較的高粘度の顔料インキであっても、多量のインキを含有しており、かつ、良好なインキ吐出量を誇っている。
しかしながら従来の浸透印は、無数の連続気泡を有する多孔質印字体にインキを内蔵させてあるために、多孔質印字体の後端や側面に押圧力が加えられると圧潰され、印面からインキが過剰に流出して、印影が太くなったり滲んだりし、鮮明な押印を行なえない欠点があった。従って、実開昭４９−０９４７０２号に示す浸透印や図１に示す従来の浸透印であって、多孔質印字体の弾性を利用して枠や短筒体の内面に多孔質印字体を圧入して直接固定するタイプの浸透印は、多孔質印字体に不要な押圧力が常に加えられている状態であって、いわゆるインキを常に絞っている状態となり、インキが過剰に流出して鮮明な押印を行なえない欠点があった。

実公昭３１−００２９１２号公報 実開昭４９−０９４７０２号公報

本発明は、多孔質印字体を枠や短筒体の内面に圧入し、多孔質印字体の弾性を利用して固定する浸透印において、多孔質印字体に押圧力が常に加えられている状態であっても、印面が圧潰されず、過剰なインキの吐出による押印時の印影の滲みを防止でき、むらのない濃く鮮明な印影を得ることができ、かつ、長時間にわたって物性が低下しない浸透印を提供するものである。

印字部とインキ保持部を有する多孔質印字体であって、その印面を函体の下端より若干突出させて函体内に嵌装した浸透印において、多孔質印字体のインキ保持部が函体に嵌装されるのみで、印字部は函体に嵌装されないことを特徴とする浸透印。

本発明の浸透印は、函体に嵌装される多孔質印字体のインキ保持部が函体に嵌装されるのみで、印字部は函体に嵌装されない。つまり、多孔質印字体に押圧力が常に加えられても、それはインキ保持部のみであって印字部は影響を受けない。よって、印面が圧潰されず、過剰なインキの吐出による押印時の印影の滲みを防止でき、むらのない濃く鮮明な印影を得ることができる。また、インキ保持部のクッション作用が働くので、柔らかな押印感触を得ることができる。

本発明の浸透印は、少なくとも多孔質印字体と多孔質印字体を嵌装する函体とからなる。
多孔質印字体は、印字部とインキ保持部の各層を有する二層構造の印材を用いる。そして、描画する印面を凸版状になるように形成する。具体的には、印面が押印時の圧力に耐えることができるように傾斜角度を付けながら、前記印材の厚み方向に活字で言うところの斜面（ｂｅｖｅｌ）を形成して、凸版状の多孔質印字体を作成する。
次に、当該多孔質印字体の印面が函体の下端より若干突出するように、多孔質印字体を函体に嵌装する。このとき多孔質印字体は弾性を有しているので、弾性を利用して函体の内面に多孔質印字体が嵌着固定される。
ここで、多孔質印字体のインキ保持部が函体に嵌装されるのみで、印字部は函体に嵌装されないことが必要である。なぜなら、多孔質印字体に押圧力が常に加えられても、それはインキ保持部のみであって印字部は全く影響を受けず、印面が圧潰されないようにするためである。従って、後述する実施例のように、印字部の高さ＜斜面の高さ、又は、印字部の高さ＝斜面の高さ、とすることが好ましい。このようにすることで、多孔質印字体の印字部が函体に接触しない構成とすることができるからである。その中でも、印字部の高さ＜斜面の高さ、とした時は、インキ保持部の一部が斜面の一部を構成し、当該インキ保持部の一部がクッションとして機能して押印感触に寄与するので、最も好ましいものとなる。
本発明に用いる多孔質印字体は、天然ゴム、ＳＢＲ、ＮＢＲ、ＥＰＤＭ、シリコーンゴム等の合成ゴム、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ乳酸等の熱可塑性樹脂、ポリオレフィン系熱可塑性エラストマー、ポリウレタン系熱可塑性エラストマー等の熱可塑性エラストマー、フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂など印判用印材として知られている原材料全てを用いることができ、これら原材料を塩化ナトリウムや炭酸カルシウムなどの可溶材と混練し加硫又は溶融したのち可溶材を溶出して多孔質印材とする溶出法や、原材料を発泡材と混練し加硫又は溶融して多孔質印材とする発泡法や、粒子化した原材料を加熱圧縮して多孔質印材とする燒結法などによって得ることができる。また、印字部とインキ保持部の二層構造とする必要があるので、それぞれの加硫済みシートを作成した後、接着して二層構造の多孔質印材を作成したり、それぞれの未加硫シートを作成した後、重ね合わせて一体的に加硫して二層構造の多孔質印材を作成する。
また、加硫済み多孔質印材をＹＡＧレーザ加工機や炭酸ガスレーザ加工機で印面を彫刻したり、あらかじめ凹状の彫刻をした金型内に未加硫多孔質印材を入れて、印面の形成と加硫工程を同時にして、本発明の多孔質印字体を得ることができる。
またここで、本発明に用いられる浸透印用インキは、顔料、染料の着色剤を問わず、揮発性油性インキ、不揮発性油性インキ、水性インキなど印判用インキとして知られているもの全てを用いることができる。

以下、本発明の浸透印を実施例を用いながら詳細に説明する。図２は実施例１を図示したものである。
実施例１の浸透印は、多孔質印字体１、函体７、外函体８とからなる。
多孔質印字体１には、厚さ０．５ｍｍの印字部２と厚さ４．５ｍｍのインキ保持部３の各層を有する二層構造の印材を用いている。そして、文字等を描画する印面４が圧力に耐えることができるように傾斜角度を付けながら、印材に高さ１．０ｍｍの斜面５を形成して、凸版状の多孔質印字体１を作成する。
次に、多孔質印字体１の印面４が函体７の下端より１．０ｍｍ突出するように、多孔質印字体１を函体７に嵌装した。多孔質印字体１は弾性を有しているので、これを利用して函体７の内面に嵌着固定される。また、浸透印が容易に握れるように、外函体８を函体７に嵌着している。
ここで、多孔質印字体１の具体的な製造方法を説明する。
原料ＮＢＲ１００部、硫黄５部、亜鉛華５部、加硫促進剤５部、軟化剤３０部、カーボンブラック５０部、老化防止剤２部、４０〜６０μｍの塩化ナトリウム５００部、５０〜６０μｍのバレイショデンプン１００部を混練してマスターバッチＡとし、これを厚さ０．５ｍｍの平板状のシートＡとした。これとは別に、原料ＮＢＲ１００部、硫黄５部、亜鉛華５部、加硫促進剤５部、軟化剤３０部、カーボンブラック５０部、老化防止剤２部、１５０〜２５０μｍの塩化ナトリウム９００部、７０〜１００μｍのバレイショデンプン１００部を加え混練してマスターバッチＢとし、これを厚さ４．５ｍｍの平板状のシートＢとした。
次に、シートＡとシートＢを重ね合わせ、これを平滑な金型内に収容し、次いで、２００ｋｇ／ｃｍ^２程度の圧力を加えて熱盤間に挟圧し、１２０℃の温度下で６０分間加硫した。加硫後離型して、塩化ナトリウム、バレイショデンプンが完全に除去されるまで充分に水洗し、脱水乾燥してシートＡとシートＢが一体化した多孔質ゴムシートを得た。
この多孔質ゴムシートをシートＡ側から炭酸ガスレーザ加工機にて走査ピッチ５０μｍ、仰角６０°、深度１．０ｍｍとなるように彫刻した後、所要のサイズに切断すると、印字部２が厚さ０．５ｍｍ、硬度５０°（スプリング式硬さ試験Ｅ型硬度計の測定値）、気孔率７０％、気孔径４０〜６０μｍであって、インキ保持部３が厚さ４．５ｍｍ、硬度２０°（スプリング式硬さ試験Ｅ型硬度計の測定値）、気孔率８０％、気孔径１５０〜２５０μｍであって、斜面５の高さが１．０ｍｍである多孔質印字体１を得ることができた。

次に、当該多孔質印字体１に５００〜２０００ｍＰａ・Ｓ（２５℃）の高粘度の浸透印用インキを吸蔵させ、これを函体７に嵌装し、更に容易に握れるよう函体７と外函体８を嵌着して本実施例の浸透印とした。
ここで、多孔質印字体１の印字部２の厚さが０．５ｍｍ、インキ保持部３の厚さが４．５ｍｍ、斜面５の高さが１．０ｍｍであるので、多孔質印字体１を函体７に嵌装してもインキ保持部３が函体７に嵌装されるのみで、印字部２は函体７に嵌装されない。換言すると印字部２は函体７に全く接触しないこととなる。
よって、多孔質印字体１に押圧力が加えられて圧縮されても、それはインキ保持部３のみであって印字部２は圧縮の影響を受けない。よって、印字部２は圧潰されず、印面４からの過剰なインキの吐出による押印時の印影の滲みを防止でき、むらのない濃く鮮明な印影を得ることができた。
また、本実施例ではインキ保持部３の一部が斜面の一部も構成しているので、当該部分がクッションとして機能し、良好な押印感触に寄与する。

実施例２の浸透印は、多孔質印字体以外は実施例１と同様であるので、多孔質印字体についてのみ説明する。
多孔質印字体１１は、厚さ１．０ｍｍの印字部１２と厚さ４．０ｍｍのインキ保持部１３の各層を有する二層構造の印材を用いている。そして、文字等を描画する印面１４が圧力に耐えることができるように傾斜角度を付けながら、印材に高さ１．０ｍｍの斜面１５を形成して凸版状に形成してある。
具体的には、以下のように製造した。
原料ＳＢＲ１００部、硫黄５部、亜鉛華５部、加硫促進剤５部、軟化剤３０部、カーボンブラック５０部、老化防止剤２部、４０〜６０μｍの塩化ナトリウム５００部、５０〜６０μｍのバレイショデンプン１００部を混練してマスターバッチＡとし、これを厚さ２．０ｍｍの平板状のシートＡとした。これとは別に、原料ＳＢＲ１００部、硫黄５部、亜鉛華５部、加硫促進剤５部、軟化剤３０部、カーボンブラック５０部、老化防止剤２部、１５０〜２５０μｍの塩化ナトリウム９００部、７０〜１００μｍのバレイショデンプン１００部を加え混練してマスターバッチＢとし、これを厚さ４．０ｍｍの平板状のシートＢとした。
次に、シートＡとシートＢを重ね合わせ、これを平滑な金型内に収容し、次いで、２００ｋｇ／ｃｍ^２程度の圧力を加えて熱盤間に挟圧し、１２０℃の温度下で６０分間加硫した。加硫後離型して、塩化ナトリウム、バレイショデンプンが完全に除去されるまで充分に水洗し、脱水乾燥してシートＡとシートＢが一体化した多孔質ゴムシートを得た。
この多孔質ゴムシートをシートＡ側から炭酸ガスレーザ加工機にて走査ピッチ５０μｍ、仰角４５°、深度１．０ｍｍとなるように彫刻した後、所要のサイズに切断すると、印字部１２が厚さ１．０ｍｍ、硬度５０°（スプリング式硬さ試験Ｅ型硬度計の測定値）、気孔率７０％、気孔径４０〜６０μｍであって、インキ保持部１３が厚さ４．０ｍｍ、硬度２０°（スプリング式硬さ試験Ｅ型硬度計の測定値）、気孔率８０％、気孔径１５０〜２５０μｍであって、斜面１５の高さが１．０ｍｍである多孔質印字体１１を得ることができた。

次に、当該多孔質印字体１１に５００〜２０００ｍＰａ・Ｓ（２５℃）の高粘度の浸透印用インキを吸蔵させ、多孔質印字体１１の印面１４が函体７の下端より１．０ｍｍ突出するように、函体７に嵌装し、更に容易に握れるよう函体１７と外函体１８を嵌着して本実施例の浸透印とした。
ここで、印字部１２の厚さが１．０ｍｍ、インキ保持部１３の厚さが４．０ｍｍ、斜面１５の高さが１．０ｍｍであるので、多孔質印字体１１を函体１７に嵌装してもインキ保持部１３が函体１７に嵌装されるのみで、印字部１２は函体１７に嵌装されない。つまり印字部１２は函体１７に全く接触しない。
よって、多孔質印字体１１に押圧力が加えられて圧縮されても、それはインキ保持部１３のみであって印字部１２は圧縮の影響を受けない。よって、印字部１２は圧潰されず、印面１４からの過剰なインキの吐出による押印時の印影の滲みを防止でき、むらのない濃く鮮明な印影を得ることができた。

従来の浸透印の断面図 実施例１の断面図 実施例２の断面図

符号の説明

１ 多孔質印字体
２ 印字部
３ インキ保持部
４ 印面
５ 斜面
７ 函体
８ 外函体
１１ 多孔質印字体
１２ 印字部
１３ インキ保持部
１４ 印面
１５ 斜面
１７ 函体
１８ 外函体

Claims (1)

1. 印字部とインキ保持部を有する多孔質印字体であって、その印面を函体の下端より若干突出させて函体内に嵌装した浸透印において、多孔質印字体のインキ保持部が函体に嵌装されるのみで、印字部は函体に嵌装されないことを特徴とする浸透印。

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