JPH114069A - 無電解めっき用接着剤およびプリント配線板 - Google Patents
無電解めっき用接着剤およびプリント配線板Info
- Publication number
- JPH114069A JPH114069A JP10442298A JP10442298A JPH114069A JP H114069 A JPH114069 A JP H114069A JP 10442298 A JP10442298 A JP 10442298A JP 10442298 A JP10442298 A JP 10442298A JP H114069 A JPH114069 A JP H114069A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- adhesive
- electroless plating
- heat
- wiring board
- resistant resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 実用的なピール強度を維持して、線間、層間
の絶縁信頼性を確保するのに有利な無電解めっき用接着
剤を提供すること。 【解決手段】 硬化処理によって酸あるいは酸化剤に難
溶性となる未硬化の耐熱性樹脂マトリックス中に酸ある
いは酸化剤に可溶性の硬化処理された耐熱性樹脂粒子を
分散してなる無電解めっき用接着剤において、前記耐熱
性樹脂粒子は、その平均粒径が 1.5μｍ以下、より好ま
しくは 0.1〜1.0 μｍであり、さらに好ましくはその粒
度分布のピークにおける粒径が1.5 μｍ以下の領域にく
るような分布をもつものであることを特徴とする無電解
めっき用接着剤を提供する。
の絶縁信頼性を確保するのに有利な無電解めっき用接着
剤を提供すること。 【解決手段】 硬化処理によって酸あるいは酸化剤に難
溶性となる未硬化の耐熱性樹脂マトリックス中に酸ある
いは酸化剤に可溶性の硬化処理された耐熱性樹脂粒子を
分散してなる無電解めっき用接着剤において、前記耐熱
性樹脂粒子は、その平均粒径が 1.5μｍ以下、より好ま
しくは 0.1〜1.0 μｍであり、さらに好ましくはその粒
度分布のピークにおける粒径が1.5 μｍ以下の領域にく
るような分布をもつものであることを特徴とする無電解
めっき用接着剤を提供する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、無電解めっき用接
着剤およびプリント配線板に関し、特に、セミアディテ
ィブ法においては、実用的なピール強度を維持したまま
線間の絶縁信頼性を確保でき、また、フルアディティブ
法においては、実用的なピール強度を維持したまま高
温，多湿条件でも線間の絶縁信頼性を保証できる、ファ
インパターンの形成に有利な無電解めっき用接着剤と、
この接着剤を用いたプリント配線板についての提案であ
る。
着剤およびプリント配線板に関し、特に、セミアディテ
ィブ法においては、実用的なピール強度を維持したまま
線間の絶縁信頼性を確保でき、また、フルアディティブ
法においては、実用的なピール強度を維持したまま高
温，多湿条件でも線間の絶縁信頼性を保証できる、ファ
インパターンの形成に有利な無電解めっき用接着剤と、
この接着剤を用いたプリント配線板についての提案であ
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、多層配線基板の高密度化という要
請から、いわゆるビルドアップ多層配線基板が注目され
ている。このビルドアップ多層配線基板は、例えば特公
平４−55555 号公報に開示されているような方法により
製造される。即ち、コア基板上に、感光性の無電解めっ
き用接着剤からなる層間樹脂絶縁剤を塗布し、これを乾
燥したのち露光，現像することにより、バイアホール用
開口を有する層間樹脂絶縁層を形成し、次いで、この層
間樹脂絶縁層の表面を酸化剤等による処理にて粗化した
のち、その粗化面に感光性の樹脂層を露光，現像処理し
てなるめっきレジストを設け、その後、めっきレジスト
非形成部分に無電解めっきを施してバイアホールを含む
導体回路パターンを形成し、このような工程を複数回繰
り返すことにより、多層化したアディティブ法によるビ
ルドアップ配線基板が得られる。
請から、いわゆるビルドアップ多層配線基板が注目され
ている。このビルドアップ多層配線基板は、例えば特公
平４−55555 号公報に開示されているような方法により
製造される。即ち、コア基板上に、感光性の無電解めっ
き用接着剤からなる層間樹脂絶縁剤を塗布し、これを乾
燥したのち露光，現像することにより、バイアホール用
開口を有する層間樹脂絶縁層を形成し、次いで、この層
間樹脂絶縁層の表面を酸化剤等による処理にて粗化した
のち、その粗化面に感光性の樹脂層を露光，現像処理し
てなるめっきレジストを設け、その後、めっきレジスト
非形成部分に無電解めっきを施してバイアホールを含む
導体回路パターンを形成し、このような工程を複数回繰
り返すことにより、多層化したアディティブ法によるビ
ルドアップ配線基板が得られる。
【０００３】このような方法で製造されるビルドアップ
配線基板において、層間樹脂絶縁層に用いられる無電解
めっき用接着剤としては、特開昭63-158156 号公報や特
開平２−188992号公報（USP5055321号、USP5519177号)
に記載されているように、平均粒径２〜10μｍの粗粒子
と平均粒径２μｍ以下の微粒子とからなる溶解可能な硬
化処理済の樹脂粒子を硬化処理によって難溶性となる耐
熱性樹脂マトリックス中に分散させたものがある。ま
た、特開昭61-276875 号公報（USP4752499号、USP50214
72号) には、平均粒径1.6 μｍに破砕した溶解可能な硬
化処理済のエポキシ樹脂粉末を難溶性の耐熱性樹脂マト
リックス中に分散した無電解めっき用接着剤が開示され
ている。
配線基板において、層間樹脂絶縁層に用いられる無電解
めっき用接着剤としては、特開昭63-158156 号公報や特
開平２−188992号公報（USP5055321号、USP5519177号)
に記載されているように、平均粒径２〜10μｍの粗粒子
と平均粒径２μｍ以下の微粒子とからなる溶解可能な硬
化処理済の樹脂粒子を硬化処理によって難溶性となる耐
熱性樹脂マトリックス中に分散させたものがある。ま
た、特開昭61-276875 号公報（USP4752499号、USP50214
72号) には、平均粒径1.6 μｍに破砕した溶解可能な硬
化処理済のエポキシ樹脂粉末を難溶性の耐熱性樹脂マト
リックス中に分散した無電解めっき用接着剤が開示され
ている。
【０００４】これらの接着剤を用いて基板上に形成され
る層間樹脂絶縁層は、表層に存在する耐熱性樹脂粒子が
溶解除去されてその表面が粗化されるので、その粗化面
上にめっきレジストを介して形成される導体回路との密
着性に優れる。
る層間樹脂絶縁層は、表層に存在する耐熱性樹脂粒子が
溶解除去されてその表面が粗化されるので、その粗化面
上にめっきレジストを介して形成される導体回路との密
着性に優れる。
【０００５】しかしながら、フルアディティブ法によっ
て製造した配線基板のように、めっきレジストが永久レ
ジストとして残存するビルドアップ配線基板は、その永
久レジストと導体回路の界面での密着性が悪い。このた
め、このビルドアップ配線基板は、ＩＣチップを搭載す
ると、めっきレジストと導体回路の熱膨張率差に起因し
て、これらの界面を起点とするクラックが層間樹脂絶縁
層に発生するという問題があった。
て製造した配線基板のように、めっきレジストが永久レ
ジストとして残存するビルドアップ配線基板は、その永
久レジストと導体回路の界面での密着性が悪い。このた
め、このビルドアップ配線基板は、ＩＣチップを搭載す
ると、めっきレジストと導体回路の熱膨張率差に起因し
て、これらの界面を起点とするクラックが層間樹脂絶縁
層に発生するという問題があった。
【０００６】これに対し従来、層間樹脂絶縁層に発生す
るクラックを阻止できる技術として、めっきレジストを
除去して導体回路の少なくとも側面を粗化処理すること
により、その導体回路上に形成される層間樹脂絶縁層と
の密着性を改善する方法が提案されている。この方法を
有利に適用できる配線板の製造方法として、セミアディ
ティブ法が挙げられる。
るクラックを阻止できる技術として、めっきレジストを
除去して導体回路の少なくとも側面を粗化処理すること
により、その導体回路上に形成される層間樹脂絶縁層と
の密着性を改善する方法が提案されている。この方法を
有利に適用できる配線板の製造方法として、セミアディ
ティブ法が挙げられる。
【０００７】このセミアディティブ法は、まず、層間樹
脂絶縁層の表面を粗化し、その粗化面の全面に無電解め
っきを薄く施し、次いで、その無電解めっき膜の非導体
部分にめっきレジストを形成し、そのレジスト非形成部
分に電解めっきを厚く施した後、そのめっきレジストと
めっきレジスト下の無電解めっき膜を除去することによ
り、導体回路パターンを形成する方法である。
脂絶縁層の表面を粗化し、その粗化面の全面に無電解め
っきを薄く施し、次いで、その無電解めっき膜の非導体
部分にめっきレジストを形成し、そのレジスト非形成部
分に電解めっきを厚く施した後、そのめっきレジストと
めっきレジスト下の無電解めっき膜を除去することによ
り、導体回路パターンを形成する方法である。
【０００８】しかしながら、前述した接着剤を用いて製
造したセミアディティブ法によるビルドアップ配線基板
は、レジスト下にある接着剤層表面の粗化面の窪み（ア
ンカー）内に無電解めっき膜が残り、線間の絶縁信頼性
を低下させてしまうという問題があった。
造したセミアディティブ法によるビルドアップ配線基板
は、レジスト下にある接着剤層表面の粗化面の窪み（ア
ンカー）内に無電解めっき膜が残り、線間の絶縁信頼性
を低下させてしまうという問題があった。
【０００９】また、上記接着剤を用いて製造したフルア
ディティブ法によるビルドアップ配線基板も、高温多湿
条件下において導体回路間の絶縁抵抗値が低下するとい
う問題を抱えていた。
ディティブ法によるビルドアップ配線基板も、高温多湿
条件下において導体回路間の絶縁抵抗値が低下するとい
う問題を抱えていた。
【００１０】さらに、フルアディティブ法あるいはセミ
アディテイブ法によって製造した配線基板は、いずれの
場合も、接着剤中に平均粒径２μｍ以上の比較的大きな
耐熱性樹脂粒子を含むと、層間絶縁を破壊するという問
題を抱えていた。
アディテイブ法によって製造した配線基板は、いずれの
場合も、接着剤中に平均粒径２μｍ以上の比較的大きな
耐熱性樹脂粒子を含むと、層間絶縁を破壊するという問
題を抱えていた。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述したフ
ルアディティブ法あるいはセミアディティブ法によって
製造した配線板が抱える問題を解消するための技術を提
案する。本発明の主たる目的は、実用的なピール強度を
維持して、線間、層間の絶縁信頼性を確保するのに有利
な無電解めっき用接着剤を提供することにある。本発明
の他の目的は、上記無電解めっき用接着剤を用いて信頼
性に優れるプリント配線板を提供することにある。
ルアディティブ法あるいはセミアディティブ法によって
製造した配線板が抱える問題を解消するための技術を提
案する。本発明の主たる目的は、実用的なピール強度を
維持して、線間、層間の絶縁信頼性を確保するのに有利
な無電解めっき用接着剤を提供することにある。本発明
の他の目的は、上記無電解めっき用接着剤を用いて信頼
性に優れるプリント配線板を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】発明者は、上記目的の実
現に向け鋭意研究した。その結果、上述したような問題
が発生するのは、溶解除去される耐熱性樹脂粒子の平均
粒径が大きすぎることに原因があると考え、以下のよう
な知見を得た。即ち、平均粒径２〜10μｍの粗粒子と平
均粒径２μｍ以下の微粒子からなる溶解可能な樹脂粒子
を難溶性の耐熱性樹脂マトリックス中に分散させた前述
の接着剤からなる層間樹脂絶縁層は、その層表面に形成
される粗化面の窪み（アンカー）の深さは10μｍ程度
（例えば、特開平７−34048 号（ＵＳＰ 5519177号）公
報の実施例１）である。このため、セミアディティブ法
では、無電解めっき膜がその窪みの深部にまで形成され
る結果、その無電解めっき膜が完全にエッチング除去で
きずに残留して線間絶縁性を低下させるものと考えられ
る。一方、フルアディティブ法では、粗化面の窪みが深
いとその表面積が大きくなり、無電解めっき膜の触媒核
であるパラジウムが線間のめっきレジスト下に多数付着
することになる。その結果、そのパラジウムが、高温多
湿条件下において、耐熱性樹脂中の塩素イオンなどと反
応して導電性の化合物を形成し、線間の絶縁特性を低下
させてしまうと考えられる。また、平均粒径２μｍ以上
の耐熱性樹脂粒子が層間樹脂絶縁層中に存在している場
合、粗化処理により、層間に空隙が発生しやすく、この
空隙にめっき膜が析出して上層と下層の導体回路を電気
的に接続し、層間絶縁が破壊されてしまうと考えられ
る。
現に向け鋭意研究した。その結果、上述したような問題
が発生するのは、溶解除去される耐熱性樹脂粒子の平均
粒径が大きすぎることに原因があると考え、以下のよう
な知見を得た。即ち、平均粒径２〜10μｍの粗粒子と平
均粒径２μｍ以下の微粒子からなる溶解可能な樹脂粒子
を難溶性の耐熱性樹脂マトリックス中に分散させた前述
の接着剤からなる層間樹脂絶縁層は、その層表面に形成
される粗化面の窪み（アンカー）の深さは10μｍ程度
（例えば、特開平７−34048 号（ＵＳＰ 5519177号）公
報の実施例１）である。このため、セミアディティブ法
では、無電解めっき膜がその窪みの深部にまで形成され
る結果、その無電解めっき膜が完全にエッチング除去で
きずに残留して線間絶縁性を低下させるものと考えられ
る。一方、フルアディティブ法では、粗化面の窪みが深
いとその表面積が大きくなり、無電解めっき膜の触媒核
であるパラジウムが線間のめっきレジスト下に多数付着
することになる。その結果、そのパラジウムが、高温多
湿条件下において、耐熱性樹脂中の塩素イオンなどと反
応して導電性の化合物を形成し、線間の絶縁特性を低下
させてしまうと考えられる。また、平均粒径２μｍ以上
の耐熱性樹脂粒子が層間樹脂絶縁層中に存在している場
合、粗化処理により、層間に空隙が発生しやすく、この
空隙にめっき膜が析出して上層と下層の導体回路を電気
的に接続し、層間絶縁が破壊されてしまうと考えられ
る。
【００１３】発明者は、このような知見に基づき、以下
の点を特徴とする無電解めっき用接着剤を開発した。 (1) 本発明の無電解めっき用接着剤は、硬化処理によっ
て酸あるいは酸化剤に難溶性となる未硬化の耐熱性樹脂
マトリックス中に酸あるいは酸化剤に可溶性の硬化処理
された耐熱性樹脂粒子を分散してなる無電解めっき用接
着剤において、前記耐熱性樹脂粒子は、その平均粒径が
1.5μｍ以下、より好ましくは 0.1〜1.0μｍであるこ
とを特徴とする。
の点を特徴とする無電解めっき用接着剤を開発した。 (1) 本発明の無電解めっき用接着剤は、硬化処理によっ
て酸あるいは酸化剤に難溶性となる未硬化の耐熱性樹脂
マトリックス中に酸あるいは酸化剤に可溶性の硬化処理
された耐熱性樹脂粒子を分散してなる無電解めっき用接
着剤において、前記耐熱性樹脂粒子は、その平均粒径が
1.5μｍ以下、より好ましくは 0.1〜1.0μｍであるこ
とを特徴とする。
【００１４】ここで、前記耐熱性樹脂粒子は、球状粒子
であることが好ましく、その粒度分布のピークにおける
粒径が1.5 μｍ以下の領域にくるような分布をもつもの
であることが好ましく、その分布のピークは一つである
ことが好ましい。
であることが好ましく、その粒度分布のピークにおける
粒径が1.5 μｍ以下の領域にくるような分布をもつもの
であることが好ましく、その分布のピークは一つである
ことが好ましい。
【００１５】また、本発明のプリント配線板は、以下に
示す構成を特徴とする。 (2) 基板上に、表面が粗化された硬化処理済の無電解め
っき用接着剤層を有し、その接着剤層表面の粗化面上に
導体回路が形成されてなるプリント配線板において、前
記接着剤層は、硬化処理によって酸あるいは酸化剤に難
溶性となる未硬化の耐熱性樹脂マトリックス中に酸ある
いは酸化剤に可溶性の硬化処理された耐熱性樹脂粒子を
分散してなる無電解めっき用接着剤からなり、その耐熱
性樹脂粒子は、平均粒径が 1.5μｍ以下、より好ましく
は 0.1〜1.0 μｍであることを特徴とする。
示す構成を特徴とする。 (2) 基板上に、表面が粗化された硬化処理済の無電解め
っき用接着剤層を有し、その接着剤層表面の粗化面上に
導体回路が形成されてなるプリント配線板において、前
記接着剤層は、硬化処理によって酸あるいは酸化剤に難
溶性となる未硬化の耐熱性樹脂マトリックス中に酸ある
いは酸化剤に可溶性の硬化処理された耐熱性樹脂粒子を
分散してなる無電解めっき用接着剤からなり、その耐熱
性樹脂粒子は、平均粒径が 1.5μｍ以下、より好ましく
は 0.1〜1.0 μｍであることを特徴とする。
【００１６】ここで、前記耐熱性樹脂粒子は、球状粒子
であることが好ましく、その粒度分布のピークにおける
粒径が1.5 μｍ以下の領域にくるような分布をもつもの
であることが好ましく、その分布のピークは一つである
ことが好ましい。前記接着剤層表面の粗化面は、その窪
みの深さがＲmax ＝１〜５μｍであることが好ましい。
前記接着剤層表面の粗化面上に形成した導体回路は、無
電解めっき膜と電解めっき膜とによって構成されている
ことが好ましく、また、その導体回路には、表面の少な
くとも一部に粗化層が形成されていることが好ましい。
前記基板の表面には、少なくともその一部に粗化層を有
する導体回路が形成されていることが好ましい。
であることが好ましく、その粒度分布のピークにおける
粒径が1.5 μｍ以下の領域にくるような分布をもつもの
であることが好ましく、その分布のピークは一つである
ことが好ましい。前記接着剤層表面の粗化面は、その窪
みの深さがＲmax ＝１〜５μｍであることが好ましい。
前記接着剤層表面の粗化面上に形成した導体回路は、無
電解めっき膜と電解めっき膜とによって構成されている
ことが好ましく、また、その導体回路には、表面の少な
くとも一部に粗化層が形成されていることが好ましい。
前記基板の表面には、少なくともその一部に粗化層を有
する導体回路が形成されていることが好ましい。
【００１７】
【発明の実施の形態】さて、セミアディティブ法の場合
は、前述したように、めっきレジスト下の無電解めっき
膜を溶解除去する必要がある。このため、粗化面の窪み
が深いと、その窪み内に無電解めっき膜が残りやすく、
線間絶縁抵抗値が低下する原因となってしまう。一方、
その窪みが単純な形状で浅い場合には、めっき膜のピー
ル強度が低下して導体が剥がれやすくなってしまう。フ
ルアディティブ法の場合は、前述したように、めっきレ
ジスト下にパラジウム触媒が残存するので、粗化面の窪
みが深いと、高温多湿条件下で線間の絶縁抵抗値が低下
してしまう。一方、その窪みが単純な形状で浅い場合に
は、セミアディティブ法の場合と同様に、めっき膜のピ
ール強度が低下して導体が剥がれやすくなってしまう。
は、前述したように、めっきレジスト下の無電解めっき
膜を溶解除去する必要がある。このため、粗化面の窪み
が深いと、その窪み内に無電解めっき膜が残りやすく、
線間絶縁抵抗値が低下する原因となってしまう。一方、
その窪みが単純な形状で浅い場合には、めっき膜のピー
ル強度が低下して導体が剥がれやすくなってしまう。フ
ルアディティブ法の場合は、前述したように、めっきレ
ジスト下にパラジウム触媒が残存するので、粗化面の窪
みが深いと、高温多湿条件下で線間の絶縁抵抗値が低下
してしまう。一方、その窪みが単純な形状で浅い場合に
は、セミアディティブ法の場合と同様に、めっき膜のピ
ール強度が低下して導体が剥がれやすくなってしまう。
【００１８】この点、本発明の無電解めっき用接着剤
は、平均粒径が 1.5μｍ以下である耐熱性樹脂粒子、好
ましくは、粒度分布のピークにおける粒径が1.5 μｍ以
下の領域にくるような分布をもつ耐熱性樹脂粒子を含む
ことに特徴がある。これにより、粒径の大きい樹脂粒子
の溶解によって粗化面の窪みが深くなるのを防止して
（粗化面の窪みを浅くして）、その窪み内での無電解め
っき膜の溶解残渣をなくしたり、めっきレジスト下のパ
ラジウム触媒量を少なくしたりしているので、窪みの浅
い粗化面でも実用的なピール強度を維持しつつ、線間、
層間の絶縁信頼性を確保することができる。
は、平均粒径が 1.5μｍ以下である耐熱性樹脂粒子、好
ましくは、粒度分布のピークにおける粒径が1.5 μｍ以
下の領域にくるような分布をもつ耐熱性樹脂粒子を含む
ことに特徴がある。これにより、粒径の大きい樹脂粒子
の溶解によって粗化面の窪みが深くなるのを防止して
（粗化面の窪みを浅くして）、その窪み内での無電解め
っき膜の溶解残渣をなくしたり、めっきレジスト下のパ
ラジウム触媒量を少なくしたりしているので、窪みの浅
い粗化面でも実用的なピール強度を維持しつつ、線間、
層間の絶縁信頼性を確保することができる。
【００１９】即ち、本発明の無電解めっき用接着剤にお
いて、上記耐熱性樹脂粒子は、平均粒径が 1.5μｍ以下
であり、好ましくは、粒度分布のピークにおける粒径が
1.5μｍ以下の領域にくるような分布をもつものである
ので、従来技術のような粒径の大きい樹脂粒子がなく、
溶解除去されて形造る窪みの深さは浅く、粗化が進行し
すぎて空隙を発生させることがない。それ故に、この耐
熱性樹脂粒子を含む接着剤を用いて製造したプリント配
線板は、層間絶縁性に優れている。
いて、上記耐熱性樹脂粒子は、平均粒径が 1.5μｍ以下
であり、好ましくは、粒度分布のピークにおける粒径が
1.5μｍ以下の領域にくるような分布をもつものである
ので、従来技術のような粒径の大きい樹脂粒子がなく、
溶解除去されて形造る窪みの深さは浅く、粗化が進行し
すぎて空隙を発生させることがない。それ故に、この耐
熱性樹脂粒子を含む接着剤を用いて製造したプリント配
線板は、層間絶縁性に優れている。
【００２０】また、このような耐熱性樹脂粒子を含む接
着剤を用いて製造したプリント配線板は、粗化面の窪み
が浅くても実用的なピール強度を維持できるという以外
な事実を知見した。例えば、フルアディティブ法の場
合、粗化面にめっきレジスト形成のために設けた感光性
樹脂層を露光，現像処理してめっきレジストを形成す
る。そのため、粗化面の窪みが深いと、その窪み内にめ
っきレジストの現像残りが生じやすくなる。この点、本
発明では、形造られる窪みは浅く、その窪み内のレジス
トを容易に現像できるので、めっきレジストの現像残り
が生じにくく、窪みを浅くしてもピール強度の低下が比
較的少ないのである。一方、セミアディティブ法の場合
は、粗化面に直に無電解めっき膜を形成する方法である
ので、粗化面の窪み内にめっきレジストが残ることはな
く、窪みを浅くしてもピール強度の低下が比較的少な
い。
着剤を用いて製造したプリント配線板は、粗化面の窪み
が浅くても実用的なピール強度を維持できるという以外
な事実を知見した。例えば、フルアディティブ法の場
合、粗化面にめっきレジスト形成のために設けた感光性
樹脂層を露光，現像処理してめっきレジストを形成す
る。そのため、粗化面の窪みが深いと、その窪み内にめ
っきレジストの現像残りが生じやすくなる。この点、本
発明では、形造られる窪みは浅く、その窪み内のレジス
トを容易に現像できるので、めっきレジストの現像残り
が生じにくく、窪みを浅くしてもピール強度の低下が比
較的少ないのである。一方、セミアディティブ法の場合
は、粗化面に直に無電解めっき膜を形成する方法である
ので、粗化面の窪み内にめっきレジストが残ることはな
く、窪みを浅くしてもピール強度の低下が比較的少な
い。
【００２１】なお、バイアホール形成用の開口を露光，
現像処理やレーザ加工等で形成する場合、バイアホール
形成用の開口の底部には無電解めっき用接着剤が残渣と
して残る。この点に関し、本発明では、無電解めっき用
接着剤中に酸や酸化剤に溶解する平均粒径 1.5μｍ以下
（好ましくは、平均粒径 0.1〜1.0 μｍ）の微細な耐熱
性樹脂粒子が存在するので、このような残渣は酸や酸化
剤による粗化処理によって容易に除去でき、残渣除去の
ための層を接着剤層の下にわざわざ形成する必要がな
い。しかも、本発明では、形造られる窪みが浅いので、
セミアディティブ法あるいはフルアディティブ法のいず
れを採用した場合でも、線間／線幅（以下、単にＬ／Ｓ
と称する）＝40／40μｍ未満のファインパターンを形成
できる。
現像処理やレーザ加工等で形成する場合、バイアホール
形成用の開口の底部には無電解めっき用接着剤が残渣と
して残る。この点に関し、本発明では、無電解めっき用
接着剤中に酸や酸化剤に溶解する平均粒径 1.5μｍ以下
（好ましくは、平均粒径 0.1〜1.0 μｍ）の微細な耐熱
性樹脂粒子が存在するので、このような残渣は酸や酸化
剤による粗化処理によって容易に除去でき、残渣除去の
ための層を接着剤層の下にわざわざ形成する必要がな
い。しかも、本発明では、形造られる窪みが浅いので、
セミアディティブ法あるいはフルアディティブ法のいず
れを採用した場合でも、線間／線幅（以下、単にＬ／Ｓ
と称する）＝40／40μｍ未満のファインパターンを形成
できる。
【００２２】このような本発明にかかる前記耐熱性樹脂
粒子は、破砕粒子ではなく球状粒子であることが好まし
い。この理由は、耐熱性樹脂粒子が破砕粒子であると、
粗化面の窪み形状が角張ったものとなり、その角に応力
集中が発生しやすく、ヒートサイクルによりその角から
クラックが生じやすいからである。
粒子は、破砕粒子ではなく球状粒子であることが好まし
い。この理由は、耐熱性樹脂粒子が破砕粒子であると、
粗化面の窪み形状が角張ったものとなり、その角に応力
集中が発生しやすく、ヒートサイクルによりその角から
クラックが生じやすいからである。
【００２３】この耐熱性樹脂粒子は、平均粒径が 0.1〜
1.0 μｍであることが好ましい。この理由は、平均粒径
がこの範囲内にあると、前記耐熱性樹脂粒子が溶解除去
されて形造る窪みの深さは、概ねＲmax ＝３μｍ程度と
なる。その結果、セミアディテイブ法では、非導体部分
の無電解めっき膜を容易にエッチング除去できるだけで
はなく、その無電解めっき膜下のＰｄ触媒核をも容易に
除去でき、しかも、導体部分のピール強度を、実用的な
レベルである 1.0〜1.3 kg／cmに維持できるからであ
る。一方、フルアディティブ法では、めっきレジスト下
のＰｄ触媒核の量を減らすことができるだけでなく、導
体部分のめっきレジスト残りをなくすことができるの
で、浅い窪みでも実用的なピール強度である 1.0〜1.3
kg／cmに維持できるからである。
1.0 μｍであることが好ましい。この理由は、平均粒径
がこの範囲内にあると、前記耐熱性樹脂粒子が溶解除去
されて形造る窪みの深さは、概ねＲmax ＝３μｍ程度と
なる。その結果、セミアディテイブ法では、非導体部分
の無電解めっき膜を容易にエッチング除去できるだけで
はなく、その無電解めっき膜下のＰｄ触媒核をも容易に
除去でき、しかも、導体部分のピール強度を、実用的な
レベルである 1.0〜1.3 kg／cmに維持できるからであ
る。一方、フルアディティブ法では、めっきレジスト下
のＰｄ触媒核の量を減らすことができるだけでなく、導
体部分のめっきレジスト残りをなくすことができるの
で、浅い窪みでも実用的なピール強度である 1.0〜1.3
kg／cmに維持できるからである。
【００２４】上記耐熱性樹脂粒子は、粒度分布のピーク
における粒径が1.5 μｍ以下の領域、より好ましくは
0.1〜1.0 μｍの領域にくるような分布をもつものであ
ることが望ましい。特に、粒度分布のピークにおける粒
径が 0.1〜1.0 μｍの領域に存在する場合は、その標準
偏差は 0.5以下であることが望ましい。このような粒度
分布に調整することにより、耐熱性樹脂粒子の構成粒子
は２μｍ未満となり、従来技術のような粒径の大きい樹
脂粒子の影響を完全に除去することができる。
における粒径が1.5 μｍ以下の領域、より好ましくは
0.1〜1.0 μｍの領域にくるような分布をもつものであ
ることが望ましい。特に、粒度分布のピークにおける粒
径が 0.1〜1.0 μｍの領域に存在する場合は、その標準
偏差は 0.5以下であることが望ましい。このような粒度
分布に調整することにより、耐熱性樹脂粒子の構成粒子
は２μｍ未満となり、従来技術のような粒径の大きい樹
脂粒子の影響を完全に除去することができる。
【００２５】ここで、耐熱性樹脂粒子の粒度分布は、レ
ーザ回折／散乱法により測定する。このレーザ回折／散
乱法の測定原理を以下に説明する。まず、測定対象の粒
子にレーザ光を照射することにより、空間的に回折／散
乱光の光強度分布パターンが生じる。この光強度分布パ
ターンは、粒子の大きさによって変化する。即ち、粒子
径と光強度分布パターンの間には、１対１の関係が存在
し、光強度分布パターンが判れば、その粒子径を特定す
ることができる。実際のサンプルは、多数の粒子からな
る粒子群である。このため、光強度分布パターンは、そ
れぞれの粒子からの回折／散乱光の重ね合わせである。
この重合わせの光強度分布パターンから、計算によって
サンプル粒子群の粒度分布を求めるのである。なお、こ
のようなレーザ回折／散乱法を利用した測定装置として
は、島津製作所製の「島津レーザ回折式粒度分布測定装
置SALD−2000／SALD−2000Ａ」や「島津レーザ回折式粒
度分布測定装置SALD−3000」がある。
ーザ回折／散乱法により測定する。このレーザ回折／散
乱法の測定原理を以下に説明する。まず、測定対象の粒
子にレーザ光を照射することにより、空間的に回折／散
乱光の光強度分布パターンが生じる。この光強度分布パ
ターンは、粒子の大きさによって変化する。即ち、粒子
径と光強度分布パターンの間には、１対１の関係が存在
し、光強度分布パターンが判れば、その粒子径を特定す
ることができる。実際のサンプルは、多数の粒子からな
る粒子群である。このため、光強度分布パターンは、そ
れぞれの粒子からの回折／散乱光の重ね合わせである。
この重合わせの光強度分布パターンから、計算によって
サンプル粒子群の粒度分布を求めるのである。なお、こ
のようなレーザ回折／散乱法を利用した測定装置として
は、島津製作所製の「島津レーザ回折式粒度分布測定装
置SALD−2000／SALD−2000Ａ」や「島津レーザ回折式粒
度分布測定装置SALD−3000」がある。
【００２６】こうして得られる粒度分布には、例えば、
図25や図26に示すような、粒子径とその粒子径を示す樹
脂粒子の存在割合（存在量）の関係を示すものがある。
ここで、粒度分布のピークとは、樹脂粒子の存在割合
（存在量）が極大となる点を意味する。
図25や図26に示すような、粒子径とその粒子径を示す樹
脂粒子の存在割合（存在量）の関係を示すものがある。
ここで、粒度分布のピークとは、樹脂粒子の存在割合
（存在量）が極大となる点を意味する。
【００２７】本発明においては、上記耐熱性樹脂粒子
は、粒度分布のピークが一つであることが好ましい。即
ち、樹脂粒子の存在割合（存在量）の極大値が一つであ
る場合である。このような粒度分布にすれば、粒子径の
分布に起因する光散乱を抑制できるので現像残りが少な
くなる。また、製品の管理がしやすく、ピール強度など
の特性にばらつきが生じにくくなり、量産性に優れたプ
リント配線板を提供することができる。なお、粒度分布
の調整は、遠心分離法や風力分級法、ふるいなどを用い
ておこなう。
は、粒度分布のピークが一つであることが好ましい。即
ち、樹脂粒子の存在割合（存在量）の極大値が一つであ
る場合である。このような粒度分布にすれば、粒子径の
分布に起因する光散乱を抑制できるので現像残りが少な
くなる。また、製品の管理がしやすく、ピール強度など
の特性にばらつきが生じにくくなり、量産性に優れたプ
リント配線板を提供することができる。なお、粒度分布
の調整は、遠心分離法や風力分級法、ふるいなどを用い
ておこなう。
【００２８】本発明の無電解めっき用接着剤において、
上記耐熱性樹脂粒子の混合割合は、重量比で、耐熱性樹
脂マトリックスの固形分に対して５〜50重量％、より好
ましくは10〜40重量％がよい。この理由は、樹脂粒子の
含有量が多すぎると、粗化が進行しすぎて層間絶縁の破
壊が生じやすく、明確な粗化面を形成できないなどの問
題が生じ、一方、樹脂粒子の含有量が少なすぎても明確
な粗化面を形成できないからである。
上記耐熱性樹脂粒子の混合割合は、重量比で、耐熱性樹
脂マトリックスの固形分に対して５〜50重量％、より好
ましくは10〜40重量％がよい。この理由は、樹脂粒子の
含有量が多すぎると、粗化が進行しすぎて層間絶縁の破
壊が生じやすく、明確な粗化面を形成できないなどの問
題が生じ、一方、樹脂粒子の含有量が少なすぎても明確
な粗化面を形成できないからである。
【００２９】また、本発明の無電解めっき用接着剤にお
いて、上記耐熱性樹脂粒子は予め硬化処理されているこ
とが必要である。硬化されていないと樹脂マトリックス
を溶解させる溶剤に溶解してしまい、均一混合してしま
い、酸や酸化剤で耐熱性樹脂粒子のみを選択的に溶解除
去できなくなるからである。
いて、上記耐熱性樹脂粒子は予め硬化処理されているこ
とが必要である。硬化されていないと樹脂マトリックス
を溶解させる溶剤に溶解してしまい、均一混合してしま
い、酸や酸化剤で耐熱性樹脂粒子のみを選択的に溶解除
去できなくなるからである。
【００３０】本発明の無電解めっき用接着剤において、
耐熱性樹脂マトリックスとしては、熱硬化性樹脂（熱硬
化基の一部または全部を感光化したものも含む）、ある
いは熱硬化性樹脂（熱硬化基の一部または全部を感光化
したものも含む）と熱可塑性樹脂の複合体を用いること
ができる。ここで、上記熱硬化性樹脂としては、エポキ
シ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂などを用いる
ことができる。なお、熱硬化基の一部または全部を感光
化する場合は、熱硬化基の一部をメタクリル酸やアクリ
ル酸などと反応させてアクリル化させる。なかでもエポ
キシ樹脂のアクリレートが最適である。このエポキシ樹
脂としては、ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキ
シ樹脂などを用いることができる。硬化剤としては、25
℃で液状のものがよい。具体的には１−ベンジル−２−
メチルイミダゾール（１Ｂ２ＭＺ）、１−シアノエチル
−２−４−メチルイミダゾール（２Ｅ４ＭＺ−ＣＮ）、
４−メチル−２−エチルイミダゾール（２Ｅ４ＭＺ）な
どの液状イミダゾール硬化剤を用いることができる。上
記熱可塑性樹脂としては、ポリエーテルスルフォンやポ
リスルフォン、ポリフェニレンスルフォン、ポリフェニ
レンサルファイド、ポリフェニルエーテル、ポリエーテ
ルイミドなどを用いることができる。なお、上記熱可塑
性樹脂の配合量は、樹脂マトリックスの全固形分に対し
て30重量％未満であることが望ましく、より好ましくは
10〜25重量％とする。この理由は、30重量％以上では、
熱可塑性樹脂がバイアホール用開口底部に残存し、導通
不良や加熱試験などでバイアホールと内層導体回路との
剥離を起こしやすくなるからである。また、有機溶剤を
用いる場合、その有機溶剤としては、ジエチレングルコ
ールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）、トリエチレングル
コールジメチルエーテル（ＤＭＴＧ）などの下記の構造
式を持つグリコールエーテル系溶剤やＮ−メチルピロリ
ドン（ＮＭＰ）などを用いることが望ましい。 ＣＨ3 Ｏ−（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）n −ＣＨ3 （ｎ＝１〜
５）
耐熱性樹脂マトリックスとしては、熱硬化性樹脂（熱硬
化基の一部または全部を感光化したものも含む）、ある
いは熱硬化性樹脂（熱硬化基の一部または全部を感光化
したものも含む）と熱可塑性樹脂の複合体を用いること
ができる。ここで、上記熱硬化性樹脂としては、エポキ
シ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂などを用いる
ことができる。なお、熱硬化基の一部または全部を感光
化する場合は、熱硬化基の一部をメタクリル酸やアクリ
ル酸などと反応させてアクリル化させる。なかでもエポ
キシ樹脂のアクリレートが最適である。このエポキシ樹
脂としては、ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキ
シ樹脂などを用いることができる。硬化剤としては、25
℃で液状のものがよい。具体的には１−ベンジル−２−
メチルイミダゾール（１Ｂ２ＭＺ）、１−シアノエチル
−２−４−メチルイミダゾール（２Ｅ４ＭＺ−ＣＮ）、
４−メチル−２−エチルイミダゾール（２Ｅ４ＭＺ）な
どの液状イミダゾール硬化剤を用いることができる。上
記熱可塑性樹脂としては、ポリエーテルスルフォンやポ
リスルフォン、ポリフェニレンスルフォン、ポリフェニ
レンサルファイド、ポリフェニルエーテル、ポリエーテ
ルイミドなどを用いることができる。なお、上記熱可塑
性樹脂の配合量は、樹脂マトリックスの全固形分に対し
て30重量％未満であることが望ましく、より好ましくは
10〜25重量％とする。この理由は、30重量％以上では、
熱可塑性樹脂がバイアホール用開口底部に残存し、導通
不良や加熱試験などでバイアホールと内層導体回路との
剥離を起こしやすくなるからである。また、有機溶剤を
用いる場合、その有機溶剤としては、ジエチレングルコ
ールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）、トリエチレングル
コールジメチルエーテル（ＤＭＴＧ）などの下記の構造
式を持つグリコールエーテル系溶剤やＮ−メチルピロリ
ドン（ＮＭＰ）などを用いることが望ましい。 ＣＨ3 Ｏ−（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）n −ＣＨ3 （ｎ＝１〜
５）
【００３１】本発明の無電解めっき用接着剤において、
耐熱性樹脂粒子としては、アミノ樹脂（メラミン樹脂、
尿素樹脂、グアナミン樹脂など）、エポキシ樹脂、ビス
マレイミド−トリアジン樹脂などを用いることができ
る。なお、エポキシ樹脂は、オリゴマーの種類、硬化剤
の種類などを適宜選択することにより、酸や酸化剤に溶
解するもの、あるいは難溶解性のものを任意に調製する
ことができる。例えば、ビスフェノールＡ型エポキシオ
リゴマーをアミン系硬化剤で硬化させた樹脂はクロム酸
に非常によく溶けるが、クレゾールノボラック型エポキ
シオリゴマーをイミダゾール硬化剤で硬化させた樹脂は
クロム酸に溶解しにくい。
耐熱性樹脂粒子としては、アミノ樹脂（メラミン樹脂、
尿素樹脂、グアナミン樹脂など）、エポキシ樹脂、ビス
マレイミド−トリアジン樹脂などを用いることができ
る。なお、エポキシ樹脂は、オリゴマーの種類、硬化剤
の種類などを適宜選択することにより、酸や酸化剤に溶
解するもの、あるいは難溶解性のものを任意に調製する
ことができる。例えば、ビスフェノールＡ型エポキシオ
リゴマーをアミン系硬化剤で硬化させた樹脂はクロム酸
に非常によく溶けるが、クレゾールノボラック型エポキ
シオリゴマーをイミダゾール硬化剤で硬化させた樹脂は
クロム酸に溶解しにくい。
【００３２】なお、本発明の無電解めっき用接着剤は、
ガラス布などの繊維質基体に含浸させてＢステージ状に
したり、あるいはフィルム状に成形してあってもよい。
また、基板状に成形してあってもよい。さらに、本発明
の無電解めっき用接着剤は、構成樹脂をハロゲン化して
難燃化してもよく、また、色素、顔料、紫外線吸収剤を
添加してもよい。そしてさらに繊維状のフィラーや無機
フィラーを充填して靱性や熱膨張率を調整してよい。
ガラス布などの繊維質基体に含浸させてＢステージ状に
したり、あるいはフィルム状に成形してあってもよい。
また、基板状に成形してあってもよい。さらに、本発明
の無電解めっき用接着剤は、構成樹脂をハロゲン化して
難燃化してもよく、また、色素、顔料、紫外線吸収剤を
添加してもよい。そしてさらに繊維状のフィラーや無機
フィラーを充填して靱性や熱膨張率を調整してよい。
【００３３】次に、本発明の無電解めっき用接着剤を使
用したプリント配線板は、基板上に、表面が粗化された
硬化処理済の無電解めっき用接着剤層を有し、その接着
剤層表面の粗化面上に導体回路が形成されてなるプリン
ト配線板において、前記接着剤層は、硬化処理によって
酸あるいは酸化剤に難溶性となる未硬化の耐熱性樹脂マ
トリックス中に酸あるいは酸化剤に可溶性の硬化処理さ
れた耐熱性樹脂粒子を分散してなる無電解めっき用接着
剤からなり、その耐熱性樹脂粒子は、平均粒径が 1.5μ
ｍ以下、より好ましくは 0.1〜1.0 μｍであることを特
徴とする。
用したプリント配線板は、基板上に、表面が粗化された
硬化処理済の無電解めっき用接着剤層を有し、その接着
剤層表面の粗化面上に導体回路が形成されてなるプリン
ト配線板において、前記接着剤層は、硬化処理によって
酸あるいは酸化剤に難溶性となる未硬化の耐熱性樹脂マ
トリックス中に酸あるいは酸化剤に可溶性の硬化処理さ
れた耐熱性樹脂粒子を分散してなる無電解めっき用接着
剤からなり、その耐熱性樹脂粒子は、平均粒径が 1.5μ
ｍ以下、より好ましくは 0.1〜1.0 μｍであることを特
徴とする。
【００３４】このような本発明のプリント配線板におい
て、上記耐熱性樹脂粒子は、粒度分布のピークにおける
粒径が 1.5μｍ以下の領域にくるような分布をもつもの
であることが好ましい。これにより、本発明にかかるプ
リント配線板の接着剤層には、従来技術のような粒径の
大きい樹脂粒子がなく、溶解除去されて形造る窪みの深
さは浅く、粗化が進行しすぎて空隙を発生させることが
ない。それ故に、この耐熱性樹脂粒子を含む接着剤層を
有する本発明のプリント配線板は、層間絶縁性に優れて
いる。しかも、本発明のプリント配線板は、粗化面の窪
みが浅くても実用的なピール強度を維持される。
て、上記耐熱性樹脂粒子は、粒度分布のピークにおける
粒径が 1.5μｍ以下の領域にくるような分布をもつもの
であることが好ましい。これにより、本発明にかかるプ
リント配線板の接着剤層には、従来技術のような粒径の
大きい樹脂粒子がなく、溶解除去されて形造る窪みの深
さは浅く、粗化が進行しすぎて空隙を発生させることが
ない。それ故に、この耐熱性樹脂粒子を含む接着剤層を
有する本発明のプリント配線板は、層間絶縁性に優れて
いる。しかも、本発明のプリント配線板は、粗化面の窪
みが浅くても実用的なピール強度を維持される。
【００３５】また、本発明のプリント配線板において、
上記耐熱性樹脂粒子は、粒度分布のピークが一つである
ことが好ましい。即ち、樹脂粒子の存在割合（存在量）
の極大値が一つである場合である。このような粒度分布
にすれば、粒子径の相違による光散乱を抑制できるので
現像残りが少なくなる。その結果、バイアホール用の開
口部の壁面形状も良好となる。
上記耐熱性樹脂粒子は、粒度分布のピークが一つである
ことが好ましい。即ち、樹脂粒子の存在割合（存在量）
の極大値が一つである場合である。このような粒度分布
にすれば、粒子径の相違による光散乱を抑制できるので
現像残りが少なくなる。その結果、バイアホール用の開
口部の壁面形状も良好となる。
【００３６】この発明にかかるプリント配線板におい
て、接着剤層表面の粗化面は、その窪みの深さがＲmax
＝１〜５μｍであることが好ましい。この窪みの深さ
は、従来の接着剤で形造られる粗化面の窪みの深さＲma
x ＝10μｍの１／２程度であり、めっきレジスト下の無
電解めっき膜を溶解除去してもめっき膜が残らず、めっ
きレジスト下のパラジウム触媒核の量も少なくできるよ
うな範囲である。
て、接着剤層表面の粗化面は、その窪みの深さがＲmax
＝１〜５μｍであることが好ましい。この窪みの深さ
は、従来の接着剤で形造られる粗化面の窪みの深さＲma
x ＝10μｍの１／２程度であり、めっきレジスト下の無
電解めっき膜を溶解除去してもめっき膜が残らず、めっ
きレジスト下のパラジウム触媒核の量も少なくできるよ
うな範囲である。
【００３７】なお、無電解めっき用接着剤層の厚さは、
50μｍ未満、望ましくは15〜45μｍがよい。接着剤層の
厚さを50μｍ未満と薄くした場合、接着剤層中の耐熱性
樹脂粒子が連通して層間の絶縁破壊を起こしやすい。こ
の点、本発明では、耐熱性樹脂粒子の粒子径を微細にし
ているため、このような破壊が発生しにくい。また、こ
の無電解めっき用接着剤層には、直径 100μｍ未満のバ
イアホールが形成されていることが望ましい。小径バイ
アホールを形成する場合、現像残りが生じやすい。この
点、本発明では、微細な耐熱性樹脂粒子を含む接着剤を
使用しているので、現像残りを除去しやすい。しかも、
小径バイアホールを形成する場合、接着剤中に大粒子を
含んでいると粗化によってバイアホール径が大きくなっ
てしまう。この点でも、本発明のような微細な耐熱性樹
脂粒子を含む接着剤が有利である。
50μｍ未満、望ましくは15〜45μｍがよい。接着剤層の
厚さを50μｍ未満と薄くした場合、接着剤層中の耐熱性
樹脂粒子が連通して層間の絶縁破壊を起こしやすい。こ
の点、本発明では、耐熱性樹脂粒子の粒子径を微細にし
ているため、このような破壊が発生しにくい。また、こ
の無電解めっき用接着剤層には、直径 100μｍ未満のバ
イアホールが形成されていることが望ましい。小径バイ
アホールを形成する場合、現像残りが生じやすい。この
点、本発明では、微細な耐熱性樹脂粒子を含む接着剤を
使用しているので、現像残りを除去しやすい。しかも、
小径バイアホールを形成する場合、接着剤中に大粒子を
含んでいると粗化によってバイアホール径が大きくなっ
てしまう。この点でも、本発明のような微細な耐熱性樹
脂粒子を含む接着剤が有利である。
【００３８】本発明のプリント配線板において、セミア
ディティブ法では、接着剤層表面の粗化面上に形成され
る導体回路は、薄付けの無電解めっき膜と厚付けの電解
めっき膜とで構成されていることが好ましい。めっき応
力が小さい電解めっき膜を厚付けする上記構成とするこ
とにより、粗化面の窪みが浅くてもめっき膜剥離が生じ
なくなる。
ディティブ法では、接着剤層表面の粗化面上に形成され
る導体回路は、薄付けの無電解めっき膜と厚付けの電解
めっき膜とで構成されていることが好ましい。めっき応
力が小さい電解めっき膜を厚付けする上記構成とするこ
とにより、粗化面の窪みが浅くてもめっき膜剥離が生じ
なくなる。
【００３９】本発明のプリント配線板では、無電解めっ
き用接着剤が形成される基板の表面には、導体回路が形
成されていてもよい。この場合、該導体回路は、少なく
ともその表面の一部に粗化層を有することが好ましい。
例えば、基板がフルアディティブ法により形成されてい
る場合は、導体回路の上面に、またサブトラクティブ法
により形成されている場合は、導体回路の側面または全
面に、粗化層が形成されていることが望ましい。この理
由は、これらの粗化層により、無電解めっき用接着剤層
との密着性が改善され、ヒートサイクル時における導体
回路と無電解めっき用接着剤との熱膨張率差に起因する
クラックを抑制できるからである。
き用接着剤が形成される基板の表面には、導体回路が形
成されていてもよい。この場合、該導体回路は、少なく
ともその表面の一部に粗化層を有することが好ましい。
例えば、基板がフルアディティブ法により形成されてい
る場合は、導体回路の上面に、またサブトラクティブ法
により形成されている場合は、導体回路の側面または全
面に、粗化層が形成されていることが望ましい。この理
由は、これらの粗化層により、無電解めっき用接着剤層
との密着性が改善され、ヒートサイクル時における導体
回路と無電解めっき用接着剤との熱膨張率差に起因する
クラックを抑制できるからである。
【００４０】さらに、接着剤層表面の粗化面上に形成し
た導体回路には、表面の少なくとも一部、即ち上面、側
面または全面に粗化層が形成されていることが好まし
い。この理由は、その導体回路を被覆するソルダーレジ
ストや上層の層間樹脂絶縁層との密着性を改善してヒー
トサイクル時に発生するクラックを抑制できるからであ
る。
た導体回路には、表面の少なくとも一部、即ち上面、側
面または全面に粗化層が形成されていることが好まし
い。この理由は、その導体回路を被覆するソルダーレジ
ストや上層の層間樹脂絶縁層との密着性を改善してヒー
トサイクル時に発生するクラックを抑制できるからであ
る。
【００４１】次に、本発明にかかるプリント配線板をセ
ミアディティブおよびフルアディティブ法にて製造する
方法を具体的に説明する。 〔セミアディティブ法〕 (1) セミアディティブ法により多層配線板を製造するた
めに、まず、基板の表面に導体回路を形成した配線基板
を作製する。この基板としては、ガラスエポキシ基板や
ポリイミド基板、ビスマレイミド−トリアジン樹脂基板
などの樹脂絶縁基板、セラミック基板、金属基板などを
用いることができる。この配線基板の導体回路は、銅張
積層板をエッチングして行う方法、あるいは、ガラスエ
ポキシ基板やポリイミド基板、セラミック基板、金属基
板などの基板に無電解めっき用接着剤層を形成し、この
接着剤層表面を粗化して粗化面とし、ここに無電解めっ
きする方法、もしくはいわゆるセミアディティブ法（そ
の粗化面全体に薄付けの無電解めっきを施し、めっきレ
ジストを形成し、めっきレジスト非形成部分に厚付けの
電解めっきを施した後、めっきレジスト除去し、エッチ
ング処理して、電解めっき膜と無電解めっき膜とからな
る導体回路を形成する方法）により形成される。
ミアディティブおよびフルアディティブ法にて製造する
方法を具体的に説明する。 〔セミアディティブ法〕 (1) セミアディティブ法により多層配線板を製造するた
めに、まず、基板の表面に導体回路を形成した配線基板
を作製する。この基板としては、ガラスエポキシ基板や
ポリイミド基板、ビスマレイミド−トリアジン樹脂基板
などの樹脂絶縁基板、セラミック基板、金属基板などを
用いることができる。この配線基板の導体回路は、銅張
積層板をエッチングして行う方法、あるいは、ガラスエ
ポキシ基板やポリイミド基板、セラミック基板、金属基
板などの基板に無電解めっき用接着剤層を形成し、この
接着剤層表面を粗化して粗化面とし、ここに無電解めっ
きする方法、もしくはいわゆるセミアディティブ法（そ
の粗化面全体に薄付けの無電解めっきを施し、めっきレ
ジストを形成し、めっきレジスト非形成部分に厚付けの
電解めっきを施した後、めっきレジスト除去し、エッチ
ング処理して、電解めっき膜と無電解めっき膜とからな
る導体回路を形成する方法）により形成される。
【００４２】なお、上記配線基板の導体回路は、少なく
とも側面を含む表面に、銅−ニッケル−リンからなる粗
化層を形成することにより、この導体回路の上に形成さ
れる層間樹脂絶縁層との密着性を改善することができ
る。この粗化層は、無電解めっきにより形成することが
望ましい。その無電解めっきの液組成は、銅イオン濃
度、ニッケルイオン濃度、次亜リン酸イオン濃度が、そ
れぞれ 2.2×10-2〜4.1 ×10-2 mol／ｌ、 2.2×10-3〜
4.1 ×10-3 mol／ｌ、0.20〜0.25 mol／ｌであることが
望ましい。この範囲で析出する皮膜は、結晶構造が針状
構造であり、アンカー効果に優れるからである。なお、
無電解めっき浴には上記化合物に加えて錯化剤や添加剤
を加えてもよい。粗化層を形成する他の方法として、導
体回路表面を酸化（黒化）−還元処理したり、エッチン
グ処理して形成する方法などがある。
とも側面を含む表面に、銅−ニッケル−リンからなる粗
化層を形成することにより、この導体回路の上に形成さ
れる層間樹脂絶縁層との密着性を改善することができ
る。この粗化層は、無電解めっきにより形成することが
望ましい。その無電解めっきの液組成は、銅イオン濃
度、ニッケルイオン濃度、次亜リン酸イオン濃度が、そ
れぞれ 2.2×10-2〜4.1 ×10-2 mol／ｌ、 2.2×10-3〜
4.1 ×10-3 mol／ｌ、0.20〜0.25 mol／ｌであることが
望ましい。この範囲で析出する皮膜は、結晶構造が針状
構造であり、アンカー効果に優れるからである。なお、
無電解めっき浴には上記化合物に加えて錯化剤や添加剤
を加えてもよい。粗化層を形成する他の方法として、導
体回路表面を酸化（黒化）−還元処理したり、エッチン
グ処理して形成する方法などがある。
【００４３】この粗化層は、イオン化傾向が銅より大き
くかつチタン以下である金属または貴金属の層で被覆さ
れていてもよい。これらの金属または貴金属の層は、粗
化層を被覆し、層間樹脂絶縁層を粗化する際に起こる局
部電極反応による導体回路の溶解を防止できるからであ
る。その層の厚さは 0.1〜２μｍがよい。このような金
属としては、チタン、アルミニウム、亜鉛、鉄、インジ
ウム、タリウム、コバルト、ニッケル、スズ、鉛、ビス
マスから選ばれるいずれか少なくとも１種がある。貴金
属としては、金、銀、白金、パラジウムがある。これら
のうち、特にスズがよい。スズは無電解置換めっきによ
り薄い層を形成でき、粗化層に追従できるため有利であ
る。このスズの場合、ホウフッ化スズ−チオ尿素、塩化
スズ−チオ尿素液を使用する。そして、Cu−Snの置換反
応により 0.1〜２μｍ程度のSn層が形成される。貴金属
の場合は、スパッタや蒸着などの方法が採用できる。
くかつチタン以下である金属または貴金属の層で被覆さ
れていてもよい。これらの金属または貴金属の層は、粗
化層を被覆し、層間樹脂絶縁層を粗化する際に起こる局
部電極反応による導体回路の溶解を防止できるからであ
る。その層の厚さは 0.1〜２μｍがよい。このような金
属としては、チタン、アルミニウム、亜鉛、鉄、インジ
ウム、タリウム、コバルト、ニッケル、スズ、鉛、ビス
マスから選ばれるいずれか少なくとも１種がある。貴金
属としては、金、銀、白金、パラジウムがある。これら
のうち、特にスズがよい。スズは無電解置換めっきによ
り薄い層を形成でき、粗化層に追従できるため有利であ
る。このスズの場合、ホウフッ化スズ−チオ尿素、塩化
スズ−チオ尿素液を使用する。そして、Cu−Snの置換反
応により 0.1〜２μｍ程度のSn層が形成される。貴金属
の場合は、スパッタや蒸着などの方法が採用できる。
【００４４】また、コア基板には、スルーホールが形成
され、このスルーホールを介して表面と裏面の配線層を
電気的に接続することができる。さらに、スルーホール
およびコア基板の導体回路間にビスフェノールＦ型エポ
キシ樹脂などの低粘度の樹脂を充填し、配線基板の平滑
性を確保してもよい。
され、このスルーホールを介して表面と裏面の配線層を
電気的に接続することができる。さらに、スルーホール
およびコア基板の導体回路間にビスフェノールＦ型エポ
キシ樹脂などの低粘度の樹脂を充填し、配線基板の平滑
性を確保してもよい。
【００４５】(2) 次に、前記(1) で作製した配線基板の
上に、層間樹脂絶縁剤を塗布する。この層間樹脂絶縁剤
としては、本発明の無電解めっき用接着剤を用いる。こ
のとき、層間樹脂絶縁剤の塗布は、ロールコータ、カー
テンコータなどを使用できる。なお、層間樹脂絶縁層を
複数層とし、各層における耐熱性樹脂粒子の粒子径を変
えてもよい。例えば、下層の耐熱性樹脂粒子を平均粒径
0.5μｍとし、上層の耐熱性樹脂粒子を平均粒径 1.0μ
ｍとして、耐熱性樹脂粒子の粒子径が異なる無電解めっ
き用接着剤で構成してもよい。特に、下層の耐熱性樹脂
粒子は、平均粒径を 0.1〜2.0 μｍ、より好ましくは平
均粒径を 0.1〜1.0 μｍとする。
上に、層間樹脂絶縁剤を塗布する。この層間樹脂絶縁剤
としては、本発明の無電解めっき用接着剤を用いる。こ
のとき、層間樹脂絶縁剤の塗布は、ロールコータ、カー
テンコータなどを使用できる。なお、層間樹脂絶縁層を
複数層とし、各層における耐熱性樹脂粒子の粒子径を変
えてもよい。例えば、下層の耐熱性樹脂粒子を平均粒径
0.5μｍとし、上層の耐熱性樹脂粒子を平均粒径 1.0μ
ｍとして、耐熱性樹脂粒子の粒子径が異なる無電解めっ
き用接着剤で構成してもよい。特に、下層の耐熱性樹脂
粒子は、平均粒径を 0.1〜2.0 μｍ、より好ましくは平
均粒径を 0.1〜1.0 μｍとする。
【００４６】ここで、下層の接着剤層を構成する耐熱性
樹脂マトリックスとしては、熱硬化性樹脂、熱硬化性樹
脂（熱硬化基の一部または全部を感光化したものも含
む）、もしくは熱硬化性樹脂（熱硬化基の一部または全
部を感光化したものも含む）と熱可塑性樹脂の複合体を
用いることができる。下層の接着剤層を構成する熱硬化
性樹脂としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリ
イミド樹脂などを用いることができる。なお、熱硬化基
の一部を感光化する場合は、熱硬化基の一部をメタクリ
ル酸やアクリル酸などと反応させてアクリル化させる。
なかでもエポキシ樹脂のアクリレートが最適である。こ
のエポキシ樹脂としては、ノボラック型エポキシ樹脂、
脂環式エポキシ樹脂などを用いることができる。下層の
接着剤層を構成する熱可塑性樹脂としては、ポリエーテ
ルスルフォンやポリスルフォン、ポリフェニレンスルフ
ォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニルエー
テル、ポリエーテルイミドなどを用いることができる。
下層の接着剤層を構成する耐熱性樹脂粒子としては、ア
ミノ樹脂（メラミン樹脂、尿素樹脂、グアナミン樹脂な
ど）、エポキシ樹脂、ビスマレイミド−トリアジン樹脂
などを用いることができる。
樹脂マトリックスとしては、熱硬化性樹脂、熱硬化性樹
脂（熱硬化基の一部または全部を感光化したものも含
む）、もしくは熱硬化性樹脂（熱硬化基の一部または全
部を感光化したものも含む）と熱可塑性樹脂の複合体を
用いることができる。下層の接着剤層を構成する熱硬化
性樹脂としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリ
イミド樹脂などを用いることができる。なお、熱硬化基
の一部を感光化する場合は、熱硬化基の一部をメタクリ
ル酸やアクリル酸などと反応させてアクリル化させる。
なかでもエポキシ樹脂のアクリレートが最適である。こ
のエポキシ樹脂としては、ノボラック型エポキシ樹脂、
脂環式エポキシ樹脂などを用いることができる。下層の
接着剤層を構成する熱可塑性樹脂としては、ポリエーテ
ルスルフォンやポリスルフォン、ポリフェニレンスルフ
ォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニルエー
テル、ポリエーテルイミドなどを用いることができる。
下層の接着剤層を構成する耐熱性樹脂粒子としては、ア
ミノ樹脂（メラミン樹脂、尿素樹脂、グアナミン樹脂な
ど）、エポキシ樹脂、ビスマレイミド−トリアジン樹脂
などを用いることができる。
【００４７】(3) 塗布した層間樹脂絶縁剤（無電解めっ
き用接着剤）を乾燥する。この時点では、基板の導体回
路上に設けた層間樹脂絶縁層は、導体回路パターン上の
層間樹脂絶縁層の厚さが薄く、大面積を持つ導体回路上
の層間樹脂絶縁層の厚さが厚くなり、凹凸が発生してい
る状態であることが多い。そのため、この凹凸状態にあ
る層間樹脂絶縁層を、金属板や金属ロールを用いて加熱
しながら押圧し、その層間樹脂絶縁層の表面を平坦化す
ることが望ましい。
き用接着剤）を乾燥する。この時点では、基板の導体回
路上に設けた層間樹脂絶縁層は、導体回路パターン上の
層間樹脂絶縁層の厚さが薄く、大面積を持つ導体回路上
の層間樹脂絶縁層の厚さが厚くなり、凹凸が発生してい
る状態であることが多い。そのため、この凹凸状態にあ
る層間樹脂絶縁層を、金属板や金属ロールを用いて加熱
しながら押圧し、その層間樹脂絶縁層の表面を平坦化す
ることが望ましい。
【００４８】(4) 次に、層間樹脂絶縁層を硬化する一方
で、その層間樹脂絶縁層にはバイアホール形成用の開口
を設ける。層間樹脂絶縁層の硬化処理は、無電解めっき
用接着剤の樹脂マトリックスが熱硬化性樹脂である場合
は熱硬化して行い、感光性樹脂である場合は紫外線など
で露光して行う。バイアホール形成用の開口は、無電解
めっき用接着剤の樹脂マトリックスが熱硬化性樹脂であ
る場合は、レーザ光や酸素プラズマなどを用いて穿孔
し、感光性樹脂である場合は露光現像処理にて穿孔され
る。なお、露光現像処理は、バイアホール形成のための
円パターンが描画されたフォトマスク（ガラス基板がよ
い）を、円パターン側を感光性の層間樹脂絶縁層の上に
密着させて載置したのち、露光、現像処理する。
で、その層間樹脂絶縁層にはバイアホール形成用の開口
を設ける。層間樹脂絶縁層の硬化処理は、無電解めっき
用接着剤の樹脂マトリックスが熱硬化性樹脂である場合
は熱硬化して行い、感光性樹脂である場合は紫外線など
で露光して行う。バイアホール形成用の開口は、無電解
めっき用接着剤の樹脂マトリックスが熱硬化性樹脂であ
る場合は、レーザ光や酸素プラズマなどを用いて穿孔
し、感光性樹脂である場合は露光現像処理にて穿孔され
る。なお、露光現像処理は、バイアホール形成のための
円パターンが描画されたフォトマスク（ガラス基板がよ
い）を、円パターン側を感光性の層間樹脂絶縁層の上に
密着させて載置したのち、露光、現像処理する。
【００４９】(5) 次に、バイアホール形成用開口を設け
た層間樹脂絶縁層（無電解めっき用接着剤層）の表面を
粗化する。特に本発明では、無電解めっき用接着剤層の
表面に存在する耐熱性樹脂粒子を酸あるいは酸化剤によ
って溶解除去することにより、接着剤層表面を粗化処理
する。このとき、粗化面の窪みの深さは、１〜５μｍ程
度が好ましい。ここで、上記酸としては、リン酸、塩
酸、硫酸、あるいは蟻酸や酢酸などの有機酸があるが、
特に有機酸を用いることが望ましい。粗化処理した場合
に、バイアホールから露出する金属導体層を腐食させに
くいからである。一方、上記酸化剤としては、クロム
酸、過マンガン酸塩（過マンガン酸カリウムなど）を用
いることが望ましい。
た層間樹脂絶縁層（無電解めっき用接着剤層）の表面を
粗化する。特に本発明では、無電解めっき用接着剤層の
表面に存在する耐熱性樹脂粒子を酸あるいは酸化剤によ
って溶解除去することにより、接着剤層表面を粗化処理
する。このとき、粗化面の窪みの深さは、１〜５μｍ程
度が好ましい。ここで、上記酸としては、リン酸、塩
酸、硫酸、あるいは蟻酸や酢酸などの有機酸があるが、
特に有機酸を用いることが望ましい。粗化処理した場合
に、バイアホールから露出する金属導体層を腐食させに
くいからである。一方、上記酸化剤としては、クロム
酸、過マンガン酸塩（過マンガン酸カリウムなど）を用
いることが望ましい。
【００５０】(6) 次に、層間樹脂絶縁層の粗化面に触媒
核を付与する。触媒核の付与には、貴金属イオンや貴金
属コロイドなどを用いることが望ましく、一般的には、
塩化パラジウムやパラジウムコロイドを使用する。な
お、触媒核を固定するために加熱処理を行うことが望ま
しい。このような触媒核としてはパラジウムがよい。
核を付与する。触媒核の付与には、貴金属イオンや貴金
属コロイドなどを用いることが望ましく、一般的には、
塩化パラジウムやパラジウムコロイドを使用する。な
お、触媒核を固定するために加熱処理を行うことが望ま
しい。このような触媒核としてはパラジウムがよい。
【００５１】(7) 次に、粗化した層間樹脂絶縁層上の全
面に薄付けの無電解めっき膜を形成する。この無電解め
っき膜は、無電解銅めっき膜がよく、その厚みは、１〜
５μｍ、より望ましくは２〜３μｍとする。なお、無電
解銅めっき液としては、常法で採用される液組成のもの
を使用でき、例えば、硫酸銅：29ｇ／ｌ、炭酸ナトリウ
ム：25ｇ／ｌ、酒石酸塩： 140ｇ／ｌ、水酸化ナトリウ
ム：40ｇ／ｌ、37％ホルムアルデヒド： 150ｍｌ、（ｐ
Ｈ＝11.5）からなる液組成のものがよい。
面に薄付けの無電解めっき膜を形成する。この無電解め
っき膜は、無電解銅めっき膜がよく、その厚みは、１〜
５μｍ、より望ましくは２〜３μｍとする。なお、無電
解銅めっき液としては、常法で採用される液組成のもの
を使用でき、例えば、硫酸銅：29ｇ／ｌ、炭酸ナトリウ
ム：25ｇ／ｌ、酒石酸塩： 140ｇ／ｌ、水酸化ナトリウ
ム：40ｇ／ｌ、37％ホルムアルデヒド： 150ｍｌ、（ｐ
Ｈ＝11.5）からなる液組成のものがよい。
【００５２】(8) 次に、前記(7) で設けた無電解めっき
膜上に感光性樹脂フィルム（ドライフィルム）をラミネ
ートし、この感光性樹脂フィルム上に、めっきレジスト
パターンが描画されたフォトマスク（ガラス基板がよ
い）を密着させて載置し、露光、現像処理することによ
り、めっきレジストパターンを配設した非導体部分を形
成する。
膜上に感光性樹脂フィルム（ドライフィルム）をラミネ
ートし、この感光性樹脂フィルム上に、めっきレジスト
パターンが描画されたフォトマスク（ガラス基板がよ
い）を密着させて載置し、露光、現像処理することによ
り、めっきレジストパターンを配設した非導体部分を形
成する。
【００５３】(9) 次に、無電解めっき膜上の非導体部分
以外に電解めっき膜を形成し、導体回路、ならびにバイ
アホールとなる導体部を設ける。ここで、電解めっきと
しては、電解銅めっきを用いることが望ましく、その厚
みは、10〜20μｍがよい。
以外に電解めっき膜を形成し、導体回路、ならびにバイ
アホールとなる導体部を設ける。ここで、電解めっきと
しては、電解銅めっきを用いることが望ましく、その厚
みは、10〜20μｍがよい。
【００５４】(10)次に、非導体部分のめっきレジストを
除去した後、さらに、硫酸と過酸化水素の混合液や過硫
酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム、塩化第二鉄、塩化
第二銅などのエッチング液にて無電解めっき膜を溶解除
去し、無電解めっき膜と電解めっき膜の２層からなる独
立した導体回路、ならびにバイアホールを得る。なお、
非導体部分に露出した粗化面上のパラジウム触媒核は、
クロム酸などで溶解除去する。
除去した後、さらに、硫酸と過酸化水素の混合液や過硫
酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム、塩化第二鉄、塩化
第二銅などのエッチング液にて無電解めっき膜を溶解除
去し、無電解めっき膜と電解めっき膜の２層からなる独
立した導体回路、ならびにバイアホールを得る。なお、
非導体部分に露出した粗化面上のパラジウム触媒核は、
クロム酸などで溶解除去する。
【００５５】(11)次に、前記(10)で得た導体回路、なら
びにバイアホールの表面に粗化層を形成する。この粗化
層の形成方法としては、エッチング処理、研磨処理、酸
化還元処理あるいはめっき処理がある。酸化還元処理
は、酸化浴（黒化浴）としてNaOH（10ｇ／ｌ）、NaClO2
（40ｇ／ｌ）、Na3PO4（６ｇ／ｌ）を用い、還元浴とし
てNaOH（10ｇ／ｌ）、NaBH4 （５ｇ／ｌ）を用いて行
う。また、銅−ニッケル−リン合金層による粗化層を形
成する場合は無電解めっきにより析出させる。この合金
の無電解めっき液としては、硫酸銅１〜40ｇ／ｌ、硫酸
ニッケル0.1 〜6.0 ｇ／ｌ、クエン酸10〜20ｇ／ｌ、次
亜リン酸塩10〜100ｇ／ｌ、ホウ酸10〜40ｇ／ｌ、界面
活性剤0.01〜10ｇ／ｌからなる液組成のめっき浴を用い
ることが望ましい。
びにバイアホールの表面に粗化層を形成する。この粗化
層の形成方法としては、エッチング処理、研磨処理、酸
化還元処理あるいはめっき処理がある。酸化還元処理
は、酸化浴（黒化浴）としてNaOH（10ｇ／ｌ）、NaClO2
（40ｇ／ｌ）、Na3PO4（６ｇ／ｌ）を用い、還元浴とし
てNaOH（10ｇ／ｌ）、NaBH4 （５ｇ／ｌ）を用いて行
う。また、銅−ニッケル−リン合金層による粗化層を形
成する場合は無電解めっきにより析出させる。この合金
の無電解めっき液としては、硫酸銅１〜40ｇ／ｌ、硫酸
ニッケル0.1 〜6.0 ｇ／ｌ、クエン酸10〜20ｇ／ｌ、次
亜リン酸塩10〜100ｇ／ｌ、ホウ酸10〜40ｇ／ｌ、界面
活性剤0.01〜10ｇ／ｌからなる液組成のめっき浴を用い
ることが望ましい。
【００５６】(12)次に、この基板上に(2),(3) の工程に
従い、層間樹脂絶縁層を形成する。 (13)さらに、必要に応じて (4)〜(10)の工程を繰り返す
ことにより多層化し、多層配線基板を製造する。
従い、層間樹脂絶縁層を形成する。 (13)さらに、必要に応じて (4)〜(10)の工程を繰り返す
ことにより多層化し、多層配線基板を製造する。
【００５７】〔フルアディティブ法〕 (1) まず、本発明の無電解めっき用接着剤を使用し、セ
ミアディティ法と同様にして、 (1)〜(6) の工程を実施
する。 (2) 次に、触媒核が付与された層間樹脂絶縁層（無電解
めっき用接着剤層）の粗化面上に、めっきレジストパタ
ーンを配設した非導体部分を形成する。このめっきレジ
ストは、市販の感光性ドライフィルムをラミネートして
露光，現像処理する方法、あるいは液状のめっきレジス
ト組成物をロールコータなどで塗布して乾燥，露光，現
像処理する方法により形成される。上記めっきレジスト
組成物としては、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂
やフェノールノボラック型エポキシ樹脂などのノボラッ
ク型エポキシ樹脂をメタクリル酸やアクリル酸でアクリ
ル化した樹脂とイミダゾール硬化剤からなる感光性樹脂
組成物を使用することが望ましい。その理由は、かかる
感光性樹脂組成物は、解像度や耐塩基性に優れるからで
ある。
ミアディティ法と同様にして、 (1)〜(6) の工程を実施
する。 (2) 次に、触媒核が付与された層間樹脂絶縁層（無電解
めっき用接着剤層）の粗化面上に、めっきレジストパタ
ーンを配設した非導体部分を形成する。このめっきレジ
ストは、市販の感光性ドライフィルムをラミネートして
露光，現像処理する方法、あるいは液状のめっきレジス
ト組成物をロールコータなどで塗布して乾燥，露光，現
像処理する方法により形成される。上記めっきレジスト
組成物としては、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂
やフェノールノボラック型エポキシ樹脂などのノボラッ
ク型エポキシ樹脂をメタクリル酸やアクリル酸でアクリ
ル化した樹脂とイミダゾール硬化剤からなる感光性樹脂
組成物を使用することが望ましい。その理由は、かかる
感光性樹脂組成物は、解像度や耐塩基性に優れるからで
ある。
【００５８】(3) 次に、非導体部分（めっきレジスト部
分）以外に無電解めっきを施し、導体回路、ならびにバ
イアホールとなる導体部を設ける。無電解めっきは、無
電解銅めっきが好ましい。なお、バイアホール形成用開
口を無電解めっきにて充填して、いわゆるフィルドビア
を形成する場合は、まず、無電解めっき用接着剤層上に
触媒核を付与する前に、バイアホール形成用の開口から
露出する下層の導体層の表面を酸で処理して活性化して
無電解めっき液に浸漬する。そして、無電解めっきでバ
イアホール形成用開口を充填した後、無電解めっき用接
着剤層上に触媒核を付与し、めっきレジストを設けて、
無電解めっきを行うことにより、導体層を設ける。この
ような無電解めっき膜での充填により形成されたバイア
ホールは、その直上にさらに他のバイアホールを形成す
ることができるので、配線板の小径化、高密度化が可能
となる。また、導体層と無電解めっき用接着剤層との密
着力を向上させる手段として、銅、ニッケル、コバルト
およびリンから選ばれるいずれか少なくとも２種以上の
金属イオンを使用した合金めっきを一次めっきとして施
し、その後、銅めっきを二次めっきとして施す方法があ
る。これらの合金は強度が高く、ピール強度を向上させ
ることができるからである。
分）以外に無電解めっきを施し、導体回路、ならびにバ
イアホールとなる導体部を設ける。無電解めっきは、無
電解銅めっきが好ましい。なお、バイアホール形成用開
口を無電解めっきにて充填して、いわゆるフィルドビア
を形成する場合は、まず、無電解めっき用接着剤層上に
触媒核を付与する前に、バイアホール形成用の開口から
露出する下層の導体層の表面を酸で処理して活性化して
無電解めっき液に浸漬する。そして、無電解めっきでバ
イアホール形成用開口を充填した後、無電解めっき用接
着剤層上に触媒核を付与し、めっきレジストを設けて、
無電解めっきを行うことにより、導体層を設ける。この
ような無電解めっき膜での充填により形成されたバイア
ホールは、その直上にさらに他のバイアホールを形成す
ることができるので、配線板の小径化、高密度化が可能
となる。また、導体層と無電解めっき用接着剤層との密
着力を向上させる手段として、銅、ニッケル、コバルト
およびリンから選ばれるいずれか少なくとも２種以上の
金属イオンを使用した合金めっきを一次めっきとして施
し、その後、銅めっきを二次めっきとして施す方法があ
る。これらの合金は強度が高く、ピール強度を向上させ
ることができるからである。
【００５９】(4) 次に、めっきレジスト部分以外に形成
された導体回路、ならびにバイアホールの上面に粗化層
を形成する。この粗化層の形成方法としては、エッチン
グ処理、研磨処理、酸化還元処理あるいはめっき処理が
ある。なお、銅−ニッケル−リン合金層による粗化層を
形成する場合は無電解めっきにより析出させる。
された導体回路、ならびにバイアホールの上面に粗化層
を形成する。この粗化層の形成方法としては、エッチン
グ処理、研磨処理、酸化還元処理あるいはめっき処理が
ある。なお、銅−ニッケル−リン合金層による粗化層を
形成する場合は無電解めっきにより析出させる。
【００６０】(5) さらに、必要に応じて上層の層間絶縁
層（無電解めっき用接着剤層）と導体層を積層して多層
化し、多層配線基板を製造する。
層（無電解めっき用接着剤層）と導体層を積層して多層
化し、多層配線基板を製造する。
【００６１】
（実施例１）セミアディティブ法 0.5μｍ (1) 厚さ 0.6mmのガラスエポキシ樹脂またはＢＴ（ビス
マレイミドトリアジン）樹脂からなる基板１の両面に18
μｍの銅箔８がラミネートされてなる銅張積層板を出発
材料とした（図１参照）。まず、この銅張積層板をドリ
ル削孔し、無電解めっきを施し、パターン状にエッチン
グすることにより、基板１の両面に内層導体回路４とス
ルーホール９を形成した。この内層導体回路４とスルー
ホール９の表面を酸化（黒化）−還元処理して粗化し
（図２参照）、導体回路間とスルーホール内に、充填樹
脂10としてビスフェノールＦ型エポキシ樹脂を充填した
後（図３参照）、その基板表面を、導体回路表面および
スルーホールのランド表面が露出するまで研磨して平坦
化した（図４参照）。
マレイミドトリアジン）樹脂からなる基板１の両面に18
μｍの銅箔８がラミネートされてなる銅張積層板を出発
材料とした（図１参照）。まず、この銅張積層板をドリ
ル削孔し、無電解めっきを施し、パターン状にエッチン
グすることにより、基板１の両面に内層導体回路４とス
ルーホール９を形成した。この内層導体回路４とスルー
ホール９の表面を酸化（黒化）−還元処理して粗化し
（図２参照）、導体回路間とスルーホール内に、充填樹
脂10としてビスフェノールＦ型エポキシ樹脂を充填した
後（図３参照）、その基板表面を、導体回路表面および
スルーホールのランド表面が露出するまで研磨して平坦
化した（図４参照）。
【００６２】(2) 前記(1) の処理を施した基板を水洗い
し、乾燥した後、その基板を酸性脱脂してソフトエッチ
ングし、次いで、塩化パラジウムと有機酸からなる触媒
溶液で処理して、Ｐｄ触媒を付与し、この触媒を活性化
した後、硫酸銅８ｇ／ｌ、硫酸ニッケル 0.6ｇ／ｌ、ク
エン酸15ｇ／ｌ、次亜リン酸ナトリウム29ｇ／ｌ、ホウ
酸31ｇ／ｌ、界面活性剤 0.1ｇ／ｌ、ｐＨ＝９からなる
無電解めっき浴にてめっきを施し、銅導体回路の露出し
た表面にCu−Ni−Ｐ合金からなる厚さ 2.5μｍの粗化層
11（凹凸層）を形成した。さらに，その基板を、0.1mol
／ｌホウふっ化スズ−1.0mol／ｌチオ尿素液からなる無
電解スズ置換めっき浴に50℃で１時間浸漬し、前記粗化
層11の表面に厚さ0.3μｍのスズ置換めっき層を設けた
（図５参照、但しスズ層については図示しない）。
し、乾燥した後、その基板を酸性脱脂してソフトエッチ
ングし、次いで、塩化パラジウムと有機酸からなる触媒
溶液で処理して、Ｐｄ触媒を付与し、この触媒を活性化
した後、硫酸銅８ｇ／ｌ、硫酸ニッケル 0.6ｇ／ｌ、ク
エン酸15ｇ／ｌ、次亜リン酸ナトリウム29ｇ／ｌ、ホウ
酸31ｇ／ｌ、界面活性剤 0.1ｇ／ｌ、ｐＨ＝９からなる
無電解めっき浴にてめっきを施し、銅導体回路の露出し
た表面にCu−Ni−Ｐ合金からなる厚さ 2.5μｍの粗化層
11（凹凸層）を形成した。さらに，その基板を、0.1mol
／ｌホウふっ化スズ−1.0mol／ｌチオ尿素液からなる無
電解スズ置換めっき浴に50℃で１時間浸漬し、前記粗化
層11の表面に厚さ0.3μｍのスズ置換めっき層を設けた
（図５参照、但しスズ層については図示しない）。
【００６３】(3) ＤＭＤＧ（ジエチレングリコールジメ
チルエーテル）に溶解したクレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂（日本化薬製、分子量2500）の25％アクリル化
物を34重量部、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）12重
量部、イミダゾール硬化剤（四国化成製、商品名：2E4M
Z-CN）２重量部、感光性モノマーであるカプロラクトン
変成トリス（アクロキシエチル）イソシアヌレート（東
亜合成製、商品名：アロニックスＭ315 ）４重量部、光
開始剤（チバガイギー社製、商品名：イルガキュアー90
7 ）２重量部、光増感剤（日本化薬製、商品名：DETX−
Ｓ）0.2 重量部、さらに、エポキシ樹脂粒子（三洋化成
製、商品名：ポリマーポール S-301、この粒子の粒度分
布を図25に示す。この粒子の平均粒子径はメジアン径で
0.51μｍであり、標準偏差0.193 である。この粒子は、
0.09μｍ〜1.32μｍの範囲に分布しており、その粒度分
布のピークにおける粒径は0.58μｍで、図25から明らか
であるようにそのピークは一つである。なお、粒度分布
の測定は、島津製作所製、島津レーザ回折式粒度分布測
定装置：SALD−2000を使用した。）を25重量部を混合し
た後、ＮＭＰ（ノルマルメチルピロリドン）30.0重量部
を添加しながら混合し、ホモディスパー攪拌機で粘度７
Pa・ｓに調整し、続いて３本ロールで混練して感光性の
無電解めっき用接着剤溶液（層間樹脂絶縁剤）を得た。
チルエーテル）に溶解したクレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂（日本化薬製、分子量2500）の25％アクリル化
物を34重量部、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）12重
量部、イミダゾール硬化剤（四国化成製、商品名：2E4M
Z-CN）２重量部、感光性モノマーであるカプロラクトン
変成トリス（アクロキシエチル）イソシアヌレート（東
亜合成製、商品名：アロニックスＭ315 ）４重量部、光
開始剤（チバガイギー社製、商品名：イルガキュアー90
7 ）２重量部、光増感剤（日本化薬製、商品名：DETX−
Ｓ）0.2 重量部、さらに、エポキシ樹脂粒子（三洋化成
製、商品名：ポリマーポール S-301、この粒子の粒度分
布を図25に示す。この粒子の平均粒子径はメジアン径で
0.51μｍであり、標準偏差0.193 である。この粒子は、
0.09μｍ〜1.32μｍの範囲に分布しており、その粒度分
布のピークにおける粒径は0.58μｍで、図25から明らか
であるようにそのピークは一つである。なお、粒度分布
の測定は、島津製作所製、島津レーザ回折式粒度分布測
定装置：SALD−2000を使用した。）を25重量部を混合し
た後、ＮＭＰ（ノルマルメチルピロリドン）30.0重量部
を添加しながら混合し、ホモディスパー攪拌機で粘度７
Pa・ｓに調整し、続いて３本ロールで混練して感光性の
無電解めっき用接着剤溶液（層間樹脂絶縁剤）を得た。
【００６４】(4) 前記(3) で得た感光性の接着剤溶液
を、前記(2) の処理を終えた基板の両面に、ロールコー
タを用いて塗布し、水平状態で20分間放置してから、60
℃で30分間の乾燥を行い、厚さ60μｍの接着剤層２を形
成した（図６参照）。
を、前記(2) の処理を終えた基板の両面に、ロールコー
タを用いて塗布し、水平状態で20分間放置してから、60
℃で30分間の乾燥を行い、厚さ60μｍの接着剤層２を形
成した（図６参照）。
【００６５】(5) 前記(4) で基板の両面に形成した接着
剤層２の上に、粘着剤を介してポリエチレンテレフタレ
ートフィルム（透光性フィルム）を貼着した。そして、
厚さ５μｍの遮光インクによってバイアホールと同形の
円パターン（マスクパターン）が描画された厚さ５mmの
ソーダライムガラス基板を、円パターンが描画された側
を接着剤層２に密着させて載置し、紫外線を照射して露
光した。
剤層２の上に、粘着剤を介してポリエチレンテレフタレ
ートフィルム（透光性フィルム）を貼着した。そして、
厚さ５μｍの遮光インクによってバイアホールと同形の
円パターン（マスクパターン）が描画された厚さ５mmの
ソーダライムガラス基板を、円パターンが描画された側
を接着剤層２に密着させて載置し、紫外線を照射して露
光した。
【００６６】(6) 露光した基板をＤＭＴＧ（トリエチレ
ングリコールジメチルエーテル）溶液でスプレー現像す
ることにより、接着剤層２に 100μｍφのバイアホール
となる開口を形成した。さらに、当該基板を超高圧水銀
灯にて3000mJ／cm2 で露光し、100℃で１時間、その後
150℃で５時間にて加熱処理することにより、フォトマ
スクフィルムに相当する寸法精度に優れた開口（バイア
ホール形成用開口）６を有する厚さ50μｍの接着剤層２
を形成した。なお、バイアホールとなる開口６には、粗
化層11を部分的に露出させた（図７参照）。
ングリコールジメチルエーテル）溶液でスプレー現像す
ることにより、接着剤層２に 100μｍφのバイアホール
となる開口を形成した。さらに、当該基板を超高圧水銀
灯にて3000mJ／cm2 で露光し、100℃で１時間、その後
150℃で５時間にて加熱処理することにより、フォトマ
スクフィルムに相当する寸法精度に優れた開口（バイア
ホール形成用開口）６を有する厚さ50μｍの接着剤層２
を形成した。なお、バイアホールとなる開口６には、粗
化層11を部分的に露出させた（図７参照）。
【００６７】(7) 前記(5),(6) でバイアホール形成用開
口６を形成した基板を、クロム酸に２分間浸漬し、接着
剤層２の表面に存在するエポキシ樹脂粒子を溶解除去し
て、当該接着剤層２の表面を粗化し、その後、中和溶液
（シプレイ社製）に浸漬してから水洗した（図８参
照）。
口６を形成した基板を、クロム酸に２分間浸漬し、接着
剤層２の表面に存在するエポキシ樹脂粒子を溶解除去し
て、当該接着剤層２の表面を粗化し、その後、中和溶液
（シプレイ社製）に浸漬してから水洗した（図８参
照）。
【００６８】(8) 前記(7) で粗面化処理（粗化深さ５μ
ｍ）を行った基板に対し、パラジウム触媒（アトテック
製）を付与することにより、接着剤層２およびバイアホ
ール用開口６の表面に触媒核を付与した。
ｍ）を行った基板に対し、パラジウム触媒（アトテック
製）を付与することにより、接着剤層２およびバイアホ
ール用開口６の表面に触媒核を付与した。
【００６９】(9) 以下に示す組成の無電解銅めっき浴中
に基板を浸漬して、粗面全体に厚さ３μｍの無電解銅め
っき膜12を形成した（図９参照）。 〔無電解めっき液〕 ＥＤＴＡ 150 ｇ／ｌ 硫酸銅 20 ｇ／ｌ ＨＣＨＯ 30 ml／ｌ ＮａＯＨ 40 ｇ／ｌ α、α’−ビピリジル 80 mg／ｌ ＰＥＧ 0.1 ｇ／ｌ 〔無電解めっき条件〕70℃の液温度で30分
に基板を浸漬して、粗面全体に厚さ３μｍの無電解銅め
っき膜12を形成した（図９参照）。 〔無電解めっき液〕 ＥＤＴＡ 150 ｇ／ｌ 硫酸銅 20 ｇ／ｌ ＨＣＨＯ 30 ml／ｌ ＮａＯＨ 40 ｇ／ｌ α、α’−ビピリジル 80 mg／ｌ ＰＥＧ 0.1 ｇ／ｌ 〔無電解めっき条件〕70℃の液温度で30分
【００７０】(10)前記(9) で形成した無電解銅めっき膜
12上に市販の感光性樹脂フィルム（ドライフィルム）を
熱圧着して貼り付け、さらに、このドライフィルム上
に、クロム層によってめっきレジスト非形成部分がマス
クパターンとして描画された厚さ５mmのソーダライムガ
ラス基板を、クロム層が形成された側をドライフィルム
に密着させて載置し、110 mJ／cm2 で露光し、 0.8％炭
酸ナトリウムで現像処理し、厚さ15μｍのめっきレジス
ト３のパターンを設けた（図10参照）。
12上に市販の感光性樹脂フィルム（ドライフィルム）を
熱圧着して貼り付け、さらに、このドライフィルム上
に、クロム層によってめっきレジスト非形成部分がマス
クパターンとして描画された厚さ５mmのソーダライムガ
ラス基板を、クロム層が形成された側をドライフィルム
に密着させて載置し、110 mJ／cm2 で露光し、 0.8％炭
酸ナトリウムで現像処理し、厚さ15μｍのめっきレジス
ト３のパターンを設けた（図10参照）。
【００７１】(11)次に、めっきレジスト非形成部分に、
以下に示す条件で電解銅めっきを施し、厚さ15μｍの電
解銅めっき膜13を形成した（図11参照）。 〔電解めっき液〕 硫酸 180 ｇ／ｌ 硫酸銅 80 ｇ／ｌ 添加剤（アトテックジャパン製 商品名：カパラシドＧＬ） １ ml／ｌ 〔電解めっき条件〕 電流密度 1.2 Ａ／dm2 時間 30分 温度 室温
以下に示す条件で電解銅めっきを施し、厚さ15μｍの電
解銅めっき膜13を形成した（図11参照）。 〔電解めっき液〕 硫酸 180 ｇ／ｌ 硫酸銅 80 ｇ／ｌ 添加剤（アトテックジャパン製 商品名：カパラシドＧＬ） １ ml／ｌ 〔電解めっき条件〕 電流密度 1.2 Ａ／dm2 時間 30分 温度 室温
【００７２】(12)めっきレジスト３を５％KOH をスプレ
ーして剥離除去した後、そのめっきレジスト３下の無電
解めっき膜12を、硫酸と過酸化水素の混合液でエッチン
グ処理して溶解除去し、無電解銅めっき膜12と電解銅め
っき膜13からなる厚さ18μｍの内層導体回路５を形成し
た。さらに、粗化面11に残っているPdをクロム酸（ 800
ｇ／ｌ）に１〜２分浸漬して除去した（図12参照）。
ーして剥離除去した後、そのめっきレジスト３下の無電
解めっき膜12を、硫酸と過酸化水素の混合液でエッチン
グ処理して溶解除去し、無電解銅めっき膜12と電解銅め
っき膜13からなる厚さ18μｍの内層導体回路５を形成し
た。さらに、粗化面11に残っているPdをクロム酸（ 800
ｇ／ｌ）に１〜２分浸漬して除去した（図12参照）。
【００７３】(13)導体回路５を形成した基板を、硫酸銅
８ｇ／ｌ、硫酸ニッケル 0.6ｇ／ｌ、クエン酸15ｇ／
ｌ、次亜リン酸ナトリウム29ｇ／ｌ、ホウ酸31ｇ／ｌ、
界面活性剤 0.1ｇ／ｌからなるｐＨ＝９の無電解めっき
液に浸漬し、該導体回路５の表面に厚さ３μｍの銅−ニ
ッケル−リンからなる粗化層11を形成した。このとき、
粗化層11をＥＰＭＡ（蛍光Ｘ線分析装置）で分析したと
ころ、Cu:98mol％、Ni:1.5mol％、Ｐ:0.5 mol％の組成
比であった。そしてさらに、その基板を水洗いし、0.1m
ol／ｌホウふっ化スズ−1.0mol／ｌチオ尿素液からなる
無電解スズ置換めっき浴に50℃で１時間浸漬し、前記粗
化層11の表面に厚さ 0.3μｍのスズ置換めっき層を形成
した（図13参照、但し、ズズ置換層は図示しない）。
８ｇ／ｌ、硫酸ニッケル 0.6ｇ／ｌ、クエン酸15ｇ／
ｌ、次亜リン酸ナトリウム29ｇ／ｌ、ホウ酸31ｇ／ｌ、
界面活性剤 0.1ｇ／ｌからなるｐＨ＝９の無電解めっき
液に浸漬し、該導体回路５の表面に厚さ３μｍの銅−ニ
ッケル−リンからなる粗化層11を形成した。このとき、
粗化層11をＥＰＭＡ（蛍光Ｘ線分析装置）で分析したと
ころ、Cu:98mol％、Ni:1.5mol％、Ｐ:0.5 mol％の組成
比であった。そしてさらに、その基板を水洗いし、0.1m
ol／ｌホウふっ化スズ−1.0mol／ｌチオ尿素液からなる
無電解スズ置換めっき浴に50℃で１時間浸漬し、前記粗
化層11の表面に厚さ 0.3μｍのスズ置換めっき層を形成
した（図13参照、但し、ズズ置換層は図示しない）。
【００７４】(14)次に、前記 (4)の工程に従って、接着
剤層２をさらに設け、その表面にポリエチレンテレフタ
レートフィルム（透光性フィルム）を貼着した後、ステ
ンレス板で配線板を挟み、20 kgf／cm2 で加圧し、加熱
炉内で65℃で加熱しながら、20分間加熱プレスした。こ
の加熱プレスにより、接着剤層２の表面を平坦化して層
間樹脂絶縁層とした（図14参照）。
剤層２をさらに設け、その表面にポリエチレンテレフタ
レートフィルム（透光性フィルム）を貼着した後、ステ
ンレス板で配線板を挟み、20 kgf／cm2 で加圧し、加熱
炉内で65℃で加熱しながら、20分間加熱プレスした。こ
の加熱プレスにより、接着剤層２の表面を平坦化して層
間樹脂絶縁層とした（図14参照）。
【００７５】(15)そして前記 (5)〜(13)の工程を繰り返
すことにより、さらに導体回路を設け、その導体回路の
表面に銅−ニッケル−リンからなる粗化層11を設けた。
但し、粗化層11の表面にはスズ置換めっき層を形成しな
かった（図15〜19参照）。
すことにより、さらに導体回路を設け、その導体回路の
表面に銅−ニッケル−リンからなる粗化層11を設けた。
但し、粗化層11の表面にはスズ置換めっき層を形成しな
かった（図15〜19参照）。
【００７６】(16)一方、ＤＭＤＧに溶解させた60重量％
のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（日本化薬製）
のエポキシ基50％をアクリル化した感光性付与のオリゴ
マー（分子量4000）を 46.67重量部、メチルエチルケト
ンに溶解させた80重量％のビスフェノールＡ型エポキシ
樹脂（油化シェル製、商品名：エピコート1001）15.0重
量部、イミダゾール硬化剤（四国化成製、商品名：2E4M
Z-CN）1.6 重量部、感光性モノマーである多価アクリル
モノマー（日本化薬製、商品名：Ｒ604 ）３重量部、同
じく多価アクリルモノマー（共栄社化学製、商品名：DP
E6A ） 1.5重量部、分散系消泡剤（サンノプコ社製、商
品名：Ｓ−65）0.71重量部を混合し、さらにこれらの混
合物に対して光開始剤としてのベンゾフェノン（関東化
学製）２重量部、光増感剤としてのミヒラーケトン（関
東化学製）0.2 重量部を加えて、粘度を25℃で 2.0Pa・
ｓに調整したソルダーレジスト組成物を得た。なお、粘
度測定は、Ｂ型粘度計（東京計器、 DVL-B型）で 60rpm
の場合はローターNo.4、６rpm の場合はローターNo.3に
よった。
のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（日本化薬製）
のエポキシ基50％をアクリル化した感光性付与のオリゴ
マー（分子量4000）を 46.67重量部、メチルエチルケト
ンに溶解させた80重量％のビスフェノールＡ型エポキシ
樹脂（油化シェル製、商品名：エピコート1001）15.0重
量部、イミダゾール硬化剤（四国化成製、商品名：2E4M
Z-CN）1.6 重量部、感光性モノマーである多価アクリル
モノマー（日本化薬製、商品名：Ｒ604 ）３重量部、同
じく多価アクリルモノマー（共栄社化学製、商品名：DP
E6A ） 1.5重量部、分散系消泡剤（サンノプコ社製、商
品名：Ｓ−65）0.71重量部を混合し、さらにこれらの混
合物に対して光開始剤としてのベンゾフェノン（関東化
学製）２重量部、光増感剤としてのミヒラーケトン（関
東化学製）0.2 重量部を加えて、粘度を25℃で 2.0Pa・
ｓに調整したソルダーレジスト組成物を得た。なお、粘
度測定は、Ｂ型粘度計（東京計器、 DVL-B型）で 60rpm
の場合はローターNo.4、６rpm の場合はローターNo.3に
よった。
【００７７】(17)前記(15)で得た基板の両面に、上記ソ
ルダーレジスト組成物を20μｍの厚さで塗布した。次い
で、70℃で20分間、70℃で30分間の乾燥処理を行った
後、クロム層によってソルダーレジスト開口部の円パタ
ーン（マスクパターン）が描画された厚さ５mmのソーダ
ライムガラス基板を、クロム層が形成された側をソルダ
ーレジスト層に密着させて載置し、1000mJ／cm2 の紫外
線で露光し、DMTG現像処理した。そしてさらに、80℃で
１時間、 100℃で１時間、 120℃で１時間、 150℃で３
時間の条件で加熱処理し、はんだパッドの上面、バイア
ホールとそのランド部分を開口した（開口径 200μｍ）
ソルダーレジスト層14のパターン（厚み20μｍ）を形成
した。
ルダーレジスト組成物を20μｍの厚さで塗布した。次い
で、70℃で20分間、70℃で30分間の乾燥処理を行った
後、クロム層によってソルダーレジスト開口部の円パタ
ーン（マスクパターン）が描画された厚さ５mmのソーダ
ライムガラス基板を、クロム層が形成された側をソルダ
ーレジスト層に密着させて載置し、1000mJ／cm2 の紫外
線で露光し、DMTG現像処理した。そしてさらに、80℃で
１時間、 100℃で１時間、 120℃で１時間、 150℃で３
時間の条件で加熱処理し、はんだパッドの上面、バイア
ホールとそのランド部分を開口した（開口径 200μｍ）
ソルダーレジスト層14のパターン（厚み20μｍ）を形成
した。
【００７８】(19)次に、ソルダーレジスト層14を形成し
た基板を、塩化ニッケル30ｇ／ｌ、次亜リン酸ナトリウ
ム10ｇ／ｌ、クエン酸ナトリウム10ｇ／ｌからなるｐＨ
＝５の無電解ニッケルめっき液に20分間浸漬して、開口
部に厚さ５μｍのニッケルめっき層15を形成した。さら
に、その基板を、シアン化金カリウム２ｇ／ｌ、塩化ア
ンモニウム75ｇ／ｌ、クエン酸ナトリウム50ｇ／ｌ、次
亜リン酸ナトリウム10ｇ／ｌからなる無電解金めっき液
に93℃の条件で23秒間浸漬して、ニッケルめっき層15上
に厚さ0.03μｍの金めっき層16を形成した。
た基板を、塩化ニッケル30ｇ／ｌ、次亜リン酸ナトリウ
ム10ｇ／ｌ、クエン酸ナトリウム10ｇ／ｌからなるｐＨ
＝５の無電解ニッケルめっき液に20分間浸漬して、開口
部に厚さ５μｍのニッケルめっき層15を形成した。さら
に、その基板を、シアン化金カリウム２ｇ／ｌ、塩化ア
ンモニウム75ｇ／ｌ、クエン酸ナトリウム50ｇ／ｌ、次
亜リン酸ナトリウム10ｇ／ｌからなる無電解金めっき液
に93℃の条件で23秒間浸漬して、ニッケルめっき層15上
に厚さ0.03μｍの金めっき層16を形成した。
【００７９】(20)そして、ソルダーレジスト層14の開口
部に、はんだペーストを印刷して 200℃でリフローする
ことによりはんだバンプ（はんだ体）17を形成し、はん
だバンプを有するプリント配線板を製造した（図20参
照）。
部に、はんだペーストを印刷して 200℃でリフローする
ことによりはんだバンプ（はんだ体）17を形成し、はん
だバンプを有するプリント配線板を製造した（図20参
照）。
【００８０】（実施例２）セミアディティブ法 0.92μ
ｍ 以下に示す無電解めっき用接着剤溶液を用いたこと以外
は、実施例１と同様にしてはんだバンプを有するプリン
ト配線板を製造した。即ち、ＤＭＤＧ（ジエチレングリ
コールジメチルエーテル）に溶解したクレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂（日本化薬製、分子量2500）の25％
アクリル化物を34重量部、ポリエーテルスルフォン（Ｐ
ＥＳ）12重量部、イミダゾール硬化剤（四国化成製、商
品名：2E4MZ-CN）２重量部、感光性モノマーであるカプ
ロラクトン変成トリス（アクロキシエチル）イソシアヌ
レート（東亜合成製、商品名：アロニックスＭ315 ）４
重量部、光開始剤（チバガイギー社製、商品名：イルガ
キュアー907 ）２重量部、光増感剤（日本化薬製、商品
名：DETX−Ｓ）0.2 重量部、さらにエポキシ樹脂粒子
（三洋化成製、商品名：ポリマーポール SS −001、こ
の粒子の粒度分布を図26に示す。この粒子の平均粒子径
はメジアン径で0.92μｍであり、標準偏差0.275 であ
る。この粒子は、0.10μｍ〜1.98μｍの範囲に分布して
おり、その粒度分布のピークにおける粒径は1.00μｍ
で、図26から明らかであるようにそのピークは一つであ
る。なお、粒度分布の測定は、島津製作所製、島津レー
ザ回折式粒度分布測定装置：SALD−2000を使用した。）
25重量部を混合した後、ＮＭＰ（ノルマルメチルピロリ
ドン）30.0重量部を添加しながら混合し、ホモディスパ
ー攪拌機で粘度７Pa・ｓに調整し、続いて３本ロールで
混練して得た感光性の無電解めっき用接着剤溶液（層間
樹脂絶縁剤）を用いた。
ｍ 以下に示す無電解めっき用接着剤溶液を用いたこと以外
は、実施例１と同様にしてはんだバンプを有するプリン
ト配線板を製造した。即ち、ＤＭＤＧ（ジエチレングリ
コールジメチルエーテル）に溶解したクレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂（日本化薬製、分子量2500）の25％
アクリル化物を34重量部、ポリエーテルスルフォン（Ｐ
ＥＳ）12重量部、イミダゾール硬化剤（四国化成製、商
品名：2E4MZ-CN）２重量部、感光性モノマーであるカプ
ロラクトン変成トリス（アクロキシエチル）イソシアヌ
レート（東亜合成製、商品名：アロニックスＭ315 ）４
重量部、光開始剤（チバガイギー社製、商品名：イルガ
キュアー907 ）２重量部、光増感剤（日本化薬製、商品
名：DETX−Ｓ）0.2 重量部、さらにエポキシ樹脂粒子
（三洋化成製、商品名：ポリマーポール SS −001、こ
の粒子の粒度分布を図26に示す。この粒子の平均粒子径
はメジアン径で0.92μｍであり、標準偏差0.275 であ
る。この粒子は、0.10μｍ〜1.98μｍの範囲に分布して
おり、その粒度分布のピークにおける粒径は1.00μｍ
で、図26から明らかであるようにそのピークは一つであ
る。なお、粒度分布の測定は、島津製作所製、島津レー
ザ回折式粒度分布測定装置：SALD−2000を使用した。）
25重量部を混合した後、ＮＭＰ（ノルマルメチルピロリ
ドン）30.0重量部を添加しながら混合し、ホモディスパ
ー攪拌機で粘度７Pa・ｓに調整し、続いて３本ロールで
混練して得た感光性の無電解めっき用接着剤溶液（層間
樹脂絶縁剤）を用いた。
【００８１】（実施例３）フルアディティブ法 (1) ＤＭＤＧ（ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル）に溶解したクレゾールノボラック型エポキシ樹脂
（日本化薬製、分子量2500）の25％アクリル化物を重量
部、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）12重量部、イミ
ダゾール硬化剤（四国化成製、商品名：2E4MZ-CN）２重
量部、感光性モノマーであるカプロラクトン変成トリス
（アクロキシエチル）イソシアヌレート（東亜合成製、
商品名：アロニックスＭ315 ）４重量部、光開始剤（チ
バガイギー社製、商品名：イルガキュアー907 ）２重量
部、光増感剤（日本化薬製、商品名：DETX−Ｓ）0.2 重
量部、さらに、エポキシ樹脂粒子（三洋化成製、商品
名：ポリマーポール S−031 、この粒子の粒度分布を図
25に示す。この粒子の平均粒子径はメジアン径で0.51μ
ｍであり、標準偏差0.193 である。この粒子は、0.09μ
ｍ〜1.32μｍの範囲に分布しており、その粒度分布のピ
ークにおける粒径は0.58μｍで、図25から明らかである
ようにそのピークは一つである。なお、粒度分布の測定
は、島津製作所製、島津レーザ回折式粒度分布測定装
置：SALD−2000を使用した。）25重量部を混合した後、
ＮＭＰ（ノルマルメチルピロリドン）30.0重量部を添加
しながら混合し、ホモディスパー攪拌機で粘度７Pa・ｓ
に調整し、続いて３本ロールで混練して感光性の無電解
めっき用接着剤溶液（層間樹脂絶縁剤）を得た。
ル）に溶解したクレゾールノボラック型エポキシ樹脂
（日本化薬製、分子量2500）の25％アクリル化物を重量
部、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）12重量部、イミ
ダゾール硬化剤（四国化成製、商品名：2E4MZ-CN）２重
量部、感光性モノマーであるカプロラクトン変成トリス
（アクロキシエチル）イソシアヌレート（東亜合成製、
商品名：アロニックスＭ315 ）４重量部、光開始剤（チ
バガイギー社製、商品名：イルガキュアー907 ）２重量
部、光増感剤（日本化薬製、商品名：DETX−Ｓ）0.2 重
量部、さらに、エポキシ樹脂粒子（三洋化成製、商品
名：ポリマーポール S−031 、この粒子の粒度分布を図
25に示す。この粒子の平均粒子径はメジアン径で0.51μ
ｍであり、標準偏差0.193 である。この粒子は、0.09μ
ｍ〜1.32μｍの範囲に分布しており、その粒度分布のピ
ークにおける粒径は0.58μｍで、図25から明らかである
ようにそのピークは一つである。なお、粒度分布の測定
は、島津製作所製、島津レーザ回折式粒度分布測定装
置：SALD−2000を使用した。）25重量部を混合した後、
ＮＭＰ（ノルマルメチルピロリドン）30.0重量部を添加
しながら混合し、ホモディスパー攪拌機で粘度７Pa・ｓ
に調整し、続いて３本ロールで混練して感光性の無電解
めっき用接着剤溶液（層間樹脂絶縁剤）を得た。
【００８２】(2) 実施例１の(1),(2) に従って得たコア
基板に、前記(1) で得た無電解めっき用接着剤溶液をロ
ールコータで両面に塗布し、水平状態で20分間放置して
から、60℃で30分間の乾燥を行い、厚さ60μｍの接着剤
層２を形成した。
基板に、前記(1) で得た無電解めっき用接着剤溶液をロ
ールコータで両面に塗布し、水平状態で20分間放置して
から、60℃で30分間の乾燥を行い、厚さ60μｍの接着剤
層２を形成した。
【００８３】(3) 前記(2) で基板の両面に形成した接着
剤層２の上に、粘着剤を介してポリエチレンテレフタレ
ートフィルム（透光性フィルム）を貼着した。そして、
厚さ５μｍの遮光インクによってバイアホールと同形の
円パターン（マスクパターン）が描画された厚さ５mmの
ソーダライムガラス基板を、円パターンが描画された側
を接着剤層２に密着させて載置し、紫外線を照射して露
光した。
剤層２の上に、粘着剤を介してポリエチレンテレフタレ
ートフィルム（透光性フィルム）を貼着した。そして、
厚さ５μｍの遮光インクによってバイアホールと同形の
円パターン（マスクパターン）が描画された厚さ５mmの
ソーダライムガラス基板を、円パターンが描画された側
を接着剤層２に密着させて載置し、紫外線を照射して露
光した。
【００８４】(4) 露光した基板をＤＭＴＧ（トリエチレ
ングリコールジメチルエーテル）溶液でスプレー現像す
ることにより、接着剤層２にバイアホールとなる 100μ
ｍφの開口を形成した。さらに、当該基板を超高圧水銀
灯にて3000mJ／cm2 で露光し、100℃で１時間、その後
150℃で５時間にて加熱処理することにより、フォトマ
スクフィルムに相当する寸法精度に優れた開口（バイア
ホール形成用開口）６を有する厚さ50μｍの接着剤層２
を形成した。なお、バイアホールとなる開口６には、粗
化層11を部分的に露出させた（図７参照）。
ングリコールジメチルエーテル）溶液でスプレー現像す
ることにより、接着剤層２にバイアホールとなる 100μ
ｍφの開口を形成した。さらに、当該基板を超高圧水銀
灯にて3000mJ／cm2 で露光し、100℃で１時間、その後
150℃で５時間にて加熱処理することにより、フォトマ
スクフィルムに相当する寸法精度に優れた開口（バイア
ホール形成用開口）６を有する厚さ50μｍの接着剤層２
を形成した。なお、バイアホールとなる開口６には、粗
化層11を部分的に露出させた（図７参照）。
【００８５】(5) バイアホール形成用開口６を形成した
基板を、クロム酸に２分間浸漬し、接着剤層２の表面に
存在するエポキシ樹脂粒子を溶解除去して、当該接着剤
層２の表面を粗化し、その後、中和溶液（シプレイ社
製）に浸漬してから水洗した（図８参照）。
基板を、クロム酸に２分間浸漬し、接着剤層２の表面に
存在するエポキシ樹脂粒子を溶解除去して、当該接着剤
層２の表面を粗化し、その後、中和溶液（シプレイ社
製）に浸漬してから水洗した（図８参照）。
【００８６】(6) 一方、ＤＭＤＧに溶解させたクレゾー
ルノボラック型エポキシ樹脂（日本化薬製、商品名：EO
CN−103S）のエポキシ基50％をアクリル化した感光性付
与のオリゴマー（分子量4000）46.7重量部、メチルエチ
ルケトンに溶解させた80重量部のビスフェノールＡ型エ
ポキシ樹脂（油化シェル製、商品名：エピコート1001）
15.0重量部、イミダゾール硬化剤（四国化成製、商品
名：2E4MZ-CN）1.6 重量部、感光性モノマーである多価
アクリレート（日本化薬製、Ｒ−604 ）３重量部、同じ
く多価アクリルモノマー（共栄社化学製、商品名：DPE-
6A）1.5 重量部を混合し、さらにこれらの混合物の全重
量に対してアクリル酸エステルの重合体（共栄社化学
製、商品名：ポリフロー75）0.5 重量部を混合して攪拌
し、混合液Ａを調製した。また、光開始剤としてのベン
ゾフェノン（関東化学製）２重量部、光増感剤としての
ミヒラーケトン（関東化学製）0.2 重量部を40℃に加温
した３重量部のＤＭＤＧに溶解させて混合液Ｂを調製し
た。そして、上記混合液Ａと上記混合液Ｂを混合して液
状レジストを得た。
ルノボラック型エポキシ樹脂（日本化薬製、商品名：EO
CN−103S）のエポキシ基50％をアクリル化した感光性付
与のオリゴマー（分子量4000）46.7重量部、メチルエチ
ルケトンに溶解させた80重量部のビスフェノールＡ型エ
ポキシ樹脂（油化シェル製、商品名：エピコート1001）
15.0重量部、イミダゾール硬化剤（四国化成製、商品
名：2E4MZ-CN）1.6 重量部、感光性モノマーである多価
アクリレート（日本化薬製、Ｒ−604 ）３重量部、同じ
く多価アクリルモノマー（共栄社化学製、商品名：DPE-
6A）1.5 重量部を混合し、さらにこれらの混合物の全重
量に対してアクリル酸エステルの重合体（共栄社化学
製、商品名：ポリフロー75）0.5 重量部を混合して攪拌
し、混合液Ａを調製した。また、光開始剤としてのベン
ゾフェノン（関東化学製）２重量部、光増感剤としての
ミヒラーケトン（関東化学製）0.2 重量部を40℃に加温
した３重量部のＤＭＤＧに溶解させて混合液Ｂを調製し
た。そして、上記混合液Ａと上記混合液Ｂを混合して液
状レジストを得た。
【００８７】(7) 前記(5) の処理を終えた基板上に、上
記液状レジストをロールコーターを用いて塗布し、60℃
で30分間の乾燥を行い、厚さ30μｍのレジスト層を形成
した。次いで、Ｌ／Ｓ（ラインとスペースとの比）＝50
／50の導体回路パターンの描画されたマスクフィルムを
密着させ、超高圧水銀灯により1000mJ／cm2 で露光し、
ＤＭＤＧでスプレー現像処理することにより、基板上に
導体回路パターン部の抜けためっき用レジストを形成
し、さらに、超高圧水銀灯にて6000mJ／cm2 で露光し、
100℃で１時間、その後、 150℃で３時間の加熱処理を
行い、接着剤層（層間樹脂絶縁層）２の上に永久レジス
ト３を形成した（図21参照）。
記液状レジストをロールコーターを用いて塗布し、60℃
で30分間の乾燥を行い、厚さ30μｍのレジスト層を形成
した。次いで、Ｌ／Ｓ（ラインとスペースとの比）＝50
／50の導体回路パターンの描画されたマスクフィルムを
密着させ、超高圧水銀灯により1000mJ／cm2 で露光し、
ＤＭＤＧでスプレー現像処理することにより、基板上に
導体回路パターン部の抜けためっき用レジストを形成
し、さらに、超高圧水銀灯にて6000mJ／cm2 で露光し、
100℃で１時間、その後、 150℃で３時間の加熱処理を
行い、接着剤層（層間樹脂絶縁層）２の上に永久レジス
ト３を形成した（図21参照）。
【００８８】(8) 永久レジスト３を形成した基板を、 1
00ｇ／ｌの硫酸水溶液に浸漬処理して触媒核を活性化し
た後、下記組成を有する無電解銅−ニッケル合金めっき
浴を用いて一次めっきを行い、レジスト非形成部分に厚
さ約1.7 μｍの銅−ニッケル−リンめっき薄膜を形成し
た。このとき、めっき浴の温度は60℃とし、めっき浸漬
時間は１時間とした。 なお、析出速度は、1.7 μｍ／時間とした。
00ｇ／ｌの硫酸水溶液に浸漬処理して触媒核を活性化し
た後、下記組成を有する無電解銅−ニッケル合金めっき
浴を用いて一次めっきを行い、レジスト非形成部分に厚
さ約1.7 μｍの銅−ニッケル−リンめっき薄膜を形成し
た。このとき、めっき浴の温度は60℃とし、めっき浸漬
時間は１時間とした。 なお、析出速度は、1.7 μｍ／時間とした。
【００８９】(9) 一次めっき処理した基板を、めっき浴
から引き上げて表面に付着しているめっき液を水で洗い
流し、さらに、その基板を酸性溶液で処理することによ
り、銅−ニッケル−リンめっき薄膜表層の酸化皮膜を除
去した。その後、Ｐｄ置換を行うことなく、銅−ニッケ
ル−リンめっき薄膜上に、下記組成の無電解銅めっき浴
を用いて二次めっきを施すことにより、アディティブ法
による導体として必要な外層導体パターンおよびバイア
ホール（BVH ）を形成した（図22参照）。このとき、め
っき浴の温度は50〜70℃とし、めっき浸漬時間は90〜36
0 分とした。 金属塩… CuSO4・5H2O ： 8.6 ｍＭ 錯化剤…ＴＥＡ ： 0.15Ｍ 還元剤…ＨＣＨＯ ： 0.02Ｍ その他…安定剤（ビピリジル、フェロシアン化カリウム
等）：少量 析出速度は、６μｍ／時間
から引き上げて表面に付着しているめっき液を水で洗い
流し、さらに、その基板を酸性溶液で処理することによ
り、銅−ニッケル−リンめっき薄膜表層の酸化皮膜を除
去した。その後、Ｐｄ置換を行うことなく、銅−ニッケ
ル−リンめっき薄膜上に、下記組成の無電解銅めっき浴
を用いて二次めっきを施すことにより、アディティブ法
による導体として必要な外層導体パターンおよびバイア
ホール（BVH ）を形成した（図22参照）。このとき、め
っき浴の温度は50〜70℃とし、めっき浸漬時間は90〜36
0 分とした。 金属塩… CuSO4・5H2O ： 8.6 ｍＭ 錯化剤…ＴＥＡ ： 0.15Ｍ 還元剤…ＨＣＨＯ ： 0.02Ｍ その他…安定剤（ビピリジル、フェロシアン化カリウム
等）：少量 析出速度は、６μｍ／時間
【００９０】(10)このようにしてアディティブ法による
導体層を形成した後、＃600 のベルト研磨紙を用いたベ
ルトサンダー研磨により、基板の片面を、永久レジスト
の上面と導体回路上面ならびにバイアホールのランド上
面とが揃うまで研磨した。引き続き、ベルトサンダーに
よる傷を取り除くためにバフ研磨を行った（バフ研磨の
みでもよい）。そして、他方の面についても同様に研磨
して、基板両面が平滑なプリント配線基板を得た。
導体層を形成した後、＃600 のベルト研磨紙を用いたベ
ルトサンダー研磨により、基板の片面を、永久レジスト
の上面と導体回路上面ならびにバイアホールのランド上
面とが揃うまで研磨した。引き続き、ベルトサンダーに
よる傷を取り除くためにバフ研磨を行った（バフ研磨の
みでもよい）。そして、他方の面についても同様に研磨
して、基板両面が平滑なプリント配線基板を得た。
【００９１】(11)そして、表面を平滑化したプリント配
線基板を、硫酸銅８ｇ／ｌ、硫酸ニッケル 0.6ｇ／ｌ、
クエン酸15ｇ／ｌ、次亜リン酸ナトリウム29ｇ／ｌ、ホ
ウ酸31ｇ／ｌ、界面活性剤 0.1ｇ／ｌからなるｐＨ＝９
の無電解めっき液に浸漬し、厚さ３μｍの銅−ニッケル
−リン合金からなる粗化層11を基板表面に露出している
導体表面に形成した（図23参照）。その後、前述の工程
を繰り返すことにより、アディティブ法による導体層を
更にもう一層形成し、このようにして配線層をビルドア
ップすることにより６層の多層プリント配線板を得た。
線基板を、硫酸銅８ｇ／ｌ、硫酸ニッケル 0.6ｇ／ｌ、
クエン酸15ｇ／ｌ、次亜リン酸ナトリウム29ｇ／ｌ、ホ
ウ酸31ｇ／ｌ、界面活性剤 0.1ｇ／ｌからなるｐＨ＝９
の無電解めっき液に浸漬し、厚さ３μｍの銅−ニッケル
−リン合金からなる粗化層11を基板表面に露出している
導体表面に形成した（図23参照）。その後、前述の工程
を繰り返すことにより、アディティブ法による導体層を
更にもう一層形成し、このようにして配線層をビルドア
ップすることにより６層の多層プリント配線板を得た。
【００９２】(12)さらに、実施例１の(16)〜(20)の工程
に従ってソルダーレジスト層14とはんだバンプ17を形成
し、はんだバンプ17を有するプリント配線板を製造した
（図24参照）。
に従ってソルダーレジスト層14とはんだバンプ17を形成
し、はんだバンプ17を有するプリント配線板を製造した
（図24参照）。
【００９３】（比較例１）セミアディティブ法（3.9 μ
ｍ／ 0.5μｍ） 以下に示す無電解めっき用接着剤溶液を用いたこと以外
は、実施例１と同様にしてはんだバンプを有するプリン
ト配線板を製造した。即ち、ＤＭＤＧ（ジエチレングリ
コールジメチルエーテル）に溶解したクレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂（日本化薬製、分子量2500）の25％
アクリル化物を34重量部、ポリエーテルスルフォン（Ｐ
ＥＳ）12重量部、イミダゾール硬化剤（四国化成製、商
品名：2E4MZ-CN）２重量部、感光性モノマーであるカプ
ロラクトン変成トリス（アクロキシエチル）イソシアヌ
レート（東亜合成製、商品名：アロニックスＭ315 ）４
重量部、光開始剤（チバガイギー社製、商品名：イルガ
キュアー907 ）２重量部、光増感剤（日本化薬製、商品
名：DETX−Ｓ）0.2 重量部、さらにエポキシ樹脂粒子(
東レ製、商品名：トレパール) の平均粒径 3.9μｍのも
のを10重量部、平均粒径 0.5μｍのものを25重量部を混
合した後、ＮＭＰ（ノルマルメチルピロリドン）30.0重
量部を添加しながら混合し、ホモディスパー攪拌機で粘
度７Pa・ｓに調整し、続いて３本ロールで混練して得た
感光性の無電解めっき用接着剤溶液（層間樹脂絶縁剤）
を用いた。
ｍ／ 0.5μｍ） 以下に示す無電解めっき用接着剤溶液を用いたこと以外
は、実施例１と同様にしてはんだバンプを有するプリン
ト配線板を製造した。即ち、ＤＭＤＧ（ジエチレングリ
コールジメチルエーテル）に溶解したクレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂（日本化薬製、分子量2500）の25％
アクリル化物を34重量部、ポリエーテルスルフォン（Ｐ
ＥＳ）12重量部、イミダゾール硬化剤（四国化成製、商
品名：2E4MZ-CN）２重量部、感光性モノマーであるカプ
ロラクトン変成トリス（アクロキシエチル）イソシアヌ
レート（東亜合成製、商品名：アロニックスＭ315 ）４
重量部、光開始剤（チバガイギー社製、商品名：イルガ
キュアー907 ）２重量部、光増感剤（日本化薬製、商品
名：DETX−Ｓ）0.2 重量部、さらにエポキシ樹脂粒子(
東レ製、商品名：トレパール) の平均粒径 3.9μｍのも
のを10重量部、平均粒径 0.5μｍのものを25重量部を混
合した後、ＮＭＰ（ノルマルメチルピロリドン）30.0重
量部を添加しながら混合し、ホモディスパー攪拌機で粘
度７Pa・ｓに調整し、続いて３本ロールで混練して得た
感光性の無電解めっき用接着剤溶液（層間樹脂絶縁剤）
を用いた。
【００９４】（比較例２）セミアディティブ法 （1.6 μｍ粉砕粉＋エポキシ／ＰＥＳマトリックス） (1) 特開昭61−276875号公報（ＵＳＰ 4752499号、ＵＳ
Ｐ 5921472号) に準じてエポキシ樹脂粒子を調製した。
即ち、エポキシ樹脂（三井石油化学工業製、商品名：Ｔ
Ａ−1800）を熱風乾燥器内にて 180℃で４時間乾燥して
硬化させ、この硬化させたエポキシ樹脂を粗粉砕してか
ら、液体窒素で凍結させながら超音波ジェット粉砕機
（日本ニューマチック工業製、商品名：アキュカットＢ
−18型）を使用して分級し、平均粒径1.6μｍのエポキ
シ樹脂粒子を調製した。
Ｐ 5921472号) に準じてエポキシ樹脂粒子を調製した。
即ち、エポキシ樹脂（三井石油化学工業製、商品名：Ｔ
Ａ−1800）を熱風乾燥器内にて 180℃で４時間乾燥して
硬化させ、この硬化させたエポキシ樹脂を粗粉砕してか
ら、液体窒素で凍結させながら超音波ジェット粉砕機
（日本ニューマチック工業製、商品名：アキュカットＢ
−18型）を使用して分級し、平均粒径1.6μｍのエポキ
シ樹脂粒子を調製した。
【００９５】(2) プリント配線板の製造は、以下に示す
無電解めっき用接着剤溶液を用いたこと以外は、実施例
１と同様である。即ち、ＤＭＤＧ（ジエチレングリコー
ルジメチルエーテル）に溶解したクレゾールノボラック
型エポキシ樹脂（日本化薬製、分子量2500）の25％アク
リル化物を34重量部、ポリエーテルスルフォン（ＰＥ
Ｓ）12重量部、イミダゾール硬化剤（四国化成製、商品
名：2E4MZ-CN）２重量部、感光性モノマーであるカプロ
ラクトン変成トリス（アクロキシエチル）イソシアヌレ
ート（東亜合成製、商品名：アロニックスＭ315 ）４重
量部、光開始剤（チバガイギー社製、商品名：イルガキ
ュアー907 ）２重量部、光増感剤（日本化薬製、商品
名：DETX−Ｓ）0.2 重量部、さらに上記 (1)のエポキシ
樹脂粒子の平均粒径 1.6μｍのものを35重量部を混合し
た後、ＮＭＰ（ノルマルメチルピロリドン）30.0重量部
を添加しながら混合し、ホモディスパー攪拌機で粘度７
Pa・ｓに調整し、続いて３本ロールで混練して得た感光
性の無電解めっき用接着剤溶液（層間樹脂絶縁剤）を用
いた。
無電解めっき用接着剤溶液を用いたこと以外は、実施例
１と同様である。即ち、ＤＭＤＧ（ジエチレングリコー
ルジメチルエーテル）に溶解したクレゾールノボラック
型エポキシ樹脂（日本化薬製、分子量2500）の25％アク
リル化物を34重量部、ポリエーテルスルフォン（ＰＥ
Ｓ）12重量部、イミダゾール硬化剤（四国化成製、商品
名：2E4MZ-CN）２重量部、感光性モノマーであるカプロ
ラクトン変成トリス（アクロキシエチル）イソシアヌレ
ート（東亜合成製、商品名：アロニックスＭ315 ）４重
量部、光開始剤（チバガイギー社製、商品名：イルガキ
ュアー907 ）２重量部、光増感剤（日本化薬製、商品
名：DETX−Ｓ）0.2 重量部、さらに上記 (1)のエポキシ
樹脂粒子の平均粒径 1.6μｍのものを35重量部を混合し
た後、ＮＭＰ（ノルマルメチルピロリドン）30.0重量部
を添加しながら混合し、ホモディスパー攪拌機で粘度７
Pa・ｓに調整し、続いて３本ロールで混練して得た感光
性の無電解めっき用接着剤溶液（層間樹脂絶縁剤）を用
いた。
【００９６】（比較例３）セミアディティブ法 （1.6 μｍ粒子＋エポキシ／ＰＥＳマトリックス） 以下に示す無電解めっき用接着剤溶液を用いたこと以外
は、実施例１と同様にしてはんだバンプを有するプリン
ト配線板を製造した。即ち、ＤＭＤＧ（ジエチレングリ
コールジメチルエーテル）に溶解したクレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂（日本化薬製、分子量2500）の25％
アクリル化物を34重量部、ポリエーテルスルフォン（Ｐ
ＥＳ）12重量部、イミダゾール硬化剤（四国化成製、商
品名：2E4MZ-CN）２重量部、感光性モノマーであるカプ
ロラクトン変成トリス（アクロキシエチル）イソシアヌ
レート（東亜合成製、商品名：アロニックスＭ315 ）４
重量部、光開始剤（チバガイギー社製、商品名：イルガ
キュアー907 ）２重量部、光増感剤（日本化薬製、商品
名：DETX−Ｓ）0.2 重量部、さらにエポキシ樹脂粒子
（東レ製、商品名：トレパール）の平均粒径 1.6μｍの
ものを35重量部を混合した後、ＮＭＰ（ノルマルメチル
ピロリドン）30.0重量部を添加しながら混合し、ホモデ
ィスパー攪拌機で粘度７Pa・ｓに調整し、続いて３本ロ
ールで混練して得た感光性の無電解めっき用接着剤溶液
（層間樹脂絶縁剤）を用いた。
は、実施例１と同様にしてはんだバンプを有するプリン
ト配線板を製造した。即ち、ＤＭＤＧ（ジエチレングリ
コールジメチルエーテル）に溶解したクレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂（日本化薬製、分子量2500）の25％
アクリル化物を34重量部、ポリエーテルスルフォン（Ｐ
ＥＳ）12重量部、イミダゾール硬化剤（四国化成製、商
品名：2E4MZ-CN）２重量部、感光性モノマーであるカプ
ロラクトン変成トリス（アクロキシエチル）イソシアヌ
レート（東亜合成製、商品名：アロニックスＭ315 ）４
重量部、光開始剤（チバガイギー社製、商品名：イルガ
キュアー907 ）２重量部、光増感剤（日本化薬製、商品
名：DETX−Ｓ）0.2 重量部、さらにエポキシ樹脂粒子
（東レ製、商品名：トレパール）の平均粒径 1.6μｍの
ものを35重量部を混合した後、ＮＭＰ（ノルマルメチル
ピロリドン）30.0重量部を添加しながら混合し、ホモデ
ィスパー攪拌機で粘度７Pa・ｓに調整し、続いて３本ロ
ールで混練して得た感光性の無電解めっき用接着剤溶液
（層間樹脂絶縁剤）を用いた。
【００９７】（比較例４）フルアディティブ法（3.9 μ
ｍ／ 0.5μｍ） 以下に示す無電解めっき用接着剤溶液を用いたこと以外
は、実施例３と同様にしてはんだバンプを有するプリン
ト配線板を製造した。即ち、ＤＭＤＧ（ジエチレングリ
コールジメチルエーテル）に溶解したクレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂（日本化薬製、分子量2500）の25％
アクリル化物を34重量部、ポリエーテルスルフォン（Ｐ
ＥＳ）12重量部、イミダゾール硬化剤（四国化成製、商
品名：2E4MZ-CN）２重量部、感光性モノマーであるカプ
ロラクトン変成トリス（アクロキシエチル）イソシアヌ
レート（東亜合成製、商品名：アロニックスＭ315 ）４
重量部、光開始剤（チバガイギー社製、商品名：イルガ
キュアー907 ）２重量部、光増感剤（日本化薬製、商品
名：DETX−Ｓ）0.2 重量部、さらにエポキシ樹脂粒子
（東レ製、商品名：トレパール）の平均粒径 3.9μｍの
ものを10重量部、平均粒径 0.5μｍのものを25重量部を
混合した後、ＮＭＰ（ノルマルメチルピロリドン）30.0
重量部を添加しながら混合し、ホモディスパー攪拌機で
粘度７Pa・ｓに調整し、続いて３本ロールで混練して得
た感光性の無電解めっき用接着剤溶液（層間樹脂絶縁
剤）を用いた。
ｍ／ 0.5μｍ） 以下に示す無電解めっき用接着剤溶液を用いたこと以外
は、実施例３と同様にしてはんだバンプを有するプリン
ト配線板を製造した。即ち、ＤＭＤＧ（ジエチレングリ
コールジメチルエーテル）に溶解したクレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂（日本化薬製、分子量2500）の25％
アクリル化物を34重量部、ポリエーテルスルフォン（Ｐ
ＥＳ）12重量部、イミダゾール硬化剤（四国化成製、商
品名：2E4MZ-CN）２重量部、感光性モノマーであるカプ
ロラクトン変成トリス（アクロキシエチル）イソシアヌ
レート（東亜合成製、商品名：アロニックスＭ315 ）４
重量部、光開始剤（チバガイギー社製、商品名：イルガ
キュアー907 ）２重量部、光増感剤（日本化薬製、商品
名：DETX−Ｓ）0.2 重量部、さらにエポキシ樹脂粒子
（東レ製、商品名：トレパール）の平均粒径 3.9μｍの
ものを10重量部、平均粒径 0.5μｍのものを25重量部を
混合した後、ＮＭＰ（ノルマルメチルピロリドン）30.0
重量部を添加しながら混合し、ホモディスパー攪拌機で
粘度７Pa・ｓに調整し、続いて３本ロールで混練して得
た感光性の無電解めっき用接着剤溶液（層間樹脂絶縁
剤）を用いた。
【００９８】（比較例５）フルアディティブ法 （1.6 μｍ粉砕粉＋エポキシ／ＰＥＳマトリックス） (1) 特開昭61−276875号公報に準じてエポキシ樹脂粒子
を調製した。即ち、エポキシ樹脂（三井石油化学工業
製、商品名：ＴＡ−1800）を熱風乾燥器内にて 180℃で
４時間乾燥して硬化させ、この硬化させたエポキシ樹脂
を粗粉砕してから、液体窒素で凍結させながら超音波ジ
ェット粉砕機（日本ニューマチック工業製、商品名：ア
キュカットＢ−18型）を使用して分級し、平均粒径1.6
μｍのエポキシ樹脂粒子を調製した。
を調製した。即ち、エポキシ樹脂（三井石油化学工業
製、商品名：ＴＡ−1800）を熱風乾燥器内にて 180℃で
４時間乾燥して硬化させ、この硬化させたエポキシ樹脂
を粗粉砕してから、液体窒素で凍結させながら超音波ジ
ェット粉砕機（日本ニューマチック工業製、商品名：ア
キュカットＢ−18型）を使用して分級し、平均粒径1.6
μｍのエポキシ樹脂粒子を調製した。
【００９９】(2) プリント配線板の製造は、以下に示す
無電解めっき用接着剤溶液を用いたこと以外は、実施例
３と同様である。即ち、ＤＭＤＧ（ジエチレングリコー
ルジメチルエーテル）に溶解したクレゾールノボラック
型エポキシ樹脂（日本化薬製、分子量2500）の25％アク
リル化物を34重量部、ポリエーテルスルフォン（ＰＥ
Ｓ）12重量部、イミダゾール硬化剤（四国化成製、商品
名：2E4MZ-CN）２重量部、感光性モノマーであるカプロ
ラクトン変成トリス（アクロキシエチル）イソシアヌレ
ート（東亜合成製、商品名：アロニックスＭ315 ）４重
量部、光開始剤（チバガイギー社製、商品名：イルガキ
ュアー907 ）２重量部、光増感剤（日本化薬製、商品
名：DETX−Ｓ）0.2 重量部、さらに上記(1) のエポキシ
樹脂粒子の平均粒径 1.6μｍのものを35重量部を混合し
た後、ＮＭＰ（ノルマルメチルピロリドン）30.0重量部
を添加しながら混合し、ホモディスパー攪拌機で粘度７
Pa・ｓに調整し、続いて３本ロールで混練して感光性の
無電解めっき用接着剤溶液（層間樹脂絶縁剤）を用い
た。
無電解めっき用接着剤溶液を用いたこと以外は、実施例
３と同様である。即ち、ＤＭＤＧ（ジエチレングリコー
ルジメチルエーテル）に溶解したクレゾールノボラック
型エポキシ樹脂（日本化薬製、分子量2500）の25％アク
リル化物を34重量部、ポリエーテルスルフォン（ＰＥ
Ｓ）12重量部、イミダゾール硬化剤（四国化成製、商品
名：2E4MZ-CN）２重量部、感光性モノマーであるカプロ
ラクトン変成トリス（アクロキシエチル）イソシアヌレ
ート（東亜合成製、商品名：アロニックスＭ315 ）４重
量部、光開始剤（チバガイギー社製、商品名：イルガキ
ュアー907 ）２重量部、光増感剤（日本化薬製、商品
名：DETX−Ｓ）0.2 重量部、さらに上記(1) のエポキシ
樹脂粒子の平均粒径 1.6μｍのものを35重量部を混合し
た後、ＮＭＰ（ノルマルメチルピロリドン）30.0重量部
を添加しながら混合し、ホモディスパー攪拌機で粘度７
Pa・ｓに調整し、続いて３本ロールで混練して感光性の
無電解めっき用接着剤溶液（層間樹脂絶縁剤）を用い
た。
【０１００】（比較例６）フルアディティブ法 （1.6 μｍ粒子＋エポキシ／ＰＥＳマトリックス） 以下に示す無電解めっき用接着剤溶液を用いたこと以外
は、実施例３と同様にしてはんだバンプを有するプリン
ト配線板を製造した。即ち、ＤＭＤＧ（ジエチレングリ
コールジメチルエーテル）に溶解したクレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂（日本化薬製、分子量2500）の25％
アクリル化物を34重量部、ポリエーテルスルフォン（Ｐ
ＥＳ）12重量部、イミダゾール硬化剤（四国化成製、商
品名：2E4MZ-CN）２重量部、感光性モノマーであるカプ
ロラクトン変成トリス（アクロキシエチル）イソシアヌ
レート（東亜合成製、商品名：アロニックスＭ315 ）４
重量部、光開始剤（チバガイギー社製、商品名：イルガ
キュアー907 ）２重量部、光増感剤（日本化薬製、商品
名：DETX−Ｓ）0.2 重量部、さらにエポキシ樹脂粒子
（東レ製 トレパール）の平均粒径 1.6μｍのものを35
重量部を混合した後、ＮＭＰ（ノルマルメチルピロリド
ン）30.0重量部を添加しながら混合し、ホモディスパー
攪拌機で粘度７Pa・ｓに調整し、続いて３本ロールで混
練して得た感光性の無電解めっき用接着剤溶液（層間樹
脂絶縁剤）を用いた。
は、実施例３と同様にしてはんだバンプを有するプリン
ト配線板を製造した。即ち、ＤＭＤＧ（ジエチレングリ
コールジメチルエーテル）に溶解したクレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂（日本化薬製、分子量2500）の25％
アクリル化物を34重量部、ポリエーテルスルフォン（Ｐ
ＥＳ）12重量部、イミダゾール硬化剤（四国化成製、商
品名：2E4MZ-CN）２重量部、感光性モノマーであるカプ
ロラクトン変成トリス（アクロキシエチル）イソシアヌ
レート（東亜合成製、商品名：アロニックスＭ315 ）４
重量部、光開始剤（チバガイギー社製、商品名：イルガ
キュアー907 ）２重量部、光増感剤（日本化薬製、商品
名：DETX−Ｓ）0.2 重量部、さらにエポキシ樹脂粒子
（東レ製 トレパール）の平均粒径 1.6μｍのものを35
重量部を混合した後、ＮＭＰ（ノルマルメチルピロリド
ン）30.0重量部を添加しながら混合し、ホモディスパー
攪拌機で粘度７Pa・ｓに調整し、続いて３本ロールで混
練して得た感光性の無電解めっき用接着剤溶液（層間樹
脂絶縁剤）を用いた。
【０１０１】（比較例７）セミアディティブ法 5.5μｍ／ 0.5μｍ（特開平７−34048 号, USP5519177
号公報） 以下に示す無電解めっき用接着剤溶液を用いたこと以外
は、実施例１と同様にしてはんだバンプを有するプリン
ト配線板を製造した。即ち、ＤＭＤＧ（ジエチレングリ
コールジメチルエーテル）に溶解したクレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂（日本化薬製、分子量2500）の25％
アクリル化物を34重量部、ポリエーテルスルフォン（Ｐ
ＥＳ）12重量部、イミダゾール硬化剤（四国化成製、商
品名：2E4MZ-CN）２重量部、感光性モノマーであるトリ
メチルトリアクリレート（TMPTA ）５重量部、光開始剤
（チバガイギー社製、商品名：イルガキュアー907 ）２
重量部、さらにエポキシ樹脂粒子（東レ製、商品名：ト
レパール）の平均粒径 5.5μｍのものを10重量部、平均
粒径 0.5μｍのものを５重量部を混合した後、ＮＭＰ
（ノルマルメチルピロリドン）30.0重量部を添加しなが
ら混合し、ホモディスパー攪拌機で粘度７Pa・ｓに調整
し、続いて３本ロールで混練して得た感光性の無電解め
っき用接着剤溶液（層間樹脂絶縁剤）を用いた。
号公報） 以下に示す無電解めっき用接着剤溶液を用いたこと以外
は、実施例１と同様にしてはんだバンプを有するプリン
ト配線板を製造した。即ち、ＤＭＤＧ（ジエチレングリ
コールジメチルエーテル）に溶解したクレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂（日本化薬製、分子量2500）の25％
アクリル化物を34重量部、ポリエーテルスルフォン（Ｐ
ＥＳ）12重量部、イミダゾール硬化剤（四国化成製、商
品名：2E4MZ-CN）２重量部、感光性モノマーであるトリ
メチルトリアクリレート（TMPTA ）５重量部、光開始剤
（チバガイギー社製、商品名：イルガキュアー907 ）２
重量部、さらにエポキシ樹脂粒子（東レ製、商品名：ト
レパール）の平均粒径 5.5μｍのものを10重量部、平均
粒径 0.5μｍのものを５重量部を混合した後、ＮＭＰ
（ノルマルメチルピロリドン）30.0重量部を添加しなが
ら混合し、ホモディスパー攪拌機で粘度７Pa・ｓに調整
し、続いて３本ロールで混練して得た感光性の無電解め
っき用接着剤溶液（層間樹脂絶縁剤）を用いた。
【０１０２】（比較例８）フルアディティブ法 5.5μｍ／0.5 μｍ（特開平７−34048 号, USP5519177
号公報） 以下に示す無電解めっき用接着剤溶液を用いたこと以外
は、実施例２と同様にしてはんだバンプを有するプリン
ト配線板を製造した。即ち、ＤＭＤＧ（ジエチレングリ
コールジメチルエーテル）に溶解したクレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂（日本化薬製、分子量2500）の25％
アクリル化物を34重量部、ポリエーテルスルフォン（Ｐ
ＥＳ）12重量部、イミダゾール硬化剤（四国化成製、商
品名：2E4MZ-CN）２重量部、感光性モノマーであるトリ
メチルトリアクリレート（TMPTA ）５重量部、光開始剤
（チバガイギー社製、商品名：イルガキュアー907 ）２
重量部、さらにエポキシ樹脂粒子（東レ製、商品名：ト
レパール）の平均粒径 5.5μｍのものを10重量部、平均
粒径 0.5μｍのものを５重量部を混合した後、ＮＭＰ
（ノルマルメチルピロリドン）30.0重量部を添加しなが
ら混合し、ホモディスパー攪拌機で粘度７Pa・ｓに調整
し、続いて３本ロールで混練して得た感光性の無電解め
っき用接着剤溶液（層間樹脂絶縁剤）を用いた。
号公報） 以下に示す無電解めっき用接着剤溶液を用いたこと以外
は、実施例２と同様にしてはんだバンプを有するプリン
ト配線板を製造した。即ち、ＤＭＤＧ（ジエチレングリ
コールジメチルエーテル）に溶解したクレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂（日本化薬製、分子量2500）の25％
アクリル化物を34重量部、ポリエーテルスルフォン（Ｐ
ＥＳ）12重量部、イミダゾール硬化剤（四国化成製、商
品名：2E4MZ-CN）２重量部、感光性モノマーであるトリ
メチルトリアクリレート（TMPTA ）５重量部、光開始剤
（チバガイギー社製、商品名：イルガキュアー907 ）２
重量部、さらにエポキシ樹脂粒子（東レ製、商品名：ト
レパール）の平均粒径 5.5μｍのものを10重量部、平均
粒径 0.5μｍのものを５重量部を混合した後、ＮＭＰ
（ノルマルメチルピロリドン）30.0重量部を添加しなが
ら混合し、ホモディスパー攪拌機で粘度７Pa・ｓに調整
し、続いて３本ロールで混練して得た感光性の無電解め
っき用接着剤溶液（層間樹脂絶縁剤）を用いた。
【０１０３】このようにして製造した実施例および比較
例にかかるプリント配線板について以下に示す試験なら
びに評価を行った。 ．実施例１〜３および比較例１〜８の配線板につい
て、JIS-C-6481に従い、ピール強度を測定した。 ．実施例１〜３および比較例１〜８の配線板につい
て、配線板をクロスカットし、その断面の金属顕微鏡観
察により、粗化面の窪みの深さを測定した。 ．実施例１，２および比較例１〜３，７の配線板につ
いて表面抵抗値を測定した。 ．実施例３および比較例４〜６，８の配線板につい
て、湿度85％、温度 130℃、電圧3.3 Ｖの条件下で48時
間放置し、表面抵抗値を測定した。 ．実施例１〜３および比較例１〜８の配線板につい
て、−55℃〜125 ℃で 500回のヒートサイクル試験を実
施し、クラックの有無を調べた。 ．実施例１〜３および比較例１〜８の配線板につい
て、Ｌ／Ｓの形成限界を調べた。 ．実施例１〜３および比較例１〜８の配線板につい
て、加熱試験を実施した。この試験の条件は、 128℃で
48時間である。この加熱試験によれば、バイアホール形
成用開口部に樹脂残りがあると、バイアホールの剥離が
発生する。このような剥離の有無をバイアホールの導通
抵抗により測定し、導通抵抗が上がった場合にバイアホ
ールの剥離が有ると認定した。 ．実施例１〜３および比較例１〜８の配線板につい
て、それぞれ 100枚の配線板を作成し、層間絶縁破壊の
発生割合を測定した。
例にかかるプリント配線板について以下に示す試験なら
びに評価を行った。 ．実施例１〜３および比較例１〜８の配線板につい
て、JIS-C-6481に従い、ピール強度を測定した。 ．実施例１〜３および比較例１〜８の配線板につい
て、配線板をクロスカットし、その断面の金属顕微鏡観
察により、粗化面の窪みの深さを測定した。 ．実施例１，２および比較例１〜３，７の配線板につ
いて表面抵抗値を測定した。 ．実施例３および比較例４〜６，８の配線板につい
て、湿度85％、温度 130℃、電圧3.3 Ｖの条件下で48時
間放置し、表面抵抗値を測定した。 ．実施例１〜３および比較例１〜８の配線板につい
て、−55℃〜125 ℃で 500回のヒートサイクル試験を実
施し、クラックの有無を調べた。 ．実施例１〜３および比較例１〜８の配線板につい
て、Ｌ／Ｓの形成限界を調べた。 ．実施例１〜３および比較例１〜８の配線板につい
て、加熱試験を実施した。この試験の条件は、 128℃で
48時間である。この加熱試験によれば、バイアホール形
成用開口部に樹脂残りがあると、バイアホールの剥離が
発生する。このような剥離の有無をバイアホールの導通
抵抗により測定し、導通抵抗が上がった場合にバイアホ
ールの剥離が有ると認定した。 ．実施例１〜３および比較例１〜８の配線板につい
て、それぞれ 100枚の配線板を作成し、層間絶縁破壊の
発生割合を測定した。
【０１０４】これらの試験ならびに評価の結果を表１に
示す。
示す。
【表１】
【０１０５】．この表に示す結果から明らかなよう
に、本発明の無電解めっき用接着剤を用いれば、粗化面
の窪みの深さが従来に比べて浅くても（３μｍ）、実用
的なピール強度 1.0kg／cmを達成することができる。こ
れにより、本発明のプリント配線板は、パターンのＬ／
Ｓをさらに小さくすることが可能となる。 ．また、本発明にかかる無電解めっき用接着剤および
プリント配線板で使用される耐熱性樹脂粒子は、その平
均粒径が1.5 μｍ以下であり、その粒度分布から理解で
きるように最大粒径が２μｍ未満にあるので、粗化処理
によって層間に空隙が発生せず、上層と下層との導通に
よる層間絶縁の破壊もない。 ．さらに、下層側の導体回路表面が粗化された基板の
層間樹脂絶縁層に、バイアホール形成用の開口を設ける
場合、その粗化面に樹脂が残存する。この点について、
実施例１，２と比較例２，３を比較すると、１μｍ以下
の微粒子が存在することで、粗化処理時にこのような樹
脂残りの除去が可能となり、加熱試験でもバイアホール
の剥離を起こさないと推定される。 ．実施例１，２の配線板は、比較例１，７よりも表面
抵抗値が高い。これは、比較例１の配線板では、粗化面
の窪みが深すぎて、無電解めっき膜が溶解除去できず残
存しているためと考えられる。 ．実施例３の配線板は、高温多湿条件下に曝しても表
面抵抗値が低下しない。これに対し、比較例４，８の配
線板は、高温多湿条件下に曝すと、表面抵抗値が低下し
てしまう。これは、実施例３に比べて比較例４，８の配
線板は、粗化面の窪みが深いために触媒核Ｐｄが多量に
付着しており、これが表面抵抗を低下させる原因である
と推定している。 ．実施例１，２と比較例１，７の配線板は、ヒートサ
イクルにより、全くクラックは発生しなかった。これに
対し、実施例３と比較例４，５，６，８の配線板は、め
っきレジストと導体回路の界面を起点として層間樹脂絶
縁層（無電解めっき用接着剤層）にクラックが発生し
た。 ．比較例２，５の配線板は、導体回路下のアンカー窪
みを起点とするクラックが無電解めっき用接着剤層に発
生した。これは、破砕粉末の場合、形状が角張っている
ため、形成されたアンカー窪みも角張っており、ヒート
サイクル時に応力集中が起き、クラックが発生するもの
と考えられる。即ち、このような破砕粉末を使用する
と、ピール強度は向上するが、ヒートサイクル時にクラ
ックが発生してしまう。
に、本発明の無電解めっき用接着剤を用いれば、粗化面
の窪みの深さが従来に比べて浅くても（３μｍ）、実用
的なピール強度 1.0kg／cmを達成することができる。こ
れにより、本発明のプリント配線板は、パターンのＬ／
Ｓをさらに小さくすることが可能となる。 ．また、本発明にかかる無電解めっき用接着剤および
プリント配線板で使用される耐熱性樹脂粒子は、その平
均粒径が1.5 μｍ以下であり、その粒度分布から理解で
きるように最大粒径が２μｍ未満にあるので、粗化処理
によって層間に空隙が発生せず、上層と下層との導通に
よる層間絶縁の破壊もない。 ．さらに、下層側の導体回路表面が粗化された基板の
層間樹脂絶縁層に、バイアホール形成用の開口を設ける
場合、その粗化面に樹脂が残存する。この点について、
実施例１，２と比較例２，３を比較すると、１μｍ以下
の微粒子が存在することで、粗化処理時にこのような樹
脂残りの除去が可能となり、加熱試験でもバイアホール
の剥離を起こさないと推定される。 ．実施例１，２の配線板は、比較例１，７よりも表面
抵抗値が高い。これは、比較例１の配線板では、粗化面
の窪みが深すぎて、無電解めっき膜が溶解除去できず残
存しているためと考えられる。 ．実施例３の配線板は、高温多湿条件下に曝しても表
面抵抗値が低下しない。これに対し、比較例４，８の配
線板は、高温多湿条件下に曝すと、表面抵抗値が低下し
てしまう。これは、実施例３に比べて比較例４，８の配
線板は、粗化面の窪みが深いために触媒核Ｐｄが多量に
付着しており、これが表面抵抗を低下させる原因である
と推定している。 ．実施例１，２と比較例１，７の配線板は、ヒートサ
イクルにより、全くクラックは発生しなかった。これに
対し、実施例３と比較例４，５，６，８の配線板は、め
っきレジストと導体回路の界面を起点として層間樹脂絶
縁層（無電解めっき用接着剤層）にクラックが発生し
た。 ．比較例２，５の配線板は、導体回路下のアンカー窪
みを起点とするクラックが無電解めっき用接着剤層に発
生した。これは、破砕粉末の場合、形状が角張っている
ため、形成されたアンカー窪みも角張っており、ヒート
サイクル時に応力集中が起き、クラックが発生するもの
と考えられる。即ち、このような破砕粉末を使用する
と、ピール強度は向上するが、ヒートサイクル時にクラ
ックが発生してしまう。
【０１０６】なお、特開昭61−276875号公報の実施例で
は、樹脂マトリックスとしてエポキシ変成ポリイミド樹
脂を使用しているので、靱性値がエポキシ−ＰＥＳ樹脂
より高く、ピール強度 1.6kg／cmが得られたものと考え
られる。
は、樹脂マトリックスとしてエポキシ変成ポリイミド樹
脂を使用しているので、靱性値がエポキシ−ＰＥＳ樹脂
より高く、ピール強度 1.6kg／cmが得られたものと考え
られる。
【０１０７】
【発明の効果】以上説明したように本発明の無電解めっ
き用接着剤によれば、実用的なピール強度を確保でき、
表面抵抗値も高く、しかも、Ｌ／Ｓ＝20／20μｍまでの
微細パターンを形成でき、粗化処理による層間絶縁破壊
もないプリント配線板を提供することができる。さら
に、本発明の無電解めっき用接着剤によれば、バイアホ
ール用開口の底部に残存する接着剤樹脂を粗化処理時に
除去できるので、かかる接着剤を用いたプリント配線板
は、加熱試験におけるバイアホール剥離もない。
き用接着剤によれば、実用的なピール強度を確保でき、
表面抵抗値も高く、しかも、Ｌ／Ｓ＝20／20μｍまでの
微細パターンを形成でき、粗化処理による層間絶縁破壊
もないプリント配線板を提供することができる。さら
に、本発明の無電解めっき用接着剤によれば、バイアホ
ール用開口の底部に残存する接着剤樹脂を粗化処理時に
除去できるので、かかる接着剤を用いたプリント配線板
は、加熱試験におけるバイアホール剥離もない。
【図１】本発明にかかる無電解めっき用接着剤を用いた
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
【図２】本発明にかかる無電解めっき用接着剤を用いた
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
【図３】本発明にかかる無電解めっき用接着剤を用いた
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
【図４】本発明にかかる無電解めっき用接着剤を用いた
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
【図５】本発明にかかる無電解めっき用接着剤を用いた
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
【図６】本発明にかかる無電解めっき用接着剤を用いた
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
【図７】本発明にかかる無電解めっき用接着剤を用いた
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
【図８】本発明にかかる無電解めっき用接着剤を用いた
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
【図９】本発明にかかる無電解めっき用接着剤を用いた
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
【図10】本発明にかかる無電解めっき用接着剤を用いた
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
【図11】本発明にかかる無電解めっき用接着剤を用いた
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
【図12】本発明にかかる無電解めっき用接着剤を用いた
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
【図13】本発明にかかる無電解めっき用接着剤を用いた
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
【図14】本発明にかかる無電解めっき用接着剤を用いた
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
【図15】本発明にかかる無電解めっき用接着剤を用いた
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
【図16】本発明にかかる無電解めっき用接着剤を用いた
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
【図17】本発明にかかる無電解めっき用接着剤を用いた
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
【図18】本発明にかかる無電解めっき用接着剤を用いた
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
【図19】本発明にかかる無電解めっき用接着剤を用いた
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
【図20】本発明にかかる無電解めっき用接着剤を用いた
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
セミアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
【図21】本発明にかかる無電解めっき用接着剤を用いた
フルアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
フルアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
【図22】本発明にかかる無電解めっき用接着剤を用いた
フルアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
フルアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
【図23】本発明にかかる無電解めっき用接着剤を用いた
フルアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
フルアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
【図24】本発明にかかる無電解めっき用接着剤を用いた
フルアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
フルアディテイブ法による多層プリント配線板の製造に
おける一工程を示す図である。
【図25】本発明にかかる耐熱性樹脂粒子の粒子径とその
粒子径における耐熱性樹脂粒子の存在割合（存在量）の
関係を示す粒度分布である。
粒子径における耐熱性樹脂粒子の存在割合（存在量）の
関係を示す粒度分布である。
【図26】本発明にかかる耐熱性樹脂粒子の粒子径とその
粒子径における耐熱性樹脂粒子の存在割合（存在量）の
関係を示す粒度分布である。
粒子径における耐熱性樹脂粒子の存在割合（存在量）の
関係を示す粒度分布である。
１ 基板 ２ 層間樹脂絶縁層（無電解めっき用接着剤層） ３ 永久レジスト（めっきレジスト） ４ 内層導体回路（内層パターン） ５ 内層導体回路（第２層パターン） ６ バイアホール用開口 ７ バイアホール ８ 銅箔 ９ スルーホール 10 樹脂充填剤 11 粗化層 12 無電解めっき膜 13 電解めっき膜 14 ソルダーレジスト層 15 ニッケルめっき層 16 金めっき層 17 はんだ体（はんだバンプ）
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０５Ｋ 3/46 Ｈ０５Ｋ 3/46 Ｂ
Claims (14)
- 【請求項１】 硬化処理によって酸あるいは酸化剤に難
溶性となる未硬化の耐熱性樹脂マトリックス中に酸ある
いは酸化剤に可溶性の硬化処理された耐熱性樹脂粒子を
分散してなる無電解めっき用接着剤において、 前記耐熱性樹脂粒子は、その平均粒径が 1.5μｍ以下で
あることを特徴とする無電解めっき用接着剤。 - 【請求項２】 前記耐熱性樹脂粒子は、その平均粒径が
0.1〜1.0 μｍであることを特徴とする請求項１に記載
の無電解めっき用接着剤。 - 【請求項３】 前記耐熱性樹脂粒子は、球状粒子である
ことを特徴とする請求項１または２に記載の無電解めっ
き用接着剤。 - 【請求項４】 前記耐熱性樹脂粒子は、粒度分布のピー
クにおける粒径が1.5 μｍ以下の領域にくるような分布
をもつものであることを特徴とする請求項１〜３のいず
れか１項に記載の無電解めっき用接着剤。 - 【請求項５】 前記耐熱性樹脂粒子は、粒度分布のピー
クが一つであることを特徴とする請求項１〜４のいずれ
か１項に記載の無電解めっき用接着剤。 - 【請求項６】 基板上に、表面が粗化された硬化処理済
の無電解めっき用接着剤層を有し、その接着剤層表面の
粗化面上に導体回路が形成されてなるプリント配線板に
おいて、 前記接着剤層は、硬化処理によって酸あるいは酸化剤に
難溶性となる未硬化の耐熱性樹脂マトリックス中に酸あ
るいは酸化剤に可溶性の硬化処理された耐熱性樹脂粒子
を分散してなる無電解めっき用接着剤からなり、その耐
熱性樹脂粒子は、平均粒径が 1.5μｍ以下であることを
特徴とするプリント配線板。 - 【請求項７】 前記耐熱性樹脂粒子は、その平均粒径が
0.1〜1.0 μｍであることを特徴とする請求項６に記載
のプリント配線板。 - 【請求項８】 前記耐熱性樹脂粒子は、球状粒子である
ことを特徴とする請求項６または７に記載のプリント配
線板。 - 【請求項９】 前記耐熱性樹脂粒子は、粒度分布のピー
クにおける粒径が1.5 μｍ以下の領域にくるような分布
をもつものであることを特徴とする請求項６〜８のいず
れか１項に記載のプリント配線板。 - 【請求項10】 前記耐熱性樹脂粒子は、粒度分布のピー
クが一つであることを特徴とする請求項６〜９のいずれ
か１項に記載のプリント配線板。 - 【請求項11】 前記接着剤層表面の粗化面は、その窪み
の深さがＲmax ＝１〜５μｍであることを特徴とする請
求項６〜10のいずれか１項に記載のプリント配線板。 - 【請求項12】 前記接着剤層表面の粗化面上に形成した
導体回路は、無電解めっき膜と電解めっき膜とによって
構成されていることを特徴とする請求項６〜11のいずれ
か１項に記載のプリント配線板。 - 【請求項13】 前記接着剤層表面の粗化面上に形成した
導体回路には、表面の少なくとも一部に粗化層が形成さ
れていることを特徴とする請求項６〜12のいずれか１項
に記載のプリント配線板。 - 【請求項14】 前記基板の表面には、少なくともその一
部に粗化層を有する導体回路が形成されていることを特
徴とする請求項６〜13のいずれか１項に記載のプリント
配線板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10442298A JP3259906B2 (ja) | 1997-04-15 | 1998-04-15 | 無電解めっき用接着剤およびプリント配線板 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-97736 | 1997-04-15 | ||
| JP9773697 | 1997-04-15 | ||
| JP10442298A JP3259906B2 (ja) | 1997-04-15 | 1998-04-15 | 無電解めっき用接着剤およびプリント配線板 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22294199A Division JP2000124603A (ja) | 1999-08-05 | 1999-08-05 | プリント配線板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH114069A true JPH114069A (ja) | 1999-01-06 |
| JP3259906B2 JP3259906B2 (ja) | 2002-02-25 |
Family
ID=26438886
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10442298A Expired - Fee Related JP3259906B2 (ja) | 1997-04-15 | 1998-04-15 | 無電解めっき用接着剤およびプリント配線板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3259906B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000282247A (ja) * | 1999-04-02 | 2000-10-10 | Ibiden Co Ltd | 無電解めっき液、無電解めっき方法、プリント配線板の製造方法およびプリント配線板 |
| US7614145B2 (en) | 2001-09-05 | 2009-11-10 | Zeon Corporation | Method for manufacturing multilayer circuit board and resin base material |
| US7691189B2 (en) | 1998-09-14 | 2010-04-06 | Ibiden Co., Ltd. | Printed wiring board and its manufacturing method |
| JP2016018093A (ja) * | 2014-07-09 | 2016-02-01 | 東レ株式会社 | 反射防止膜用樹脂組成物、それを用いた反射防止膜の製造方法およびパターンの製造方法、ならびに固体撮像素子 |
-
1998
- 1998-04-15 JP JP10442298A patent/JP3259906B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7691189B2 (en) | 1998-09-14 | 2010-04-06 | Ibiden Co., Ltd. | Printed wiring board and its manufacturing method |
| US7827680B2 (en) | 1998-09-14 | 2010-11-09 | Ibiden Co., Ltd. | Electroplating process of electroplating an elecrically conductive sustrate |
| US8065794B2 (en) | 1998-09-14 | 2011-11-29 | Ibiden Co., Ltd. | Printed wiring board and its manufacturing method |
| JP2000282247A (ja) * | 1999-04-02 | 2000-10-10 | Ibiden Co Ltd | 無電解めっき液、無電解めっき方法、プリント配線板の製造方法およびプリント配線板 |
| US7614145B2 (en) | 2001-09-05 | 2009-11-10 | Zeon Corporation | Method for manufacturing multilayer circuit board and resin base material |
| JP2016018093A (ja) * | 2014-07-09 | 2016-02-01 | 東レ株式会社 | 反射防止膜用樹脂組成物、それを用いた反射防止膜の製造方法およびパターンの製造方法、ならびに固体撮像素子 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3259906B2 (ja) | 2002-02-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6242079B1 (en) | Printed wiring board and method for manufacturing the same | |
| US6261671B1 (en) | Adhesive for electroless plating, feedstock composition for preparing adhesive for electroless plating, and printed wiring board | |
| US6248428B1 (en) | Adhesive for electroless plating, raw material composition for preparing adhesive for electroless plating and printed wiring board | |
| JP2003023252A (ja) | 多層プリント配線板 | |
| JP3311977B2 (ja) | 無電解めっき用接着剤および多層プリント配線板 | |
| JPH1098271A (ja) | 層間絶縁剤および多層プリント配線板 | |
| JP2000022317A (ja) | プリント配線板およびその製造方法 | |
| JPH10256724A (ja) | 多層プリント配線板 | |
| JP3259906B2 (ja) | 無電解めっき用接着剤およびプリント配線板 | |
| JP2000299562A (ja) | 多層プリント配線板 | |
| JP3916946B2 (ja) | 電解めっき液の評価方法および多層プリント配線板の製造方法 | |
| JPH10126040A (ja) | プリント配線板の製造方法 | |
| JPH10233579A (ja) | 多層プリント配線板およびその製造方法 | |
| JP3297006B2 (ja) | 多層プリント配線板 | |
| JP3995794B2 (ja) | 無電解めっき用接着剤およびプリント配線板 | |
| JPH10190224A (ja) | 多層プリント配線板およびその製造方法 | |
| JPH09162514A (ja) | プリント配線板とその製造方法 | |
| JP2000124603A (ja) | プリント配線板 | |
| JP2000332395A (ja) | プリント配線板 | |
| JPH11298121A (ja) | プリント配線板 | |
| JP2000297379A (ja) | 無電解めっき用接着剤およびプリント配線板 | |
| JP2000077827A (ja) | プリント配線板 | |
| JP4215872B2 (ja) | 多層プリント配線板、被処理体及び多層プリント配線板の製造方法 | |
| JP2000294932A (ja) | 多層プリント配線板の製造方法 | |
| JP2000156551A (ja) | プリント配線板、被処理体及びプリント配線板の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071214 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 7 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081214 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 8 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091214 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091214 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 9 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101214 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 9 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101214 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 10 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111214 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111214 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 11 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121214 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 12 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131214 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |