JPH1140656A - 基板回転保持装置および回転式基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 保持部材と基板との衝突時の衝撃による保持
部材および基板の損傷が防止されるとともに衝突時の擦
れ合いによるパーティクルの発生が抑制された基板回転
保持装置およびそれを備えた回転式基板処理装置を提供
することである。 【解決手段】 回転部材の上面に回転軸と同軸の円周に
沿って複数の回転式保持部材５が取り付けられている。
回転式保持部材５は、円柱状の支持部６およびその支持
部６よりも小さな直径を有する保持部７からなる。保持
部７の下端側の部分は、その外周面が緩衝材８で覆われ
た状態で支持部６に圧入されている。支持部６は、回転
部材に回動可能に取り付けられ、保持部７は、支持部６
上に回動軸に対して偏心して設けられる。支持部６の回
動に伴って保持部７の外周面が基板の外周端面に当接し
たとき、緩衝材８により保持部７と基板との衝突による
衝撃が緩和される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板を水平に保持
しつつ回転させる基板回転保持装置およびそれを備えた
回転式基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】回転式塗布装置および回転式現像装置等
の回転式基板処理装置においては、半導体ウエハ等の基
板を水平に保持しながら回転させる必要がある。一般的
には、基板の裏面を真空吸着により吸引保持する吸引式
スピンチャックが用いられている。しかしながら、吸引
式スピンチャクでは、基板を確実に吸引保持するために
強力な吸引を行っているので、基板の裏面に吸着跡が残
る。基板裏面の吸着跡は、露光処理時のフォーカス異常
を引き起こすという問題がある。

【０００３】そこで、基板の裏面を支持するとともに基
板の外周端面を保持しつつ基板に回転力を伝達するメカ
式スピンチャックが提案されている。このようなメカ式
スピンチャックにおいて、基板の外周端面に当接して基
板の水平方向の位置を規制する保持部材は、ステンレス
等の金属またはＳｉＣ、ジルコニア等のセラミックスに
より形成され、樹脂製の台に圧入される。

【０００４】金属製の保持部材は高い強度を有するが、
金属汚染が発生するおそれがある。そのため、金属汚染
の発生しないセラミックス製の保持部材を用いることが
望ましい。

【０００５】メカ式スピンチャックに用いる保持部材と
して、回転式保持部材が提案されている。図１０
（ａ），（ｂ），（ｃ）はメカ式スピンチャックに用い
られる回転式保持部材の一例を示す平面図、側面図およ
び斜視図である。

【０００６】図１０に示すように、回転式保持部材３０
は、円柱状の支持部３１、およびその支持部３１よりも
小さな直径を有する円柱状の保持部３２からなる。保持
部３２は、支持部３１の上面の偏心した位置に圧入され
ている。この回転式保持部材３０は、鉛直方向の軸の周
りで矢印ｘ，ｙで示す方向に回動可能に回転部材（回転
ステージ）上に取り付けられている。

【０００７】回転式保持部材３０が矢印ｘの方向に回動
すると、保持部３２の外周面が基板１００の外周端面に
当接し、基板１００が水平方向に保持される。逆に、回
転式保持部材３０が矢印ｙの方向に回動すると、基板１
００の保持が解除される。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】図１０に示した回転式
保持部材３０を回動させるためには磁力を用いる。すな
わち、回転式保持部材３０の下部に永久磁石を取り付け
るとともに、リング状磁石をエアシリンダにより上下動
自在に設ける。リング状磁石を上昇させて回転式保持部
材３０の下部の永久磁石に接近させると、リング状磁石
と永久磁石との間に働く磁力により回転式保持部材３０
が回動する。回転式保持部材３０を回動に伴って保持部
３２が、上記のように、基板１００の外周端面に当接す
る。

【０００９】このとき、回転式保持部材３０の回動速度
が高いと、保持部３２が基板１００に衝突したときに保
持部３２および基板１００の双方に大きな衝撃が加わ
る。リング状磁石の動きはエアシリンダの動きに連動す
るので、エアシリンダのエア量を適度に絞ることにより
リング状磁石の動きを遅くして回転式保持部材３０の回
動速度をある程度調整することは可能である。

【００１０】しかしながら、基板１００の保持動作にあ
まり時間がかかると、基板１００の処理工程に要する時
間が増大するため、実用的でなくなる。また、磁力が距
離の２乗に反比例するため、リング状磁石を回転式保持
部材３０の下部の永久磁石に低い速度で近づけても、リ
ング状磁石が永久磁石に近づくにつれて磁力が急激に増
加し、回転式保持部材３０が急激に回動することとな
る。

【００１１】その結果、保持部３２と基板１００との衝
突時の衝撃で保持部３２または基板１００が損傷するお
それがある。また、衝突時の保持部３２と基板１００と
の擦れ合いによりパーティクル（粉塵）が発生し、パー
ティクルによる基板の汚染が発生するおそれがある。

【００１２】特に、保持部３２がセラミックスにより形
成され、基板１００として脆弱なシリコンウエハを用い
る場合には、衝突時の衝撃による保持部３２または基板
１００の損傷や保持部３２と基板１００との擦れ合いに
よるパーティクルの発生が起こりやすい。

【００１３】本発明の目的は、保持部材と基板との衝突
時の衝撃による保持部材および基板の損傷が防止される
とともに衝突時の擦れ合いによるパーティクルの発生が
抑制された基板回転保持装置およびそれを備えた回転式
基板処理装置を提供することである。

【００１４】

【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明に係る基板回転保持装置は、基板を水平に保持しつ
つ回転させる基板回転保持装置であって、水平姿勢で回
転駆動される回転部材と、回転部材上に載置される基板
の外周部に沿うように配設され、基板の水平位置を規制
する複数の保持部材とを備え、複数の保持部材の各々
は、回転部材上に取り付けられる支持部と、支持部に緩
衝材を介して取り付けられ、基板の外周端面に当接する
保持部とを含むものである。

【００１５】本発明に係る基板回転保持装置において
は、複数の保持部材の保持部の外周面が基板の外周端面
に当接することにより基板が水平方向に保持される。こ
のとき、各保持部材の保持部が緩衝材を介して支持部に
取り付けられているので、保持部と基板との衝突による
衝撃が緩和される。それにより、衝撃による保持部およ
び基板の損傷が防止されるとともに、衝突時の擦れ合い
によるパーティクルの発生が抑制され、パーティクルに
よる基板の汚染が低減される。

【００１６】第２の発明に係る基板回転保持装置は、第
１の発明に係る基板回転保持装置の構成において、各保
持部の支持部が鉛直方向の軸の周りで回動可能に回転部
材に取り付けられ、保持部が支持部の回動に伴って基板
の外周端面に当接するように支持部の回動軸に対して偏
心して設けられたものである。

【００１７】この場合、各保持部材の支持部が鉛直方向
の軸の周りで回動することにより保持部の外周面が基板
の外周端面に当接する。このとき、保持部と基板との衝
突による衝撃が緩衝材により緩和されるので、保持部お
よび基板の損傷が防止され、かつ衝突時の擦れ合いによ
るパーティクルの発生が抑制される。

【００１８】第３の発明に係る基板回転保持装置は、第
１の発明に係る基板回転保持装置の構成において、各保
持部材の支持部が回転部材上に固定され、保持部が支持
部上に設けられたものである。

【００１９】この場合、回転部材が回転駆動されると、
回転方向に応じて基板の切欠き部が複数の保持部材の保
持部の少なくとも１つにより掛止され、かつ複数の保持
部材の保持部のいくつかが基板の外周端面に当接し、基
板の中心が回転部材の回転中心からやや偏心した状態で
基板が回転部材とともに回転する。

【００２０】このとき、保持部と基板との衝突による衝
撃が緩衝材により緩和されるので、保持部および基板の
損傷が防止され、かつ衝突時の擦れ合いによるパーティ
クルの発生が抑制される。

【００２１】第４の発明に係る基板回転保持装置は、基
板を水平に保持しつつ回転させる基板回転保持装置であ
って、水平姿勢で回転駆動される回転部材と、回転部材
上に載置される基板の外周部に沿うように配設され、基
板の水平位置を規制する複数の保持部材とを備え、複数
の保持部材のうち少なくとも１つの保持部材は、鉛直方
向の軸の周りで回動可能に回転部材に取り付けられた支
持部と、支持部の回動に伴って基板の外周端面に当接す
るように支持部の回動軸に対して偏心した状態で緩衝材
を介して支持部に取り付けられた保持部とを含み、複数
の保持部材のうち他の保持部材は、回転部材上に固定さ
れた支持部と、支持部に緩衝材を介して取り付けられた
保持部とを含むものである。

【００２２】本発明に係る基板回転保持装置において
は、少なくとも１つの保持部材が鉛直方向の軸の周りで
回動することにより、保持部の外周面が基板の外周端面
に当接する。また、他の保持部材の保持部の外周面に基
板の外周端面が当接する。

【００２３】このとき、各保持部材の保持部が緩衝材を
介して支持部に取り付けられているので、保持部と基板
との衝突による衝撃が緩和される。それにより、衝撃に
よる保持部および基板の損傷が防止されるとともに、衝
突時の擦れ合いによるパーティクルの発生が抑制され、
パーティクルによる基板の汚染が低減される。

【００２４】第５の発明に係る基板回転保持装置は、基
板を水平に保持しつつ回転させる基板回転保持装置であ
って、水平姿勢で回転駆動される回転部材と、回転部材
上に載置される基板の外周部に沿うように配設され、基
板の水平位置を規制する複数の保持部材とを備え、複数
の保持部材の各々は、回転部材に緩衝材を介して取り付
けられたものである。

【００２５】本発明に係る基板回転保持装置において
は、回転部材が回転駆動されると、回転方向に応じて基
板の切欠き部が複数の保持部材の少なくとも１つにより
掛止され、かつ複数の保持部材のいくつかが基板の外周
端面に当接し、基板の中心が回転部材の回転中心からや
や偏心した状態で基板が回転部材とともに回転する。

【００２６】このとき、各保持部材が緩衝材を介して回
転部材に取り付けられているので、保持部材と基板との
衝突による衝撃が緩和される。それにより、衝撃による
保持部材および基板の損傷が防止されるとともに、衝突
時の擦れ合いによるパーティクルの発生が抑制され、パ
ーティクルによる基板の汚染が低減される。

【００２７】第６の発明に係る基板回転保持装置は、第
１〜第５のいずれかの発明に係る基板回転保持装置の構
成において、複数の保持部材のいずれかに設けられる緩
衝材が、他の保持部材に取り付けられる緩衝材と異なる
緩衝度合いを有するものである。

【００２８】基板の回転時に基板の回転数と基板の振動
数とが一致すると、共振現象により基板のずれが起こる
ことがある。本発明に係る基板回転保持装置では、一部
の保持部材の緩衝材が他の保持部材の緩衝材と異なる緩
衝度合いを有するので、一部の保持部材の緩衝材による
基板の振動数と他の保持部材の緩衝材による基板の振動
数とが異なることになる。それにより、共振が起こる基
板の回転数が分散され、基板のずれが防止される。

【００２９】第７の発明に係る基板回転保持装置は、第
１〜第６のいずれかの発明に係る基板回転保持装置の構
成において、各保持部材の緩衝材が弾性体からなるもの
である。この場合、保持部材と基板との衝突による衝撃
が緩衝材の弾性力により緩和される。

【００３０】第８の発明に係る基板回転保持装置は、第
７の発明に係る基板回転保持装置の構成において、弾性
体がゴムからなるものである。この場合、保持部材と基
板との衝突による衝撃を安価にかつ効果的に緩和するこ
とができる。

【００３１】第９の発明に係る回転式基板処理装置は、
第１〜第８のいずれかの発明に係る基板回転保持装置
と、基板回転保持装置の回転部材を回転駆動する駆動手
段と、基板回転保持装置に保持される基板に所定の処理
を行う処理手段とを備えたものである。

【００３２】本発明に係る回転式基板処理装置は、第１
〜第８のいずれかの発明に係る基板回転保持装置が設け
られているので、保持部材と基板との衝突による衝撃が
緩衝材により緩和される。それにより、保持部材および
基板の損傷が防止されるとともに、衝突時の擦れ合いに
よるパーティクルの発生が抑制され、パーティクルによ
る基板の汚染が低減される。それにより、良好な状態で
基板に処理を行うことが可能となる。

【００３３】

【発明の実施の形態】図１は本発明の第１の実施例にお
ける基板回転保持装置を用いた回転式基板処理装置の概
略断面図、図２は図１の基板回転保持装置の概略平面図
である。また、図３（ａ），（ｂ）は図１および図２の
基板回転保持装置に用いられる回転式保持部材の断面図
および平面図である。

【００３４】図１および図２において、基板回転保持装
置１は、円形板状の回転部材２を備える。回転部材２
は、モータ３のシャフト４の先端部に水平に固定され、
鉛直方向の回転軸Ａの周りで回転駆動される。回転部材
２の上面には回転軸Ａと同軸の円周に沿って複数の回転
式保持部材５が取り付けられている。

【００３５】図３に示すように、回転式保持部材５は、
円柱状の支持部６、およびその支持部６よりも小さな直
径を有する円柱状の保持部（保持ピン）７からなる。保
持部７の下端側の部分は、その外周面が弾性体からなる
緩衝材８で覆われた状態で支持部６の上面に圧入されて
いる。それにより、保持部７と支持部６との間に緩衝材
８が介在している。弾性体としては、パーフロ系の耐レ
ジスト性および耐薬品性のゴムが用いられる。

【００３６】図２に示すように、支持部６は、その中心
軸と同軸の回動軸６ａの周りで回動可能に回転部材２に
取り付けられている。保持部７は、支持部６上に回動軸
６ａに対して偏心して設けられている。支持部６の回動
により保持部７の外周面が基板１００の外周端面に当接
する。

【００３７】図１に示すように、回転部材２の下方に
は、リング状磁石９が回転軸Ａと同軸に上下動自在に配
設されている。また、基板回転保持装置１の周囲を取り
囲むようにカップ５０が上下動自在に配設されている。
回転部材１の上方には、レジスト液、現像液等の処理液
を吐出する処理液吐出ノズル２０が上下方向および水平
方向に移動可能に設けられている。

【００３８】図４は回転式保持部材およびその下部に取
り付けられた磁石保持部を示す斜視図である。図４に示
すように、回転式保持部材５の支持部６の下部には、回
動軸６ａと同軸の回転軸体１０を介して円形の磁石保持
部１１が取り付けられている。磁石保持部１１の中央部
には棒状の永久磁石１２が内蔵されている。

【００３９】本実施例では、回転式保持部材５が保持部
材に相当し、モータ３が駆動手段に相当し、処理液吐出
ノズル２０が処理手段に相当する。

【００４０】図５および図６は図１および図２の基板回
転保持装置の構成および動作を説明するための図であ
り、（ａ）は回転式保持部材およびその周辺部の部分断
面図、（ｂ）は回転式保持部材の平面図である。

【００４１】図５（ａ）および図６（ａ）に示すよう
に、回転式保持部材５の回転軸体１０は回動軸受け１３
を介して回転部材２に回動自在に支持されている。回動
軸受け１３には、回動摩擦を抑えるために例えばベアリ
ング機構が設けられている。

【００４２】基板１００の処理前および処理後には、図
５（ａ）に示すように、リング状磁石９が回転部材２の
下方に離れて位置する。このとき、リング状磁石９が形
成する磁力線Ｂは、永久磁石１２が配置される高さにお
いて、回転部材２の外側から中心部に向かう方向に向い
ている。したがって、永久磁石１２のＮ極が回転部材２
の中心部に向かう方向に吸引される。それにより、図５
（ｂ）に示すように、回転式保持部材５は、矢印Ｘの方
向に回動し、保持部７の外周面が基板１００の外周端面
から離れる。

【００４３】基板１００を処理する際には、図６（ａ）
に示すように、リング状磁石９が上昇して回転部材２に
接近する。したがって、永久磁石１２のＳ極がリング状
磁石９のＮ極に吸引される。それにより、図６（ｂ）に
示すように、回転式保持部材５が矢印Ｙの方向に回動
し、保持部７の外周面が基板１００の外周端面に当接す
る。このとき、保持部７の下端側の部分の外周面が弾性
体からなる緩衝材８で覆われているので、保持部７と基
板１００との衝突による衝撃が緩衝材８により吸収さ
れ、保持部７および基板１００へ加わる衝撃が緩和され
る。

【００４４】このように、本実施例の基板回転保持装置
１では、回転式保持部材５の保持部７と基板１００との
衝突時の衝撃が緩衝材８による緩和されるので、保持部
７および基板１００の破損、折損等の損傷が防止され
る。また、保持部７と基板１００との衝突時における互
いの擦れ合いによるパーティクルの発生が抑制され、パ
ーティクルによる基板１００の汚染が低減される。

【００４５】特に、回転式塗布装置では、回転式保持部
材５による風切り現象を極力抑えるために、保持部７の
大きさが制限される。それにより、保持部７の強度に余
裕がなく、また金属汚染の防止、耐磨耗性の向上および
導電性の付与を考慮して、保持部７が導電性のセラミッ
クスにより形成されることが多い。このような場合に
も、本実施例の基板回転保持装置１によれば、基板１０
０との衝突による保持部７の磨耗、折損等の損傷の発生
確率が大幅に低減される。

【００４６】図７は本発明の第２の実施例における基板
回転保持装置の概略平面図である。図７の基板回転保持
装置１ａにおいては、回転部材２の上面に、回転軸Ａと
同軸の円周に沿って複数の回転式保持部材５ａ，５ｂが
交互に取り付けられている。回転式保持部材５ａ，５ｂ
の構造は、図３に示した構造と同様である。

【００４７】回転式保持部材５ａにおいては、支持部６
に緩衝材８ａを介して保持部７が取り付けられている。
回転式保持部材５ｂにおいては、支持部６に緩衝材８ｂ
を介して保持部７が取り付けられている。回転式保持部
材５ａの緩衝材８ａと回転式保持部材５ｂの緩衝材８ｂ
とは異なる緩衝度合いを有する。緩衝度合いの調整は、
弾性体の厚み、種類等を選択して弾性係数を調整するこ
とにより行う。

【００４８】本実施例の基板回転保持装置１ａでは、回
転式保持部材５ａの緩衝材８ａによる基板１００の振動
数と回転式保持部材５ｂの緩衝材８ｂによる基板１００
の振動数とが異なる。それにより、基板１００の回転時
に基板１００の振動が共振を起こす基板１００の回転数
（共振点）が分散される。したがって、基板１００の振
動が抑制され、基板１００のずれが防止される。

【００４９】なお、上記実施例では、異なる緩衝度合い
を有する二種類の緩衝材８ａ，８ｂを用いているが、各
回転式保持部材にそれぞれ異なる緩衝度合いを有する緩
衝材を用いることにより、基板１００の回転時に振動の
共振点をさらに分散させることができる。それにより、
基板１００の回転と基板１００の振動の共振による基板
１００のずれをより確実に防止することができる。

【００５０】図８は本発明の第３の実施例における基板
回転保持装置の概略平面図である。図８の基板回転保持
装置１ｂにおいては、回転部材２の上面に、回転軸Ａと
同軸の円周に沿って複数の回転式保持部材５および複数
の固定式保持部材１５が取り付けられている。

【００５１】各回転式保持部材５の構造は、図２に示し
た構造と同様である。固定式保持部材１５は、円柱状の
支持部１６、およびその支持部１６よりも小さな直径を
有する円柱状の保持部１７からなる。支持部１６は回転
部材２上に固定されている。保持部１７は、図２に示し
た回転式保持部材５の保持部７と同様に、支持部１６に
緩衝材８を介して取り付けられている。

【００５２】本実施例の基板回転保持装置１ｂにおいて
は、回転式保持部材５が回動することにより、保持部７
の外周面が基板１００が外周端面に当接するとともに、
固定式保持部材１５の保持部１７の外周面に基板１００
の外周端面が当接する。このとき、緩衝材８により保持
部７，１７と基板１００との衝突による衝撃が緩和され
るので、保持部７，１７および基板１００の損傷が防止
される。また、保持部７，１７と基板１００との衝突時
の擦れ合いによるパーティクルの発生が抑制され、パー
ティクルによる基板１００の汚染が低減される。

【００５３】本実施例では、回転式保持部材５および固
定式保持部材１５が同数となっているが、これに限定さ
れず、任意の数の回転式保持部材５および任意の数の固
定式保持部材１５を設けることができる。

【００５４】本実施例の基板回転保持装置１ｂにおいて
も、各回転式保持部材５または各固定式保持部材１５が
異なる緩衝度合いの緩衝材８を有してもよい。

【００５５】図９は本発明の第４の実施例における基板
回転保持装置の概略平面図である。図９の基板回転保持
装置１ｃにおいては、回転部材２の上面に、基板１００
の裏面を垂直に支持する複数の垂直方向支持部材２８、
および基板１００の外周端面に当接して基板１００の水
平方向の位置を規制する複数の円柱状の固定式保持部材
２７が配設されている。各固定式保持部材２７の端部側
の部分は、その外周面が緩衝材８で覆われた状態で回転
部材２に圧入されている。

【００５６】２本の固定式保持部材２７は基板１００の
オリエンテーションフラット部（直線状切欠き部）１０
１に沿って配置され、残りの４本の固定式保持部材２７
が基板１００の外周部に沿って配置されている。固定式
保持部材２７の外周面と基板１００の外周端面との間に
は、基板１００の搬入および搬出を容易にするために僅
かな遊びが設けられている。

【００５７】本実施例の基板回転保持装置１ｃにおい
て、回転部材２が回転駆動されると、回転方向に応じて
基板１００のオリエンテーションフラット部１０１が固
定式保持部材２７の１つにより掛止され、かつ固定式保
持部材２７のいくつかが基板１００の外周端面に当接
し、基板１００の中心が回転部材２の回転中心からやや
偏心した状態で基板１００が回転部材２とともに回転す
る。

【００５８】このとき、緩衝材８により固定式保持部材
２７と基板１００との衝突による衝撃が緩和されるの
で、固定式保持部材２７および基板１００の損傷が防止
される。また、固定式保持部材２７と基板１００との衝
突時の擦れ合いによるパーティクルの発生が抑制され、
パーティクルによる基板１００の汚染が低減される。

【００５９】本実施例の基板回転保持装置１ｃにおいて
も、各固定式保持部材２７が異なる緩衝度合いの緩衝材
８を有してもよい。

【００６０】なお、本発明の基板回転保持装置は、回転
式塗布装置に限らず、回転式現像装置等の種々の回転式
基板処理装置に適用可能である。

【００６１】また、本発明の基板回転保持装置は、半導
体ウエハに限らず、液晶表示装置用ガラス基板、フォト
マスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板等の種々
の基板を処理する基板処理装置に適用することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例における基板回転保持装
置を用いた回転式基板処理装置の概略断面図である。

【図２】図１の基板回転保持装置の概略平面図である。

【図３】図１および図２の基板回転保持装置に用いられ
る回転式保持部材の断面図および平面図である。

【図４】図１および図２の基板回転保持装置に用いられ
る回転式保持部材および磁石保持部の斜視図である。

【図５】回転式保持部材の保持部が基板の外周端面から
離れた状態を示す部分断面図および平面図である。

【図６】回転式保持部材の保持部が基板の外周端面に当
接した状態を示す部分断面図および平面図である。

【図７】本発明の第２の実施例における基板回転保持装
置の概略平面図である。

【図８】本発明の第３の実施例における基板回転保持装
置の概略平面図である。

【図９】本発明の第４の実施例における基板回転保持装
置の概略平面図である。

【図１０】従来の基板回転保持装置に用いられる回転式
保持部材の平面図、正面図および斜視図である。

【符号の説明】

１，１ａ，１ｂ，１ｃ 基板回転保持装置 ２ 回転部材 ３ モータ ５，５ａ，５ｂ 回転式保持部材 １５，２７ 固定式保持部材 ６，１６ 支持部 ７，１７ 保持部 ８，８ａ，８ｂ 緩衝材 ２０ 処理液吐出ノズル Ａ 回転軸 ６ａ 回動軸

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を水平に保持しつつ回転させる基板
   回転保持装置であって、 水平姿勢で回転駆動される回転部材と、 前記回転部材上に載置される前記基板の外周部に沿うよ
   うに配設され、前記基板の水平位置を規制する複数の保
   持部材とを備え、 前記複数の保持部材の各々は、 前記回転部材上に取り付けられる支持部と、 前記支持部に緩衝材を介して取り付けられ、前記基板の
   外周端面に当接する保持部とを含むことを特徴とする基
   板回転保持装置。
2. 【請求項２】 前記各保持部材の前記支持部は鉛直方向
   の軸の周りで回動可能に前記回転部材に取り付けられ、
   前記保持部は前記支持部の回動に伴って前記基板の外周
   端面に当接するように前記支持部の回動軸に対して偏心
   して設けられたことを特徴とする請求項１記載の基板回
   転保持装置。
3. 【請求項３】 前記各保持部材の前記支持部は前記回転
   部材上に固定され、前記保持部は前記支持部上に設けら
   れたことを特徴とする請求項１記載の基板回転保持装
   置。
4. 【請求項４】 基板を水平に保持しつつ回転させる基板
   回転保持装置であって、 水平姿勢で回転駆動される回転部材と、 前記回転部材上に載置される前記基板の外周部に沿うよ
   うに配設され、前記基板の水平位置を規制する複数の保
   持部材とを備え、 前記複数の保持部材のうち少なくとも１つの保持部材
   は、鉛直方向の軸の周りで回動可能に前記回転部材に取
   り付けられた支持部と、前記支持部の回動に伴って前記
   基板の外周端面に当接するように前記支持部の回動軸に
   対して偏心した状態で緩衝材を介して前記支持部に取り
   付けられた保持部とを含み、 前記複数の保持部材のうち他の保持部材は、前記回転部
   材上に固定された支持部と、前記支持部に緩衝材を介し
   て取り付けられた保持部とを含むことを特徴とする基板
   回転保持装置。
5. 【請求項５】 基板を水平に保持しつつ回転させる基板
   回転保持装置であって、 水平姿勢で回転駆動される回転部材と、 前記回転部材上に載置される前記基板の外周部に沿うよ
   うに配設され、前記基板の水平位置を規制する複数の保
   持部材とを備え、 前記複数の保持部材の各々は、前記回転部材に緩衝材を
   介して取り付けられたことを特徴とする基板回転保持装
   置。
6. 【請求項６】 前記複数の保持部材のいずれかに設けら
   れる前記緩衝材は、他の保持部材に設けられる緩衝材と
   異なる干渉度合いを有することを特徴とする請求項１〜
   ５のいずれかに記載の基板回転保持装置。
7. 【請求項７】 前記各保持部材の前記緩衝材は弾性体か
   らなることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載
   の基板回転保持装置。
8. 【請求項８】 前記弾性体はゴムからなることを特徴と
   する請求項７記載の基板回転保持装置。
9. 【請求項９】 請求項１〜請求項８のいずれかに記載の
   基板回転保持装置と、 前記基板回転保持装置の前記回転部材を回転駆動する駆
   動手段と、 前記基板回転保持装置に保持される基板に所定の処理を
   行う処理手段とを備えたことを特徴とする回転式基板処
   理装置。