JPH10135312A - 基板回転保持装置および回転式基板処理装置 - Google Patents
基板回転保持装置および回転式基板処理装置Info
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- JPH10135312A JPH10135312A JP28523596A JP28523596A JPH10135312A JP H10135312 A JPH10135312 A JP H10135312A JP 28523596 A JP28523596 A JP 28523596A JP 28523596 A JP28523596 A JP 28523596A JP H10135312 A JPH10135312 A JP H10135312A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 加速回転時および減速回転時にも基板を確実
に保持することができる基板回転保持装置およびそれを
備えた回転式基板処理装置を提供することである。 【解決手段】 回転ステージ２上に基板１００の水平位
置を規制する複数の第１の保持ピン７ａおよび複数の第
２の保持ピン７ｂがそれぞれ軸受け８により鉛直方向の
軸の周りで回動可能に取り付けられている。基板１００
の回転時には、第１の保持ピン７ａが一方向に回動して
ピン部材が基板１００の外周端面に当接し、第２の保持
ピン７ｂが逆方向に回動してピン部材が基板１００の外
周端面に当接し、基板１００が水平方向に保持される。
に保持することができる基板回転保持装置およびそれを
備えた回転式基板処理装置を提供することである。 【解決手段】 回転ステージ２上に基板１００の水平位
置を規制する複数の第１の保持ピン７ａおよび複数の第
２の保持ピン７ｂがそれぞれ軸受け８により鉛直方向の
軸の周りで回動可能に取り付けられている。基板１００
の回転時には、第１の保持ピン７ａが一方向に回動して
ピン部材が基板１００の外周端面に当接し、第２の保持
ピン７ｂが逆方向に回動してピン部材が基板１００の外
周端面に当接し、基板１００が水平方向に保持される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板を水平に保持
しつつ回転させる基板回転保持装置およびそれを備えた
回転式基板処理装置に関する。
しつつ回転させる基板回転保持装置およびそれを備えた
回転式基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】回転式塗布装置、回転式現像装置等の回
転式基板処理装置においては、半導体ウェハ等の基板を
水平に保持しながら回転させる必要がある。一般的に
は、基板の裏面を真空吸着により吸引保持する吸引式ス
ピンチャックが用いられている。しかしながら、吸引式
スピンチャックでは、基板を確実に吸着保持するために
強力な吸引を行っているので、基板の裏面に吸着跡が残
る。基板裏面の吸着跡は、露光処理時のフォーカス異常
を引き起こすという問題がある。
転式基板処理装置においては、半導体ウェハ等の基板を
水平に保持しながら回転させる必要がある。一般的に
は、基板の裏面を真空吸着により吸引保持する吸引式ス
ピンチャックが用いられている。しかしながら、吸引式
スピンチャックでは、基板を確実に吸着保持するために
強力な吸引を行っているので、基板の裏面に吸着跡が残
る。基板裏面の吸着跡は、露光処理時のフォーカス異常
を引き起こすという問題がある。
【０００３】そこで、基板の裏面を支持するとともに基
板の外周端面を保持しつつ基板に回転力を伝達するメカ
式スピンチャックが提案されている。メカ式スピンチャ
ックは、水平姿勢で回転駆動される回転ステージ上に、
基板の裏面を垂直に支持する複数の支持ピンと、基板の
外周端面に当接して基板の水平位置を規制しかつ基板に
回転力を伝達する複数の保持ピンとが設けられてなる。
板の外周端面を保持しつつ基板に回転力を伝達するメカ
式スピンチャックが提案されている。メカ式スピンチャ
ックは、水平姿勢で回転駆動される回転ステージ上に、
基板の裏面を垂直に支持する複数の支持ピンと、基板の
外周端面に当接して基板の水平位置を規制しかつ基板に
回転力を伝達する複数の保持ピンとが設けられてなる。
【０００４】このようなメカ式スピンチャックに用いる
保持ピンとして回転式保持ピンが提案されている。図１
０は従来のメカ式スピンチャックに用いられる回転式保
持ピンの一例を示す平面図である。
保持ピンとして回転式保持ピンが提案されている。図１
０は従来のメカ式スピンチャックに用いられる回転式保
持ピンの一例を示す平面図である。
【０００５】図１０に示すように、保持ピン３０は、円
柱状の支持部３１および４分の１の円柱状の保持部３２
からなる。この保持ピン３０は、鉛直方向の軸の周りで
矢印ｘ，ｙで示す方向に回動可能に回転ステージ上に取
り付けられている。保持ピン３０が矢印ｘの方向に回動
すると、保持部３２の外側の端縁３３が基板１００の外
周端面に当接し、基板１００が水平方向に保持される。
逆に、保持ピン３０が矢印ｙの方向に回動すると、基板
１００の保持が解除される。
柱状の支持部３１および４分の１の円柱状の保持部３２
からなる。この保持ピン３０は、鉛直方向の軸の周りで
矢印ｘ，ｙで示す方向に回動可能に回転ステージ上に取
り付けられている。保持ピン３０が矢印ｘの方向に回動
すると、保持部３２の外側の端縁３３が基板１００の外
周端面に当接し、基板１００が水平方向に保持される。
逆に、保持ピン３０が矢印ｙの方向に回動すると、基板
１００の保持が解除される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記のようなメカ式ス
ピンチャックでは、基板の回転時に、基板を水平方向に
確実に保持することが要求される。メカ式スピンチャッ
クの回転ステージが加速しつつ回転しているときまたは
減速しつつ回転しているときには、慣性力により基板が
回転ステージの回転方向と逆の方向または同じ方向に滑
ろうとする。そのため、従来のメカ式スピンチャックで
は、回転ステージの加速回転時または減速回転時に保持
ピンによる基板の保持力が弱くなるという問題がある。
ピンチャックでは、基板の回転時に、基板を水平方向に
確実に保持することが要求される。メカ式スピンチャッ
クの回転ステージが加速しつつ回転しているときまたは
減速しつつ回転しているときには、慣性力により基板が
回転ステージの回転方向と逆の方向または同じ方向に滑
ろうとする。そのため、従来のメカ式スピンチャックで
は、回転ステージの加速回転時または減速回転時に保持
ピンによる基板の保持力が弱くなるという問題がある。
【０００７】本発明の目的は、加速回転時および減速回
転時にも基板を確実に保持することができる基板回転保
持装置およびそれを備えた回転式基板処理装置を提供す
ることである。
転時にも基板を確実に保持することができる基板回転保
持装置およびそれを備えた回転式基板処理装置を提供す
ることである。
【０００８】
【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明に係る基板回転保持装置は、基板を水平に保持しつ
つ回転させる基板回転保持装置であって、水平姿勢で回
転駆動される回転部材と、回転部材に鉛直方向の軸の周
りで回動可能に取り付けられ、回動に伴って基板の外周
端面に当接して基板を水平方向に保持する複数の保持部
材とを備え、複数の保持部材のうち少なくとも１つの保
持部材が他の保持部材と逆方向に回動して基板の外周端
面に当接するものである。
発明に係る基板回転保持装置は、基板を水平に保持しつ
つ回転させる基板回転保持装置であって、水平姿勢で回
転駆動される回転部材と、回転部材に鉛直方向の軸の周
りで回動可能に取り付けられ、回動に伴って基板の外周
端面に当接して基板を水平方向に保持する複数の保持部
材とを備え、複数の保持部材のうち少なくとも１つの保
持部材が他の保持部材と逆方向に回動して基板の外周端
面に当接するものである。
【０００９】第１の発明に係る基板回転保持装置におい
ては、回転部材に取り付けられた複数の保持部材のうち
少なくとも１つの保持部材と残りの保持部材とが互いに
逆方向に回動して基板の外周端面に当接する。それによ
り、基板が水平方向に保持される。
ては、回転部材に取り付けられた複数の保持部材のうち
少なくとも１つの保持部材と残りの保持部材とが互いに
逆方向に回動して基板の外周端面に当接する。それによ
り、基板が水平方向に保持される。
【００１０】回転部材が等速で回転しているときには、
基板が複数の保持部材のすべてにより等しい保持力で保
持される。回転部材が加速しつつ回転しているときに
は、基板が回転部材の回転方向と逆の方向に滑ろうとす
る。この場合には、一部の保持部材が、基板の滑ろうと
する方向と逆方向に回動して基板の外周端面に当接す
る。それにより、それらの保持部材による保持力が強く
なる。回転部材が減速しつつ回転しているときには、基
板が回転部材の回転方向と同じ方向に滑ろうとする。こ
の場合には、上記と異なる一部の保持部材が基板の滑ろ
うとする方向と逆方向に回動して基板の外周端面に当接
する。それにより、それらの保持部材による保持力が強
くなる。
基板が複数の保持部材のすべてにより等しい保持力で保
持される。回転部材が加速しつつ回転しているときに
は、基板が回転部材の回転方向と逆の方向に滑ろうとす
る。この場合には、一部の保持部材が、基板の滑ろうと
する方向と逆方向に回動して基板の外周端面に当接す
る。それにより、それらの保持部材による保持力が強く
なる。回転部材が減速しつつ回転しているときには、基
板が回転部材の回転方向と同じ方向に滑ろうとする。こ
の場合には、上記と異なる一部の保持部材が基板の滑ろ
うとする方向と逆方向に回動して基板の外周端面に当接
する。それにより、それらの保持部材による保持力が強
くなる。
【００１１】このように、回転部材が加速または減速し
つつ回転しているときには、いずれかの保持部材の保持
力が強くなるので、基板が確実に保持される。したがっ
て、等速回転時のみならず加速回転時および減速回転時
にも基板を確実に保持することが可能となる。
つつ回転しているときには、いずれかの保持部材の保持
力が強くなるので、基板が確実に保持される。したがっ
て、等速回転時のみならず加速回転時および減速回転時
にも基板を確実に保持することが可能となる。
【００１２】第２の発明に係る基板回転保持装置は、第
１の発明に係る基板回転保持装置の構成において、複数
の保持部材の各々が、鉛直方向の軸の周りで回動可能に
回転部材に取り付けられた支持部と、その支持部の回動
に伴って基板の外周端面に当接するように支持部の回動
軸に対して偏心して設けられた保持部とを含むものであ
る。
１の発明に係る基板回転保持装置の構成において、複数
の保持部材の各々が、鉛直方向の軸の周りで回動可能に
回転部材に取り付けられた支持部と、その支持部の回動
に伴って基板の外周端面に当接するように支持部の回動
軸に対して偏心して設けられた保持部とを含むものであ
る。
【００１３】この場合、複数の保持部材のうちいくつか
の保持部材の支持部が鉛直方向の軸の周りで一方向に回
動して保持部が基板の外周端面に当接し、残りの保持部
材の支持部が逆方向に回動して保持部が基板の外周端面
に当接する。したがって、回転部材の加速時および減速
時のように回転速度の変化時にも、いずれかの保持部材
による保持力が強くなり、基板を確実に保持することが
可能となる。
の保持部材の支持部が鉛直方向の軸の周りで一方向に回
動して保持部が基板の外周端面に当接し、残りの保持部
材の支持部が逆方向に回動して保持部が基板の外周端面
に当接する。したがって、回転部材の加速時および減速
時のように回転速度の変化時にも、いずれかの保持部材
による保持力が強くなり、基板を確実に保持することが
可能となる。
【００１４】第３の発明に係る基板回転保持装置は、第
１または第２の発明に係る基板回転保持装置の構成にお
いて、複数の保持部材が、互いに逆方向に回動して基板
の外周端面に当接する１対または複数対の保持部材を含
むものである。
１または第２の発明に係る基板回転保持装置の構成にお
いて、複数の保持部材が、互いに逆方向に回動して基板
の外周端面に当接する１対または複数対の保持部材を含
むものである。
【００１５】この場合、回転部材の加速時に各対の保持
部材の一方による保持力が強くなり、回転部材の減速時
に各対の保持部材の他方による保持力が強くなる。した
がって、回転部材の加速時および減速時に、基板をバラ
ンスよく安定に保持することが可能となる。
部材の一方による保持力が強くなり、回転部材の減速時
に各対の保持部材の他方による保持力が強くなる。した
がって、回転部材の加速時および減速時に、基板をバラ
ンスよく安定に保持することが可能となる。
【００１６】第４の発明に係る基板回転保持装置は、第
１、第２または第３の発明に係る基板回転保持装置の構
成において、複数の保持部材を磁力により回動させる保
持部材駆動手段をさらに備えたものである。この場合、
保持部材が磁力により回転駆動されるので、部材間の摩
擦によるパーティクル（粒子）が発生しない。
１、第２または第３の発明に係る基板回転保持装置の構
成において、複数の保持部材を磁力により回動させる保
持部材駆動手段をさらに備えたものである。この場合、
保持部材が磁力により回転駆動されるので、部材間の摩
擦によるパーティクル（粒子）が発生しない。
【００１７】第５の発明に係る回転式基板処理装置は、
第１〜第４のいずれかの発明に係る基板回転保持装置
と、基板回転保持装置を鉛直方向の軸の周りで回転駆動
する回転駆動手段と、基板回転保持装置に保持された基
板に所定の処理を行う処理手段とを備えたものである。
第１〜第４のいずれかの発明に係る基板回転保持装置
と、基板回転保持装置を鉛直方向の軸の周りで回転駆動
する回転駆動手段と、基板回転保持装置に保持された基
板に所定の処理を行う処理手段とを備えたものである。
【００１８】第５の発明に係る回転式基板処理装置にお
いては、第１〜第４のいずれかの発明に係る基板回転保
持装置が設けられているので、回転部材の加速時にも減
速時にも基板を強い保持力で確実に保持して回転させる
ことができる。したがって、基板の回転時に基板と保持
部材との間に滑りが生じず、基板を所望の回転数で回転
させながら基板に所定の処理を行うことができる。
いては、第１〜第４のいずれかの発明に係る基板回転保
持装置が設けられているので、回転部材の加速時にも減
速時にも基板を強い保持力で確実に保持して回転させる
ことができる。したがって、基板の回転時に基板と保持
部材との間に滑りが生じず、基板を所望の回転数で回転
させながら基板に所定の処理を行うことができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】図１は本発明の一実施例における
回転式基板処理装置の断面図である。また、図２は図１
の回転式基板処理装置の主要部の平面図である。本実施
例では、回転式基板処理装置の一例として回転式現像装
置について説明する。
回転式基板処理装置の断面図である。また、図２は図１
の回転式基板処理装置の主要部の平面図である。本実施
例では、回転式基板処理装置の一例として回転式現像装
置について説明する。
【００２０】図１において、基板回転保持装置１は円形
板状の回転ステージ２を備える。回転ステージ２は、モ
ータ３のシャフト４の先端部に水平に固定され、鉛直方
向の軸の周りで回転駆動される。
板状の回転ステージ２を備える。回転ステージ２は、モ
ータ３のシャフト４の先端部に水平に固定され、鉛直方
向の軸の周りで回転駆動される。
【００２１】回転ステージ２の上面には環状支持部５が
固定され、この環状支持部５に基板１００の裏面を支持
する複数の基板支持ピン６が設けられている。また、回
転ステージ２には基板１００の水平位置を規制する複数
の第１の保持ピン７ａおよび複数の第２の保持ピン７ｂ
がそれぞれ軸受け８により鉛直方向の軸の周りで回動可
能に取り付けられている。
固定され、この環状支持部５に基板１００の裏面を支持
する複数の基板支持ピン６が設けられている。また、回
転ステージ２には基板１００の水平位置を規制する複数
の第１の保持ピン７ａおよび複数の第２の保持ピン７ｂ
がそれぞれ軸受け８により鉛直方向の軸の周りで回動可
能に取り付けられている。
【００２２】図２に示すように、複数の第１および第２
の保持ピン７ａ，７ｂは回転ステージ２の回転中心Ｐか
ら等距離に等分配置されている。本実施例では、第１の
保持ピン７ａと第２の保持ピン７ｂとが交互に配置され
ている。後述するように、第１の保持ピン７ａは矢印Ａ
の方向に回動して基板１００の外周端面に当接し、第２
の保持ピン７ｂは矢印Ｂの方向に回動して基板１００の
外周端面に当接する。
の保持ピン７ａ，７ｂは回転ステージ２の回転中心Ｐか
ら等距離に等分配置されている。本実施例では、第１の
保持ピン７ａと第２の保持ピン７ｂとが交互に配置され
ている。後述するように、第１の保持ピン７ａは矢印Ａ
の方向に回動して基板１００の外周端面に当接し、第２
の保持ピン７ｂは矢印Ｂの方向に回動して基板１００の
外周端面に当接する。
【００２３】図１に示すように、各第１の保持ピン７ａ
および各第２の保持ピン７ｂの下部には後述する棒状の
永久磁石９が取り付けられている。回転ステージ２の周
縁部には環状壁部１０が設けられている。回転ステージ
２の下方には環状磁石１１が配設されている。この環状
磁石１１は、駆動装置（図示せず）により上下動自在に
設けられた磁石支持部材１２に固定されている。
および各第２の保持ピン７ｂの下部には後述する棒状の
永久磁石９が取り付けられている。回転ステージ２の周
縁部には環状壁部１０が設けられている。回転ステージ
２の下方には環状磁石１１が配設されている。この環状
磁石１１は、駆動装置（図示せず）により上下動自在に
設けられた磁石支持部材１２に固定されている。
【００２４】また、回転ステージ２には複数の貫通孔１
３が形成されている。これらの貫通孔１３の下方には昇
降ピン１４がエアシリンダ（図示せず）により、昇降自
在に配設されている。これらの昇降ピン１４は、基板搬
送装置（図示せず）との基板１００の受渡し時に、回転
ステージ２の貫通孔１３を貫通して上昇し、基板１００
の裏面に当接して基板１００を上方に押し上げる。
３が形成されている。これらの貫通孔１３の下方には昇
降ピン１４がエアシリンダ（図示せず）により、昇降自
在に配設されている。これらの昇降ピン１４は、基板搬
送装置（図示せず）との基板１００の受渡し時に、回転
ステージ２の貫通孔１３を貫通して上昇し、基板１００
の裏面に当接して基板１００を上方に押し上げる。
【００２５】モータ３のシャフト４は中空体により構成
され、その内部に裏面洗浄用のバックリンスノズル１５
が挿入されている。このバックリンスノズル１５は、回
転ステージ２を貫通して基板１００裏面側に突出してい
る。
され、その内部に裏面洗浄用のバックリンスノズル１５
が挿入されている。このバックリンスノズル１５は、回
転ステージ２を貫通して基板１００裏面側に突出してい
る。
【００２６】基板回転保持装置１の周囲には、カップ１
６が上下動自在に配設されている。また、基板回転保持
装置１の上方には、現像液等の処理液を吐出するノズル
１７が上下方向および水平方向に移動可能に設けられて
いる。このノズル１７は、基板１００の処理前および処
理後に基板１００の上方から外れた位置に待機し、処理
時に基板１００の中心部の上方に移動する。
６が上下動自在に配設されている。また、基板回転保持
装置１の上方には、現像液等の処理液を吐出するノズル
１７が上下方向および水平方向に移動可能に設けられて
いる。このノズル１７は、基板１００の処理前および処
理後に基板１００の上方から外れた位置に待機し、処理
時に基板１００の中心部の上方に移動する。
【００２７】モータ３の回転および停止、磁石支持部材
１２の上昇および下降、ノズル１７からの処理液の吐
出、バックリンスノズル１５からのバックリンス液の吐
出等の一連の動作は制御部１８により制御される。
１２の上昇および下降、ノズル１７からの処理液の吐
出、バックリンスノズル１５からのバックリンス液の吐
出等の一連の動作は制御部１８により制御される。
【００２８】本実施例では、モータ３が回転駆動手段に
相当し、ノズル１７が処理手段に相当する。また、回転
ステージ２が回転部材に相当し、第１および第２の保持
ピン７ａ，７ｂが複数の保持部材に相当する。さらに、
永久磁石９、環状磁石１１および制御部１８が保持部材
駆動手段を構成する。
相当し、ノズル１７が処理手段に相当する。また、回転
ステージ２が回転部材に相当し、第１および第２の保持
ピン７ａ，７ｂが複数の保持部材に相当する。さらに、
永久磁石９、環状磁石１１および制御部１８が保持部材
駆動手段を構成する。
【００２９】図３は第１の保持ピン７ａの斜視図であ
る。図３に示すように、第１の保持ピン７ａは、円柱状
の支持部２１、円柱状（棒状）のピン部材２２、連結シ
ャフト部２３および磁石収納部２４からなる。ピン部材
２２は、支持部２１の上面に支持部２１の中心に対して
偏心して設けられている。磁石収納部２４は、支持部２
１の下部に連結シャフト部２３を介して固定されてい
る。磁石収納部２４内には棒状の永久磁石９が収納され
ている。第２の保持ピン７ｂの構成は支持部２１上のピ
ン部材２２の位置が異なる点を除いて第１の保持ピン７
ａの構成と同様である。
る。図３に示すように、第１の保持ピン７ａは、円柱状
の支持部２１、円柱状（棒状）のピン部材２２、連結シ
ャフト部２３および磁石収納部２４からなる。ピン部材
２２は、支持部２１の上面に支持部２１の中心に対して
偏心して設けられている。磁石収納部２４は、支持部２
１の下部に連結シャフト部２３を介して固定されてい
る。磁石収納部２４内には棒状の永久磁石９が収納され
ている。第２の保持ピン７ｂの構成は支持部２１上のピ
ン部材２２の位置が異なる点を除いて第１の保持ピン７
ａの構成と同様である。
【００３０】図４（ａ）は第１の保持ピン７ａの平面
図、図４（ｂ）は第２の保持ピン７ｂの平面図である。
図４（ａ）に示すように、第１の保持ピン７ａのピン部
材２２は、支持部２１上で永久磁石９の中心線Ｌ１に対
して矢印Ａの方向における後方側に配置されている。図
４（ｂ）に示すように、第２の保持ピン７ｂのピン部材
２２は、支持部２１上で永久磁石９の中心線Ｌ２に対し
て矢印Ｂの方向における後方側に配置されている。
図、図４（ｂ）は第２の保持ピン７ｂの平面図である。
図４（ａ）に示すように、第１の保持ピン７ａのピン部
材２２は、支持部２１上で永久磁石９の中心線Ｌ１に対
して矢印Ａの方向における後方側に配置されている。図
４（ｂ）に示すように、第２の保持ピン７ｂのピン部材
２２は、支持部２１上で永久磁石９の中心線Ｌ２に対し
て矢印Ｂの方向における後方側に配置されている。
【００３１】図５および図６は第１の保持ピン７ａの動
作を説明するための図であり、（ａ）は第１の保持ピン
７ａおよびその周辺部の部分断面図、（ｂ）は第１の保
持ピン７ａの平面図である。
作を説明するための図であり、（ａ）は第１の保持ピン
７ａおよびその周辺部の部分断面図、（ｂ）は第１の保
持ピン７ａの平面図である。
【００３２】基板１００の解放時には、図５（ａ）に示
すように、環状磁石１１が回転ステージ２の下方に離れ
て位置する。このとき、環状磁石１１が形成する磁力線
Ｇは、永久磁石９が設置される高さにおいて、回転ステ
ージ２の外側から中心部に向かう方向に向いている。し
たがって、永久磁石９のＮ極が回転ステージ２の中心部
に向かう方向に吸引される。それにより、図５（ｂ）に
示すように、第１の保持ピン７ａが矢印Ｂの方向に回動
し、ピン部材２２の外周面が基板１００の外周端面から
離れる。このときのピン部材２２の位置を基板解放位置
と呼ぶ。
すように、環状磁石１１が回転ステージ２の下方に離れ
て位置する。このとき、環状磁石１１が形成する磁力線
Ｇは、永久磁石９が設置される高さにおいて、回転ステ
ージ２の外側から中心部に向かう方向に向いている。し
たがって、永久磁石９のＮ極が回転ステージ２の中心部
に向かう方向に吸引される。それにより、図５（ｂ）に
示すように、第１の保持ピン７ａが矢印Ｂの方向に回動
し、ピン部材２２の外周面が基板１００の外周端面から
離れる。このときのピン部材２２の位置を基板解放位置
と呼ぶ。
【００３３】基板１００の保持時には、図６（ａ）に示
すように、環状磁石１１が上昇して回転ステージ２に接
近する。したがって、永久磁石９のＳ極が環状磁石１１
のＮ極に吸引される。それにより、図６（ｂ）に示すよ
うに、第１の保持ピン７ａが矢印Ａの方向に回動し、ピ
ン部材２２の外周面が基板１００の外周端面に当接し、
基板１００が水平方向に保持される。このときのピン部
材２２の位置を基板保持位置と呼ぶ。
すように、環状磁石１１が上昇して回転ステージ２に接
近する。したがって、永久磁石９のＳ極が環状磁石１１
のＮ極に吸引される。それにより、図６（ｂ）に示すよ
うに、第１の保持ピン７ａが矢印Ａの方向に回動し、ピ
ン部材２２の外周面が基板１００の外周端面に当接し、
基板１００が水平方向に保持される。このときのピン部
材２２の位置を基板保持位置と呼ぶ。
【００３４】なお、第２の保持ピン７ｂは、第１の保持
ピン７ａとは逆に、基板１００の解放時に矢印Ａの方向
に回動し、ピン部材２２の外周面が基板１００の外周端
面から離れ、基板１００の保持時に矢印Ｂの方向に回動
し、ピン部材２２の外周面が基板１００の外周面に当接
する。第１の保持ピン７ａおよび第２の保持ピン７ｂ
は、基板１００の解放時および基板１００の保持時にス
トッパー等により所定の角度以上回動しないように構成
されている。
ピン７ａとは逆に、基板１００の解放時に矢印Ａの方向
に回動し、ピン部材２２の外周面が基板１００の外周端
面から離れ、基板１００の保持時に矢印Ｂの方向に回動
し、ピン部材２２の外周面が基板１００の外周面に当接
する。第１の保持ピン７ａおよび第２の保持ピン７ｂ
は、基板１００の解放時および基板１００の保持時にス
トッパー等により所定の角度以上回動しないように構成
されている。
【００３５】図７は基板回転保持装置１における基板の
解放状態を示す平面図、図８は基板回転保持装置１にお
ける基板の保持状態を示す平面図である。次に、図７お
よび図８を参照しながら図１の回転式基板処理装置にお
ける基板回転保持装置１の動作を説明する。
解放状態を示す平面図、図８は基板回転保持装置１にお
ける基板の保持状態を示す平面図である。次に、図７お
よび図８を参照しながら図１の回転式基板処理装置にお
ける基板回転保持装置１の動作を説明する。
【００３６】基板１００の搬入時および搬出時には、環
状磁石１１が回転ステージ２の下方に離れて位置する。
それにより、図７に示すように、第１の保持ピン７ａが
矢印Ｂの方向に回動してピン部材２２が基板解放位置に
移動するとともに、第２の保持ピン７ｂが矢印Ａの方向
に回動してピン部材２２が基板解放位置に移動する。
状磁石１１が回転ステージ２の下方に離れて位置する。
それにより、図７に示すように、第１の保持ピン７ａが
矢印Ｂの方向に回動してピン部材２２が基板解放位置に
移動するとともに、第２の保持ピン７ｂが矢印Ａの方向
に回動してピン部材２２が基板解放位置に移動する。
【００３７】基板１００の搬入時には、図１の昇降ピン
１４が回転ステージ２の貫通孔の１３を貫通して上昇
し、それらの昇降ピン１４上に基板１００が載置された
後、昇降ピン１４が下降する。それにより、基板１００
が第１および第２の保持ピン７ａ，７ｂで囲まれる領域
内の基板支持ピン６上に載置される。基板１００の搬出
時には、昇降ピン１４が回転ステージ２の貫通孔１３を
貫通して上昇する。それにより、基板１００が昇降ピン
１４により上方に押し上げられる。
１４が回転ステージ２の貫通孔の１３を貫通して上昇
し、それらの昇降ピン１４上に基板１００が載置された
後、昇降ピン１４が下降する。それにより、基板１００
が第１および第２の保持ピン７ａ，７ｂで囲まれる領域
内の基板支持ピン６上に載置される。基板１００の搬出
時には、昇降ピン１４が回転ステージ２の貫通孔１３を
貫通して上昇する。それにより、基板１００が昇降ピン
１４により上方に押し上げられる。
【００３８】基板１００の処理時には、環状磁石１１が
上昇して回転ステージ２に接近する。それにより、図８
に示すように、第１の保持ピン７ａが矢印Ａの方向に回
動してピン部材２２が基板保持位置に移動し、第２の保
持ピン７ｂが矢印Ｂの方向に回動してピン部材２２が基
板保持位置に移動する。このようにして、基板１００が
第１および第２の保持ピン７ａ，７ｂにより水平方向に
保持される。この状態で、図１のモータ３により回転ス
テージ２が鉛直方向の回転軸の周りで回転駆動される。
上昇して回転ステージ２に接近する。それにより、図８
に示すように、第１の保持ピン７ａが矢印Ａの方向に回
動してピン部材２２が基板保持位置に移動し、第２の保
持ピン７ｂが矢印Ｂの方向に回動してピン部材２２が基
板保持位置に移動する。このようにして、基板１００が
第１および第２の保持ピン７ａ，７ｂにより水平方向に
保持される。この状態で、図１のモータ３により回転ス
テージ２が鉛直方向の回転軸の周りで回転駆動される。
【００３９】図９（ａ）は回転ステージ２の加速回転時
における第１の保持ピン７ａと基板１００との関係を示
す平面図、図９（ｂ）は回転ステージ２の減速回転時に
おける第２の保持ピン７ｂと基板１００との関係を示す
平面図である。
における第１の保持ピン７ａと基板１００との関係を示
す平面図、図９（ｂ）は回転ステージ２の減速回転時に
おける第２の保持ピン７ｂと基板１００との関係を示す
平面図である。
【００４０】図９（ａ）に示すように、回転ステージ２
が加速しつつ矢印Ｘの方向に回転しているときには、基
板１００は、矢印Ｓ１で示すように、回転ステージ２の
回転方向と逆の方向に滑ろうとする。この場合には、第
１の保持ピン７ａが、矢印Ａで示すように、基板１００
の滑ろうとする方向と逆方向に回動してピン部材２２が
基板１００の外周端面に当接する。それにより、第１の
保持ピン７ａによる保持力が強くなる。
が加速しつつ矢印Ｘの方向に回転しているときには、基
板１００は、矢印Ｓ１で示すように、回転ステージ２の
回転方向と逆の方向に滑ろうとする。この場合には、第
１の保持ピン７ａが、矢印Ａで示すように、基板１００
の滑ろうとする方向と逆方向に回動してピン部材２２が
基板１００の外周端面に当接する。それにより、第１の
保持ピン７ａによる保持力が強くなる。
【００４１】図９（ｂ）に示すように、回転ステージ２
が減速しつつ矢印Ｘの方向に回転しているときには、基
板１００は、矢印Ｓ２で示すように、回転ステージ２の
回転方向と同じ方向に滑ろうとする。この場合には、第
２の保持ピン７ｂが、矢印Ｂで示すように、基板１００
の滑ろうとする方向と逆方向に回動してピン部材２２が
基板１００の外周端面に当接する。それにより、第２の
保持ピン７ｂによる保持力が強くなる。
が減速しつつ矢印Ｘの方向に回転しているときには、基
板１００は、矢印Ｓ２で示すように、回転ステージ２の
回転方向と同じ方向に滑ろうとする。この場合には、第
２の保持ピン７ｂが、矢印Ｂで示すように、基板１００
の滑ろうとする方向と逆方向に回動してピン部材２２が
基板１００の外周端面に当接する。それにより、第２の
保持ピン７ｂによる保持力が強くなる。
【００４２】回転ステージ２が矢印Ｘと逆の方向に回転
しているときには、回転ステージ２の加速回転時に第２
の保持ピン７ｂによる保持力が強くなり、減速回転時に
第１の保持ピン７ａによる保持力が強くなる。
しているときには、回転ステージ２の加速回転時に第２
の保持ピン７ｂによる保持力が強くなり、減速回転時に
第１の保持ピン７ａによる保持力が強くなる。
【００４３】このように、回転ステージ２が加速および
減速しつつ回転しているときには、第１および第２の保
持ピン７ａ，７ｂのいずれかの保持力が強くなるので、
加速時および減速時のように回転速度が変化する場合で
も基板１００を確実に保持することが可能となる。
減速しつつ回転しているときには、第１および第２の保
持ピン７ａ，７ｂのいずれかの保持力が強くなるので、
加速時および減速時のように回転速度が変化する場合で
も基板１００を確実に保持することが可能となる。
【００４４】特に、本実施例の基板回転保持装置１にお
いては、第１の保持ピン７ａおよび第２の保持ピン７ｂ
が交互に等間隔で同数ずつ設けられているので、回転ス
テージ２の加速時にも減速時にもバランスよく安定に基
板１００を保持することが可能となる。
いては、第１の保持ピン７ａおよび第２の保持ピン７ｂ
が交互に等間隔で同数ずつ設けられているので、回転ス
テージ２の加速時にも減速時にもバランスよく安定に基
板１００を保持することが可能となる。
【００４５】なお、第１の保持ピン７ａおよび第２の保
持ピン７ｂの数は上記実施例に限定されず、任意の数の
第１の保持ピン７ａおよび任意の数の７ｂを用いてもよ
い。本発明の基板回転保持装置は、回転式現像装置、回
転式塗布装置、回転式洗浄装置、回転式エッジ露光装置
等の種々の回転式基板処理装置に適用することができ
る。
持ピン７ｂの数は上記実施例に限定されず、任意の数の
第１の保持ピン７ａおよび任意の数の７ｂを用いてもよ
い。本発明の基板回転保持装置は、回転式現像装置、回
転式塗布装置、回転式洗浄装置、回転式エッジ露光装置
等の種々の回転式基板処理装置に適用することができ
る。
【００４６】また、本発明の基板回転保持装置を液晶表
示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光デ
ィスク用基板等を処理する回転式基板処理装置に適用し
てもよい。
示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光デ
ィスク用基板等を処理する回転式基板処理装置に適用し
てもよい。
【図１】本発明の一実施例における回転式基板処理装置
の断面図である。
の断面図である。
【図２】図１に示される基板回転保持装置の主要部の平
面図である。
面図である。
【図３】図１に示される基板回転保持装置における第１
の保持ピンの斜視図である。
の保持ピンの斜視図である。
【図４】図１に示される基板回転保持装置における第１
の保持ピンおよび第２の保持ピンの平面図である。
の保持ピンおよび第２の保持ピンの平面図である。
【図５】第１の保持ピンのピン部材が基板の外周端面か
ら離れた状態を示す部分断面図および平面図である。
ら離れた状態を示す部分断面図および平面図である。
【図６】第１の保持ピンのピン部材が基板の外周端面に
当接した状態を示す部分断面図および平面図である。
当接した状態を示す部分断面図および平面図である。
【図７】図１に示される基板回転保持装置における基板
の解放状態を示す平面図である。
の解放状態を示す平面図である。
【図８】図１に示される基板回転保持装置における基板
の保持状態を示す平面図である。
の保持状態を示す平面図である。
【図９】回転ステージの加速回転時における第１の保持
ピンと基板との関係を示す平面図および回転ステージの
減速回転時における第２の保持ピンと基板との関係を示
す平面図である。
ピンと基板との関係を示す平面図および回転ステージの
減速回転時における第２の保持ピンと基板との関係を示
す平面図である。
【図１０】従来の回転式保持ピンの一例を示す平面図で
ある。
ある。
１ 基板回転保持装置 ２ 回転ステージ ３ モータ ４ シャフト ５ ノズル ７ａ 第１の保持ピン ７ｂ 第２の保持ピン ９ 永久磁石 １１ 環状磁石 ２１ 支持部 ２２ ピン部材
Claims (5)
- 【請求項１】 基板を水平に保持しつつ回転させる基板
回転保持装置であって、 水平姿勢で回転駆動される回転部材と、 前記回転部材に鉛直方向の軸の周りで回動可能に取り付
けられ、回動に伴って前記基板の外周端面に当接して前
記基板を水平方向に保持する複数の保持部材とを備え、 前記複数の保持部材のうち少なくとも１つの保持部材が
他の保持部材と逆方向に回動して前記基板の外周端面に
当接することを特徴とする基板回転保持装置。 - 【請求項２】 前記複数の保持部材の各々は、鉛直方向
の軸の周りで回動可能に前記回転部材に取り付けられた
支持部と、前記支持部の回動に伴って前記基板の外周端
面に当接するように前記支持部の回動軸に対して偏心し
て設けられた保持部とを含むことを特徴とする請求項１
記載の基板回転保持装置。 - 【請求項３】 前記複数の保持部材は、互いに逆方向に
回動して前記基板の外周端面に当接する１対または複数
対の保持部材を含むことを特徴とする請求項１または２
記載の基板回転保持装置。 - 【請求項４】 前記複数の保持部材を磁力により回動さ
せる保持部材駆動手段をさらに備えたことを特徴とする
請求項１、２または３記載の基板回転保持装置。 - 【請求項５】 請求項１〜４のいずれかに記載の基板回
転保持装置と、 前記基板回転保持装置を鉛直方向の軸の周りで回転駆動
する回転駆動手段と、 前記基板回転保持装置に保持された基板に所定の処理を
行う処理手段とを備えたことを特徴とする回転式基板処
理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28523596A JPH10135312A (ja) | 1996-10-28 | 1996-10-28 | 基板回転保持装置および回転式基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28523596A JPH10135312A (ja) | 1996-10-28 | 1996-10-28 | 基板回転保持装置および回転式基板処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10135312A true JPH10135312A (ja) | 1998-05-22 |
Family
ID=17688872
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28523596A Pending JPH10135312A (ja) | 1996-10-28 | 1996-10-28 | 基板回転保持装置および回転式基板処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10135312A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6964724B2 (en) * | 1999-03-15 | 2005-11-15 | Nec Corporation | Etching and cleaning methods and etching and cleaning apparatuses used therefor |
| KR100884332B1 (ko) * | 2007-07-26 | 2009-02-18 | 세메스 주식회사 | 스핀 헤드 및 이를 이용하여 기판을 지지하는 방법 |
| JP2011092957A (ja) * | 2009-10-27 | 2011-05-12 | Fujifilm Corp | レーザ加工装置 |
| CN102479528A (zh) * | 2010-11-24 | 2012-05-30 | 铼德科技股份有限公司 | 夹爪式旋转装置 |
| JP2017085173A (ja) * | 2017-02-07 | 2017-05-18 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | スピン処理装置及びスピン処理方法 |
| JP2017147408A (ja) * | 2016-02-19 | 2017-08-24 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
-
1996
- 1996-10-28 JP JP28523596A patent/JPH10135312A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6964724B2 (en) * | 1999-03-15 | 2005-11-15 | Nec Corporation | Etching and cleaning methods and etching and cleaning apparatuses used therefor |
| US8420549B2 (en) | 1999-03-15 | 2013-04-16 | Renesas Electronics Corporation | Etching and cleaning methods and etching and cleaning apparatuses used therefor |
| KR100884332B1 (ko) * | 2007-07-26 | 2009-02-18 | 세메스 주식회사 | 스핀 헤드 및 이를 이용하여 기판을 지지하는 방법 |
| JP2011092957A (ja) * | 2009-10-27 | 2011-05-12 | Fujifilm Corp | レーザ加工装置 |
| CN102479528A (zh) * | 2010-11-24 | 2012-05-30 | 铼德科技股份有限公司 | 夹爪式旋转装置 |
| JP2017147408A (ja) * | 2016-02-19 | 2017-08-24 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
| US10777404B2 (en) | 2016-02-19 | 2020-09-15 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
| US11031235B2 (en) | 2016-02-19 | 2021-06-08 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
| JP2017085173A (ja) * | 2017-02-07 | 2017-05-18 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | スピン処理装置及びスピン処理方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040420 |