JPH11354319A - 二重ソレノイド電気衝撃ツールの励振電力を制御する方法 - Google Patents
二重ソレノイド電気衝撃ツールの励振電力を制御する方法Info
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- JPH11354319A JPH11354319A JP10183208A JP18320898A JPH11354319A JP H11354319 A JPH11354319 A JP H11354319A JP 10183208 A JP10183208 A JP 10183208A JP 18320898 A JP18320898 A JP 18320898A JP H11354319 A JPH11354319 A JP H11354319A
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- hammer
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
- B25D—PERCUSSIVE TOOLS
- B25D11/00—Portable percussive tools with electromotor or other motor drive
- B25D11/06—Means for driving the impulse member
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Control Of Linear Motors (AREA)
- Percussive Tools And Related Accessories (AREA)
- Electromagnets (AREA)
Abstract
(57)【要約】
第１ソレノイドが、衝撃ツールの励振電力を増加するた
めに第２ソレノイドに切り替えられるときに、ハンマー
の位置を制御するために第１ソレノイドの付勢時間の変
更を活用する二重ソレノイド電気衝撃ツールの励振電力
を制御する方法。
めに第２ソレノイドに切り替えられるときに、ハンマー
の位置を制御するために第１ソレノイドの付勢時間の変
更を活用する二重ソレノイド電気衝撃ツールの励振電力
を制御する方法。
Description
【発明の詳細な説明】 発明の背景 従来の電気衝撃ツールが、直線に沿って移動するために
ハンマーを引き寄せるように電流を運ぶ際に磁石として
動作する単独ソレノイドを活用することがわかってい
る。図１に図示されるように、スイッチＳＷがオンにさ
れると、電流はソレノイドＬを通って流れ、それによっ
て磁場を作り出し、力Ｆをかけ、ハンマー１０を右に移
動する。スイッチＳＷがオフにされると、電流はソレノ
イドＬを通って流れず、ばね２０がハンマー１１０をそ
の元の位置に戻す。ただし、ハンマー１０を効果的に駆
動するためには、ハンマー１０は、ハンマー１０にかけ
られる力Ｆの一定の方向を維持し、反応力の発生が、ハ
ンマーの前端がソレノイドの端に移動されるときにハン
マーにかけられることを妨ぐように、ソレノイドＬより
長くなくてはならない。それでも、衝撃ツールの体積お
よび重量は、ソレノイドより長いハンマーが励弾力性
は、スイッチがオフにされたときに、ハンマーがその元
の位置に戻されることを保証するために増加されなけれ
ばならない。残念なことに、ばねの弾力性の増加によっ
て、ハンマーにかけられる力の一部が減少し、したがっ
て励振電力が低下する。その結果、単独ソレノイド衝撃
ツールは、満足の行く励振電力を提供することができな
い。したがって、本発明の目的とは、前記に注記された
欠点を未然に防ぎ、緩和することができる衝撃ツールの
励振電力を制御する方法を提供することである。
ハンマーを引き寄せるように電流を運ぶ際に磁石として
動作する単独ソレノイドを活用することがわかってい
る。図１に図示されるように、スイッチＳＷがオンにさ
れると、電流はソレノイドＬを通って流れ、それによっ
て磁場を作り出し、力Ｆをかけ、ハンマー１０を右に移
動する。スイッチＳＷがオフにされると、電流はソレノ
イドＬを通って流れず、ばね２０がハンマー１１０をそ
の元の位置に戻す。ただし、ハンマー１０を効果的に駆
動するためには、ハンマー１０は、ハンマー１０にかけ
られる力Ｆの一定の方向を維持し、反応力の発生が、ハ
ンマーの前端がソレノイドの端に移動されるときにハン
マーにかけられることを妨ぐように、ソレノイドＬより
長くなくてはならない。それでも、衝撃ツールの体積お
よび重量は、ソレノイドより長いハンマーが励弾力性
は、スイッチがオフにされたときに、ハンマーがその元
の位置に戻されることを保証するために増加されなけれ
ばならない。残念なことに、ばねの弾力性の増加によっ
て、ハンマーにかけられる力の一部が減少し、したがっ
て励振電力が低下する。その結果、単独ソレノイド衝撃
ツールは、満足の行く励振電力を提供することができな
い。したがって、本発明の目的とは、前記に注記された
欠点を未然に防ぎ、緩和することができる衝撃ツールの
励振電力を制御する方法を提供することである。
図１は、衝撃ツールのハンマーを駆動するために単独ソ
レノイドを活用する従来の技術の方法を説明する概略図
である。図２は、本発明に従って衝撃ツールのハンマー
を駆動するために２つのソレノイドを活用する方法を説
明する概略図である。図３Ａは、点Ｃの第１位置を示
す。図３Ｂは、点Ｃの第２位置を示す。図３Ｃは、点Ｃ
の第３位置を示す。図４Ａ、図４Ｂ、および図４Ｃは、
点Ｃのさまざまな位置を示す。図５は、本発明に従った
駆動手段の回路図である。好ましい実施例の態様欠点お
よび特にその図１に関して、スイッチＡがオンにされる
と、第１ソレノイドＬ１は、ハンマー１０上に力Ｆをか
ける。ハンマー１０がある点Ｃに移動すると、スイッチ
Ａはオフにされ、スイッチＢがオンにされる。一方、第
１ソレノイドＬ１を通過する電流は停止し、それによっ
て作り出される磁場が崩壊するが、第２ソレノイドＬ２
は付勢され、力Ｆをハンマー１０にかける。したがっ
て、ハンマー１０は、さまざまな位置で異なるインパル
スにさらされる。図３Ａを参照すると、点Ｔが第１ソレ
ノイドＬ１と第２ソレノイドＬ２の間の界面を表し、ハ
ンマー１０の左端が点Ｃと点Ｔの間の位置に移動される
と、電流はハンマー１０に力をかけない第１ソレノイド
Ｌ１（ｉ＝０）を通って流れないが、電流（ｉ）が、ハ
ンマー１０に力をかける（図４Ａを参照）第２ソレノイ
ドＬ２を通って流れるように、点Ｃは点Ｔの左側に位置
する。しかし、ハンマー１０は依然として第２ソレノイ
ドＬ２からは遠いので、ハンマー１０に第２ソレノイド
Ｌ２によってかけられる力はゼロに近づく。点Ｃと点Ｔ
の間の距離が大きくなるほど、ハンマー１０にかけられ
るインパルスは小さくなる。図３Ｂに図示されるよう
に、ハンマー１０が点Ｔと点Ｃの間の位置に移動される
と、第２ソレノイドＬ２が依然として付勢されず、力を
ハンマー１０にかけないように、点Ｃは点Ｔの右側に位
置する。一方、依然として第１ソレノイドＬ１を通って
流れる電流はあるが、ハンマー１０の右端が第１ソレノ
イドＬ１を超えるので、ハンマー１０に第１ソレノイド
Ｌ１によってかけられる力は大幅に減少され、ハンマー
１０を後方に進むために移動させ、それによってハンマ
ー１０にかけられる正味インパルスを減少させる傾向も
あるだろう（図４Ｂを参照）。要約すれば、点Ｔと点Ｃ
の間の距離が大きいほど、ハンマー１０にかけられるイ
ンパルスは小さくなる。図３Ｃに図示されるように、ハ
ンマー１０の前端がどこに位置しているのかに関係な
く、付勢され、ハンマー１０を前方に進むために移動さ
せるための力を作り出す１つのソレノイド（図４Ｃを参
照）があるように、点Ｃは点Ｔに一致する。したがっ
て、ハンマー１０にかけられる衝撃の総量は最高になる
だろう。エネルギーの活用に関しては、図３Ｃに図示さ
れるモードがもっとも効率的だろう。したがって、設計
者は、希望のインパルスを得るために、第１ソレノイド
と第２ソレノイドの付勢時間を調整する可能性がある
（つまり、点Ｃの位置を調整する）。簡略には、本発明
に従った方法は、二重ソレノイド電気衝撃ツールの励振
電力を調整するために点Ｃの位置を活用する。その方法
に従って、衝撃ツールは、その最大励振電力を得て、希
望するように励振電力で容易に調整することができる。
本発明に従った点Ｃの位置を制御するための手段が、図
５に示される。図５に図示される回路は、ハンマー１０
が点Ｃに移動すると、第１ソレノイドＬ１を通って流れ
る電流が停止するが、電流が第２ソレノイドＬ２を通っ
て流れるように、第１ソレノイドＬ１を通って流れる電
流の時間を制御するために活用される。図５に示される
シリコン制御式整流器Ｑ１は図２に図示されるスイッチ
Ａに同等であるが、シリコン制御式整流器Ｑ２はスイッ
チＢに同等である。端末ＡとＢは、正のサイクルが端末
Ａに適用されると、コンデンサＣ４が、コンデンサＣ４
にかけられる電圧がツェナーダイオードＤ２の定格電圧
に等しくなるまで、抵抗器Ｒ４およびダイオードＤ１を
介して充電されるように、ＡＣ電源に接続される。衝撃
ツールがトリガされると、定格電圧はシリコン制御式整
流器Ｑ２の陽極にかけられる。一方、シリコン制御式整
流器Ｑ２のゲートは、パルス信号によりトリガされ、コ
ンデンサＣ４に、シリコン制御式整流器Ｑ２を介して放
電させる。それから、シリコン制御式整流器Ｑ２がトリ
ガされる。したがって、電流は、付勢され、力をハンマ
ー１０にかけるソレノイドＬ１を通って流れる。コンデ
ンサＣ４に蓄積されるすべての電荷が放電されるので、
シリコン制御式整流器Ｑ２は遮断され、シリコン制御式
整流器Ｑ１が誤ってトリガされないようにする。負のサ
イクルの間、電流は第１ソレノイドＬ１を通って流れ
ず、シリコン制御式整流器Ｑ３は導通され、第２ソレノ
イドＬ２は付勢され、力をハンマー１０にかける。この
回路は、点ＣでＡＣ電源に後れを取る正弦波信号を作り
出すために、抵抗器１１、可変抵抗器ＶＲＩおよびコン
デンサＣ１を含むＲＣ移相回路を活用することを特徴と
する。正弦波信号は、点ａで方形波の２分の１のサイク
ルに変換されてから、Ｃ２とＣ３によって濾過され、点
ｂでパルス信号を形成し、それによってシリコン制御式
整流器Ｑ２をトリガする。移相回路は、可変抵抗器ＶＲ
１を調節する（つまり、図３と図４に図示されるハンマ
ーの位置Ｃを得る）ことによって調整することができ
る。したがって、第１ソレノイドＬ１と第２ソレノイド
Ｌ２は、所定の時間に正確に付勢され、それによって希
望の電力を得る。
レノイドを活用する従来の技術の方法を説明する概略図
である。図２は、本発明に従って衝撃ツールのハンマー
を駆動するために２つのソレノイドを活用する方法を説
明する概略図である。図３Ａは、点Ｃの第１位置を示
す。図３Ｂは、点Ｃの第２位置を示す。図３Ｃは、点Ｃ
の第３位置を示す。図４Ａ、図４Ｂ、および図４Ｃは、
点Ｃのさまざまな位置を示す。図５は、本発明に従った
駆動手段の回路図である。好ましい実施例の態様欠点お
よび特にその図１に関して、スイッチＡがオンにされる
と、第１ソレノイドＬ１は、ハンマー１０上に力Ｆをか
ける。ハンマー１０がある点Ｃに移動すると、スイッチ
Ａはオフにされ、スイッチＢがオンにされる。一方、第
１ソレノイドＬ１を通過する電流は停止し、それによっ
て作り出される磁場が崩壊するが、第２ソレノイドＬ２
は付勢され、力Ｆをハンマー１０にかける。したがっ
て、ハンマー１０は、さまざまな位置で異なるインパル
スにさらされる。図３Ａを参照すると、点Ｔが第１ソレ
ノイドＬ１と第２ソレノイドＬ２の間の界面を表し、ハ
ンマー１０の左端が点Ｃと点Ｔの間の位置に移動される
と、電流はハンマー１０に力をかけない第１ソレノイド
Ｌ１（ｉ＝０）を通って流れないが、電流（ｉ）が、ハ
ンマー１０に力をかける（図４Ａを参照）第２ソレノイ
ドＬ２を通って流れるように、点Ｃは点Ｔの左側に位置
する。しかし、ハンマー１０は依然として第２ソレノイ
ドＬ２からは遠いので、ハンマー１０に第２ソレノイド
Ｌ２によってかけられる力はゼロに近づく。点Ｃと点Ｔ
の間の距離が大きくなるほど、ハンマー１０にかけられ
るインパルスは小さくなる。図３Ｂに図示されるよう
に、ハンマー１０が点Ｔと点Ｃの間の位置に移動される
と、第２ソレノイドＬ２が依然として付勢されず、力を
ハンマー１０にかけないように、点Ｃは点Ｔの右側に位
置する。一方、依然として第１ソレノイドＬ１を通って
流れる電流はあるが、ハンマー１０の右端が第１ソレノ
イドＬ１を超えるので、ハンマー１０に第１ソレノイド
Ｌ１によってかけられる力は大幅に減少され、ハンマー
１０を後方に進むために移動させ、それによってハンマ
ー１０にかけられる正味インパルスを減少させる傾向も
あるだろう（図４Ｂを参照）。要約すれば、点Ｔと点Ｃ
の間の距離が大きいほど、ハンマー１０にかけられるイ
ンパルスは小さくなる。図３Ｃに図示されるように、ハ
ンマー１０の前端がどこに位置しているのかに関係な
く、付勢され、ハンマー１０を前方に進むために移動さ
せるための力を作り出す１つのソレノイド（図４Ｃを参
照）があるように、点Ｃは点Ｔに一致する。したがっ
て、ハンマー１０にかけられる衝撃の総量は最高になる
だろう。エネルギーの活用に関しては、図３Ｃに図示さ
れるモードがもっとも効率的だろう。したがって、設計
者は、希望のインパルスを得るために、第１ソレノイド
と第２ソレノイドの付勢時間を調整する可能性がある
（つまり、点Ｃの位置を調整する）。簡略には、本発明
に従った方法は、二重ソレノイド電気衝撃ツールの励振
電力を調整するために点Ｃの位置を活用する。その方法
に従って、衝撃ツールは、その最大励振電力を得て、希
望するように励振電力で容易に調整することができる。
本発明に従った点Ｃの位置を制御するための手段が、図
５に示される。図５に図示される回路は、ハンマー１０
が点Ｃに移動すると、第１ソレノイドＬ１を通って流れ
る電流が停止するが、電流が第２ソレノイドＬ２を通っ
て流れるように、第１ソレノイドＬ１を通って流れる電
流の時間を制御するために活用される。図５に示される
シリコン制御式整流器Ｑ１は図２に図示されるスイッチ
Ａに同等であるが、シリコン制御式整流器Ｑ２はスイッ
チＢに同等である。端末ＡとＢは、正のサイクルが端末
Ａに適用されると、コンデンサＣ４が、コンデンサＣ４
にかけられる電圧がツェナーダイオードＤ２の定格電圧
に等しくなるまで、抵抗器Ｒ４およびダイオードＤ１を
介して充電されるように、ＡＣ電源に接続される。衝撃
ツールがトリガされると、定格電圧はシリコン制御式整
流器Ｑ２の陽極にかけられる。一方、シリコン制御式整
流器Ｑ２のゲートは、パルス信号によりトリガされ、コ
ンデンサＣ４に、シリコン制御式整流器Ｑ２を介して放
電させる。それから、シリコン制御式整流器Ｑ２がトリ
ガされる。したがって、電流は、付勢され、力をハンマ
ー１０にかけるソレノイドＬ１を通って流れる。コンデ
ンサＣ４に蓄積されるすべての電荷が放電されるので、
シリコン制御式整流器Ｑ２は遮断され、シリコン制御式
整流器Ｑ１が誤ってトリガされないようにする。負のサ
イクルの間、電流は第１ソレノイドＬ１を通って流れ
ず、シリコン制御式整流器Ｑ３は導通され、第２ソレノ
イドＬ２は付勢され、力をハンマー１０にかける。この
回路は、点ＣでＡＣ電源に後れを取る正弦波信号を作り
出すために、抵抗器１１、可変抵抗器ＶＲＩおよびコン
デンサＣ１を含むＲＣ移相回路を活用することを特徴と
する。正弦波信号は、点ａで方形波の２分の１のサイク
ルに変換されてから、Ｃ２とＣ３によって濾過され、点
ｂでパルス信号を形成し、それによってシリコン制御式
整流器Ｑ２をトリガする。移相回路は、可変抵抗器ＶＲ
１を調節する（つまり、図３と図４に図示されるハンマ
ーの位置Ｃを得る）ことによって調整することができ
る。したがって、第１ソレノイドＬ１と第２ソレノイド
Ｌ２は、所定の時間に正確に付勢され、それによって希
望の電力を得る。
【手続補正書】
【提出日】平成１０年８月５日
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 二重ソレノイド電気衝撃ツールの励振
電力を制御する方法
電力を制御する方法
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【発明の属する技術分野】簡略には、本発明に従った方
法は、二重ソレノイド電気衝撃ツールの励振電力を調整
するために点Ｃの位置を活用する。その方法に従って、
衝撃ツールは、その最大励振電力を得て、希望するよう
に励振電力で容易に調整することができる。
法は、二重ソレノイド電気衝撃ツールの励振電力を調整
するために点Ｃの位置を活用する。その方法に従って、
衝撃ツールは、その最大励振電力を得て、希望するよう
に励振電力で容易に調整することができる。
【従来の技術】従来の電気衝撃ツールが、直線に沿って
移動するためにハンマーを引き寄せるように電流を運ぶ
際に磁石として動作する単独ソレノイドを活用すること
がわかっている。図１に図示されるように、スイッチＳ
Ｗがオンにされると、電流はソレノイドＬを通って流
れ、それによって磁場を作り出し、力Ｆをかけ、ハンマ
ー１０を右に移動する。スイッチＳＷがオフにされる
と、電流はソレノイドＬを通って流れず、ばね２０がハ
ンマー１１０をその元の位置に戻す。ただし、ハンマー
１０を効果的に駆動するためには、ハンマー１０は、ハ
ンマー１０にかけられる力Ｆの一定の方向を維持し、反
応力の発生が、ハンマーの前端がソレノイドの端に移動
されるときにハンマーにかけられることを妨ぐように、
ソレノイドＬより長くなくてはならない。それでも、衝
撃ツールの体積および重量は、ソレノイドより長いハン
マーが励振電力の滅少を回避するために活用される場合
には増加される。さらに、ばねの弾力性は、スイッチが
オフにされたときに、ハンマーがその元の位置に戻され
ることを保証するために増加されなければならない。残
念なことに、ばねの弾力性の増加によって、ハンマーに
かけられる力の一部が減少し、したがって励振電力が低
下する。その結果、単独ソレノイド衝撃ツールは、満足
の行く励振電力を提供することができない。
移動するためにハンマーを引き寄せるように電流を運ぶ
際に磁石として動作する単独ソレノイドを活用すること
がわかっている。図１に図示されるように、スイッチＳ
Ｗがオンにされると、電流はソレノイドＬを通って流
れ、それによって磁場を作り出し、力Ｆをかけ、ハンマ
ー１０を右に移動する。スイッチＳＷがオフにされる
と、電流はソレノイドＬを通って流れず、ばね２０がハ
ンマー１１０をその元の位置に戻す。ただし、ハンマー
１０を効果的に駆動するためには、ハンマー１０は、ハ
ンマー１０にかけられる力Ｆの一定の方向を維持し、反
応力の発生が、ハンマーの前端がソレノイドの端に移動
されるときにハンマーにかけられることを妨ぐように、
ソレノイドＬより長くなくてはならない。それでも、衝
撃ツールの体積および重量は、ソレノイドより長いハン
マーが励振電力の滅少を回避するために活用される場合
には増加される。さらに、ばねの弾力性は、スイッチが
オフにされたときに、ハンマーがその元の位置に戻され
ることを保証するために増加されなければならない。残
念なことに、ばねの弾力性の増加によって、ハンマーに
かけられる力の一部が減少し、したがって励振電力が低
下する。その結果、単独ソレノイド衝撃ツールは、満足
の行く励振電力を提供することができない。
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
目的とは、前記に注記された欠点を未然に防ぎ、緩和す
ることができる衝撃ツールの励振電力を制御する方法を
提供することである。
目的とは、前記に注記された欠点を未然に防ぎ、緩和す
ることができる衝撃ツールの励振電力を制御する方法を
提供することである。
【課題を解決するための手段】図３Ｃに図示されるよう
に、ハンマー１０の前端がどこに位置しているのかに関
係なく、付勢され、ハンマー１０を前方に進むために移
動させるための力を作り出す１つのソレノイド（図４Ｃ
を参照）があるように、点Ｃは点Ｔに一致する。したが
って、ハンマー１０にかけられる衝撃の総量は最高にな
るだろう。エネルギーの活用に関しては、図３Ｃに図示
されるモードがもっとも効率的だろう。したがって、設
計者は、希望のインパルスを得るために、第１ソレノイ
ドと第２ソレノイドの付勢時間を調整する可能性がある
（つまり、点Ｃの位置を調整する）。
に、ハンマー１０の前端がどこに位置しているのかに関
係なく、付勢され、ハンマー１０を前方に進むために移
動させるための力を作り出す１つのソレノイド（図４Ｃ
を参照）があるように、点Ｃは点Ｔに一致する。したが
って、ハンマー１０にかけられる衝撃の総量は最高にな
るだろう。エネルギーの活用に関しては、図３Ｃに図示
されるモードがもっとも効率的だろう。したがって、設
計者は、希望のインパルスを得るために、第１ソレノイ
ドと第２ソレノイドの付勢時間を調整する可能性がある
（つまり、点Ｃの位置を調整する）。
【発明の実施の形態】欠点および特にその図２に関し
て、スイッチＡがオンにされると、第１ソレノイドＬ１
は、ハンマー１０上に力Ｆをかける。ハンマー１０があ
る点Ｃに移動すると、スイッチＡはオフにされ、スイッ
チＢがオンにされる。一方、第１ソレノイドＬ１を通過
する電流は停止し、それによって作り出される磁場が崩
壊するが、第２ソレノイドＬ２は付勢され、力Ｆをハン
マー１０にかける。したがって、ハンマー１０は、さま
ざまな位置で異なるインパルスにさらされる。図３Ａを
参照すると、点Ｔが第１ソレノイドＬ１と第２ソレノイ
ドＬ２の間の界面を表し、ハンマー１０の左端が点Ｃと
点Ｔの間の位置に移動されると、電流はハンマー１０に
力をかけない第１ソレノイドＬ１（ｉ＝０）を通って流
れないが、電流（ｉ）が、ハンマー１０に力をかける
（図４Ａを参照）第２ソレノイドＬ２を通って流れるよ
うに、点Ｃは点Ｔの左側に位置する。しかし、ハンマー
１０は依然として第２ソレノイドＬ２からは遠いので、
ハンマー１０に第２ソレノイドＬ２によってかけられる
力はゼロに近づく。点Ｃと点Ｔの間の距離が大きくなる
ほど、ハンマー１０にかけられるインパルスは小さくな
る。図３Ｂに図示されるように、ハンマー１０が点Ｔと
点Ｃの間の位置に移動されると、第２ソレノイドＬ２が
依然として付勢されず、力をハンマー１０にかけないよ
うに、点Ｃは点Ｔの右側に位置する。一方、依然として
第１ソレノイドＬ１を通って流れる電流はあるが、ハン
マー１０の右端が第１ソレノイドＬ１を超えるので、ハ
ンマー１０に第１ソレノイドＬ１によってかけられる力
は大幅に減少され、ハンマー１０を後方に進むために移
動させ、それによってハンマー１０にかけられる正味イ
ンパルスを減少させる傾向もあるだろう（図４Ｂを参
照）。要約すれば、点Ｔと点Ｃの間の距離が大きいほ
ど、ハンマー１０にかけられるインパルスは小さくな
る。
て、スイッチＡがオンにされると、第１ソレノイドＬ１
は、ハンマー１０上に力Ｆをかける。ハンマー１０があ
る点Ｃに移動すると、スイッチＡはオフにされ、スイッ
チＢがオンにされる。一方、第１ソレノイドＬ１を通過
する電流は停止し、それによって作り出される磁場が崩
壊するが、第２ソレノイドＬ２は付勢され、力Ｆをハン
マー１０にかける。したがって、ハンマー１０は、さま
ざまな位置で異なるインパルスにさらされる。図３Ａを
参照すると、点Ｔが第１ソレノイドＬ１と第２ソレノイ
ドＬ２の間の界面を表し、ハンマー１０の左端が点Ｃと
点Ｔの間の位置に移動されると、電流はハンマー１０に
力をかけない第１ソレノイドＬ１（ｉ＝０）を通って流
れないが、電流（ｉ）が、ハンマー１０に力をかける
（図４Ａを参照）第２ソレノイドＬ２を通って流れるよ
うに、点Ｃは点Ｔの左側に位置する。しかし、ハンマー
１０は依然として第２ソレノイドＬ２からは遠いので、
ハンマー１０に第２ソレノイドＬ２によってかけられる
力はゼロに近づく。点Ｃと点Ｔの間の距離が大きくなる
ほど、ハンマー１０にかけられるインパルスは小さくな
る。図３Ｂに図示されるように、ハンマー１０が点Ｔと
点Ｃの間の位置に移動されると、第２ソレノイドＬ２が
依然として付勢されず、力をハンマー１０にかけないよ
うに、点Ｃは点Ｔの右側に位置する。一方、依然として
第１ソレノイドＬ１を通って流れる電流はあるが、ハン
マー１０の右端が第１ソレノイドＬ１を超えるので、ハ
ンマー１０に第１ソレノイドＬ１によってかけられる力
は大幅に減少され、ハンマー１０を後方に進むために移
動させ、それによってハンマー１０にかけられる正味イ
ンパルスを減少させる傾向もあるだろう（図４Ｂを参
照）。要約すれば、点Ｔと点Ｃの間の距離が大きいほ
ど、ハンマー１０にかけられるインパルスは小さくな
る。
【発明の効果】本発明に従った点Ｃの位置を制御するた
めの手段が、図５に示される。図５に図示される回路
は、ハンマー１０が点Ｃに移動すると、第１ソレノイド
Ｌ１を通って流れる電流が停止するが、電流が第２ソレ
ノイドＬ２を通って流れるように、第１ソレノイドＬ１
を通って流れる電流の時間を制御するために活用され
る。図５に示されるシリコン制御式整流器Ｑ１は図２に
図示されるスイッチＡに同等であるが、シリコン制御式
整流器Ｑ２はスイッチＢに同等である。端末ＡとＢは、
正のサイクルが端末Ａに適用されると、コンデンサＣ４
が、コンデンサＣ４にかけられる電圧がツェナーダイオ
ードＤ２の定格電圧に等しくなるまで、抵抗器Ｒ４およ
びダイオードＤ１を介して充電されるように、ＡＣ電源
に接続される。衝撃ツールがトリガされると、定格電圧
はシリコン制御式整流器Ｑ２の陽極にかけられる。一
方、シリコン制御式整流器Ｑ２のゲートは、パルス信号
によりトリガされ、コンデンサＣ４に、シリコン制御式
整流器Ｑ２を介して放電させる。それから、シリコン制
御式整流器Ｑ２がトリガされる。したがって、電流は、
付勢され、力をハンマー１０にかけるソレノイドＬ１を
通って流れる。コンデンサＣ４に蓄積されるすべての電
荷が放電されるので、シリコン制御式整流器Ｑ２は遮断
され、シリコン制御式整流器Ｑ１が誤ってトリガされな
いようにする。負のサイクルの間、電流は第１ソレノイ
ドＬ１を通って流れず、シリコン制御式整流器Ｑ３は導
通され、第２ソレノイドＬ２は付勢され、力をハンマー
１０にかける。この回路は、点ＣでＡＣ電源に後れを取
る正弦波信号を作り出すために、抵抗器１１、可変抵抗
器ＶＲ１およびコンデンサＣ１を含むＲＣ移相回路を活
用することを特徴とする。正弦波信号は、点ａで方形波
の２分の１のサイクルに変換されてから、Ｃ２とＣ３に
よって濾過され、点ｂでパルス信号を形成し、それによ
ってシリコン制御式整流器Ｑ２をトリガする。移相回路
は、可変抵抗器ＶＲ１を調節する（つまり、図３と図４
に図示されるハンマーの位置Ｃを得る）ことによって調
整することができる。したがって、第１ソレノイドＬ１
と第２ソレノイドＬ２は、所定の時間に正確に付勢さ
れ、それによって希望の電力を得る。
めの手段が、図５に示される。図５に図示される回路
は、ハンマー１０が点Ｃに移動すると、第１ソレノイド
Ｌ１を通って流れる電流が停止するが、電流が第２ソレ
ノイドＬ２を通って流れるように、第１ソレノイドＬ１
を通って流れる電流の時間を制御するために活用され
る。図５に示されるシリコン制御式整流器Ｑ１は図２に
図示されるスイッチＡに同等であるが、シリコン制御式
整流器Ｑ２はスイッチＢに同等である。端末ＡとＢは、
正のサイクルが端末Ａに適用されると、コンデンサＣ４
が、コンデンサＣ４にかけられる電圧がツェナーダイオ
ードＤ２の定格電圧に等しくなるまで、抵抗器Ｒ４およ
びダイオードＤ１を介して充電されるように、ＡＣ電源
に接続される。衝撃ツールがトリガされると、定格電圧
はシリコン制御式整流器Ｑ２の陽極にかけられる。一
方、シリコン制御式整流器Ｑ２のゲートは、パルス信号
によりトリガされ、コンデンサＣ４に、シリコン制御式
整流器Ｑ２を介して放電させる。それから、シリコン制
御式整流器Ｑ２がトリガされる。したがって、電流は、
付勢され、力をハンマー１０にかけるソレノイドＬ１を
通って流れる。コンデンサＣ４に蓄積されるすべての電
荷が放電されるので、シリコン制御式整流器Ｑ２は遮断
され、シリコン制御式整流器Ｑ１が誤ってトリガされな
いようにする。負のサイクルの間、電流は第１ソレノイ
ドＬ１を通って流れず、シリコン制御式整流器Ｑ３は導
通され、第２ソレノイドＬ２は付勢され、力をハンマー
１０にかける。この回路は、点ＣでＡＣ電源に後れを取
る正弦波信号を作り出すために、抵抗器１１、可変抵抗
器ＶＲ１およびコンデンサＣ１を含むＲＣ移相回路を活
用することを特徴とする。正弦波信号は、点ａで方形波
の２分の１のサイクルに変換されてから、Ｃ２とＣ３に
よって濾過され、点ｂでパルス信号を形成し、それによ
ってシリコン制御式整流器Ｑ２をトリガする。移相回路
は、可変抵抗器ＶＲ１を調節する（つまり、図３と図４
に図示されるハンマーの位置Ｃを得る）ことによって調
整することができる。したがって、第１ソレノイドＬ１
と第２ソレノイドＬ２は、所定の時間に正確に付勢さ
れ、それによって希望の電力を得る。
【図面の簡単な説明】
【図１】衝撃ツールのハンマーを駆動するために単独ソ
レノイドを活用する従来の技術の方法を説明する概略図
である。
レノイドを活用する従来の技術の方法を説明する概略図
である。
【図２】本発明に従って衝撃ツールのハンマーを駆動す
るために２つのソレノイドを活用する方法を説明する概
略図である。
るために２つのソレノイドを活用する方法を説明する概
略図である。
【図３】Ａ 点Ｃの第１位置を示す。 Ｂ 点Ｃの第２位置を示す。 Ｃ 点Ｃの第３位置を示す。
【図４】Ａ 点Ｃのさまざまな位置を示す。 Ｂ 点Ｃのさまざまな位置を示す。 Ｃ 点Ｃのさまざまな位置を示す。
【図５】本発明に従った駆動手段の回路図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 シン−テン チェン 台湾， シン−チュ シティー， タ−ユ アン−シン−チュン ファースト ストリ ート， 24 (72)発明者 ジョ−シェン フ 台湾， タオ−ユアン シェン， チュン −リー シティー， チャオ−チョウ ス トリート， ナンバー 49， フロア ５
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １．第１ソレノイドが、衝撃ツールの励振電力を増加さ
せるために第２ソレノイドに切り替えられるときに、ハ
ンマーの位置を制御することを特徴とする電気衝撃ツー
ルの励振電力を制御する方法。 ２．前記第１ソレノイドが、前記第２ソレノイドに切り
替えられるときに、前記ハンマーの位置を制御するため
に前記第１ソレノイドの付勢時間が活用される、請求項
１に請求される電気衝撃ツールの励振電力を制御する方
法。 ３．前記第１ソレノイドの付勢時間がＲＣ移相回路によ
って制御され、前記ＲＣ移相回路が、可変抵抗器によっ
て調整でき、それによって前記第１ソレノイドの付勢時
間を制御することができる、時間Ｔ分、ＡＣ電源に後れ
を取る正弦波信号を作り出す、請求項１に請求される電
気衝撃ツールの励振電力を制御する方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW084112615A TW465170B (en) | 1995-11-27 | 1995-11-27 | Control method of hitting power for dual-coil electric hitting machine |
| JP10183208A JPH11354319A (ja) | 1995-11-27 | 1998-05-27 | 二重ソレノイド電気衝撃ツールの励振電力を制御する方法 |
| DE19824174A DE19824174A1 (de) | 1995-11-27 | 1998-05-29 | Verfahren zum Steuern der Antriebsleistung von elektrischen Doppelsolenoid-Schlagwerkzeugen |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW084112615A TW465170B (en) | 1995-11-27 | 1995-11-27 | Control method of hitting power for dual-coil electric hitting machine |
| JP10183208A JPH11354319A (ja) | 1995-11-27 | 1998-05-27 | 二重ソレノイド電気衝撃ツールの励振電力を制御する方法 |
| DE19824174A DE19824174A1 (de) | 1995-11-27 | 1998-05-29 | Verfahren zum Steuern der Antriebsleistung von elektrischen Doppelsolenoid-Schlagwerkzeugen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11354319A true JPH11354319A (ja) | 1999-12-24 |
Family
ID=54292263
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10183208A Pending JPH11354319A (ja) | 1995-11-27 | 1998-05-27 | 二重ソレノイド電気衝撃ツールの励振電力を制御する方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11354319A (ja) |
| DE (1) | DE19824174A1 (ja) |
| TW (1) | TW465170B (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014508862A (ja) * | 2011-02-16 | 2014-04-10 | カリフォルニア インスティチュート オブ テクノロジー | 急速コンデンサ放電による金属ガラスの射出成形 |
| US9067258B2 (en) | 2008-03-21 | 2015-06-30 | California Institute Of Technology | Forming of metallic glass by rapid capacitor discharge forging |
| US9309580B2 (en) | 2008-03-21 | 2016-04-12 | California Institute Of Technology | Forming of metallic glass by rapid capacitor discharge |
| US9393612B2 (en) | 2012-11-15 | 2016-07-19 | Glassimetal Technology, Inc. | Automated rapid discharge forming of metallic glasses |
| US9463498B2 (en) | 2008-03-21 | 2016-10-11 | California Institute Of Technology | Sheet forming of metallic glass by rapid capacitor discharge |
| US9845523B2 (en) | 2013-03-15 | 2017-12-19 | Glassimetal Technology, Inc. | Methods for shaping high aspect ratio articles from metallic glass alloys using rapid capacitive discharge and metallic glass feedstock for use in such methods |
| US10022779B2 (en) | 2014-07-08 | 2018-07-17 | Glassimetal Technology, Inc. | Mechanically tuned rapid discharge forming of metallic glasses |
| US10029304B2 (en) | 2014-06-18 | 2018-07-24 | Glassimetal Technology, Inc. | Rapid discharge heating and forming of metallic glasses using separate heating and forming feedstock chambers |
| US10213822B2 (en) | 2013-10-03 | 2019-02-26 | Glassimetal Technology, Inc. | Feedstock barrels coated with insulating films for rapid discharge forming of metallic glasses |
| US10273568B2 (en) | 2013-09-30 | 2019-04-30 | Glassimetal Technology, Inc. | Cellulosic and synthetic polymeric feedstock barrel for use in rapid discharge forming of metallic glasses |
| US10632529B2 (en) | 2016-09-06 | 2020-04-28 | Glassimetal Technology, Inc. | Durable electrodes for rapid discharge heating and forming of metallic glasses |
| US10682694B2 (en) | 2016-01-14 | 2020-06-16 | Glassimetal Technology, Inc. | Feedback-assisted rapid discharge heating and forming of metallic glasses |
-
1995
- 1995-11-27 TW TW084112615A patent/TW465170B/zh not_active IP Right Cessation
-
1998
- 1998-05-27 JP JP10183208A patent/JPH11354319A/ja active Pending
- 1998-05-29 DE DE19824174A patent/DE19824174A1/de not_active Ceased
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9745641B2 (en) | 2008-03-21 | 2017-08-29 | California Institute Of Technology | Forming of metallic glass by rapid capacitor discharge |
| US9067258B2 (en) | 2008-03-21 | 2015-06-30 | California Institute Of Technology | Forming of metallic glass by rapid capacitor discharge forging |
| US9297058B2 (en) | 2008-03-21 | 2016-03-29 | California Institute Of Technology | Injection molding of metallic glass by rapid capacitor discharge |
| US9309580B2 (en) | 2008-03-21 | 2016-04-12 | California Institute Of Technology | Forming of metallic glass by rapid capacitor discharge |
| US9463498B2 (en) | 2008-03-21 | 2016-10-11 | California Institute Of Technology | Sheet forming of metallic glass by rapid capacitor discharge |
| JP2014508862A (ja) * | 2011-02-16 | 2014-04-10 | カリフォルニア インスティチュート オブ テクノロジー | 急速コンデンサ放電による金属ガラスの射出成形 |
| US9393612B2 (en) | 2012-11-15 | 2016-07-19 | Glassimetal Technology, Inc. | Automated rapid discharge forming of metallic glasses |
| US9845523B2 (en) | 2013-03-15 | 2017-12-19 | Glassimetal Technology, Inc. | Methods for shaping high aspect ratio articles from metallic glass alloys using rapid capacitive discharge and metallic glass feedstock for use in such methods |
| US10273568B2 (en) | 2013-09-30 | 2019-04-30 | Glassimetal Technology, Inc. | Cellulosic and synthetic polymeric feedstock barrel for use in rapid discharge forming of metallic glasses |
| US10213822B2 (en) | 2013-10-03 | 2019-02-26 | Glassimetal Technology, Inc. | Feedstock barrels coated with insulating films for rapid discharge forming of metallic glasses |
| US10029304B2 (en) | 2014-06-18 | 2018-07-24 | Glassimetal Technology, Inc. | Rapid discharge heating and forming of metallic glasses using separate heating and forming feedstock chambers |
| US10022779B2 (en) | 2014-07-08 | 2018-07-17 | Glassimetal Technology, Inc. | Mechanically tuned rapid discharge forming of metallic glasses |
| US10682694B2 (en) | 2016-01-14 | 2020-06-16 | Glassimetal Technology, Inc. | Feedback-assisted rapid discharge heating and forming of metallic glasses |
| US10632529B2 (en) | 2016-09-06 | 2020-04-28 | Glassimetal Technology, Inc. | Durable electrodes for rapid discharge heating and forming of metallic glasses |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE19824174A1 (de) | 1999-12-02 |
| TW465170B (en) | 2001-11-21 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
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