JPH11344631A - 光デバイス - Google Patents

光デバイス

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JPH11344631A
JPH11344631A JP10164382A JP16438298A JPH11344631A JP H11344631 A JPH11344631 A JP H11344631A JP 10164382 A JP10164382 A JP 10164382A JP 16438298 A JP16438298 A JP 16438298A JP H11344631 A JPH11344631 A JP H11344631A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 低コストで信号光の制御を行う光デバイスを
提供する。 【解決手段】 石英ガラスを母材とした基板に光導波路
を形成して、エバネセント結合される結合長Lが完全結
合長Lcの半分の方向性結合器25を設けるとともに、
この結合長の終端は基板20の端面に接し、その導波路
端面に対向して全反射膜26が配置するようにした。そ
して、方向性結合器25を形成する第1および第2の光
導波路21、22の直上あるいはその周辺には制御用電
極27、28を形成し、局所的に加熱することで、方向
性結合器25の光導波路の屈折率nを変化させる。これ
により、完全結合長Lcを変化させることができるの
で、方向性結合器25から出力される出射光のエネルギ
ー分配比を変更することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光デバイスに係わ
り、詳細には方向性結合型の光導波路を有する光デバイ
スに関する。
【0002】
【従来の技術】近年、大容量の情報を高品質で伝送する
ことを特徴とする光ファイバを用いた通信システムが実
用化されている。このような通信システムの構成部品と
して、光信号を高速に制御でき、かつ集積化による小型
化が可能な光導波路を用いた方向性結合型の光デバイス
が開発されている。
【0003】図9は、このような従来提案された光デバ
イスの構成の概要を表わしたものである。この光デバイ
スは、LiNbO3基板10に、第1の光導波路11と
第2の光導波路12とが配置されている。第1の光導波
路11と第2の光導波路12とは、幅、厚さおよび屈折
率が同一であり、それらは互いに近接して平行に配置さ
れることによって、この平行部分に方向性結合器13を
形成している。この方向性結合器13による光導波路間
の光の移動が100パーセントとなる結合長を完全結合
長Lcとする。方向性結合器13の結合長は、完全結合
長Lcの半分の長さになるように形成されている。ま
た、方向性結合器13を形成する第1および第2の光導
波路11、12の端面に対向して全反射膜(あるいは全
反射板)14が配置されている。さらに、方向性結合器
13を形成する第1および第2の光導波路11、12上
には図示しないバッファ層を介して制御用電極15、1
6が形成されており、両端には電圧を印加することがで
きるようになっている。
【0004】制御用電極15、16に電圧を印加しない
とき、この光デバイスの第1の光導波路11に入射した
入射光17は、方向性結合器13で徐々に第2の光導波
路12に光エネルギーが遷移する。そして、方向性結合
器13を完全結合長Lcの半分だけ伝播して全反射膜1
4に達したときには、入射光の半分のエネルギーが第2
の光導波路12に遷移している状態となる。このとき、
第1の光導波路11と第2の光導波路12における光強
度は等しく、かつ位相が反転している状態である。全反
射膜14では、そのまま折り返されて全反射されるた
め、今度は方向性結合器13を逆方向に伝播することに
なる。ここでも、同様にして徐々に第2の光導波路12
に光エネルギーが遷移し、方向性結合器13への入射地
点に戻ったときには全光エネルギーが第2の光導波路1
2に遷移した状態となる。その結果、入射光17と同じ
光強度の出射光18を第2の光導波路12から得ること
ができる。
【0005】ところで、この光デバイスはLiNbO3
基板10に第1および第2の光導波路11、12が配置
されている。この基板10は、電気光学効果を有し、電
圧が印加されることによって生じた電界により、その印
加部分周辺の屈折率が変化する。したがって、制御用電
極15、16に電圧を印加したとき、電極下の第1およ
び第2の光導波路11、12の屈折率を変更することが
できる。その状態では、方向性結合器13を形成する光
導波路の導波モード間の位相速度の不整合により両光導
波路間の結合状態が変化する。したがって、第2の光導
波路12から出射される出射光18が得られないように
することが可能となる。
【0006】すなわち、電気光学効果を有する基板上に
設けられた方向性結合器を形成する光導波路上の電極に
電圧を印加することによって、一方の光導波路から入射
光を入射させたときに他方の光導波路から出射光を出射
させたり、あるいは出射させなかったりすることができ
る。これは、出射光のオン・オフ制御を行なうことがで
きることを意味する。また、このような制御を実現する
光デバイスは、完全結合長の半分の長さで済むため小型
化することができる。
【0007】このような電気光学効果を用いた光デバイ
スに関する技術は、例えば特開昭63−234227号
公報「方向性結合型光スイッチ」あるいは特開平3−2
56028号公報「光制御デバイス」にそれぞれ開示さ
れている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】このような特開昭63
−234227号公報あるいは特開平3−256028
号公報に開示されている光デバイスは、電気光学効果を
有する非常に限定された例えばLiNbO3基板を用い
る必要がある。特に、各種の光デバイスを複合化して、
集積化を行なう場合、非常にコストが高くなってしまう
という問題がある。
【0009】そこで本発明は、低コストで信号光の制御
を行う光デバイスを提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明で
は、(イ)熱光学効果を有する基板上に配置されている
第1の光導波路と、(ロ)一端部がこの第1の光導波路
の一端部と近接して所定の長さだけ互いに平行に基板上
に配置され、その平行部分で第1の光導波路を伝播する
光とエバネセント結合を行う第2の光導波路と、(ハ)
第1および第2の光導波路の一端部の端面とそれぞれ対
向して配置されこの端面から出射される光を全反射する
光反射手段と、(ニ)エバネセント結合が行われる第1
および第2の光導波路の平行部分の近傍を加熱すること
によって第1の光導波路の他端部側から入射された入射
光が分配される第1および第2の光導波路の他端部側そ
れぞれから出射される出射光の分配比を変更する分配比
変更手段とを光デバイスに具備させている。
【0011】すなわち請求項1記載の発明では、光を伝
播する第1および第2の光導波路が熱光学効果を有する
基板上に、一端部が近接して所定の長さだけ互いに平行
にエバネセント結合が行われるように配置されるように
している。そして、第1および第2の光導波路の一端部
の端面と対向して光反射手段を配置して、この端面から
出射される出射光を全反射させる。さらに、エバネセン
ト結合が行われるように近接して平行に配置された第1
および第2の光導波路の近傍を加熱するようにしてい
る。これにより、熱光学効果で加熱部分の屈折率が変化
するため、エバネセント結合が行われるように近接して
配置された平行部分の完全結合長を変化させることがで
きる。したがって、この完全結合長の変化に応じて光反
射手段によって全反射された光は、第2の光導波路を伝
播して出射される出射光として遷移する光エネルギーが
変化することになり、結果的に第1の導波路を伝播して
出射される出射光の光エネルギーも変化させることがで
きる。
【0012】請求項2記載の発明では、(イ)熱光学効
果を有する基板上に配置されている第1の光導波路と、
(ロ)一端部がこの第1の光導波路の一端部と近接して
所定の長さだけ互いに平行に基板上に配置され、その平
行部分で第1の光導波路を伝播する光とエバネセント結
合を行う第2の光導波路と、(ハ)第1および第2の光
導波路の一端部の端面それぞれと対向して配置されこの
端面から出射される光を全反射する光反射手段と、
(ニ)第2の光導波路の他端部側の端面に対向して配置
されこの第2の光導波路の他端部側の端面から出射され
る出射光の強度を検出する出射光検出手段と、(ホ)エ
バネセント結合が行われる第1および第2の光導波路の
平行部分の近傍をこの出射光検出手段によって検出され
た出射光の強度に基づいて加熱することによって第1の
光導波路の他端部側から入射された入射光が分配される
第1および第2の光導波路の他端部側それぞれからの出
射光分配比を変更する分配比変更手段とを光デバイスに
具備させている。
【0013】すなわち請求項2記載の発明では、光を伝
播する第1および第2の光導波路が熱光学効果を有する
基板上に、一端部が近接して所定の長さだけ互いに平行
にエバネセント結合が行われるように配置されるように
している。そして、第1および第2の光導波路の一端部
の端面と対向して光反射手段を配置して、この端面から
出射される出射光を全反射させている。また、第2の光
導波路の他端部側の端面に対向して出射光検出手段を配
置し、この端面から出射される出射光の強度を検出して
いる。さらにエバネセント結合が行われるように近接し
て平行に配置された第1および第2の光導波路の近傍を
この出射光検出検出手段によって検出された出射光の光
強度に基づいて加熱するようにしている。これにより、
第2の導波路に遷移してこの光導波路から出射される出
射光の強度に応じて加熱の度合いを変更することがで
き、第1の導波路から出射される出射光が所望の強度に
なるように平行部分の完全結合長を変化させることがで
きるようになる。
【0014】請求項3記載の発明では、(イ)熱光学効
果を有する基板上に配置されている第1の光導波路と、
(ロ)一端部がこの第1の光導波路の一端部と近接して
所定の長さだけ互いに平行に基板上に配置され、その平
行部分で第1の光導波路を伝播する光とエバネセント結
合を行う第2の光導波路と、(ハ)第1および第2の光
導波路の一端部の端面それぞれと対向して配置されこの
端面から出射される光の一部を透過するとともに残りを
反射する光反射手段と、(ニ)この光反射手段を透過し
た光の強度を検出する受光強度検出手段と、(ホ)エバ
ネセント結合が行われる第1および第2の光導波路の平
行部分の近傍をこの受光強度検出手段によって検出され
た透過光の強度に基づいて加熱することによって第1の
光導波路の他端部側から入射された入射光が分配される
第1および第2の光導波路の他端部側それぞれから出射
される出射光の分配比を変更する分配比変更手段とを光
デバイスに具備させている。
【0015】すなわち請求項3記載の発明では、光を伝
播する第1および第2の光導波路が熱光学効果を有する
基板上に、近接して所定の長さだけ互いに平行にエバネ
セント結合が行われるように配置されるようにしてい
る。そして、第1および第2の光導波路の一端部の端面
と対向して光反射手段を配置して、この端面から出射さ
れる出射光の一部だけを透過させ残りを反射させてい
る。光反射手段を透過した透過光は、受光強度検出手段
によってその強度が検出される。さらに、エバネセント
結合が行われるように近接して平行に配置された第1お
よび第2の光導波路の近傍をこの受光強度検出手段によ
って検出された透過光の光強度に基づいて加熱するよう
にしている。これにより、第1の光導波路から入射され
る入射光の断状態を検出することができるようになると
ともに、出射光を一定制御しているときに入射光の強度
が急激に変化した場合でも所望の光強度で出射されるよ
うに制御することができるようになる。
【0016】請求項4記載の発明では、(イ)熱光学効
果を有する基板上に配置されている第1の光導波路と、
(ロ)一端部がこの第1の光導波路の一端部と近接して
所定の長さだけ互いに平行に基板上に配置され、その平
行部分で第1の光導波路を伝播する光とエバネセント結
合を行う第2の光導波路と、(ハ)第1および第2の光
導波路の一端部の端面それぞれと対向して配置されこの
端面から出射される光の一部を透過するとともに残りを
反射する光反射手段と、(ニ)この光反射手段を透過し
た光の強度を検出する受光強度検出手段と、(ホ)第2
の光導波路の他端部側の端面に対向して配置されこの第
2の光導波路の他端部側の端面から出射される出射光の
強度を検出する出射光検出手段と、(ヘ)エバネセント
結合が行われる第1および第2の光導波路の平行部分の
近傍を受光強度検出手段によって検出された透過光の強
度および出射光検出手段によって検出された出射光の強
度に基づいて加熱することによって第1の光導波路の他
端部側から入射された入射光が分配される第1および第
2の光導波路の他端部側それぞれから出射される出射光
の分配比を変更する分配比変更手段とを光デバイスに具
備させている。
【0017】すなわち請求項4記載の発明では、光を伝
播する第1および第2の光導波路が熱光学効果を有する
基板上に、近接して所定の長さだけ互いに平行にエバネ
セント結合が行われるように配置されるようにしてい
る。そして、第1および第2の光導波路の一端部の端面
と対向して光反射手段を配置して、この端面から出射さ
れる出射光の一部だけを透過させ残りを反射させてい
る。光反射手段を透過した透過光は、受光強度検出手段
によってその強度が検出される。さらに、第2の光導波
路の他端部側の端面に対向して出射光検出手段を配置
し、この端面から出射される出射光の強度を検出してい
る。エバネセント結合が行われるように近接して平行に
配置された第1および第2の光導波路の近傍をこの受光
強度検出手段によって検出された透過光の光強度と、出
射光検出手段によって検出された出射光の光強度とに基
づいて加熱するようにしている。このように、受光強度
検出手段で透過光の光強度を監視することによって、第
1の光導波路から入射される入射光の断状態を検出する
ことができるようになる。出射光を一定制御していると
きに入射光の強度が急激に変化した場合でも所望の光強
度で出射されるように制御することもできる。さらに、
出射光検出手段によって第2の光導波路を伝播して出射
される出射光の強度を監視することによって、第1の光
導波路を伝播して出射される出射光の強度の制御の精度
を向上させることができる。
【0018】請求項5記載の発明では、請求項1〜請求
項4記載の光デバイスで、第1および第2の光導波路そ
れぞれの一端部は、近接して完全結合長の半分の長さだ
け互いに平行に、かつその平行部分の終端が基板の端面
と接するように基板上に配置されていることを特徴とし
ている。
【0019】すなわち請求項5記載の発明では、基板上
にエバネセント結合が行われるように、第1および第2
の光導波路が近接して互いに平行に配置された部分の終
端が基板の端面と接するようにするとともにその平行部
分の長さを、完全結合長の半分の長さになるようにして
いる。
【0020】請求項6記載の発明では、請求項1〜請求
項5記載の光デバイスで、第1の光導波路と、第1の光
導波路とエバネセント結合を行う第2の光導波路と、第
1および第2の光導波路の一端部の端面それぞれと対向
して配置される光反射手段とがアレイ化されて配置され
ていることを特徴としている。
【0021】すなわち請求項6記載の発明では、基板上
に配置されてエバネセント結合が行われる第1および第
2の光導波路と、これら一端部の端面に対向して配置さ
れる光反射手段とをアレイ化するようにしている。
【0022】
【発明の実施の形態】
【0023】
【実施例】以下実施例につき本発明を詳細に説明する。
【0024】第1の実施例
【0025】図1は、本発明の第1の実施例における光
デバイスの構成の概要を表わしたものである。この光デ
バイスは、石英ガラスを母材とした基板20に、第1の
光導波路21と第2の光導波路22とが形成され、それ
ぞれ基板の端面に配置された第1のポート23と第2の
ポート24とから光が入射あるいは出射される。第1の
光導波路21と第2の光導波路22は、幅、厚さおよび
屈折率が同一である。また基板20の第1および第2の
ポート23、24と反対の端面には、第1および第2の
光導波路21、22が互いに近接した平行部分に方向性
結合器25を形成している。この方向性結合器25の結
合長は、完全結合長Lcの半分の長さとなっており、こ
の結合長の終端は基板20の端面に接し、その導波路端
面に対向して全反射膜26が配置されている。
【0026】また、方向性結合器25を形成する第1お
よび第2の光導波路21、22の直上あるいはその周辺
には制御用電極27、28が形成されており、制御回路
29から電力を供給することができるようになってい
る。第1および第2のポート23、24には、例えば光
ファイバ端末30、31をポートに突き合わせて結合し
たり、ポートの間にレンズを介したマイクロオプティク
ス技術により結合したりして、光信号を効率的に結合す
る光配線がなされている。
【0027】制御回路29により制御用電極27、28
に電圧を印加しないとき、第1のポート23から入射さ
れた入射光32は、第1の光導波路21を伝播して方向
性結合器25で第2の光導波路22とエバネセント結合
される。ここで、方向性結合器25の結合長をLとす
る。結合長Lが完全結合長Lcと等しいときは、第1の
光導波路21を伝播した光エネルギーは、徐々に第2の
光導波路22に遷移され、方向性結合器25の結合長の
終端が接する基板20の端面において完全に全エネルギ
ーが遷移する。
【0028】しかし、第1の実施例における光デバイス
の基板20上に形成された方向性結合器25の結合長L
は完全結合長Lcの半分となるように形成されているの
で、方向性結合器25の結合長の終端が接する基板20
の端面において第1の光導波路21を伝播した光エネル
ギーの半分が第2の光導波路22に遷移した状態とな
る。そして、方向性結合器25が接している基板20の
端面に対向して全反射膜26が配置されているため、第
1の光導波路21を伝播した信号光は全反射され、再び
方向性結合器25を形成する第1および第2の光導波路
21、22を戻る。このように方向性結合器25を戻る
際にも、徐々に第2の光導波路22に光エネルギーが遷
移し、最終的に全光エネルギーが遷移する。その場合、
第2の光導波路22を伝播して第2のポート24から入
射光32と同一の光強度を有する出射光33が得られ
る。
【0029】すなわち第1のポート23からの入射光3
2は、全反射膜26による全反射の折り返しによって方
向性結合器25の結合長が完全結合長Lcと等しくなる
ため、第2のポート24から出射光33が出力される。
【0030】ここで、第1のポート23から入射されて
第1の光導波路21を伝播する入射光32の光エネルギ
ーと、方向性結合器25の端面で反射されて第2の光導
波路22を伝播して第2のポート24から出力される出
射光33の光エネルギーとの関係として、次の(1)式
で表される分配比ηを定義する。
【0031】 η=(出射光33の光エネルギー)/(出射光33の光エネルギーと出射光3 4の光エネルギーの和) ・・・(1)
【0032】この分配比ηが1となる条件は、上述した
ような方向性結合器25の結合長Lが完全結合長Lcの
半分に等しいときである。ところがこの完全結合長Lc
は、種々の要素によって決定され、その1つに方向性結
合器25を形成する第1および第2の光導波路21、2
2の屈折率nがある。光導波路の屈折率nは、例えば導
波路基板への機械的応力や熱および電界の印加などの外
部要因により、容易に変更できることが知られている。
そこで、外部から作為的にこれら要因を変更することに
よって、光導波路の屈折率nを変更し、分配比ηの調整
を行なうことができるようになる。
【0033】ところで、図1に示した光デバイスは石英
ガラスを母材とした基板20に光導波路を形成してい
る。この石英導波路の場合、加熱による屈折率を変化さ
せることができる「熱光学効果」を有するため、屈折率
nを調整する手段として加熱方式を採用することが最も
効率的である。そこで、方向性結合器25を形成する第
1および第2の光導波路21、22の直上あるいはその
周辺に加熱用の制御用電極27、28を形成して、制御
回路29から電力を供給することができるようになって
いる。このような構成により、導波路の周辺部のみを局
所的に加熱することができる。
【0034】制御回路29により制御用電極27、28
に所定の電圧を印加したとき、方向性結合器25におい
て加熱用の制御用電極27、28から供給された電力に
応じて屈折率nが変化し、その結果完全結合長Lcも変
化する。したがって、第1のポート23から入射された
入射光32は第1の光導波路21を伝播し、変化した完
全結合長Lcに見合う光エネルギーを第2の光導波路2
2側に遷移させる。そして、全反射膜26によって全反
射された後、方向性結合器25を戻り、第1および第2
の光導波路21、22からそれぞれ出射光34、33が
出力されることになる。ここで、この出射光33の光エ
ネルギーと出射光34の光エネルギーとの和は、入射光
32の光エネルギーに等しい。しかし、加熱用の制御用
電極27、28から供給される電力を変更することで、
出射光33、34それぞれの出力配分を任意に変更する
ことができ、分配比ηを調整することができる。
【0035】図2は、図1に示した光デバイスの熱光学
効果を発生させるための加熱に必要な制御用電極27、
28から供給する電力と分配比ηとの関係の概要を表わ
したものである。横軸は印加電力をワット値[W]で、
縦軸は分配比ηをパーセント値[%]で、それぞれ表わ
している。また、実線で示す波形35は、(1)式で示
すように出射光33への分配比ηを表わし、破線で示す
波形36は、出射光34への分配比η´を表わしてい
る。すなわち、分配比η´は、出射光34の光エネルギ
ーを、出射光33の光エネルギーと出射光34の光エネ
ルギーの和で除算してパーセント表示したものである。
【0036】制御用電極27、28に電圧を印加しない
ときには、電力が供給されない。したがって、第1のポ
ート23から入射された入射光32は上述したように完
全結合長Lcの半分に設定されている結合長を有する方
向性結合器25を全反射膜26によって反射されて戻っ
てきたとき、全光エネルギーが第2の導波路22に遷移
している。すなわち、出射光33に対しては分配比ηは
100パーセントを示し、出射光34に対しては分配比
η´は0パーセントを示すことになる。しかし、次第に
印加電圧を増加させて供給する電力が増えてくると、徐
々に第2の光導波路22へのエネルギー遷移が減り、や
がて全光エネルギーが第1の光導波路21を伝播して出
射光34として出力されるときがある(分配比η´は1
00パーセント)。このときは、出射光33と出射光3
4の光エネルギーの和は一定であるので、出射光33に
対する分配比ηは0パーセントになる。
【0037】このように第1の実施例における光デバイ
スは、石英ガラスを母材とした基板に光導波路を形成し
て、エバネセント結合される結合長Lが完全結合長Lc
の半分の方向性結合器25を設けるとともに、この結合
長の終端は基板20の端面に接し、その導波路端面に対
向して全反射膜26が配置するようにした。そして、方
向性結合器25を形成する第1および第2の光導波路2
1、22の直上あるいはその周辺には制御用電極27、
28を形成し、局所的に加熱することで、方向性結合器
25の光導波路の屈折率nを変化させる。これにより、
完全結合長Lcを変化させることができるので、方向性
結合器25から出力される出射光のエネルギー分配比を
変更することができる。また、基板に安価な石英ガラス
を母材とした基板を用いるため、従来よりも低コストで
集積化が可能となる。さらに方向性結合器部分を折り返
して使用するため、光デバイスの小型化と、熱光学効果
を発生させるために必要な電力を半分にすることができ
る。
【0038】第2の実施例
【0039】図3は、本発明の第2の実施例における光
デバイスの構成の概要を表わしたものである。但し、図
1に示す第1の実施例における光デバイスと同一部分に
は同一符号を付し、適宜説明を省略する。この第2の実
施例における光デバイスは、図1に示す第1の実施例に
おける光デバイスの第2のポート24から出力される出
射光33を監視し、この監視結果に応じて制御用電極2
7、28に電圧を印加して供給する電力を変更できるよ
うにしている。
【0040】すなわち、石英ガラスを母材とした基板2
0に、第1の光導波路21と第2の光導波路22とが形
成され、それぞれ基板の端面に配置された第1のポート
23と第2のポート24とから光が入射あるいは出射さ
れる。第1の光導波路21と第2の光導波路22とは、
幅、厚さおよび屈折率が同一である。基板20の第1お
よび第2のポート23、24と反対の端面には第1およ
び第2の光導波路21、22が互いに近接した平行部分
に方向性結合器25を形成している。この方向性結合器
25の結合長は、完全結合長Lcの半分の長さとなって
おり、この結合長の終端は基板20の端面に接し、その
導波路端面に対向して全反射膜26が配置されている。
また、方向性結合器25を形成する第1および第2の光
導波路21、22の直上あるいはその周辺には制御用電
極27、28が形成されており、制御回路41から電力
を供給することができるようになっている。第1のポー
ト23には、例えば光ファイバ端末30をポートに突き
合わせて結合したり、ポートの間にレンズを介したマイ
クロオプティクス技術により結合したり、光信号を効率
的に結合する光配線がなされている。また第2のポート
24には、フォトダイオード(Photo Diode:以下、P
Dと略す。)40を直接配置している。このPD40に
よる監視結果は、制御回路41に入力されている。
【0041】この光デバイスでは、制御回路41から供
給される電力に応じてエバネセント結合される光導波路
間のエネルギー遷移に関して、第1の実施例と同一なの
で説明を省略する。
【0042】しかし第2の実施例における光デバイス
は、第2のポート24から出力される出射光がPD40
に入力されるため、出射光33として出射される光のエ
ネルギーをPD40の受光エネルギーとして認識するこ
とができる。そしてこの受光結果を制御回路41にフィ
ードバックすることによって、制御回路41から制御用
電極27、28に供給する電力を変更すれば、第1のポ
ート23から出射される出射光34の強度が所望の値に
なるように調整することができる。あるいは、第1のポ
ート23から出射される出射光34のエネルギーと第2
のポート24からPD40で受光される受光エネルギー
との和は一定であるため、PD40で受光される信号光
の強度を調整することができる。
【0043】このように第2の実施例における光デバイ
スは、第2のポート24にPD40を直接配置して、第
2の光導波路22を伝播して出射される出射光を監視
し、その監視結果をフィードバックして制御回路41で
制御用電極27、28から供給する電力を変更するよう
にしたので、第1の光導波路21あるいは第2の光導波
路22から出射される出射光が所望の強度になるように
調整することができる。このような光デバイスは、例え
ば光ファイバ伝送システムにおける信号光のレベル調整
を行なうことができる。
【0044】第3の実施例
【0045】図4は、本発明の第3の実施例における光
デバイスの構成の概要を表わしたものである。但し、図
1に示す第1の実施例における光デバイスと同一部分に
は同一符号を付し、適宜説明を省略する。この第3の実
施例における光デバイスは方向性結合器25の結合長の
終端が接している基板20の光導波路の端面に対向し
て、全反射膜ではなく高反射膜(あるいは高反射板)4
2が配置されている。高反射膜42は、方向性結合器2
5を結合長Lだけ伝播して基板20の光導波路端面に達
した信号光の一部だけを透過させ、残りを反射させる。
高反射膜42を透過した信号光は、PD43に入力され
ている。そして、高反射膜42を透過した信号光のレベ
ルがPD43によって検出されて、監視結果として制御
回路44にフィードバックされるようになっている。
【0046】すなわち、石英ガラスを母材とした基板2
0に、第1の光導波路21と第2の光導波路22とが形
成され、それぞれ基板の端面に配置された第1のポート
23と第2のポート24とから光が入射あるいは出射さ
れる。第1の光導波路21と第2の光導波路22とは、
幅、厚さおよび屈折率が同一である。基板20の第1お
よび第2のポート23、24と反対の端面には第1およ
び第2の光導波路21、22が互いに近接した平行部分
に方向性結合器25を形成している。この方向性結合器
25の結合長Lは、完全結合長Lcの半分の長さとなっ
ており、この結合長の終端は基板20の端面に接し、そ
の導波路端面に対向して高反射膜42が配置されてい
る。高反射膜42を透過した信号光は、PD43に入力
されている。方向性結合器25を形成する第1および第
2の光導波路21、22の直上あるいはその周辺には制
御用電極27、28が形成されており、高反射膜42を
透過した信号光を受光したPD43の受光結果に応じて
制御回路44から電力を供給することができるようにな
っている。第1および第2のポート23、24には、例
えば光ファイバ端末30、31をポートに突き合わせて
結合したり、ポートの間にレンズを介したマイクロオプ
ティクス技術により結合したり、光信号を効率的に結合
する光配線がなされている。
【0047】この光デバイスでは、制御回路44から供
給される電力に応じてエバネセント結合される光導波路
間のエネルギー遷移に関しては、第1の実施例と同一な
ので説明を省略する。
【0048】しかし第3の実施例における光デバイス
は、高反射膜42が方向性結合器25を通る信号光の一
部を透過させ、これをPD43により透過光の光強度を
検出している。したがって、PD43によって検出した
光強度の監視結果により制御回路44から制御用電極2
7、28に供給する電力を変更することできる。また、
第1のポート23に入射される入射光32の断状態か否
かを検出することができるばかりでなく、第1あるいは
第2のポート23、24から出射される出射光33、3
4の強度をほぼ所望の値になるように調整することがで
きる。
【0049】このように第3の実施例における光デバイ
スは、高反射膜42を方向性結合器25の結合長の終端
が接している基板20の光導波路端面に対向して配置す
るとともに、高反射膜42の透過光を監視して制御回路
44を制御するようにした。これにより、第1のポート
23から入射される入射光32の断状態を検出すること
ができるとともに、出射光33、34のいずれかを一定
制御しているときに入射光32のレベルが急激に変化し
た場合でも出射光33、34のいずれかの強度をほぼ所
望の値になるように調整することも可能となる。このよ
うな光デバイスは、例えば光ファイバ伝送システムにお
ける信号光の監視を行なうことができる。
【0050】第4の実施例
【0051】図5は、本発明の第4の実施例における光
デバイスの構成の概要を表わしたものである。但し、図
1および図3および図4に示す光デバイスと同一部分に
は同一符号を付し、適宜説明を省略する。この第4の実
施例における光デバイスは、第2のポート24から出力
される出射光33を監視している。さらに、方向性結合
器25の結合長の終端が接している基板20の光導波路
端面に対向して、全反射膜26ではなく高反射膜42が
配置され、高反射膜42の透過光を監視している。この
出射光33と高反射膜42の透過光の監視結果により、
制御回路45から制御用電極27、28に供給される電
力を変更できるようにしている。
【0052】すなわち、石英ガラスを母材とした基板2
0に、第1の光導波路21と第2の光導波路22とが形
成され、それぞれ基板の端面に配置された第1のポート
23と第2のポート24とから光が入射あるいは出射さ
れる。第1の光導波路21と第2の光導波路22とは、
幅、厚さおよび屈折率が同一である。基板20の第1お
よび第2のポート23、24と反対の端面には第1およ
び第2の光導波路21、22が互いに近接した平行部分
に方向性結合器25を形成している。この方向性結合器
25の結合長Lは、完全結合長Lcの半分の長さとなっ
ており、この結合長の終端は基板20の端面に接し、そ
の導波路端面に対向して高反射膜42が配置されてい
る。高反射膜42を透過した信号光は、PD43に入力
されている。方向性結合器25を形成する第1および第
2の光導波路21、22の直上あるいはその周辺には制
御用電極27、28が形成されており、制御回路45か
ら電力を供給することができるようになっている。第1
のポート23には、例えば光ファイバ端末30をポート
に突き合わせて結合したり、ポートの間にレンズを介し
たマイクロオプティクス技術により結合したり、光信号
を効率的に結合する光配線がなされている。また第2の
ポート24には、PD40を直接配置している。このP
D40による監視結果は、制御回路45に入力されてい
る。制御回路45は、高反射膜42を透過した信号光を
受光したPD43の受光結果と、第2のポート24の直
接配置されているPD40の受光結果とに応じて電力を
供給する。
【0053】この光デバイスでは、制御回路45から供
給される電力に応じてエバネセント結合される光導波路
間のエネルギー遷移に関して、第1の実施例と同一なの
で説明を省略する。
【0054】しかし第4の実施例における光デバイス
は、高反射膜42が方向性結合器25を通る信号光の一
部を透過させ、これをPD43により透過光の光強度を
検出している。そして、第2のポート24から出射され
る出射光をPD40によりその光強度を検出している。
したがって、PD43によって検出した光強度の監視結
果により制御回路45から制御用電極27、28に供給
される電力を変更することで、第1の光導波路21から
の入射光32が断状態になってもこれを検出することが
でき、さらに急激な入射光32レベルが変化しても、予
め一定制御している所望の強度の出射光33を出力させ
ることができる。また、PD40によって検出した光強
度の監視結果により制御回路45から制御用電極27、
28に供給される電力を変更することで、第1の光導波
路21からの出射光33を所望の光強度に正確に調整し
て出力させることができる。
【0055】このように第4の実施例における光デバイ
スは、高反射膜42を方向性結合器25の結合長の終端
が接している基板20の光導波路端面に対向して配置す
るとともに、高反射膜42の透過光を監視して制御回路
45を制御するようにしている。また、第2のポートに
PD40を直接配置して、第2の光導波路22を伝播し
て出射される出射光を監視して、その監視結果をフィー
ドバックして制御回路45を制御するようにしている。
これにより、出射光33を一定レベルで出力させたい場
合、入射光32が急激に変動しても所望の光強度を出力
させることができる。また、PD40の監視結果によ
り、出射光33として正確な信号強度で出力させること
ができる。
【0056】第5の実施例
【0057】図6は、本発明の第5の実施例における光
デバイスの構成の概要を表わしたものである。但し、図
5に示す第4の実施例における光デバイスと同一部分に
は同一符号を付し、適宜説明を省略する。この第5の実
施例における光デバイスは、光強度を所定の増幅率で増
幅する光アンプ50と、光アンプ50によって増幅され
た出力光が入力される光サーキュレータ51と、光サー
キュレータ51の出力光が入力される光アンプ52とを
有している。さらに、光サーキュレータ51は、光合分
波器(Arrayed Waveguide Grating:以下、AWGと略
す。)53に接続されている。AWG53は、光サーキ
ュレータ51からの入力光を波長成分ごとにN本の光フ
ァイバ541〜54Nに分波して出力することができると
ともに、これらN本の光ファイバ541〜54Nから入力
された各光信号を合波して光サーキュレータ51に出力
することができる。そして、光ファイバ541〜54
Nは、それぞれ図5に示した第4の実施例における光デ
バイスの第1のポートに接続されている。この光デバイ
スは、第4の実施例で述べたように入射光が大きく変動
しても常に予め決められている所定の光強度で出力する
ことができるように制御されているものとする。
【0058】光アンプ50によって増幅された増幅光
は、光サーキュレータ51に入力される。光サーキュレ
ータ51は、光アンプ50から入力された入力光を、A
WG53に出力する。AWG53では、各波長成分ごと
にそれぞれ光ファイバ541〜54Nを介して光デバイス
に入力される。この光デバイスは、入射光が予め定めら
れた光強度の出力光として再び出射されるように制御す
ることができるため、上述したような光強度が調整され
て、AWG53に出力される。AWG53では、このよ
うにして所望の信号強度に調整されて再び戻ってきた各
波長成分の光信号を合波して光サーキュレータ51に出
力する。光サーキュレータ51は、AWG53から入力
された入力光を、光アンプ52に出力する。
【0059】このように、例えば光ファイバ伝送システ
ムの中継器は光信号を増幅して中継することができる
が、光素子には波長に依存した特性を有するため光アン
プによる光強度によって全波長成分の信号レベルが一定
に保つことができない。特に波長多重伝送システムのよ
うに各波長成分を多重化して伝送する場合、光素子の波
長依存性は伝送の信頼性を劣化させる要因となる。そこ
で、上述したように光アンプ間に、各波長成分ごとに分
波してそれぞれを所望の信号強度に調整して再び合波さ
せるようにすることで、各波長成分が所定の光強度を保
つことができるので、高品質な伝送システムを構成する
ことができる。また、従来のように光分岐器や可変光ア
ッテネータや全反射器の部分はそれぞれ波長成分ごとに
必要となるため非常に大きな実装面積を必要としていた
が、非常に小型化されたデバイスで実現することができ
るようになる。さらに従来の可変光アッテネータの消費
電力に比べて半分となるため、低消費電力化が可能とな
る。
【0060】以下では、これまで説明した実施例の変形
例について述べる。
【0061】第1の変形例
【0062】図7は、第1の変形例における光デバイス
の構成の概要を表わしたものである。但し、図3に示す
第2の実施例における光デバイスと同一の部分には同一
符号を付し、適宜説明を省略する。この光デバイスの第
1のポート23には、光アイソレータ56を介して入射
光32が入射されている。また、第2のポート24から
の出射光は、光分岐器55により分岐され、一方は出射
光33として出力され、他方がPD40に入力されて制
御回路41を制御することができるようになっている。
【0063】このように、導波路への反射光の入射を防
ぐ光アイソレータや光分岐器を用いることができる。こ
れにより、光強度の制御の精度を向上させることができ
る。
【0064】第2の変形例
【0065】図8は、光デバイスがアレイ化されたデバ
イスの構成の概要を表わしたものである。このように石
英ガラスを母材とした基板60には、同一の光デバイス
611〜61Mをアレイ化して、各方向性結合器の結合長
の終端が接する端面と対向してそれぞれ全反射膜を配置
させることで、非常に小型化できる。また、全反射膜で
はなく高反射膜を配置させて各透過光を検出して制御す
ることも可能である。さらに全反射膜あるいは高反射膜
を混在させてアレイ化することも可能である。さらに、
これまで説明した第1ないし第5の実施例における各光
デバイス611〜61Mをアレイ化して、各方向性結合器
の結合長の終端が接する端面と対向してそれぞれ全反射
膜あるいは高反射膜を配置させることも可能である。こ
のようにアレイ化して集積化することで、非常に小型化
される。また、第5の実施例における光デバイスのよう
に各波長成分ごとに同様な構成の光デバイスをアレイ化
することで、さらに小型化することができる。
【0066】このようにこれまで説明した光デバイス
は、光伝送システムの伝送路に配置させ、信号光を一定
レベルに制御させたり、波長多重分割伝送システムにお
ける光合分波器や、可変光アッテネータや反射器の部分
にそれぞれ適用することができる。
【0067】なお発明者は、上述したような光デバイス
を1つの導波路基板上に配置することで、実装面積を従
来比の10分の1となる大幅な小型化を実現している。
また、方向性結合器の結合長を完全結合長の半分にする
ことで、発熱量が半分となるため、放熱板などの装置を
小型化することができる。さらに、装置の小型化と、ア
レイ化による製造コスト削減により、個別部品構成時と
比較して約3分の1のコストダウンを実現している。
【0068】
【発明の効果】以上説明したように請求項1記載の発明
によれば、熱光学効果で加熱部分の屈折率が変化するた
め、エバネセント結合が行われるように近接して配置さ
れた平行部分の完全結合長を変化させることができる。
したがって、第1および第2の光導波路から出射される
出射光の強度を容易に変更することができるようにな
る。また、基板に安価な石英ガラスを母材とした基板を
用いることができ、従来よりも低コストで集積化が可能
となる。さらに方向性結合器部分を折り返して使用する
ため、光デバイスの小型化と、熱光学効果を発生させる
ために必要な電力を大幅に低減させる。
【0069】また請求項2記載の発明によれば、分配さ
れて第2の導波路を伝播して出射される出射光の強度に
応じて加熱の度合いを変更することができるためエバネ
セント結合が行われるように近接して配置された平行部
分の完全結合長を変化させることで、第1の導波路を伝
播して出射される出射光が所望の強度に容易に調整する
ことができるようになる。例えば、光ファイバ伝送シス
テムにおける信号光のレベル調整に適用することが可能
である。また、基板に安価な石英ガラスを母材とした基
板を用いることができ、従来よりも低コストで集積化が
可能となる。さらに方向性結合器部分を折り返して使用
するため、光デバイスの小型化と、熱光学効果を発生さ
せるために必要な電力を大幅に低減させる。
【0070】また請求項3記載の発明によれば、第1の
光導波路から入射される入射光の断状態を検出すること
ができるようになるとともに、出射光を一定制御してい
るときに入射光の強度が急激に変化した場合でも所望の
光強度で出射されるように制御することができるように
なる。例えば、光ファイバ伝送システムにおける信号光
の監視に適用することが可能となる。また、基板に安価
な石英ガラスを母材とした基板を用いることができ、従
来よりも低コストで集積化が可能となる。さらに方向性
結合器部分を折り返して使用するため、光デバイスの小
型化と、熱光学効果を発生させるために必要な電力を大
幅に低減させる。
【0071】また請求項4記載の発明によれば、受光強
度検出手段で透過光の光強度を監視することによって、
第1の光導波路から入射される入射光の断状態を検出す
ることができるようになる。出射光を一定制御している
ときに入射光の強度が急激に変化した場合でも所望の光
強度で出射されるように制御することもできる。さら
に、出射光検出手段によって第2の光導波路を伝播して
出射される出射光の強度を監視することによって、第1
の光導波路を伝播して出射される出射光の強度の制御の
精度を向上させることができる。また、基板に安価な石
英ガラスを母材とした基板を用いることができ、従来よ
りも低コストで集積化が可能となる。さらに方向性結合
器部分を折り返して使用するため、光デバイスの小型化
と、熱光学効果を発生させるために必要な電力を大幅に
低減させる。
【0072】さらに請求項5記載の発明によれば、第1
および第2の光導波路の近傍を加熱しないときには第1
の光導波路への入射光を第2の光導波路の出射光として
出射させることができ、光スイッチへ適用することがで
きる。そして、熱光学効果を発生される消費電力も半分
で済むため、結果的に装置の小型化によるコスト削減に
寄与することができる。
【0073】さらに請求項6記載の発明によれば、光導
波路部分とその端面に配置される光反射手段とをアレイ
化することで、光デバイスを小型化させることができ
る。特に、光伝送システムにおける波長単位の光信号レ
ベル調整のように波長ごとに同様の構成が必要な装置に
適用することによって、その装置の小型化による効果は
非常に大きい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例における光デバイスの構
成の概要を示す概略平面図である。
【図2】第1の実施例における供給電力と分配比との関
係の概要を示す説明図である。
【図3】本発明の第2の実施例における光デバイスの構
成の概要を示す概略平面図である。
【図4】本発明の第3の実施例における光デバイスの構
成の概要を示す概略平面図である。
【図5】本発明の第4の実施例における光デバイスの構
成の概要を示す概略平面図である。
【図6】本発明の第5の実施例における光デバイスの構
成の概要を示す概略平面図である。
【図7】本発明の第1の変形例における光デバイスの構
成の概要を示す概略構成図である。
【図8】本発明の第2の変形例における光デバイスの構
成の概要を示す概略平面図である。
【図9】従来提案された光デバイスの構成の概要を示す
平面図である。
【符号の説明】
20 基板 21 第1の光導波路 22 第2の光導波路 23 第1のポート 24 第2のポート 25 方向性結合器 26 全反射膜 27、28 制御用電極 29、41、44、45 制御回路 30、31 光ファイバ端末 32 入射光 33、34 出射光 40、43 PD 42 高反射膜 50、52 光アンプ 51 光サーキュレータ 53 AWG

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 熱光学効果を有する基板上に配置されて
    いる第1の光導波路と、 一端部がこの第1の光導波路の一端部と近接して所定の
    長さだけ互いに平行に前記基板上に配置され、その平行
    部分で第1の光導波路を伝播する光とエバネセント結合
    を行う第2の光導波路と、 前記第1および第2の光導波路の一端部の端面とそれぞ
    れ対向して配置されこの端面から出射される光を全反射
    する光反射手段と、 エバネセント結合が行われる前記第1および第2の光導
    波路の平行部分の近傍を加熱することによって前記第1
    の光導波路の他端部側から入射された入射光が分配され
    る第1および第2の光導波路の他端部側それぞれから出
    射される出射光の分配比を変更する分配比変更手段とを
    具備することを特徴とする光デバイス。
  2. 【請求項2】 熱光学効果を有する基板上に配置されて
    いる第1の光導波路と、 一端部がこの第1の光導波路の一端部と近接して所定の
    長さだけ互いに平行に前記基板上に配置され、その平行
    部分で第1の光導波路を伝播する光とエバネセント結合
    を行う第2の光導波路と、 前記第1および第2の光導波路の一端部の端面それぞれ
    と対向して配置されこの端面から出射される光を全反射
    する光反射手段と、 前記第2の光導波路の他端部側の端面に対向して配置さ
    れこの第2の光導波路の他端部側の端面から出射される
    出射光の強度を検出する出射光検出手段と、 エバネセント結合が行われる前記第1および第2の光導
    波路の平行部分の近傍をこの出射光検出手段によって検
    出された前記出射光の強度に基づいて加熱することによ
    って前記第1の光導波路の他端部側から入射された入射
    光が分配される第1および第2の光導波路の他端部側そ
    れぞれからの出射光分配比を変更する分配比変更手段と
    を具備することを特徴とする光デバイス。
  3. 【請求項3】 熱光学効果を有する基板上に配置されて
    いる第1の光導波路と、 一端部がこの第1の光導波路の一端部と近接して所定の
    長さだけ互いに平行に前記基板上に配置され、その平行
    部分で第1の光導波路を伝播する光とエバネセント結合
    を行う第2の光導波路と、 前記第1および第2の光導波路の一端部の端面それぞれ
    と対向して配置されこの端面から出射される光の一部を
    透過するとともに残りを反射する光反射手段と、 この光反射手段を透過した光の強度を検出する受光強度
    検出手段と、 エバネセント結合が行われる前記第1および第2の光導
    波路の平行部分の近傍をこの受光強度検出手段によって
    検出された前記透過光の強度に基づいて加熱することに
    よって前記第1の光導波路の他端部側から入射された入
    射光が分配される第1および第2の光導波路の他端部側
    それぞれから出射される出射光の分配比を変更する分配
    比変更手段とを具備することを特徴とする光デバイス。
  4. 【請求項4】 熱光学効果を有する基板上に配置されて
    いる第1の光導波路と、 一端部がこの第1の光導波路の一端部と近接して所定の
    長さだけ互いに平行に前記基板上に配置され、その平行
    部分で第1の光導波路を伝播する光とエバネセント結合
    を行う第2の光導波路と、 前記第1および第2の光導波路の一端部の端面それぞれ
    と対向して配置されこの端面から出射される光の一部を
    透過するとともに残りを反射する光反射手段と、 この光反射手段を透過した光の強度を検出する受光強度
    検出手段と、 前記第2の光導波路の他端部側の端面に対向して配置さ
    れこの第2の光導波路の他端部側の端面から出射される
    出射光の強度を検出する出射光検出手段と、 エバネセント結合が行われる前記第1および第2の光導
    波路の平行部分の近傍を前記受光強度検出手段によって
    検出された前記透過光の強度および出射光検出手段によ
    って検出された前記出射光の強度に基づいて加熱するこ
    とによって前記第1の光導波路の他端部側から入射され
    た入射光が分配される第1および第2の光導波路の他端
    部側それぞれから出射される出射光の分配比を変更する
    分配比変更手段とを具備することを特徴とする光デバイ
    ス。
  5. 【請求項5】 前記第1および第2の光導波路それぞれ
    の一端部は、近接して完全結合長の半分の長さだけ互い
    に平行に、かつその平行部分の終端が前記基板の端面と
    接するように前記基板上に配置されていることを特徴と
    する請求項1〜請求項4記載の光デバイス。
  6. 【請求項6】 前記第1の光導波路と、第1の光導波路
    とエバネセント結合を行う第2の光導波路と、前記第1
    および第2の光導波路の一端部の端面それぞれと対向し
    て配置される光反射手段とがアレイ化されて配置されて
    いることを特徴とする請求項1〜請求項5記載の光デバ
    イス。
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