JPH11340340A - 小形mosfetパッケ―ジを持つ回路 - Google Patents

小形mosfetパッケ―ジを持つ回路

Info

Publication number
JPH11340340A
JPH11340340A JP11061097A JP6109799A JPH11340340A JP H11340340 A JPH11340340 A JP H11340340A JP 11061097 A JP11061097 A JP 11061097A JP 6109799 A JP6109799 A JP 6109799A JP H11340340 A JPH11340340 A JP H11340340A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
channel
mosfet
package
circuit
channel mosfet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP11061097A
Other languages
English (en)
Inventor
Louis Robert Nerone
ルイス・ロバート・ネロン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
General Electric Co
Original Assignee
General Electric Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by General Electric Co filed Critical General Electric Co
Publication of JPH11340340A publication Critical patent/JPH11340340A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/04Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
    • H01L27/08Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
    • H01L27/085Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only
    • H01L27/088Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate
    • H01L27/092Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate complementary MIS field-effect transistors
    • H01L27/0922Combination of complementary transistors having a different structure, e.g. stacked CMOS, high-voltage and low-voltage CMOS
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/07Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00
    • H01L25/072Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00 the devices being arranged next to each other
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Electronic Switches (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 小形MOSFETパッケージを持つ回路を提
供する。 【解決手段】 回路は、交流電流が流れる負荷回路(3
0、40)を有し、更にpチャンネル・エンハンス・モ
ードMOSFET(10)およびnチャンネル・エンハ
ンス・モードMOSFET(12)を含む。これらのM
OSFETのソースは共通接続点(54)に接続され、
該共通接続点には交流電流が流れる。これらのMOSF
ETはそれぞれ交流電流に対して、ほぼ等しいrms値
を持つ正方向および負方向寄与分を持つ。これらのMO
SFETは、パッケージ(14)内に、同じ平面内で互
いに隣接して配列される。パッケージの主表面は40.
5mm2 以下の面積を持つ。pチャンネルMOSFET
のチャンネル面積は、nチャンネルMOSFETのチャ
ンネル面積の約1.4〜約2.0倍である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は一般に、各々が実質
的に同じ実効値(rms)の電流を通すpチャンネル・
エンハンス・モードMOSFETおよびnチャンネル・
エンハンス・モードMOSFETを含む回路に関するも
のであり、更に詳しくはこれらのMOSFETに対する
小形パッケージを利用する回路に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ガス放電ランプ用安定器回路のような電
子回路は、典型的には、各々が実質的に同じ実効値(r
ms)の電流を通すpチャンネル・エンハンス・モード
MOSFETおよびnチャンネル・エンハンス・モード
MOSFETを利用する。エジソン型口金を持つコンパ
クト蛍光ランプのようなランプ用途では、物理的に小さ
な安定器回路が必要である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従って、両方のMOS
FETを同じ小さなパッケージ内に実装し、しかも各々
のMOSFETの温度上昇をほぼ同じに維持することが
要望される。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、小形MOSF
ETパッケージを持つ回路を提供する。一態様では、該
回路は交流電流が流れる負荷回路を有し、更にpチャン
ネル・エンハンス・モードMOSFETおよびnチャン
ネル・エンハンス・モードMOSFETを含む。これら
のMOSFETのソースは共通接続点に接続され、該共
通接続点には交流電流が流れる。これらのMOSFET
はそれぞれ交流電流に対して、ほぼ等しいrms値を持
つ正方向および負方向寄与分を持つ。これらのMOSF
ETは、パッケージ内に、同じ平面内で互いに隣接して
配列される。パッケージの主表面は40.5mm2 以下
の面積を持つ。pチャンネルMOSFETのチャンネル
面積は、nチャンネルMOSFETのチャンネル面積の
約1.4〜約2.0倍である。
【0005】上記の回路は両方のMOSFETに対する
小さなパッケージを実現し、MOSFETの寸法は両M
OSFETの間で温度上昇がほぼ等しくなるように選択
される。このパッケージの利点は、MOSFETからの
金属製熱散逸経路がリード・フレームだけで構成される
ようにしてパッケージを廉価に構成できることである。
【0006】
【発明の実施の形態】図1は、pチャンネル・エンハン
ス・モードMOSFET10がそれより小さいnチャン
ネル・エンハンス・モードMOSFET12に隣接して
実装されているいわゆる小形デュアル・インライン・パ
ッケージ14を示す。パッケージ14は一方の側から延
在する4つのリード16および反対側から延在する4つ
のリード18有しているが、リードの数は変えてよい。
以下に詳しく説明するように、MOSFET10および
12は実質的に等しい実効値(rms)の電流を通す。
パッケージの大きさを最小にするために、MOSFET
12からMOSFET10への熱散逸経路20(便宜的
に1つの矢印で図示する)およびMOSFET10から
MOSFET12への熱散逸経路22(1つの矢印で図
示する)が、両MOSFETからの残りの熱散逸経路
(図2に参照数字19で示す)と比較して、小さいレベ
ル、好ましくは無視し得るレベルまで低減されるべきで
ある。有利なことに、パッケージ14は、リード16お
よび18に接続されたリード・フレーム17(簡略化し
て示す)だけで金属製熱散逸経路が構成されるようにし
て経済的に作ることが出来る。
【0007】上記に熱的条件を以下の式で表すことが出
来る。 θp ×Pp =θn ×Pn 式(1) ここで、θp はpチャンネルMOSFET10からの全
ての熱散逸経路(図示してない)の熱抵抗であり、θn
はnチャンネルMOSFET12からの全ての熱散逸経
路(図示してない)の熱抵抗であり、Pp およびPn
MOSFET10および12内のそれぞれの放熱量であ
る。
【0008】上記の熱の問題は、パッケージ14の全体
の主面積が小さい場合、特に重要である。図3は、本明
細書で使用する「主面積」を例示している。図3におい
て、主面積は図示の実施態様で寸法24および26の積
であり、好ましくは40.5mm2 以下、更に好ましく
は35.4mm2 以下、また更に好ましくは20.2m
2 以下である。
【0009】また、熱の問題は、MOSFET10およ
び12の最大電力定格が全体として約1ワット以下、更
に好ましくは約0.5ワット以下である場合、特に重要
である。
【0010】MOSFETがより一層大きい場合は、デ
バイス・パッケージ(例えば、リード・フレーム)を介
しての熱伝達が増大するのと比較して、デバイス間の熱
伝達は低減する。
【0011】図4は、MOSFET10および12を用
いるコンパクト蛍光ランプ30用の安定器回路28を示
す。直流電圧源32が、母線導体34と基準導体36と
の間に直流電圧を供給する。制御回路38が、通常はラ
ンプ30と共振インダクタ40と共振コンデンサとを含
む共振負荷回路からの帰還信号に応答して、MOSFE
T10および12の交互の導通を制御する。コンデンサ
44および46が、接続点48の電位を、母線導体34
と基準導体36との間の電圧のほぼ半分の電圧に維持す
る。随意選択によりスナッバ回路を、例えば、米国特許
第5,382,882号明細書に記載されているよう
に、コンデンサ50により、また更に抵抗器52を付加
して、形成してもよい。
【0012】動作について説明すると、MOSFET1
0が導通して、共通接続点54を基準導体36に短絡さ
せる。これにより、負方向の電流56が流れる。次い
で、MOSFET10がオフに切り換えられ、且つMO
SFET12が導通して、接続点54を母線導体34に
接続する。これにより、正方向の電圧58が流れる。電
流56および58は接続点54で組み合わさって、共振
負荷電流を形成する。電流56および58の実効値(r
ms)は、図4の安定器回路ではほぼ同じである。
【0013】上記の式(1)の条件に近づけるために、
MOSFET10および12のそれぞれのチャンネルに
おける電荷担体の移動度の差を考慮して、MOSFET
10および12のそれぞれのオン抵抗を等しくすること
が考察される。図5は、pチャンネル・エンハンス・モ
ードMOSFET10の断面図を示している。図示のよ
うに、ソース電極10sおよびドレイン電極10dが、
高ドーピング濃度のp型領域62および64に接続され
る。ゲート10gが、酸化物または他の電気絶縁層68
によって反転チャンネル66から分離されている。ゲー
ト10gは、ソース電極10sに対して適切にバイアス
されたとき、p導電型の反転チャンネルを作成する。チ
ャンネルの幅は、寸法70によって図示されており、領
域62および64の間の分離距離である。
【0014】MOSFET10のpチャンネルにおける
移動度は、MOSFET12のnチャンネルにおける移
動度のほぼ半分である場合に、一例としてチャンネル幅
が同じである場合、。pチャンネルの面積をnチャンネ
ルの2倍にすると、MOSFET10および12のオン
抵抗が等しくなる傾向がある。
【0015】しかし、前に述べたように大きさおよび電
力範囲が小さい場合、例えばpチャンネルの面積を2倍
にすると、熱散逸経路19(図2)に利用できるMOS
FET10の表面積が増大する。従って、このようなM
OSFETはMOSFET12と同じ熱さで動作しな
い。このため、pチャンネルの面積を増大するには、そ
の結果生じる熱散逸経路の増大を考慮しなければならな
い。
【0016】pチャンネルMOSFET10のチャンネ
ル面積とnチャンネルMOSFET12のチャンネル面
積との比を、約1.4〜約2.0、更に好ましくは約
1.4〜約1.6の範囲にすべきである。
【0017】本発明を例として特定の好ましい実施態様
について詳述したが、種々の変更および変形をなし得る
ことは当業者には明らかであろう。例えば、ランプ30
(図3)は陰極を持っていてもよいが、その代わりに無
電極ランプにすることが出来る。従って、特許請求の範
囲は本発明の真の精神および趣旨の範囲内にあるこの様
な全ての変更および変形を包含することを意図して記載
してあることを理解されたい。
【図面の簡単な説明】
【図1】一対のMOSFETを中に装着した半導体パッ
ケージの簡略斜視図である。
【図2】図1の半導体パッケージの簡略端面図である。
【図3】図1の半導体パッケージの簡略上面図である。
【図4】図1のMOSFETを利用する代表的な回路の
簡略回路図である。
【図5】図1のpチャンネルMOSFETの断面図であ
る。
【符号の説明】
10 pチャンネル・エンハンス・モードMOSFE
T 12 nチャンネル・エンハンス・モードMOSFE
T 14 小形デュアル・インライン・パッケージ 16 リード 17 リード・フレーム 18 リード 19 熱散逸経路 20 熱散逸経路 22 熱散逸経路 28 安定器回路 30 コンパクト蛍光ランプ 38 制御回路

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 交流電流が流れる負荷回路、前記交流電
    流が通って流れる共通接続点に接続されたそれぞれのソ
    ースを持ち、且つそれぞれ前記交流電流に対して、ほぼ
    等しいrms値を持つ正方向および負方向寄与分を持つ
    pチャンネル・エンハンス・モードMOSFETおよび
    nチャンネル・エンハンス・モードMOSFET、並び
    に内部に前記pチャンネルMOSFETおよび前記nチ
    ャンネルMOSFETが同じ平面内で互いに隣接して配
    列されているパッケージであって、該パッケージの主表
    面が40.5mm2 以下の面積を持つパッケージを有し
    ており、 前記pチャンネルMOSFETのチャンネル面積が、前
    記nチャンネルMOSFETのチャンネル面積の1.4
    〜2.0倍であること、を特徴とする、小形MOSFE
    Tパッケージを持つ回路。
  2. 【請求項2】 前記pチャンネルMOSFETのチャン
    ネル面積が、前記nチャンネルMOSFETのチャンネ
    ル面積の1.4〜1.6倍である請求項1記載の回路。
  3. 【請求項3】 前記pチャンネルMOSFETおよび前
    記nチャンネルMOSFETのチャンネル面積が、正常
    な動作中における前記pチャンネルMOSFETおよび
    前記nチャンネルMOSFETのそれぞれの温度上昇を
    ほぼ等しくするように選択されている請求項1記載の回
    路。
  4. 【請求項4】 前記パッケージの前記面積が20.2m
    2 以下である請求項1記載の回路。
  5. 【請求項5】 前記パッケージは、該パッケージ内の前
    記MOSFETからの金属製熱散逸経路がリード・フレ
    ームだけを有するように構成されている請求項1記載の
    回路。
  6. 【請求項6】 前記パッケージが小形デュアル・インラ
    イン・パッケージである請求項5記載の回路。
  7. 【請求項7】 前記pチャンネルMOSFETおよび前
    記nチャンネルMOSFETのチャンネル面積は、これ
    らのMOSFETの相互間の熱散逸経路がこれらのMO
    SFETからの残りの熱散逸経路と比較して無視し得る
    ほど小さくなるように選択されている請求項1記載の回
    路。
  8. 【請求項8】 交流電流が流れる負荷回路、 前記交流電流が通って流れる共通接続点に接続されたそ
    れぞれのソースを持ち、且つそれぞれ前記交流電流に対
    して、ほぼ等しいrms値を持つ正方向および負方向寄
    与分を持つpチャンネル・エンハンス・モードMOSF
    ETおよびnチャンネル・エンハンス・モードMOSF
    ET、並びに内部に前記pチャンネルMOSFETおよ
    び前記nチャンネルMOSFETが同じ平面内で互いに
    隣接して配列されているパッケージであって、該パッケ
    ージの主表面が40.5mm2 以下の面積を持つパッケ
    ージを有しており、 前記pチャンネルMOSFETおよび前記nチャンネル
    MOSFETの電力定格が全体として1ワット以下であ
    ること、を特徴とする、小形MOSFETパッケージを
    持つ回路。
  9. 【請求項9】 前記pチャンネルMOSFETおよび前
    記nチャンネルMOSFETの電力定格が全体として
    0.5ワット以下である請求項8記載の回路。
  10. 【請求項10】 前記pチャンネルMOSFETのチャ
    ンネル面積が、前記nチャンネルMOSFETのチャン
    ネル面積の1.4〜2.0倍である請求項8記載の回
    路。
  11. 【請求項11】 前記pチャンネルMOSFETおよび
    前記nチャンネルMOSFETのチャンネル面積が、正
    常な動作中における前記pチャンネルMOSFETおよ
    び前記nチャンネルMOSFETのそれぞれの温度上昇
    をほぼ等しくするように選択されている請求項8記載の
    回路。
  12. 【請求項12】 前記パッケージの前記面積が20.2
    mm2 以下である請求項8記載の回路。
  13. 【請求項13】 前記パッケージは、該パッケージ内の
    前記MOSFETからの金属製熱散逸経路がリード・フ
    レームだけを有するように構成されている請求項8記載
    の回路。
  14. 【請求項14】 前記パッケージが小形デュアル・イン
    ライン・パッケージである請求項13記載の回路。
  15. 【請求項15】 前記pチャンネルMOSFETおよび
    前記nチャンネルMOSFETのチャンネル面積は、こ
    れらのMOSFETの相互間の熱散逸経路がこれらのM
    OSFETからの残りの熱散逸経路と比較して無視し得
    るほど小さくなるように選択されている請求項8記載の
    回路。
JP11061097A 1998-03-10 1999-03-09 小形mosfetパッケ―ジを持つ回路 Withdrawn JPH11340340A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/038,260 US5929520A (en) 1998-03-10 1998-03-10 Circuit with small package for mosfets
US09/038260 1998-03-10

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11340340A true JPH11340340A (ja) 1999-12-10

Family

ID=21898925

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11061097A Withdrawn JPH11340340A (ja) 1998-03-10 1999-03-09 小形mosfetパッケ―ジを持つ回路

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5929520A (ja)
EP (1) EP0942471A2 (ja)
JP (1) JPH11340340A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007242608A (ja) * 2006-02-10 2007-09-20 Toshiba Lighting & Technology Corp 電球形蛍光ランプおよび照明装置

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19935100B4 (de) * 1999-07-27 2004-10-28 Infineon Technologies Ag Halbbrückenkonfiguration
US9078380B2 (en) 2012-10-19 2015-07-07 Nvidia Corporation MOSFET stack package
DE102018118275A1 (de) * 2018-07-27 2020-01-30 Valeo Siemens Eautomotive Germany Gmbh Rotoranordnung für eine elektrische Maschine, elektrische Maschine für ein Fahrzeug und Fahrzeug

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5489804A (en) * 1989-08-28 1996-02-06 Lsi Logic Corporation Flexible preformed planar structures for interposing between a chip and a substrate
KR100552353B1 (ko) * 1992-03-27 2006-06-20 가부시키가이샤 히타치초엘에스아이시스템즈 리이드프레임및그것을사용한반도체집적회로장치와그제조방법
US5598031A (en) * 1993-06-23 1997-01-28 Vlsi Technology, Inc. Electrically and thermally enhanced package using a separate silicon substrate
JP3233507B2 (ja) * 1993-08-13 2001-11-26 株式会社東芝 半導体装置
US5585600A (en) * 1993-09-02 1996-12-17 International Business Machines Corporation Encapsulated semiconductor chip module and method of forming the same
DE59510918D1 (de) * 1994-08-12 2004-08-12 Infineon Technologies Ag Halbleiterbauelement mit isolierendem Gehäuse
JP2972096B2 (ja) * 1994-11-25 1999-11-08 シャープ株式会社 樹脂封止型半導体装置
JP3485655B2 (ja) * 1994-12-14 2004-01-13 株式会社ルネサステクノロジ 複合型mosfet
US5615475A (en) * 1995-01-30 1997-04-01 Staktek Corporation Method of manufacturing an integrated package having a pair of die on a common lead frame
US5814884C1 (en) * 1996-10-24 2002-01-29 Int Rectifier Corp Commonly housed diverse semiconductor die

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007242608A (ja) * 2006-02-10 2007-09-20 Toshiba Lighting & Technology Corp 電球形蛍光ランプおよび照明装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP0942471A2 (en) 1999-09-15
US5929520A (en) 1999-07-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10418899B2 (en) MOSFET switch circuit for slow switching application
US20120314453A1 (en) Electronic circuit control element with tap element
JP2542656B2 (ja) 相補形横方向絶縁ゲ―ト整流器
US7547946B2 (en) MOS semiconductor device with low ON resistance
KR950034760A (ko) 반도체 장치 및 그 제조방법
JPH11340340A (ja) 小形mosfetパッケ―ジを持つ回路
TW556317B (en) Field effect transistor formed on an insulative substrate and integrated circuit thereof
US11967545B2 (en) Semiconductor device
CN101567387B (zh) 双扩散金属氧化物半导体晶体管
JP4363190B2 (ja) 半導体装置及びその製造方法
US4151479A (en) Low frequency power amplifier using MOS FET's
JP2002353406A (ja) 半導体装置
US10368431B2 (en) Cooling assemblies for electronic devices
JP3449217B2 (ja) 半導体モジュール
JPH10173068A (ja) 半導体装置
JP7476815B2 (ja) 高周波電源装置
JP2004063606A (ja) 過電流保護装置
JP3844617B2 (ja) 電界効果トランジスタ装置
KR100509940B1 (ko) 반도체 소자 및 그 제조방법
JP2002319680A (ja) 半導体装置
JP3324407B2 (ja) 半導体装置
JPH0824186B2 (ja) 電界効果型半導体装置
US20030122149A1 (en) Complex semiconductor device and electric power conversion appratus using it
CN112420681A (zh) 一种芯片封装结构
JPH11145455A (ja) 半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20060509