JPH11340299A

JPH11340299A - 基板処理装置

Info

Publication number: JPH11340299A
Application number: JP10146392A
Authority: JP
Inventors: Yutaka Endo; 豊遠藤; Masato Kikuchi; 正人菊地
Original assignee: Nikon Corp; Zao Nikon Co Ltd
Current assignee: Nikon Corp; Miyagi Nikon Precision Co Ltd
Priority date: 1998-05-27
Filing date: 1998-05-27
Publication date: 1999-12-10

Abstract

(57)【要約】【課題】従来の露光装置は両チャンバ間にずれを生じ
てもその時点でこれを検知することが不可能であり、実
搬送シーケンスを開始してみなければ両チャンバ間のず
れを検知することはできなかった。【解決手段】移動機構６０によりメインチャンバ１１
に対しローダチャンバ２１を接近させた際、両チャンバ
間に位置ずれが生じたとすると、露光装置本体１０とオ
ートウェハローダ２０との間でウェハＷの授受を行う実
搬送シーケンス中に、オートウェハローダ２０から受け
渡されるウェハＷの位置を基板位置検出手段６５により
検出し、この検出結果に基づいて両チャンバ間の位置ず
れを位置ずれ検出手段６６により検出するので、これに
対処して早急に位置ずれの解消を図ることで、露光処理
作業の滞りをなくし円滑に作業を進めることが可能とな
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばマスクのパ
ターンをウェハ等の感光基板上に露光する露光装置や、
ウェハ等の欠陥を検査する欠陥検査装置等、基板に対し
て処理を施す基板処理装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の露光装置は、ウェハに対して露光
処理を行う露光装置本体、露光装置本体との間でウェハ
の授受を行うオートウェハローダ、オートウェハローダ
とコータ／デベロッパ装置との間でウェハの授受を行う
インターフェイス装置、露光装置の空気調和ならびに温
度調節を図る空調装置等から構成されている。

【０００３】露光装置を構成する上記各装置は、防塵お
よび温度と湿度とを一定に保つためにチャンバと呼ばれ
る筐体に覆われている。チャンバは各装置ごとに別個に
設けられ、露光装置本体はメインチャンバに、オートウ
ェハローダ、インターフェイス装置、ならびに空調装置
はそれぞれサブチャンバに別個に収納されている。

【０００４】オートウェハローダを収納するサブチャン
バは、露光装置本体ならびにオートウェハローダの整備
等を行うために、露光装置本体を収納するメインチャン
バに対して接近離間可能に設置されている。このサブチ
ャンバの移動機構として、露光装置本体ならびにメイン
チャンバが固定されたベース上にガイドレールが配設さ
れ、サブチャンバにはガイドレール上を走行する複数の
ローラが設けられ、作業員がサブチャンバを押してガイ
ドレール上を移動させるようになっている。

【０００５】このように、従来のメインチャンバ-サブ
チャンバ分離型の露光装置はサブチャンバの移動を人手
により行っているため、両チャンバ間を正確に位置決め
することが困難であった。そこで、サブチャンバの移動
機構にエアシリンダや送り装置のような駆動装置を取り
付けて自動的にサブチャンバの移動を行う試みがなされ
ている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ようにサブチャンバ移動の自動化が図られた露光装置に
ついても、次のような問題点がある。すなわち、両チャ
ンバ間の位置決めは、駆動装置の駆動精度や再現性に依
存しており、実際に両チャンバ間に位置ずれが生じたと
してもこれを検知することができない。また、サブチャ
ンバを駆動装置によって移動させることにより、移動の
際に生じる振動等に起因してサブチャンバ内におけるオ
ートウェハローダの位置が微少ながらずれる可能性があ
る。このずれは、両チャンバ間の位置決めが正確に行わ
れたとしても検知することは不可能である。

【０００７】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
であり、チャンバ移動の際、両チャンバ間の位置ずれ、
またはチャンバに収容されている装置間の位置ずれが確
認でき、基板処理作業を円滑に進めることが可能な基板
処理装置を提供することを目的としている。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めの手段として、次のような構成を有する基板処理装置
を採用する。この基板処理装置は、基板を処理する処理
装置が収容される第１のチャンバと、前記処理装置との
間で前記基板の授受を行う搬送装置が収容される第２の
チャンバと、前記第１のチャンバと前記第２のチャンバ
とを相対的に接近離間可能に移動する移動機構とを備え
ており、前記第１のチャンバ内に設けられ、前記搬送装
置から受け渡される前記基板の位置を検出する基板位置
検出手段と、前記基板位置検出手段の検出結果に基づい
て前記第１のチャンバと前記第２のチャンバとの位置ず
れを検出する位置ずれ検出手段とを備えるものである。

【０００９】この基板処理装置においては、移動機構に
より第１のチャンバと第２のチャンバとを相対的に接近
させた際、両チャンバ間に位置ずれが生じたとすると、
搬送装置と処理装置との間で基板の授受を行う実搬送シ
ーケンス中に、搬送装置から受け渡される基板の位置が
基板位置検出手段により検出され、この検出結果に基づ
き、両チャンバ間の位置ずれが位置ずれ検出手段に検出
される。

【００１０】また、上記基板処理装置とは異なる構成を
有するその他の基板処理装置として、前記第１のチャン
バと前記第２のチャンバとを相対的に接近させたときに
前記第１のチャンバと前記第２のチャンバとの位置を検
出するチャンバ位置検出手段と、前記チャンバ位置検出
手段の検出結果に基づいて前記第１のチャンバと前記第
２のチャンバとの位置ずれを検出する位置ずれ検出手段
とを備えるものを採用する。

【００１１】この基板処理装置においては、移動機構に
より第１のチャンバと第２のチャンバとを相対的に接近
させた際、両チャンバ間に位置ずれが生じたとすると、
両チャンバの相対位置が基板位置検出手段により検出さ
れ、この検出結果に基づき、両チャンバ間の位置ずれが
位置ずれ検出手段に検出される。

【００１２】この他、本発明に係る基板処理装置におい
ては、両チャンバ間に位置ずれが検出された場合に作業
者に警告を発する警告手段、位置ずれの量を検出し、こ
の位置ずれ量に基づいて第１のチャンバと第２のチャン
バとを相対的に移動させずれの解消を図る駆動装置が採
用される。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明に係る基板処理装置の第１
の実施形態を図１ないし図３に示して説明する。図１
は、基板処理装置が適用された露光装置の側面図、図２
は、図１における露光装置の平面図、図３は、後述する
制御装置５０のブロック図である。各図には、マスクの
パターンをウェハ（基板）Ｗ上に転写露光するための露
光装置が示されている。この露光装置は、ウェハＷに対
して露光処理を行う露光装置本体（処理装置）１０、露
光装置本体１０との間でウェハＷの授受を行うオートウ
ェハローダ（搬送装置）２０、オートウェハローダ２０
とコータ／デベロッパ装置（図示略）との間でウェハＷ
の授受を行うインターフェイス装置３０、露光装置の空
気調和ならびに温度調節を図る空調装置４０、さらにこ
れら各装置の作動を制御する制御装置５０等から構成さ
れている。

【００１４】露光装置を構成する上記各装置は、防塵お
よび温度と湿度とを一定に保つためにチャンバと呼ばれ
る筐体に覆われている。チャンバは各装置ごとに別個に
設けられ、露光装置本体１０はメインチャンバ（第１の
チャンバ）１１に、オートウェハローダ２０はローダチ
ャンバ（第２のチャンバ）２１に、インターフェイス装
置３０はインターフェイスチャンバ３１に、空調装置４
０は空調チャンバ４１に、といった具合に収納されてい
る。なお、制御装置５０については防塵対策が必ずしも
必要ではないのでチャンバに隣接した制御系ラック５１
に納められている。

【００１５】各チャンバ間の接合面は、ウェハＷの授受
ならびに空気調和が良好に図れるように両側とも開放さ
れている。ただし、接合面をなす開口には塵や埃の侵入
や調和が図られた空気の漏れを防ぐためにゴム製のシー
ル部材Ｓがそれぞれ配設されている。

【００１６】露光装置本体１０ならびにメインチャンバ
１１は、メインベース１２上に固定されている。また、
オートウェハローダ２０ならびにローダチャンバ２１
は、メインベース１２とは分離して設けられたローダベ
ース２２上に載置され、露光装置本体１０ならびにメイ
ンチャンバ１１に対して接近離間させる移動機構６０が
設けられている。メインベース１２とローダベース２２
とが分離されていることにより、オートウェハローダ２
０の振動がメインベース１２に伝わることが低減され
る。したがって、露光装置本体はオートウェハローダ２
０の振動に影響をうけない。

【００１７】ローダベース２２上には、オートウェハロ
ーダ２０ならびにローダチャンバ２１の移動方向に沿っ
てガイドレール２３，２３が平行に設けられ、オートウ
ェハローダ２０ならびにローダチャンバ２１が載置固定
されたサブベース２４にはガイドレール２３上を走行す
る複数のローラ２５が設けられている。

【００１８】移動機構６０は、ガイドレール２３，２３
間にこれらと平行に配設されかつ回転可能に支持された
送りネジ６１、送りネジ６１に螺合され送りネジ６１の
回転に伴ってネジの配設方向すなわちオートウェハロー
ダ２０ならびにローダチャンバ２１の移動方向に移動す
る移動部６２、さらにメインベース１２側に配設され送
りネジを正逆両方向に回転させる駆動モータ６３を備え
ている。移動機構６０は、制御装置本体５２、ディスプ
レイ５３、キーボード５４等から構成される制御装置５
０により任意に操作できる構成となっている。

【００１９】上記露光装置には、オートウェハローダ２
０ならびにローダチャンバ２１を露光装置本体１０なら
びにメインチャンバ１１に接近させたとき、メインチャ
ンバ１１とローダチャンバ２１との相対位置を検出する
チャンバ位置検出手段６４が設けられている。チャンバ
位置検出手段６４は、例えばローダチャンバ２１がメイ
ンチャンバ１１側の所定位置に達した場合にのみ作動す
るリミットスイッチ等により構成されている。

【００２０】同様の機構として、上記露光装置には、オ
ートウェハローダ２０と露光装置本体１０との間でウェ
ハＷの授受を行う実搬送シーケンス中に、オートウェハ
ローダ２０から受け渡されるウェハＷの位置を検出する
基板位置検出手段６５が設けられている。基板位置検出
手段６５は、オートウェハローダ２０から受け渡される
ウェハＷを一時的に載置する載置台６５ｂと、この載置
台６５ｂ上に搬送されたウェハＷを撮像し画像処理によ
りウェハＷの位置を検出するフォトセンシング機構６５
ａとにより構成されている。基板位置検出手段６５によ
り、ウェハＷが載置台６５ｂの所定位置にあることが検
出されれば、ウェハＷは図示しない搬送機構により載置
台６５ｂから露光用のＸＹステージに搬送され、回路パ
ターン等の露光が施される。なお、載置台６５ｂは、露
光装置本体に設けられているプリアライメント機構のス
テージを兼用してもよい。プリアライメント機構のステ
ージを兼用することにより、載置台６５ｂを配置するス
ペースを省略できるとともに、プリアライメント機構の
アライメントセンサを用いて位置ずれを検出することが
できる。

【００２１】さらに、上記露光装置には、チャンバ位置
検出手段６４の検出結果または基板位置検出手段６５の
検出結果に基づいてメインチャンバ１１に対するローダ
チャンバ２１の位置ずれを検出する位置ずれ検出手段６
６が設けられている。位置ずれ検出手段６６は、制御装
置５０のひとつの制御機能として設けられている。

【００２２】制御装置５０には、位置ずれ検出手段６６
がウェハＷの位置ずれを検出した場合に、この位置ずれ
に関する警告を発する警告手段６７が設けられている。
警告手段６７は、位置ずれ検出手段６６と同様に制御装
置５０のひとつの制御機能として設けられており、例え
ば制御装置５０を構成するディスプレイ５３に警告メッ
セージを表示するとともに警告音をブザー６７ａから発
して露光装置の一連の処理動作を停止するといった動作
を起こすようになっている。

【００２３】上記のように構成された露光装置におい
て、チャンバの開閉に伴う一連の制御動作について説明
する。［１．チャンバの開放］制御装置５０のキーボード５４
を操作し、移動機構６０を作動させてローダチャンバ２
１をメインチャンバ１１から離間させ、チャンバを開放
して露光装置本体１０またはオートウェハローダ２０に
対するメインテナンス等の作業を実施する。

【００２４】［２．チャンバの閉鎖］作業終了後、再び
キーボード５４を操作し、移動機構６０を作動させてロ
ーダチャンバ２１をメインチャンバ１１に接近させ、チ
ャンバを閉鎖する。このとき、チャンバ位置検出手段６
４により両チャンバの相対位置が検出される。

【００２５】［３．位置ずれに対する警告］チャンバ
が閉鎖されたときに両チャンバ間に位置ずれが生じたと
すると、チャンバ位置検出手段６４の検出結果に基づい
て位置ずれ検出手段６６に両チャンバ間の位置ずれが検
出され、ディスプレイ５３にチャンバの位置ずれを知ら
せる警告メッセージが表示されるとともに警告音が発せ
らる。

【００２６】［４．位置ずれの解消］警告を受けた場
合、露光装置の処理動作が強制的に停止するので、移動
機構６０を再び操作してチャンバの開閉動作を試み、位
置ずれの解消を図る。

【００２７】［５．露光処理動作の開始］チャンバの開
閉動作の再試行により位置ずれが解消されると、警告が
解かれて処理動作の強制停止状態が解除されるので、制
御装置５０を操作してウェハＷの露光処理動作を開始す
る。処理動作が開始されると、オートウェハローダ２０
から載置台６５ｂにウェハＷが受け渡される。このと
き、基板位置検出手段６５により、ウェハＷの露光装置
本体１１に対する位置が検出される。すなわち、載置台
６５ｂに載置されたウェハＷがセンシング機構６５ａで
撮像され、載置台６５ｂ上においてウェハＷの位置が画
像処理で求められる。

【００２８】［６．位置ずれに対する警告］その結
果、ウェハＷの位置が所定の位置からずれていることが
検出されると、基板位置検出手段６４の検出結果に基づ
き、位置ずれ検出手段６６に両チャンバ間の位置ずれが
検出される。ただし、チャンバ位置検出手段６４により
検出されたチャンバの位置が許容範囲内であるにも関わ
らず、基板位置検出手段６５によって、載置台６５ｂに
対するウェハＷの位置ずれ、すなわち両チャンバ間の位
置ずれが検出された場合には、基板位置検出手段６５の
検出結果が優先される。したがって、チャンバ位置検出
手段６４で両チャンバ間の大まかな位置決め（ラフな位
置決め）が行われ、基板位置検出手段６５で両チャンバ
間の正確な位置決め（ファインな位置決め）が行われ
る。

【００２９】［７．位置ずれの解消］警告を受けた場
合、先程と同様に露光装置の処理動作が強制的に停止す
るので、移動機構６０を再び操作してチャンバの開閉動
作を試み、位置ずれの解消を図る。この操作の際、図示
しない微動機構により位置ずれを解消するようにしても
よい。

【００３０】［８．露光処理動作の再開］チャンバの開
閉動作の再試行により位置ずれが解消されると、警告が
解かれて処理動作の強制停止状態が解除されるので、制
御装置５０を操作してウェハＷの露光処理動作を再開す
る。

【００３１】上記のように構成された露光装置によれ
ば、メインチャンバ１１に対するローダチャンバ２１の
位置ずれが生じた場合、この位置ずれを即座に認識して
作業者に警告を発することができるので、位置ずれを生
じたままで露光作業を開始し後で改めてチャンバの開閉
からやり直すような時間の無駄が省かれる。

【００３２】しかも、両チャンバ間の位置ずれ検出をチ
ャンバ閉鎖と同時に行い、さらに実搬送シーケンス開始
時にウェハの位置ずれ検出を行うというように、２度に
わたって位置ずれの検出を行うので、正確性を高めるこ
とができる。

【００３３】なお、本実施形態においては、移動機構６
０として送りネジ６１と移動部６２とを組み合わせた送
り機構を採用したが、これに代えて例えば空圧または油
圧シリンダ、直動モータ等の機構を採用しても構わな
い。チャンバ位置検出手段６４には、リミットスイッチ
の他、光電センサや接触式センサ等を採用しても構わな
い。基板位置検出手段６５には、フォトセンシング機構
の他、ＣＣＤや画像処理装置等を採用しても構わない。

【００３４】また、本実施形態においてはローダチャン
バ２１についての移動機構について詳しく説明したが、
インターフェイスチャンバ３１ならびに空調チャンバ４
１にも同様の移動機構を設けることが望ましい。

【００３５】次に、本発明に係る基板処理装置の第２の
実施形態を図４に示して説明する。なお、第１の実施形
態において既に説明した構成要素には同一の符号を付し
て説明は省略する。図に示す露光装置には、チャンバ位
置検出手段６４'として、メインチャンバ１１側に設け
られたマーク６４ｂをローダチャンバ２１に設けられた
カメラ６４ａで撮影し画像処理により両チャンバの相対
位置を検出するフォトセンシング機構が設けられてい
る。また、位置ずれ検出手段６６'には、チャンバ位置
検出手段６４'の検出結果に基づいて位置ずれを定量化
する機能が付与されている。

【００３６】さらに、上記露光装置には、位置ずれ検出
手段６６'がメインチャンバ１１に対するローダチャン
バ２１の位置ずれを検出した場合、定量化された位置ず
れ量に基づいてローダチャンバ２１を上下動または水平
移動させる駆動装置６８が設けられている。

【００３７】駆動装置６８は、オートウェハローダ２０
ならびにローダチャンバ２１をサブベース２４ごと上下
動させる鉛直方向アクチュエータ６９と、オートウェハ
ローダ２０ならびにローダチャンバ２１をサブベース２
４ごと水平移動させる水平方向アクチュエータ７０，７
０と、各アクチュエータを位置ずれ量に基づいて駆動す
るアクチュエータ駆動手段７１とから構成されている。
アクチュエータ駆動手段７１は、位置ずれ検出手段６
６、警告手段６７と同様に、制御装置５０のひとつの制
御機能として設けられている。

【００３８】上記のように構成された露光装置において
は、まず、両チャンバ間の位置ずれがカメラ６４ａに撮
像されたマーク６４ｂの位置から検出される。両チャン
バ間に位置ずれが生じていた場合、その位置ずれ量に基
づき、両チャンバ間の位置ずれを解消するために必要な
各アクチュエータ６９、７０の駆動量が制御装置５０に
よって算出される。各アクチュエータ６９、７０は算出
された駆動量に基づいて駆動され、両チャンバ間の大ま
かな位置ずれの解消が図られる。次に、オートウェハロ
ーダ２０によりウェハＷが露光装置本体１１の載置台６
５ｂ上に搬送される。載置台６５ｂ上のウェハＷはフォ
トセンシング機構で撮像され、その撮像結果から、載置
台６５ｂ上におけるウェハＷの位置ずれが検出される。
そして、ウェハＷに位置ずれが生じていた場合、すなわ
ち、両チャンバ間に位置ずれが生じていた場合は、その
位置ずれ量に基づき、両チャンバ間の位置ずれを解消す
るために必要な鉛直方向アクチュエータ６９ならびに水
平方向アクチュエータ７０の駆動量が算出される。さら
に、各アクチュエータが算出された駆動量に見合った作
動を行い、これによって両チャンバ間の位置ずれ解消が
図られる。

【００３９】上記のように構成された露光装置において
は、両チャンバ間の位置ずれを自動的に解消することで
チャンバ開閉の再試行を行うことなく位置ずれを解消す
ることができる。

【００４０】なお、本発明の基板処理装置は、露光装置
に限らず、液晶基板処理装置、コータ／デベロッパ装
置、または露光装置とコータデベロッパ装置との連結機
構等にも適用可能である。

【００４１】また、本実施形態においてはメインチャン
バに対してサブチャンバが移動する構成を示したが、本
発明の基板処理装置はサブチャンバに対してメインチャ
ンバが移動する構成にも適用可能である。さらに、本発
明の基板処理装置は、ウェハの欠陥を検査する欠陥検査
装置、ウェハに形成された回路パターンの電気特性を検
査する検査装置等、種々の装置にも適用可能である。ま
た、本発明の基板処理装置は、各実施形態において説明
した各構成要素から構成されており、これらの構成要素
を前述した機能を達成するように、各構成要素間を電気
配線で接続したり、ボルト・ナット、ネジ等の機械的な
接続を施すことにより組み上げられる。

【００４２】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る請求
項１記載の基板処理装置によれば、搬送装置から受け渡
される基板の位置を検出し、この検出結果に基づいて両
チャンバ間の位置ずれを検出するので、これに対処して
早急に位置ずれの解消を図ることで基板処理作業の滞り
をなくし、円滑に作業を進めることが可能となる。

【００４３】請求項２記載の基板処理装置によれば、基
板位置検出手段による両チャンバ間の位置ずれ検出に加
え、第１のチャンバと第２のチャンバとを相対的に接近
させた時点で両チャンバの相対位置を検出し、この検出
結果に基づいて両チャンバ間の位置ずれを検出するの
で、より早い段階でずれを認知することができ、これに
対処して早急に位置ずれの解消を図ることで基板処理作
業の滞りをなくし、円滑に作業を進めることが可能とな
る。

【００４４】請求項３記載の基板処理装置によれば、位
置ずれ検出手段が両チャンバ間の位置ずれを検出した時
点で、この位置ずれについての警告を発するので、作業
者が位置ずれを即座に認識できる。

【００４５】請求項４記載の基板処理装置によれば、位
置ずれ検出手段が両チャンバ間の位置ずれを検出した時
点で、位置ずれの量に基づいて第１のチャンバと第２の
チャンバとを相対的に上下動または水平移動させて位置
ずれの解消が図られるので、チャンバ開閉動作の再試行
を行うのに必要な人的な手間を省くとともに再試行にか
かる無駄な時間をなくすことができる。

【００４６】本発明に係る請求項５記載の基板処理装置
によれば、第１のチャンバと第２のチャンバとを相対的
に接近させた時点で両チャンバの相対位置を検出し、こ
の検出結果に基づいて両チャンバ間の位置ずれを検出す
るので、早い段階でずれを認知することができ、これに
対処して早急に位置ずれの解消を図ることで基板処理作
業の滞りをなくし円滑に作業を進めることが可能とな
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板処理装置の第１の実施形態
を示す図であって、当該基板処理装置が適用された露光
装置の構成を示す側面図である。

【図２】同じく、露光装置の構成を示す平面図であ
る。

【図３】制御装置の概略構成を示す図である。

【図４】本発明に係る基板処理装置の第２の実施形態
を示す説明図であって、当該基板処理装置が適用された
露光装置の概略構成を示す説明図である。

【符号の説明】

１０露光装置本体（処理装置）１１メインチャンバ（第１のチャンバ）２０オートウェハローダ（搬送装置）２１ローダチャンバ（第２のチャンバ）２３ガイドレール２５ローラ３０インターフェイス装置３１インターフェイスチャンバ５０制御装置５２制御装置本体５３ディスプレイ６０移動機構６４チャンバ位置検出手段６５基板位置検出手段６６位置ずれ検出手段６７警告手段６８駆動装置Ｗウェハ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板に所定の処理を行う処理装置が収容
される第１のチャンバと、前記処理装置との間で前記基
板の授受を行う搬送装置が収容される第２のチャンバ
と、前記第１のチャンバと前記第２のチャンバとを相対
的に接近離間可能に移動する移動機構とを備える基板処
理装置において、前記第１のチャンバ内に設けられ、前記搬送装置から受
け渡される前記基板の位置を検出する基板位置検出手段
と、前記基板位置検出手段の検出結果に基づいて前記第
１のチャンバと前記第２のチャンバとの位置ずれを検出
する位置ずれ検出手段とを備えることを特徴とする基板
処理装置。
【請求項２】前記第１のチャンバと前記第２のチャン
バとを相対的に接近させたときに前記第１のチャンバと
前記第２のチャンバとの相対位置を検出するチャンバ位
置検出手段を備え、前記位置ずれ検出手段が、前記チャンバ位置検出手段の
検出結果に基づいて前記第１のチャンバと前記第２のチ
ャンバとの位置ずれを検出することを特徴とする請求項
１記載の基板処理装置。
【請求項３】前記位置ずれ検出手段が前記第１のチャ
ンバと前記第２のチャンバとの位置ずれを検知した場
合、前記位置ずれについての警告を発する警告手段を備
えることを特徴とする請求項１または２記載の基板処理
装置。
【請求項４】前記位置ずれ検出手段が前記第１のチャ
ンバと前記第２のチャンバとの位置ずれを検知した場
合、前記位置ずれの量に基づいて、前記第１のチャンバ
と前記第２のチャンバとを相対的に上下動または水平移
動させる駆動装置を備えることを特徴とする請求項１、
２または３記載の基板処理装置。
【請求項５】基板に所定の処理を行う処理装置が収容
される第１のチャンバと、前記処理装置との間で前記基
板の授受を行う搬送装置が収容される第２のチャンバ
と、前記第１のチャンバと前記第２のチャンバとを相対
的に接近離間可能に移動する移動機構とを備える基板処
理装置において、前記第１のチャンバと前記第２のチャンバとを相対的に
接近させたときに前記第１のチャンバと前記第２のチャ
ンバとの位置を検出するチャンバ位置検出手段と、前記
チャンバ位置検出手段の検出結果に基づいて前記第１の
チャンバと前記第２のチャンバとの位置ずれを検出する
位置ずれ検出手段とを備えることを特徴とする基板処理
装置。