JPH11337706A - 反射防止膜および反射防止処理物品 - Google Patents

反射防止膜および反射防止処理物品

Info

Publication number
JPH11337706A
JPH11337706A JP10188770A JP18877098A JPH11337706A JP H11337706 A JPH11337706 A JP H11337706A JP 10188770 A JP10188770 A JP 10188770A JP 18877098 A JP18877098 A JP 18877098A JP H11337706 A JPH11337706 A JP H11337706A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fluorine
antireflection
group
film
prepolymer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10188770A
Other languages
English (en)
Inventor
Takahisa Aoyama
高久 青山
Jinji Hachisuga
仁治 蜂須賀
Shigeru Morita
滋 守田
Takuya Arase
琢也 荒瀬
Tetsuo Shimizu
哲男 清水
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daikin Industries Ltd filed Critical Daikin Industries Ltd
Priority to JP10188770A priority Critical patent/JPH11337706A/ja
Priority to PCT/JP1999/001503 priority patent/WO1999048944A1/ja
Priority to CN99804389A priority patent/CN1294605A/zh
Priority to EP99910692A priority patent/EP1086971A4/en
Priority to KR1020007010477A priority patent/KR20010042110A/ko
Publication of JPH11337706A publication Critical patent/JPH11337706A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/20Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • G02B1/111Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F8/00Chemical modification by after-treatment
    • C08F8/02Alkylation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/20Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
    • C08G59/22Di-epoxy compounds
    • C08G59/30Di-epoxy compounds containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen and nitrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/20Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
    • C08G59/32Epoxy compounds containing three or more epoxy groups
    • C08G59/3254Epoxy compounds containing three or more epoxy groups containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or nitrogen
    • G02B1/105
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14Protective coatings, e.g. hard coatings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2810/00Chemical modification of a polymer
    • C08F2810/40Chemical modification of a polymer taking place solely at one end or both ends of the polymer backbone, i.e. not in the side or lateral chains

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 低屈折率を維持しつつ膜強度を高めることに
より、反射防止効果を維持しながら、耐擦傷性、耐摩耗
性が改善された反射防止膜、およびそのような反射防止
膜が被覆された反射防止処理物品を提供する。 【解決手段】 50重量%以上のフッ素含有率を有し、
かつ1分子に少なくとも2つのエポキシ基が結合してい
る含フッ素プレポリマーの硬化膜からなり、厚さ0.0
3〜0.5μmの反射防止膜、およびそのような反射防
止膜により被覆された反射防止処理物品。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止膜および
その反射防止膜により被覆された反射防止処理物品に関
する。
【0002】
【従来の技術】一般的に干渉を利用した反射防止膜(A
R膜)の素材としては、低屈折率のものが反射防止効果
の面から好ましいとされている(特開平2−19801
号公報、特開平3−6265号公報、特開平4−745
68号公報など参照)。この傾向は、生産性の面で有利
な1層または2層の反射防止膜において特に顕著であ
る。また、干渉を利用した反射防止膜であるため、光を
散乱するような素材を用いると、干渉を阻害するので、
透明な素材が好ましい。
【0003】エポキシ基を含有する化合物を反射防止技
術に応用する例が、特開平6−118656号公報、特
開平5−104673号公報、特開平6−155652
号公報、特開平6−226928号公報、特開平8−3
13704号公報などに開示されている。しかしなが
ら、特開平8−313704号公報を除き、これら公報
に記載されたエポキシ化合物は炭化水素系のものであ
り、単に密着性の改善や樹脂マトリクスとして機能して
いるだけであって、エポキシ化合物は反射率の低下に寄
与しない。
【0004】特開平8−313704号公報に記載され
たエポキシ化合物では、エポキシ基が片末端にしか存在
しないため、エポキシ化合物だけでは3次元架橋できな
いので硬化膜の強度が十分ではなく、多量(10重量%
以上)のシラン化合物の添加が必須となり、膜強度、膜
硬度はシラン化合物の硬化によるものである。そのた
め、屈折率を1.37程度までしか下げられないので、
反射防止効果の点からは不利となる。なお、特開平8−
313704号公報に記載の発明では、エポキシ化合物
の重合は塗布前に行われており、ポリマーを塗布するタ
イプの先行技術と本質的には同じ技術の範疇にある。
【0005】光線の波長よりも十分小さいミクロボイド
を含む反射防止膜が、特開平9−222502号公報、
特開平9−288201号公報など開示されている。開
示された反射防止膜は、反射防止効果、耐擦傷性の面で
問題ないものである。しかし、ミクロボイドを含むため
に、実用上耐擦傷性よりも重要である耐摩耗性に劣ると
思われる。また、30〜50nm程度の粒径の乳化粒子
を厚み方向に2〜3個重ね、面全体に均一に並べる必要
があり、塗装方法は、公報に記述されているようなスピ
ンコートによる塗装に限定される上、室温での緩やかな
乾燥が必要となるなど、生産性が低いと思われる。
【0006】更に、低屈折率層の上に反射防止効果に影
響を与えない程度の薄膜を形成することにより、耐擦傷
性と反射防止性能を両立する試みがある(特開平9−2
88202号公報)。しかし、薄膜を塗布する工程が増
えるので、製造コストの面から好ましくない。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、低屈折率を
維持しつつ膜強度を高めることにより、反射防止効果を
維持しながら、耐擦傷性、耐摩耗性が改善された反射防
止膜、およびそのような反射防止膜が被覆された反射防
止処理物品を提供しようとするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記課
題は、含フッ素プレポリマーの硬化膜からなる反射防止
膜であって、該含フッ素プレポリマーは、50重量%以
上のフッ素含有率を有し、かつ1分子に少なくとも2つ
のエポキシ基が結合している化合物であり、硬化膜の厚
さは0.03〜0.5μmである反射防止膜、およびこ
の反射防止膜により被覆された反射防止処理物品により
解決される。
【0009】
【発明を実施するための好ましい形態】以下、本発明の
好ましい実施形態を説明する。本発明で用いる1分子に
少なくとも2つのエポキシ基が結合している含フッ素プ
レポリマーの合成法は大きく分けて2つある。1つはエ
ポキシ基を含むモノマー、たとえばグリシジル基を側鎖
に持つアクリレート、メタクリレートなどをフッ素含有
モノマーと共重合する方法である。この方法では、基本
的には分子鎖の中間にエポキシ基が導入される。エポキ
シ基が分子鎖の中間にぶら下がっていると、エポキシ基
の動きが制限され、架橋反応が起こりにくいことがあり
得る。また、架橋反応が行われた際に架橋点から大きな
側鎖がぶら下がる形となり、膜の硬度が上がりにくいこ
とがある。加えて、エポキシ基が導入される個数は確率
的に決定されるので、ある分子には少なく(極端な場合
はエポキシ基が無い)、ある分子には多いなど、均一な
架橋がうまくいかず、膜強度が上がらない可能性があ
る。
【0010】もう一つのエポキシ基を導入する方法は、
分子鎖の両末端付近にエポキシ基を導入する方法であ
る。この場合、上に示したような弊害は無くなるが、合
成はやや困難である。含フッ素化合物の両末端にエポキ
シ基を導入する方法として、両末端によう素が結合して
いる含フッ素化合物を利用する方法が報告されている
(たとえば、高分子論文集第49巻第10号、1992
年、765−783頁)。また、この両末端がよう素で
ある化合物は、低分子であってもよいが、よう素移動重
合で、含フッ素オレフィンや、α−フルオロアクリレー
トを重合することによって合成可能であることも知られ
ている(たとえば特公昭58−4728号公報、特開平
6−228231号公報参照)。
【0011】含フッ素オレフィンにフッ素含量の高いも
の、たとえばテトラフルオロエチレン(TFE)、パー
フルオロビニルエーテル(PFVE)、ヘキサフルオロ
プロピレン(HFP)などを選ぶことにより、非常に低
い屈折率を有し、しかも両末端がエポキシ基となってい
る化合物を合成することが可能である。以後、含フッ素
オレフィンの(共)重合部分を本発明で使用するエポキ
シ基を有する含フッ素プレポリマー(エポキシ含有化合
物)の主鎖と呼ぶことにする。また、エポキシ化合物に
限らず、一般に上述のような両末端に官能基を持つよう
なポリマーをテレケリックなポリマーと呼んでいる。
【0012】末端にエポキシ基を導入する方法として
は、よう素末端にグリシジルアリルエーテルを付加する
方法、アリルアルコールを付加した後HIを脱離させる
方法、などが例示できるが、これらの方法に限定される
わけではない。グリシジルアリルエーテルを付加する方
法の場合、含フッ素プレポリマー中にC−I結合が存在
する。C−I結合は300nm以下の紫外部に大きな光
の吸収を持つことが多く、多くの場合、紫外線硬化剤の
感度を低下させる。そのため、なんらかの方法でIを除
去することが好ましい。たとえばアルカリ(KOH、N
aOHなど)によりHIの形で引き抜くとか、還元反応
(亜鉛粉を使う方法など)によりC−I結合をC−H結
合に変換するとか、F2、Br2やCI2などで、IをI
以外のハロゲンに置換することが例示できる。
【0013】主鎖を構成するモノマーとしては、よう素
移動重合可能な含フッ素モノマーであれば使用可能であ
る。たとえば、ビニリデンフルオライド(VdF)、T
FE、HFP、PFVE、特開平7−138252号公
報に示されるようなパーフルオロジアルキルジオキソー
ル、パーフルオロモノアルキルジオキソールなどであ
る。密着性を改善するため、−OH,−NH3、−CO
OH、−COOR、−O−CO−R(RはたとえばCH
3、CH3CH2−)などの官能基を含有する公知モノマ
ーを使用することもできる。それらの中でも、TFE、
HFPおよびPFVEが、屈折率、モノマーの入手のし
やすさ、価格、共重合性、よう素移動重合の容易さから
好ましい。
【0014】パーフルオロビニルエーテル(PFVE)
を更に例示すると、パーフルオロメチルビニルエーテル
(PMVE)、パーフルオロエチルビニルエーテル(P
EVE)、パーフルオロプロピルビニルエーテル(PP
VE)、CF2=CF−O−[CF2−CF(CF3)−
O−]n37(nは1から4の整数)などである。
【0015】上記のモノマーを重合して主鎖を形成する
のであるが、共重合性、よう素移動重合の容易さ、コス
ト、エポキシの反応性、透明性、硬化後の硬度、反射防
止効果、耐摩耗性などを考慮し、主鎖のモノマー組成を
決定する。主鎖はTFE単独繰り返し単位では結晶性を
持つため大きく分けて以下の不具合がある。 1.屈折率の上昇 2.製膜性の悪化(=白化する)のため、均一な膜が形
成されにくい 3.結晶性により、分子の動きが制限され、エポキシの
硬化反応を阻害する 屈折率の上昇は、反射防止効果の低下をもたらす。均一
な膜が形成されないことは、それ自体で膜の耐擦傷性・
耐摩耗性の低下をもたらす。以上のような不具合を避け
るために、エポキシプレポリマーの主鎖は、TFE単独
繰り返し単位ではなく、結晶性を乱すようなコモノマー
を含む共重合体であることが好ましい。非晶性であるこ
とがより好ましい。コモノマーに関しては、別途例示し
たようなものを利用する。コストの面からは、TFE単
独繰り返し単位が好ましいため、上に延べたような欠点
とコストとのバランスを考慮して組成を決定すると良
い。好ましい組成を具体的に例示すると、上記モノマー
の単独重合体に加え、以下の組成の共重合体が挙げられ
る。 TFE50−99モル%/PMVE1−50モル%; TFE60−99モル%/PPVE1−40モル%; TFE70−99モル%/HFP1−30モル%。 さらに透明性や屈折率の面からは、下記組成 TFE50−70モル%/PMVE30−50モル%; TFE60−80モル%/PPVE20−40モル% が好ましい。もちろん、膜の物性を所望通り変化させる
ため、他の公知の共重合可能なモノマー(例えば、CF
2=CFCl、CH2=CFH2、CH2=CF2、CH2
CH2)を30モル%まで使用することができる。
【0016】このポリマーに機能を追加するために、種
々の側鎖を持ったモノマーを使用することができる。架
橋密度を高めるためや、接着性を付与するためには、エ
ポキシ基、OH基、COOH基、アミン基などを側鎖に
持つモノマーが好ましい。屈折率を下げるためには、長
いパーフルオロアルキル基を持つものが好ましい。な
お、−COOHを含む場合は、エポキシ基と常温で反応
しないよう、ビニルエーテルなどでブロック化しておく
ことが好ましい。
【0017】含フッ素プレポリマーは、通常、溶剤に溶
解して基材に塗布し、乾燥、硬化して反射防止膜を形成
する。塗装時に使用する溶剤は、プレポリマーの種類に
応じて適宜選択すればよいが、好ましい溶剤の例を次に
示す。 (1)主鎖がTFE/PFVE共重合体の場合:分子量が高い場合 (70000以上) パーフルオロ(4−ブチルテトラヒドロフラン)、パー
フルオロベンゼンなど。分子量が低い場合 (400から8000) C49−O−CH3などのフルオロアルキル基とアルキ
ル基とを有するエーテルや、ヘキサフルオロメタキシレ
ン、HCFC−225などの、C−F結合とC−H結合
を持つ溶媒。分子量が700以下の場合、下記(2)に
示したような溶剤も使用可能である。 (2)主鎖がVdF共重合体の場合:メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤、酢酸
ブチルなどのエステル系溶剤、ジメチルフォルムアミ
ド、ジメチルアセトアミドなどの含窒素溶剤など、
【0018】本発明のエポキシ基を有する含フッ素プレ
ポリマーを硬化した場合、用途によっては硬すぎるた
め、柔軟性を付与するのが好ましい場合がある。その場
合、エポキシ基と反応する化合物(たとえば1価のエポ
キシ化合物、2価アルコールなど)を添加し、架橋点間
距離を長くするという、従来技術と同様の方法が応用で
きる。逆に、さらに硬度を高めたいときは、3官能以上
のエポキシ化合物を添加するとよい。ただし、添加する
化合物はプレポリマーに均一に分散することが必要であ
る。
【0019】エポキシ基を含む化合物を硬化させる方法
には、大別して以下のような方法がある。 1.硬化剤としてアミンを使用(架橋点はアミン) 2.硬化剤として多価カルボン酸または多価カルボン酸
無水物を使用(架橋点はカルボン酸) 3.重合硬化(硬化剤としてブレンステッド酸または三
級アミンを加え、カチオン重合開始剤とする。架橋点は
エポキシ) さらに、エポキシ基と、シラン化合物、アルコールまた
はメルカプタン化合物との反応を利用した架橋法も知ら
れている(たとえば、塗装工学30(2)、57−58
頁(1995)参照)。
【0020】上記の硬化法のなかで、よく研究されてい
る硬化法の一つはカルボン酸とエポキシ基の反応を利用
したものであり、以下のように反応するとされている。
【化1】 エポキシ化合物およびカルボン酸として2官能以上のも
のを使用することにより、高分子量体(エポキシ化合物
およびカルボン酸がともに2官能の場合)、もしくは3
次元架橋を生じさせる(エポキシおよびカルボン酸の少
なくとも一方が3官能以上の場合)ことができる。3次
元架橋が生じた場合、硬度の面で非常に有利であること
は明白であるが、単なる高分子量化でも、水酸基同士、
もしくは水酸基とカルボキシル基との水素結合により、
3次元架橋に近い硬度が期待できる。また、水酸基とカ
ルボキシル基がエステル結合を形成すると3次元架橋と
なる。
【0021】上の反応式に示したように、エポキシ基が
エステル化されると同時に水酸基が生じる。そのため、
アンダーコートには、エポキシ化合物は当然のことなが
ら、エステル基や水酸基を含む化合物に対しても密着性
が優れるものが好ましい。具体的には、アンダーコート
がアクリル、イソシアネート化合物、シラン化合物等を
含んでいる、もしくはこれらの化合物をアンダーコート
の硬化に使用していることが好ましい。
【0022】本発明において硬化に用いるカルボン酸
は、以下のような観点で選択するとよい。 1.含フッ素エポキシ化合物と相溶し、透明で均一な膜
を形成可能であること 2.含フッ素エポキシ化合物と同じ溶媒に溶解するこ
と。 3.含フッ素エポキシ化合物の屈折率を上げない(好ま
しくは下げる)こと 4.容易に蒸発しないこと 5.コスト 上記2.の観点は、含フッ素エポキシ化合物を溶液の形
態で塗る場合にのみ必要となる。溶媒を使わない場合は
必要ではない。
【0023】上記1.〜4.の四つの条件を満たすため
には、カルボン酸は含フッ素多塩基酸であることが好ま
しい。比較的容易に合成できるカルボン酸を大まかに分
類して例示すると、以下のようになる。 a.含フッ素直鎖の末端にカルボキシル基があるもの 具体的に例示すると、式:
【化2】 HOOC−(CH2)m1−Rf1−(CH2)m2−COOH (式中、Rf1は、−(CF2)k−、m1およびはm2はそ
れぞれ0〜6の整数、kは2〜16の整数を表す。)で
示されるジカルボン酸である。Rf1はまた、エポキシ化
合物の主鎖で例示したものであっても良い。たとえばR
1はTFE、PFVEの繰り返し単位からなる2価の
有機基や、VdF、HFPの繰り返し単位からなる2価
の有機基である。反射防止効果を高めるため、フッ素含
量が多くし、屈折率を低くする方が好ましいので、m1
およびm2はともに0が好ましい。
【0024】b.側鎖にフッ素を含むアクリルポリマー
の側鎖の一部を加水分解し、カルボン酸基としたもの具
体的に例示すると、式:
【化3】CH2=CXCOORf (式中、Rfはフロロアルキル基、Xは水素原子、フッ
素原子、塩素原子、メチル基またはトリフルオロメチル
基を表す。)で示されるモノマーと、式:
【化4】CH2=CXCOOH (式中、Xは上記と同意義である。)で示されるモノマ
ーとの共重合体が挙げられる。ポリマーは2種のモノマ
ーだけで構成されても良いが、3種以上のモノマーで構
成されていても良い。また、前者のモノマーの単独重合
体または共重合体を部分的に加水分解し、結果的に上記
2種のモノマーの共重合体と同じ構造となってもよい。
【0025】フロロアルキル基Rfの具体例をさらに示
すと、以下の通りである。
【化5】−(CH2)p(CF2)qF(p=1〜6の整数、q
=0〜22の整数); −(CH2)p(CF2)qH(pおよびqは上記と同じ); −(CH2)p(CF2)rCF(CF3)2(pは上記と同じ。r
=0〜10の整数); −C(CF3)2H;−CH2−C(CF3)2CH3。 さらにコストの面から好ましいフロロアルキル基は、−
CH2CF3,−CH2CF2CF3,−CH2CH2(CF2)
7CF3,−CH2CF2CF2H,−CH2(CF2)4H,−
CH2(CF2)6Hなどである。
【0026】c.3価以上の多塩基酸の一部を含フッ素
アルコールとのエステルとし、2価以上の多塩基酸とし
たもの 3価以上のカルボン酸の種類が非常に多く、また、それ
らを一部エステル化したものは、エステル化する部位に
より種々の化合物となり、種類がさらに多くなる。従っ
て、ここに属する多塩基酸を全てを例示することは困難
であるので、好ましい化合物のみを以下に例示する。
【化6】 シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸などの不飽和多
塩基酸のカルボン酸の一部をRfOHによりエステル化
したもの(各式中、Rfはb.項で例示したものと同
じ).
【0027】d.Rf基を持つ2価以上の多塩基酸 これに属する化合物の数も多いので、好ましいごく一部
を以下に例示する。
【化7】 (式中、Rfは前記と同意義である。Rf2は、b.項で
例示したRfの内、p=0〜6のものである。)
【0028】上に示したカルボン酸をエポキシ化合物の
硬化に使用するのであるが、カルボン酸とエポキシ化合
物の混合後のポットライフを改善したり、硬化後の膜の
耐水性を向上させる目的で、カルボキシル基の一部また
は全部をブロック化することができる。なお、「ブロッ
ク化」とは、ある官能基(ここではカルボキシル基)を
一時的に別の化合物(=ブロック化剤)と反応させてお
き官能基の反応活性を落とすことをいう。ブロック化さ
れた官能基は、熱、光などの外的刺激により元の官能基
に再生され、化合物の活性は元に戻る。ブロック化技術
の詳細は特開平10−25406号公報、塗装工学30
(2)57−68頁などに記載され、公知となってい
る。本発明においても同様のブロック化技術が使用可能
である。ブロック化剤としてはビニルエーテル化合物が
好ましい。
【0029】硬化膜を反射防止膜として使用する際、上
記1.および2.の硬化方法では、架橋点としてアミン
や酸が残ると、硬化剤の添加量が多いこと(エポキシ基
を有する含フッ素プレポリマーの約10重量%)もあっ
て、屈折率の上昇を招き、反射防止効果が低下する。そ
れに対して、3.の方法では、硬化剤は触媒量(5重量
%以下)でよい。また、架橋点として取り込まれていな
いので、硬化後に取り除くことも可能である。従って、
反射防止効果への硬化剤の悪影響は小さいので、重合硬
化が好ましい。
【0030】重合硬化用の硬化剤は、次のように分類さ
れる。 1.三級アミン 2.ブレンステッド酸 3.オニウム塩類。たとえばスルホニウム塩、ヨウドニ
ウム塩(UV照射によりブレンステッド酸を発生) ところで、本発明で用いるエポキシ基を有する含フッ素
プレポリマーは、従来技術の硬化剤を使用して硬化する
ことが困難である。上述の通り、公知の硬化剤はイオン
性であり、極性が高い。本発明の含フッ素プレポリマー
は、フッ素含有率が高いのでイオン性硬化剤との相容性
が悪く、硬化剤が分離し、膜が白濁し、反射防止効果は
低下する。また、分離に伴いプレポリマーと硬化剤の分
子レベルでの接触が少なくなり、反応性が著しく低下す
る。相容性を高めるために、硬化剤が含フッ素基を有し
ている必要がある。
【0031】ところが、従来技術の硬化剤に含フッ素基
を導入しようとすると、反応性がなくなったり、合成が
難しいなどの問題がある。また、従来技術の硬化剤はイ
オン性なので、かなりフッ素含有率を高める必要がある
が、事実上、不可能であろう。
【0032】そこで、本発明では、上記の硬化剤とは異
なる硬化剤をも使用する。重合硬化の原理は、水の不存
在下、外的刺激により酸が発生してエポキシ化合物のカ
チオン重合が開始され、硬化反応が起こるというもので
ある。本発明者らは、以下に示す構造の化合物が、加熱
または光照射により、酸を発生するため、本発明で使用
するエポキシ基を有する含フッ素プレポリマーの重合硬
化剤として有効なことを見出した。この化合物は、特に
光、中でも紫外線に対する感度が高い。
【化8】 R12CX1−CRwX−CO−R3 (I) (式中、R1およびR2は、同一または異なって、水素原
子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、よう素原子、ま
たは炭素を含む有機基;Xは、フッ素原子、塩素原子、
臭素原子、よう素原子またはシアノ基;R3は、炭素を
含む有機基または−O−R4(ここで、R4は、炭素を含
む有機基、金属カチオンまたは有機カチオンであ
る。);Rwは、電子吸引性基;X1は、フッ素原子、臭
素原子、塩素原子またはよう素原子を表す。)。
【0033】発生する酸はHXであるか、もしくは式
(I)の化合物よりXX1が脱離する際に生じる活性中
間体と考えられる。R1、R2およびR3が有機基である
場合、有機基の種類は特に限定されず、原理上はどのよ
うな有機基でもよい。ポリマー鎖や、ポリマー鎖につな
がるものでもよい。合成のしやすさ、他に付加する機
能、コストなどを基準に適宜選択する。有機基は、例え
ば、R1、R2、R3に関しては、メチル基、エチル基、
トリフルオロメチル基、アセチル基、シアノ基、CH3
−O−、CH3CH2−O−などである。R4の有機基に
関しては、例えば、 −CH2CF3、−CH3、−CH2CH2(CF2)aF、−
CH2(CF2CF2)bH −CH2(CF2)aF (式中、aは1〜20の整数、bは1〜10の整数であ
る。)
【0034】Xは、H+の対イオンになる部分であるの
で、ハロゲン原子、またはシアノ基(CN)である。X
がハロゲン原子であれば、特開平6−228231号公
報からも明らかなように、ラジカル重合開始能もある。
毒性の面からはフッ素原子または塩素原子が好ましい。
【0035】Rwは電子吸引性基であり、例えば、−C
O−、−CN、−F、−CF3、−Cl、−NO2、−S
3H、−O−SO3Hなどである。
【0036】式(I)中のカルボニル基(−CO−)は
電子吸引性基であるとともに、ラジカル中間体を共鳴安
定化したり、紫外線を効率よく吸収して紫外線による分
解を早める役割を果たしている。
【0037】また、式(I)中の−CO−R3を芳香環を
含む官能基で置き換えることも可能である。つまり、以
下に示す構造の化合物でも同様の機能を持たせることが
できる。
【化9】 R12CX1−CRwX−Φ (II) (式中、R1、R2、R3、XおよびRwは前記と同意義。
Φは芳香環を含む有機基を表す。)
【0038】Φで表される芳香環を含む有機基として
は、ベンゼン環、ナフタレン環、ペリレン環、ピレン環
などを含む基が例示できる。具体的には、
【化10】 などの基が好ましい。
【0039】さらに電子吸引性を付与するため、Rw
関して例示した電子吸引性基により、芳香環の任意の位
置の水素原子を置換することができる。芳香環は、Rw
およびXが結合している炭素原子に直接結合している方
が、酸発生速度の面で有利である。
【0040】R3およびR4は、硬化させたいプレポリマ
ーと相容することや、硬化剤の融点、蒸発のしやすさ
(蒸発により除去したい場合)、取り扱い性、分解速度
などの面から決定する。その際、多種多様な硬化剤を容
易に合成するには、R3は−O−R4で示される基である
のが好ましい。なぜなら、R4OHで示されるアルコー
ルを、R12CX1−CRwX−COOHで示されるカル
ボン酸またはその酸無水物や酸ハロゲン化物に、エステ
ル反応で結合させるだけだからである。R12CX1
CRwX−COOHのエステルを用いて、エステル交換
反応により、R4を導入してもよい。
【0041】フッ素含有率の高いプレポリマーを硬化さ
せるのであれば、相容性の面から、フッ素を含む硬化剤
を用いるのが好ましい。たとえば、有機基として、−C
2(CF2)cCF3(cは0〜10の整数)、−CH2CH
2(CF2)cCF3(cは0〜10の整数)などが例示でき
る。
【0042】以下に、式(I)で示す化合物の合成法の
一例を示す。式(I)で示される化合物の一部は、α位
を電子吸引性基としたアクリル、例えばα−シアノアク
リレート、α−フルオロアクリレート、α−(トリフル
オロメチル)アクリレート、α−クロロアクリレート
に、ハロゲン化合物(例えば、よう素(I2)、臭素
(Br2)、塩素(Cl2)、フッ素(F2)、IBr、
ICl、IFなど)を付加することにより合成できる。
そのような化合物は、以下の一般式(III)で表され
る。
【化11】 X1CH2−CRwX−COOR4 (III) (式中、Rw、R4およびXは前記と同意義。X1は、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子またはよう素原子を表
す。)
【0043】ハロゲン化合物としては、付加反応速度が
適度に速いことから、Br2、Cl2が好ましい。従っ
て、XおよびX1が、ともにBrであるか、ともにCl
であることが、合成上好ましい。
【0044】これらアクリレート誘導体は、エステルで
あるため、分子量の割に蒸発しやすい。通常の場合、エ
ポキシの重合硬化は水分が阻害剤となるので、水分を加
熱除去する工程があるが、その際に蒸発してしまう可能
性がある。蒸発しにくくするために、R4は100以上
の分子量を有する有機基または有機カチオンであること
が望ましい。
【0045】本発明の反射防止膜により処理する物品、
すなわち基材の種類は特に限定されない。例えば、ガラ
ス、石材、コンクリート、タイルなどの無機材料;塩化
ビニル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチ
ルセルロースなどのセルロース系樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリル系樹脂、フェノ
ール樹脂、キシレン樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、
ジアリルフタレート樹脂、フラン樹脂、アミノ樹脂、ア
ルキド樹脂、ウレタン樹脂、ビニルエステル樹脂、ポリ
イミド樹脂などの合成樹脂;鉄、アルミ、銅などの金
属;木、紙、印刷物、印画紙、絵画、などを挙げること
ができる。また、物品の特定部分以外の部分に反射防止
処理をおこない、その特定部分の形状を反射光によって
浮かび上がらせることにより、物品の装飾性を向上する
こともできる。
【0046】本発明は、以下のような形態の物品に適用
した場合に効果的である。 ・プリズム、レンズシート、偏光板、光学フィルター、
レンチキュラーレンズ、フレネルレンズ、背面投写型デ
ィスプレイのスクリーン、光ファイバーや光カプラー等
の光学部品; ・ショーウインドーのガラス、ショーケースのガラス、
広告用カバー、フォトスタンド用のカバー等に代表され
る透明な保護版; ・CRT、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、
背面投写型ディスプレイ等の保護板; ・光磁気ディスク、CD・LD・DVDなどのリードオ
ンリー型光ディスク、PDなどの相転移型光ディスク、
ホログラム記録等に代表される光記録媒体; ・ハロゲンランプ、蛍光灯、白熱電灯などの発光体の保
護カバー; ・上記物品にはりつけるためのシート、もしくはフィル
ム。
【0047】本発明の反射防止膜は、エポキシ基を有す
る含フッ素プレポリマーの溶液を基材に直接塗布し、
0.1μm程度の厚みにの膜として形成してよいが、基
材との間に1つまたは複数の層をアンダーコートとして
形成し、その上にトップコートとして反射防止膜を形成
してもよい。
【0048】アンダーコートの効果は、大きく分けて3
つあり、トップコートの耐擦傷性を高めたり、基材を保
護したり、基材よりも高屈折率の層を加えることにより
反射防止効果を高めることである。トップコートの耐擦
傷性を高めるためには特開平7−168005号公報に
例示されるような自己修復性のアンダーコートを用いい
ればよい。また、基材の保護のためにはハードコートと
一般に呼ばれる塗料を用いればよい。硬化型のアクリル
樹脂やエポキシ樹脂、シリコンアルコキシド系化合物の
硬化体、金属アルコキシド系化合物の硬化体、などが例
示できる。これらすべてに熱硬化が適用できる。アクリ
ル樹脂およびエポキシ樹脂については、紫外線硬化が生
産性の面で好ましい。
【0049】CRTやプラズマディスプレイなどでは、
装置の特性として表面に静電気がたまりやすい。そこ
で、上記のようなアンダーコート層及び/又はトップコ
ート層に導電性を付与する添加剤を混ぜることが好まし
い。添加剤としては、−COO-、−NH2、−NH3 +
−NR111213(ここで、R11、R12及びR13は、例
えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル
基など)、−SO3−などのイオン性基を含むポリマー、
シリコーン化合物、無機電解質(例えばNaF、CaF2
など)などが例示できる。
【0050】また、ほこりの付着を防止する目的で、反
射防止膜のアンダーコート層及び/又はトップコート層
に帯電防止剤を添加することが好ましい。添加剤として
は上記の導電性を付与する添加剤に加え、金属酸化物の
微粒子、フルオロアルコキシシラン、界面活性剤(アニ
オン系、カチオン系、両性系、ノニオン系など)などが
例示される。
【0051】アンダーコート層に添加する帯電防止剤と
しては、効果が永続すること、効果が湿度の影響を受け
にくいこと、帯電防止効果が高いこと、透明性、屈折率
が高いために基材の屈折率を調整できるので反射防止効
果を高めることができること、などの理由から、金属酸
化物の微粒子、具体的にはアンチモンをドープした酸化
錫(ATO)、インジウムを含む酸化錫(ITO)が好
ましい。透明性の面ではATOが好ましく、帯電防止効
果もしくは導電性の面ではITOが好ましい。また、帯
電防止効果が必要ない場合でも、容易に屈折率を調節で
きるため、これらの添加剤を用いて反射防止効果を高め
ることもできる。これらの無機フィラーを用いる場合、
上記機能を発現するためにはフィラー含量が固形分比で
数10%となるため、非常にもろい膜となりやすい。し
かし、この膜の上に強靭な含フッ素エポキシ硬化体の被
覆を形成することにより、一体となって強度のある膜と
なる。この状態では、つめなどによる傷は容易には付か
なくなる。
【0052】また、ATO、ITOが光を散乱・吸収し
やすいので、光の透過を妨げないためには、アンダーコ
ート層の厚みは、サブミクロン程度であることが好まし
い。反射防止効果の波長依存性を小さくし、全波長にわ
たって反射防止効果を高めるためには、含フッ素プレポ
リマー硬化体の屈折率にもよるが、0.05−0.3μ
mが好ましい。最適な屈折率も、同様に含フッ素ポリマ
ーの屈折率に依存するが、1.55−1.95が好まし
い。
【0053】含フッ素プレポリマー硬化体の被覆に帯電
防止性を与えるのであれば、屈折率が上がりにくく、反
射防止効果に悪影響が少ないという面から、アルコキシ
シラン系の帯電防止剤が好ましい。フルオロアルコキシ
シランは屈折率が上がる効果がさらに少なく、それに加
え表面特性が改良される効果も期待できるので、さらに
好ましい。
【0054】また、上に示したような膜の一部を改質す
るという方法とは全く異なった方法として、特開平8−
142280号公報に示されるように反射防止能に悪影
響を及ぼさない膜厚で界面活性剤の層を形成する方法が
ある。本発明に適用した場合、ほこり付着防止など、防
汚性を向上するという効果がある。ハードコート層を形
成した場合も同様の効果がある。
【0055】ハードコート層は、アルコキシシランやポ
リシラザンの溶液を塗布後、加熱・硬化させる方法によ
り形成することができる。また、UV硬化型アクリル塗
料やメラミン架橋の硬化膜も使用可能である。
【0056】反射防止層に防汚性を付与するために、含
フッ素オイルを添加することができる。その場合、力学
特性の劣化や、含フッ素ポリマーとの相分離による白濁
を考慮して添加量を決める必要がある。末端を−COO
H基、もしくはブロック化された−COOH基、−OH
基、エポキシ基としておけばエポキシ基と反応し、膜中
に固定されやすくなる。表面に塗布しても同様の効果が
ある。
【0057】含フッ素ポリマーの薄膜を形成する方法と
して、含フッ素ポリマーのディスパージョンを塗り、乾
燥し、その後必要に応じて焼成して造膜する方法と、溶
液を塗布し、乾燥する方法がある。薄膜の形成が容易で
あることから、溶液塗布が好ましい。その際、膜厚を十
分にコントロールできるのであれば、公知の塗装法を採
用することができる。例えばロールコート法、マイクロ
グラビアコート法、グラビアコート法、フローコート
法、バーコート法、スプレーコート法や、特開平7−1
51904号公報に開示されているようなダイコート法
を採用することができる。このような方法の中から、生
産性、膜厚コントロール性、歩留まり等のバランスを考
慮して、最適な塗装法を決定する。フィルム、シート等
に反射防止膜を形成した後、これを基材に貼り付けても
よい。
【0058】本発明でも、反射防止膜の基材への密着性
を高めるために、シラン化合物を添加してもよい。膜中
に添加するシラン化合物の量は数重量%程度でよい。こ
れは、膜強度は主にエポキシの三次元架橋によって確保
されているためである。また、基材表面をシラン化合物
で処理しておくことも、密着性の改善のために効果があ
る。本発明においてはいずれの場合でも、シラン化合物
は硬化膜の屈折率をほとんど増加させないため、反射防
止効果への悪影響は非常に少ない。
【0059】
【実施例】以下、実施例および比較例を示し、本発明を
具体的に説明する。 合成例1−1 50mlガラスオートクレーヴに6.0gのI(CF2CF
22Iおよび20mlのCF2=CFOCF2CF2CF3
を仕込み、ドライアイスで冷却した後、真空排気および
窒素ガス加圧を3回繰り返した。真空排気後,温度を4
5〜50℃に保ち,高圧水銀灯(ウシオ電機(株)製U
SH−250D)で光照射しながらCF2=CF2ガスを
5〜6気圧でサイクル仕込みした.なお、反応は、スク
リュー型攪拌翼で反応混合物を700rpm攪拌しなが
ら行った。
【0060】I(CF2CF22IのI(よう素原
子)、もしくはポリマー末端のIは光照射により遊離
し、その間にCF2=CFOCF2CF2CF3やCF2
CF2が挿入されるような形でよう素移動重合は進行す
る。(よう素移動重合とは、末端よう素がよう素ラジカ
ルの形で脱離し、ポリマーの末端がラジカルとなり、そ
の部分が一定期間ラジカル重合で成長した後、再び脱離
したよう素が付加するという重合形式。擬似的にリビン
グ重合的に重合反応が進む。詳細に関しては特公昭58
−4728参照。)
【0061】CF2=CF2ガスを13回仕込んだところ
(反応時間3時間45分)で光照射を止め、オートクレ
ーヴ内部を減圧にし、よう素移動重合を停止させた。液
温を100℃に上げ、未反応の原料を減圧除去した。こ
の段階で、末端にC−I結合を持ち、分子量が約100
0のパーフルオロエラストマーが生成した。
【0062】室温まで冷却した後、6.0gのアリルグ
リシジルエーテルおよび20mlのHCFC−225を加
え,ドライアイスで冷却した後,窒素ガスで3回置換し
た。温度を40℃に保ち、600 rpmで攪拌しながら上
記高圧水銀灯で一時間光照射した。液温を100℃と
し、未反応の原料を減圧除去した。この操作により、ほ
とんどすべてのポリマー末端とアリルグリシジルエーテ
ルは、以下のように反応する。
【化12】
【0063】このようにして末端にエポキシ基を持ち、
パーフルオロエラストマーを骨格とするポリマーが合成
された。これらの操作の結果、15gのポリマーが得ら
れた。これを含フッ素プレポリマー1とする。含フッ素
プレポリマー1は両末端にエポキシ基が結合されたパー
フルオロ液状ゴムである。
【0064】合成例1−2 20mlのCF2=CFOCF2CF2CF3に代えてパーフ
ルオロヘキサンを使用し、CF2=CF2ガスに代えてC
2=CF2とCF2=CFOCF3の混合ガス(モル比で
6.5:3.5)を使用した以外は合成例1-1と同様
にしてエポキシ基含有ポリマーを合成した。これを含フ
ッ素プレポリマー2とする。含フッ素プレポリマー2は
両末端にエポキシ基が付加されたパーフルオロ液状ゴム
である。
【0065】合成例2−1 CH2=CFCOOCH2CH2(CF27CF3(以下、
「17FFA」と略す)にBr2を少しずつ添加した。
最終添加量は17FFA/Br2=5.50g/1.6
0g(モル比では、17FFAが微過剰)とした。二重
結合へのBr2の付加反応が進むにつれてBr2による着
色は消えていった。なお、17FFAおよびBr2は、
それぞれα,α,α,α',α',α'−ヘキサフルオロメタキ
シレン(以下、「m−XHF」と略す)であらかじめ1
0重量%に希釈して使用した。所定量添加した後、Br
2による着色がなくなるまで反応液を室温で放置した。
上記のようにして、硬化剤の10重量%・m−XHF溶
液を調製した。この溶液を硬化剤−1とする。
【0066】上記付加反応は、メチルメタクリレートや
スチレンの場合に比べると非常に緩やかに進み、室温に
おいて容易に反応をコントロールすることができる。完
全遮光での反応は、Br2の付加反応速度が遅すぎるの
で好ましくない。ガラス容器中、自然光があたっている
程度が良い。反応速度が速すぎる場合は、遮光、冷却、
溶媒による希釈により、反応速度を低下させることがで
きる。
【0067】合成例2−2 CH2=C(CF3)COOCH2(CF24H(以下、
「8F3FA」と略す)にBr2を少しずつ添加した。
最終添加量は、8F3FA/Br2=3.60g/1.
60g(モル比では、8F3FAが微過剰)とした。二
重結合へのBr2の付加反応が進むにつれてBr2による
着色は消えていく。なお、8F3FAおよびBr2は、
それぞれα,α,α,α',α',α'−ヘキサフルオロメタキ
シレン溶媒(以降、m−XHFと略す)であらかじめ1
0重量%に希釈して使用した。所定量添加した後、Br
2による着色がなくなるまで反応液を室温で放置した。
この溶液を硬化剤−2とする。反応速度およびそのコン
トロール方法に関しては合成例2−1と同様である。
【0068】比較合成例 2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル−2−フルオ
ロアクリレート100g、AIBN(アゾビスイソブチ
ロニトリル)0.015g、連鎖移動剤としてメルカプト
酢酸イソオクチル2.0gを混合し、真空脱気後、反応
混合物を50℃で24時間保った。生じたポリマーをア
セトンに溶解させた後、メタノール中に投入することで
再沈殿し、精製した。
【0069】実施例1 含フッ素プレポリマー1/m−XHF/硬化剤−1(合
成例2−1参照)を、100部/900部/30部(重
量)で混合し、トップコート溶液とした。固形分比で、
プレポリマーと硬化剤との割合は100部/3部である この液をアクリル板上に60mm/sの引き上げ速度でデ
ィップコートした。その後、風乾し、熱風乾燥炉にて4
0℃で3分乾燥した。その後、紫外線照射装置USH−
250D(ウシオ電機(株)製)により、20秒間紫外
線を照射した。このようにして反射防止処理されたアク
リル板を作製した。
【0070】実施例2 含フッ素プレポリマー1の替わりに含フッ素プレポリマ
ー2を用いた以外は実施例1と同様にして、反射防止処
理されたアクリル板を作製した
【0071】実施例3 P3555(触媒化成工業(株)製UV硬化型帯電防止
塗料)を酢酸ブチルで3倍に希釈し、60mm/sの引
き上げ速度でアクリル板上にディップコートし、風乾
し、熱風乾燥炉にて40℃で3分乾燥した。その後、実
施例1と同様に紫外線照射して帯電防止層を硬化させ、
アンダーコートとした。この層は、帯電防止層としては
たらくと同時に、高屈折率層として反射防止効果の向上
に寄与する。その帯電防止層の上に、実施例1と同様に
して含フッ素プレポリマーを塗布し、紫外線照射した。
以上のようにして2層反射防止処理された物品を作製し
た。
【0072】実施例4 硬化剤1のかわりに硬化剤2を用いたことを除いては実
施例1と同様にして反射防止処理されたアクリル板を作
製した。
【0073】実施例5 P3574(触媒化成工業(株)製、熱硬化型帯電防止
塗料)の主剤100部、硬化剤7部、酢酸ブチル300
部を混合し、アンダーコート用塗料とした。100mm
/分の引き上げ速度でアクリル板にディップコートし、
風乾後、熱風乾燥炉にて110℃で10分間熱処理し、
帯電防止層(=アンダーコート層)を形成した。含フッ
素プレポリマー1/パーフルオロスベリン酸(HOOC
−(CF26−COOH)/メチルエチルケトンを10
部/3部/90部(重量)で混合し、トップコート溶液
とした。上記帯電防止層の上に、上記トップコート溶液
を200mm/分の引き上げ速度でディップコートし、
風乾した。その後、160℃で10分間熱風乾燥炉で熱
処理し、硬化させた。なお、アクリル板の熱変形を防ぐ
ため、アンダーコートやトップコートの硬化時は、アク
リル板の上部を固定し、乾燥炉内にぶら下げた状態で熱
処理した。このようにして反射防止処理されたアクリル
板を作製した。
【0074】実施例6 ダイヤビームUR4222(三菱レーヨン(株)製UV
硬化塗料)を、200mm/分の引き上げ速度でアクリ
ル板にディップコートし、熱風乾燥炉にて40℃で5分
間乾燥した。その後、紫外線照射装置USH−250D
(ウシオ電機(株)製)により、20秒間紫外線を照射
した。その後、実施例5と同様にアンダーコート層およ
びトップコート層を形成した。このようにして反射防止
処理されたアクリル板を作製した。
【0075】比較例1 比較合成例1で得たポリマーを3重量%の酢酸ブチル溶
液とし、アクリル板上に、引き上げ速度100mm/分
でディップコートした。 比較例2 実施例で用いたアクリル板をそのまま試験に供した。
【0076】比較例3 硬化剤1を使用しなかったこと以外は実施例1と同様に
してアクリル板上に反射防止膜を形成した。
【0077】反射防止膜の物性 反射防止膜について以下の測定を行った(ただし、屈折
率の測定は除く)。また、耐摩耗性および耐擦傷性試験
で、いずれも×と評価された場合、他の項目に関して、
試験、測定はおこなわない場合がある。
【0078】1.トップコートの屈折率 アッベ屈折率計((株)アタゴ製)により、25℃で、
波長550nmの光について屈折率を測定した。硬化物
に関しては、アルミ箔上に厚み約0.1mmの膜を形成
後、反射防止膜と同様に硬化し、アルミ箔を希塩酸で溶
かしてサンプルフィルムとした。その他のものに関して
は溶剤キャスト法により厚み約0.1mmのフィルムを
形成し、サンプルとした。
【0079】2.片面反射率 5゜正反射ユニットを可視紫外分光器((株)日立製作
所製U−3410)に装着し、波長550nmの光につい
て反射率を測定した。
【0080】3.光透過率 可視紫外分光器((株)日立製作所製U−3410)に
より、空気をリファレンスとして波長550nmについ
て光透過率を測定した。
【0081】4.耐擦傷性 太平理科製ラビングテスターにスチールウール#000
0をとりつけ、荷重220gを22cm2にかけ(圧力約
10gf/cm2)、20往復こすった。表面をきれいに拭い
た後、傷の付き具合を調べた。評価は次の3段階でおこ
なった。 外観上全く変化がない: ○ 2、3個所のかすかな傷がみられる: △ 大きな傷があったり、多数の傷がある:×
【0082】5.耐摩耗性 太平理科製ラビングテスターに標準綿布(ブロード、白
布)をとりつけ、荷重900gを6.2cm2にかけ(圧
力約150gf/cm2)、100往復して反射防止膜をこす
った。そのときの膜の状態の変化を調べた。評価は次の
3段階でおこなった。 外観上全く変化がない: ○ 膜厚が変化し、反射率の増加がみられる:△ 下地が見えている部分がある: ×
【0083】6.密着性 碁盤目−セロテープ剥離試験をJIS K 5400に
準拠しておこなった
【0084】7.ほこり吸着性 湿度50%以下の雰囲気にて、5×5mmに切り分けた
キムワイプ(登録商標、(株)クレシア製)を10枚な
らべておき、そこへ上から耐摩耗性試験と同様に摩擦し
た直後のテストピースを3mmの距離まで近づけ、5秒
間静置後、テストピースを静かに上昇させる。2枚以上
のキムワイプの小片が静電気によりテストピースに付着
している場合は「吸着する」とし、0枚の場合「吸着し
ない」とする。1枚の場合は、摩擦するところからもう
一度繰り返し、再評価する。
【0085】結果を表1に示す。
【表1】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 守田 滋 大阪府摂津市西一津屋1番1号 ダイキン 工業株式会社淀川製作所内 (72)発明者 荒瀬 琢也 大阪府摂津市西一津屋1番1号 ダイキン 工業株式会社淀川製作所内 (72)発明者 清水 哲男 大阪府摂津市西一津屋1番1号 ダイキン 工業株式会社淀川製作所内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 含フッ素プレポリマーの硬化膜からなる
    反射防止膜であって、該含フッ素プレポリマーは、50
    重量%以上のフッ素含有率を有し、かつ1分子に少なく
    とも2つのエポキシ基が結合している化合物であり、硬
    化膜の厚さは0.03〜0.5μmである反射防止膜。
  2. 【請求項2】 該含フッ素プレポリマー1分子中の少な
    くとも2つのエポキシ基がテレケリックな位置にある請
    求項1に記載の反射防止膜。
  3. 【請求項3】 該含フッ素プレポリマーが、テトラフル
    オロエチレン単位とパーフルオロビニルエーテル単位の
    共重合体ブロックを含み、かつ非晶質である請求項1ま
    たは2に記載の反射防止膜。
  4. 【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載の反射防
    止膜により被覆された反射防止処理物品。
JP10188770A 1998-03-25 1998-07-03 反射防止膜および反射防止処理物品 Pending JPH11337706A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10188770A JPH11337706A (ja) 1998-03-25 1998-07-03 反射防止膜および反射防止処理物品
PCT/JP1999/001503 WO1999048944A1 (fr) 1998-03-25 1999-03-25 Film et article antireflet
CN99804389A CN1294605A (zh) 1998-03-25 1999-03-25 防反射膜及防反射处理制品
EP99910692A EP1086971A4 (en) 1998-03-25 1999-03-25 FILM AND ANTI-REFLECTIVE ARTICLE
KR1020007010477A KR20010042110A (ko) 1998-03-25 1999-03-25 반사 방지막 및 반사 방지처리물품

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10-77546 1998-03-25
JP7754698 1998-03-25
JP10188770A JPH11337706A (ja) 1998-03-25 1998-07-03 反射防止膜および反射防止処理物品

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11337706A true JPH11337706A (ja) 1999-12-10

Family

ID=26418621

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10188770A Pending JPH11337706A (ja) 1998-03-25 1998-07-03 反射防止膜および反射防止処理物品

Country Status (5)

Country Link
EP (1) EP1086971A4 (ja)
JP (1) JPH11337706A (ja)
KR (1) KR20010042110A (ja)
CN (1) CN1294605A (ja)
WO (1) WO1999048944A1 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006028280A (ja) * 2004-07-14 2006-02-02 Fuji Photo Film Co Ltd 含フッ素多官能モノマー、含フッ素重合体、反射防止膜、反射防止フィルムおよび画像表示装置
JP2006259019A (ja) * 2005-03-16 2006-09-28 Fuji Kogyo Kk 広告用パネルの製造方法及び広告用パネル、並びにこの広告用パネルを用いた広告用表示装置
DE102008009939A1 (de) 2007-02-20 2008-09-04 Pentax Corp. Staubgeschützter, reflektierender Spiegel und optisches Gerät, das diesen enthält
JP2009009138A (ja) * 2000-08-29 2009-01-15 Daikin Ind Ltd 反射防止処理物品の製造方法
US7763340B2 (en) 2006-01-05 2010-07-27 Hoya Corporation Dust-proof, light-transmitting member and its use, and imaging apparatus comprising same

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100392432C (zh) * 2002-03-26 2008-06-04 Tdk株式会社 具有复合硬质涂层的物体及复合硬质涂层的形成方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5225244A (en) * 1990-12-17 1993-07-06 Allied-Signal Inc. Polymeric anti-reflection coatings and coated articles
JPH08313704A (ja) * 1995-05-19 1996-11-29 Toyo Ink Mfg Co Ltd 反射防止膜用樹脂
JPH09288201A (ja) * 1995-12-07 1997-11-04 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止膜及びそれを用いた画像表示装置
JPH09222502A (ja) * 1996-02-19 1997-08-26 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止膜およびそれの製造方法および表示装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009009138A (ja) * 2000-08-29 2009-01-15 Daikin Ind Ltd 反射防止処理物品の製造方法
JP2006028280A (ja) * 2004-07-14 2006-02-02 Fuji Photo Film Co Ltd 含フッ素多官能モノマー、含フッ素重合体、反射防止膜、反射防止フィルムおよび画像表示装置
JP2006259019A (ja) * 2005-03-16 2006-09-28 Fuji Kogyo Kk 広告用パネルの製造方法及び広告用パネル、並びにこの広告用パネルを用いた広告用表示装置
US7763340B2 (en) 2006-01-05 2010-07-27 Hoya Corporation Dust-proof, light-transmitting member and its use, and imaging apparatus comprising same
DE102008009939A1 (de) 2007-02-20 2008-09-04 Pentax Corp. Staubgeschützter, reflektierender Spiegel und optisches Gerät, das diesen enthält

Also Published As

Publication number Publication date
EP1086971A4 (en) 2002-06-12
KR20010042110A (ko) 2001-05-25
WO1999048944A1 (fr) 1999-09-30
CN1294605A (zh) 2001-05-09
EP1086971A1 (en) 2001-03-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3742861B2 (ja) 硬化性含フッ素ポリマー、それを用いた硬化性樹脂組成物および反射防止膜
KR100515995B1 (ko) 반사방지처리물품
KR100890126B1 (ko) 액상 수지 조성물, 경화막 및 적층체
TW201718729A (zh) 低折射層及包含彼之抗反射膜
JP4375335B2 (ja) 硬化性表面改質剤およびそれを用いた硬化性表面改質用組成物
TW201726842A (zh) 低折射層及含彼的抗反射膜
KR100874307B1 (ko) 가수분해성 금속 알콕시드 부위를 갖는 불소 함유 화합물,상기 화합물로부터 얻어지는 경화성 불소 함유 중합체 및상기 중합체를 포함하는 경화성 불소 함유 수지 조성물
JP4860952B2 (ja) 表面保護層用塗布組成物及びそれを用いてなる反射防止膜
JP5772891B2 (ja) 含フッ素重合体及びその製造方法
JP5556665B2 (ja) 含フッ素重合体、該含フッ素重合体よりなる硬化性樹脂組成物および反射防止膜
JPH11337706A (ja) 反射防止膜および反射防止処理物品
JP2005336484A (ja) 硬化性含フッ素ポリマー、それを用いた硬化性樹脂組成物および反射防止膜
JP4179306B2 (ja) 硬化性含フッ素ポリマー、それを用いた硬化性樹脂組成物および反射防止膜
JP5979423B2 (ja) 反射防止塗料組成物及び反射防止フィルム
JP4983605B2 (ja) α,β−不飽和エステル基を含有する含フッ素ノルボルネン誘導体または含フッ素ノルボルナン誘導体を含む硬化性含フッ素ポリマー組成物
JP4442533B2 (ja) 含フッ素不飽和化合物
JP2718051B2 (ja) 合成樹脂製レンズ
JP2013156333A (ja) 反射防止塗料組成物及び反射防止フィルム
JPH01216301A (ja) 合成樹脂製レンズ
JPH01230002A (ja) 合成樹脂製レンズ