JPH11333476A - オゾン混合処理法およびオゾン混合処理装置 - Google Patents
オゾン混合処理法およびオゾン混合処理装置Info
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- JPH11333476A JPH11333476A JP10149608A JP14960898A JPH11333476A JP H11333476 A JPH11333476 A JP H11333476A JP 10149608 A JP10149608 A JP 10149608A JP 14960898 A JP14960898 A JP 14960898A JP H11333476 A JPH11333476 A JP H11333476A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/722—Oxidation by peroxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/78—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with ozone
Abstract
(57)【要約】
【課題】 分解除去効率が良好で、経済的で実用的なオ
ゾン混合処理法を得る。 【解決手段】 被処理水を一定方向ａに流し、過酸化水
素は過酸化水素貯留タンク１０から被処理水に供給す
る。オゾン発生装置９で生成したオゾンガス（オゾン濃
度＝３０〜３００ｍｇ／Ｌ）は分岐したオゾンガス配管
により、被処理水配管に設けた二カ所のオゾンガス注入
点１、５に供給され、溶解したオゾンと添加された過酸
化水素とが反応してＯＨラジカルが生成し、これが被処
理水中に含有する物質を分解・除去する。
ゾン混合処理法を得る。 【解決手段】 被処理水を一定方向ａに流し、過酸化水
素は過酸化水素貯留タンク１０から被処理水に供給す
る。オゾン発生装置９で生成したオゾンガス（オゾン濃
度＝３０〜３００ｍｇ／Ｌ）は分岐したオゾンガス配管
により、被処理水配管に設けた二カ所のオゾンガス注入
点１、５に供給され、溶解したオゾンと添加された過酸
化水素とが反応してＯＨラジカルが生成し、これが被処
理水中に含有する物質を分解・除去する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、被処理流体をオゾ
ン処理する際に少量の過酸化水素を添加して処理する過
酸化水素併用のオゾン処理法で、被処理流体の全有機炭
素（Total Organic Carbon、以下ＴＯＣと略す。）の
除去効率を低下させずに効率的に処理するオゾン混合処
理方法およびこのオゾン混合処理法を用いたオゾン混合
処理装置に関するものである。
ン処理する際に少量の過酸化水素を添加して処理する過
酸化水素併用のオゾン処理法で、被処理流体の全有機炭
素（Total Organic Carbon、以下ＴＯＣと略す。）の
除去効率を低下させずに効率的に処理するオゾン混合処
理方法およびこのオゾン混合処理法を用いたオゾン混合
処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えば特開平５―２２８４８１号
公報に記載されているように、過酸化水素併用オゾン処
理法は、添加した過酸化水素とオゾンとを反応させて、
過酸化水素やオゾンよりも酸化分解力が非常に強いヒド
ロキシラジカル（ＯＨラジカル）を効率的に生成させ
て、これを使ってオゾンでも分解できない難分解性物質
を除去する方法であり、ラジカル反応はＯＨラジカルと
ＨＯ2ラジカルがオゾンを介在して複雑な連鎖反応系を
形成している。すなわち過酸化水素添加オゾン処理にお
ける反応機構は、オゾンと過酸化水素の反応等によって
ラジカルが生成されて連鎖反応系に導入しつつ、連鎖反
応系ではオゾンが介在してラジカルを消耗しながら連鎖
反応が進み、同時にＯＨラジカルが有機物と反応してい
ると考えられる。
公報に記載されているように、過酸化水素併用オゾン処
理法は、添加した過酸化水素とオゾンとを反応させて、
過酸化水素やオゾンよりも酸化分解力が非常に強いヒド
ロキシラジカル（ＯＨラジカル）を効率的に生成させ
て、これを使ってオゾンでも分解できない難分解性物質
を除去する方法であり、ラジカル反応はＯＨラジカルと
ＨＯ2ラジカルがオゾンを介在して複雑な連鎖反応系を
形成している。すなわち過酸化水素添加オゾン処理にお
ける反応機構は、オゾンと過酸化水素の反応等によって
ラジカルが生成されて連鎖反応系に導入しつつ、連鎖反
応系ではオゾンが介在してラジカルを消耗しながら連鎖
反応が進み、同時にＯＨラジカルが有機物と反応してい
ると考えられる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】過酸化水素添加オゾン
処理法は、以上のように反応が入り交じることにより非
常に複雑であり、ラジカル反応を制御することが非常に
難しく、注入オゾン濃度を大きくするとＴＯＣ量は減少
するが、単位有機性炭素量を分解除去するために必要な
オゾン量（以下、ΔＯ3／ΔＴＯＣと略す。）が大きく
なって処理効率が低下する。また、過酸化水素量や注入
オゾン濃度等の操作条件が最適化されておらず、またオ
ゾンガス注入点数を複数にした場合の操作条件の最適化
もされておらず、経済的でなく実用性に乏しいという課
題があった。
処理法は、以上のように反応が入り交じることにより非
常に複雑であり、ラジカル反応を制御することが非常に
難しく、注入オゾン濃度を大きくするとＴＯＣ量は減少
するが、単位有機性炭素量を分解除去するために必要な
オゾン量（以下、ΔＯ3／ΔＴＯＣと略す。）が大きく
なって処理効率が低下する。また、過酸化水素量や注入
オゾン濃度等の操作条件が最適化されておらず、またオ
ゾンガス注入点数を複数にした場合の操作条件の最適化
もされておらず、経済的でなく実用性に乏しいという課
題があった。
【０００４】本発明は、かかる課題を解決するためにな
されたもので、ΔＯ3／ΔＴＯＣを低減し、分解除去効
率が良好で、経済的で実用的なオゾン混合処理法および
これを用いたオゾン混合処理装置を提供することを目的
とする。
されたもので、ΔＯ3／ΔＴＯＣを低減し、分解除去効
率が良好で、経済的で実用的なオゾン混合処理法および
これを用いたオゾン混合処理装置を提供することを目的
とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明に係る第１のオゾ
ン混合処理法は、被処理流体に過酸化水素とオゾンとを
添加、混合して被処理流体の有機物を分解処理するオゾ
ン混合処理法において、上記オゾン濃度が３０〜３００
ｍｇ／Ｌのものである。
ン混合処理法は、被処理流体に過酸化水素とオゾンとを
添加、混合して被処理流体の有機物を分解処理するオゾ
ン混合処理法において、上記オゾン濃度が３０〜３００
ｍｇ／Ｌのものである。
【０００６】本発明に係る第２のオゾン混合処理法は、
被処理流体に過酸化水素とオゾンとを添加、混合して被
処理流体の有機物を分解処理するオゾン混合処理法にお
いて、上記オゾン注入率が１０〜１５０ｍｇ／Ｌのもの
である。
被処理流体に過酸化水素とオゾンとを添加、混合して被
処理流体の有機物を分解処理するオゾン混合処理法にお
いて、上記オゾン注入率が１０〜１５０ｍｇ／Ｌのもの
である。
【０００７】本発明に係る第３のオゾン混合処理法は、
被処理流体に過酸化水素とオゾンとを添加、混合して被
処理流体の有機物を分解処理するオゾン混合処理法にお
いて、上記オゾンガスと上記被処理流体の流量比が０．
１〜１．０のものである。
被処理流体に過酸化水素とオゾンとを添加、混合して被
処理流体の有機物を分解処理するオゾン混合処理法にお
いて、上記オゾンガスと上記被処理流体の流量比が０．
１〜１．０のものである。
【０００８】本発明に係る第４のオゾン混合処理法は、
被処理流体に過酸化水素とオゾンとを添加、混合して被
処理流体の有機物を分解処理するオゾン混合処理法にお
いて、上記過酸化水素注入率が１〜５０ｍｇ／Ｌのもの
である。
被処理流体に過酸化水素とオゾンとを添加、混合して被
処理流体の有機物を分解処理するオゾン混合処理法にお
いて、上記過酸化水素注入率が１〜５０ｍｇ／Ｌのもの
である。
【０００９】本発明に係る第５のオゾン混合処理法は、
被処理流体に過酸化水素とオゾンとを添加、混合して被
処理流体の有機物を分解処理するオゾン混合処理法にお
いて、上記オゾンガスの注入間隔が５〜４０秒のもので
ある。
被処理流体に過酸化水素とオゾンとを添加、混合して被
処理流体の有機物を分解処理するオゾン混合処理法にお
いて、上記オゾンガスの注入間隔が５〜４０秒のもので
ある。
【００１０】本発明に係る第６のオゾン混合処理法は、
被処理流体に過酸化水素とオゾンとを添加、混合して被
処理流体の有機物を分解処理するオゾン混合処理法にお
いて、上記オゾンの上記被処理流体への総括オゾン移動
係数（ＫLａ）が１００〜１００００（１／ｈｒ）のも
のである。
被処理流体に過酸化水素とオゾンとを添加、混合して被
処理流体の有機物を分解処理するオゾン混合処理法にお
いて、上記オゾンの上記被処理流体への総括オゾン移動
係数（ＫLａ）が１００〜１００００（１／ｈｒ）のも
のである。
【００１１】本発明に係る第７のオゾン混合処理法は、
上記第１ないし第６のいずれかのオゾン混合処理法にお
いて、オゾンを二カ所以上で添加するものである。
上記第１ないし第６のいずれかのオゾン混合処理法にお
いて、オゾンを二カ所以上で添加するものである。
【００１２】本発明に係る第１のオゾン混合処理装置
は、上記第１ないし第７のいずれかのオゾン混合処理法
を用い、被処理流体の有機物を分解処理するものであ
る。
は、上記第１ないし第７のいずれかのオゾン混合処理法
を用い、被処理流体の有機物を分解処理するものであ
る。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明者らは、動力学モデルに基
づく計算機シミュレーションを繰り返し、ΔＯ3／ΔＴ
ＯＣを低減し、有機物の分解除去効率が良好となる過酸
化水素とオゾンとを併用したオゾン混合処理法について
研究し、いくつかの重要な現象を発見し、この発明に想
到した。
づく計算機シミュレーションを繰り返し、ΔＯ3／ΔＴ
ＯＣを低減し、有機物の分解除去効率が良好となる過酸
化水素とオゾンとを併用したオゾン混合処理法について
研究し、いくつかの重要な現象を発見し、この発明に想
到した。
【００１４】図１および図２は、刊行物（第３４回下水
道研究発表会講演集，ｐ６７７〜６７９、１９９７）に
記載のもので、各々本発明のオゾン混合処理法のシミュ
レーションに用いた水処理装置の構成を示す説明図並び
に反応機構とそれに基づく反応式を示す説明図である。
なお、図２のような反応機構により有機物（Ｒ）を分解
するものとして、図に示す反応式（１）〜（７）により
シミュレーションを行った。
道研究発表会講演集，ｐ６７７〜６７９、１９９７）に
記載のもので、各々本発明のオゾン混合処理法のシミュ
レーションに用いた水処理装置の構成を示す説明図並び
に反応機構とそれに基づく反応式を示す説明図である。
なお、図２のような反応機構により有機物（Ｒ）を分解
するものとして、図に示す反応式（１）〜（７）により
シミュレーションを行った。
【００１５】図１において、ａは被処理水が流れる被処
理水配管（図示していない）の流れ方向、ｂは過酸化水
素配管（図示していない）の過酸化水素注入方向、ｃは
オゾンガス配管（図示していない）のオゾンガス注入方
向で、１〜８はオゾンと被処理流体とが接触する被処理
水配管のオゾンガス注入点、９はオゾン発生装置、１０
は過酸化水素貯留槽であり、図は被処理水配管にオゾン
ガスを２点で注入する場合である。本実施の形態におけ
るシミュレーションはオゾンガスを２点で注入する場合
について行ったが、本発明はオゾンガス注入点数によら
ない。しかし、オゾンガス注入点が２以上、好ましくは
４以上であると分解・除去されたＴＯＣ量（以下ΔＴＯ
Ｃと略す。）が大きくなり、ΔＯ3／ΔＴＯＣが小さく
なるため好ましい。また、オゾン注入後の被処理水の流
れは完全混合とした。
理水配管（図示していない）の流れ方向、ｂは過酸化水
素配管（図示していない）の過酸化水素注入方向、ｃは
オゾンガス配管（図示していない）のオゾンガス注入方
向で、１〜８はオゾンと被処理流体とが接触する被処理
水配管のオゾンガス注入点、９はオゾン発生装置、１０
は過酸化水素貯留槽であり、図は被処理水配管にオゾン
ガスを２点で注入する場合である。本実施の形態におけ
るシミュレーションはオゾンガスを２点で注入する場合
について行ったが、本発明はオゾンガス注入点数によら
ない。しかし、オゾンガス注入点が２以上、好ましくは
４以上であると分解・除去されたＴＯＣ量（以下ΔＴＯ
Ｃと略す。）が大きくなり、ΔＯ3／ΔＴＯＣが小さく
なるため好ましい。また、オゾン注入後の被処理水の流
れは完全混合とした。
【００１６】次に図１の動作について説明する。被処理
水は被処理水配管を一定方向ａに流し、過酸化水素は過
酸化水素貯留タンク１０から過酸化水素配管により被処
理水配管に供給され被処理水に添加される。オゾン発生
装置９は空気、酸素または酸素富化ガスを原料としてオ
ゾンガスを生成し、生成されたオゾンガスは分岐したオ
ゾンガス配管により、被処理水配管に設けた二カ所のオ
ゾンガス注入点１、５に供給される。オゾンガス注入点
１、５では、微細気泡としてオゾンガスを供給すること
により被処理水中にオゾンを溶解させる。オゾンガス注
入点１〜８では溶解したオゾンと添加された過酸化水素
とが反応してＯＨラジカルが生成し、これが被処理水中
に含有する有機物を分解・除去して、水を高度処理す
る。
水は被処理水配管を一定方向ａに流し、過酸化水素は過
酸化水素貯留タンク１０から過酸化水素配管により被処
理水配管に供給され被処理水に添加される。オゾン発生
装置９は空気、酸素または酸素富化ガスを原料としてオ
ゾンガスを生成し、生成されたオゾンガスは分岐したオ
ゾンガス配管により、被処理水配管に設けた二カ所のオ
ゾンガス注入点１、５に供給される。オゾンガス注入点
１、５では、微細気泡としてオゾンガスを供給すること
により被処理水中にオゾンを溶解させる。オゾンガス注
入点１〜８では溶解したオゾンと添加された過酸化水素
とが反応してＯＨラジカルが生成し、これが被処理水中
に含有する有機物を分解・除去して、水を高度処理す
る。
【００１７】表１に、上記ΔＴＯＣおよびΔＯ3／ΔＴ
ＯＣに影響を及ぼすと考えられる項目とシミュレーショ
ン条件を示す。なお、表中オゾンガスの注入濃度（ｍｇ
／Ｌ）とはガス１Ｌに存在するオゾンのｍｇ数、オゾン
ガスの注入率（過酸化水素注入率）とは１Ｌの被処理流
体に注入するオゾンのｍｇ数（過酸化水素のｍｇ数）で
ある。
ＯＣに影響を及ぼすと考えられる項目とシミュレーショ
ン条件を示す。なお、表中オゾンガスの注入濃度（ｍｇ
／Ｌ）とはガス１Ｌに存在するオゾンのｍｇ数、オゾン
ガスの注入率（過酸化水素注入率）とは１Ｌの被処理流
体に注入するオゾンのｍｇ数（過酸化水素のｍｇ数）で
ある。
【００１８】
【表１】
【００１９】以下本発明の実施の形態を図面を参照しな
がら説明する。 実施の形態１．図３は図１に示す水処理装置を用い、過
酸化水素注入率が２０ｍｇ／Ｌで、オゾン注入率を１
０、３０、６０、９０、１５０または２００ｍｇ／Ｌと
変化させて被処理水（ＴＯＣ＝６．０ｍｇ／Ｌ）を処理
したときの、上記各オゾン注入率において、注入オゾン
濃度による処理水のΔＴＯＣの変化を示す特性図であ
る。図から明らかなように、各オゾン注入率において、
注入オゾン濃度がある値以上になると、注入オゾン濃度
を大きくしてもΔＴＯＣは変わらない。すなわちオゾン
注入率１０ｍｇ／Ｌのときは注入オゾン濃度６０ｍｇ／
Ｌ以上で、オゾン注入率３０ｍｇ／Ｌのときは注入オゾ
ン濃度１００ｍｇ／Ｌ以上で、オゾン注入率６０ｍｇ／
Ｌのときは注入オゾン濃度１５０ｍｇ／Ｌ以上で、オゾ
ン注入率９０ｍｇ／Ｌのときは注入オゾン濃度１８０ｍ
ｇ／Ｌ以上で、オゾン注入率１５０ｍｇ／Ｌのときは注
入オゾン濃度２００ｍｇ／Ｌ以上で、オゾン注入率２０
０ｍｇ／Ｌのときは注入オゾン濃度２５０ｍｇ／Ｌ以上
でΔＴＯＣはほぼ一定値をとる。
がら説明する。 実施の形態１．図３は図１に示す水処理装置を用い、過
酸化水素注入率が２０ｍｇ／Ｌで、オゾン注入率を１
０、３０、６０、９０、１５０または２００ｍｇ／Ｌと
変化させて被処理水（ＴＯＣ＝６．０ｍｇ／Ｌ）を処理
したときの、上記各オゾン注入率において、注入オゾン
濃度による処理水のΔＴＯＣの変化を示す特性図であ
る。図から明らかなように、各オゾン注入率において、
注入オゾン濃度がある値以上になると、注入オゾン濃度
を大きくしてもΔＴＯＣは変わらない。すなわちオゾン
注入率１０ｍｇ／Ｌのときは注入オゾン濃度６０ｍｇ／
Ｌ以上で、オゾン注入率３０ｍｇ／Ｌのときは注入オゾ
ン濃度１００ｍｇ／Ｌ以上で、オゾン注入率６０ｍｇ／
Ｌのときは注入オゾン濃度１５０ｍｇ／Ｌ以上で、オゾ
ン注入率９０ｍｇ／Ｌのときは注入オゾン濃度１８０ｍ
ｇ／Ｌ以上で、オゾン注入率１５０ｍｇ／Ｌのときは注
入オゾン濃度２００ｍｇ／Ｌ以上で、オゾン注入率２０
０ｍｇ／Ｌのときは注入オゾン濃度２５０ｍｇ／Ｌ以上
でΔＴＯＣはほぼ一定値をとる。
【００２０】図４は図３と同条件での注入オゾン濃度に
よるΔＯ3／ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。図か
ら明らかなように、図３同様各オゾン注入率において注
入オゾン濃度がある値以上になると、注入オゾン濃度を
大きくしてもΔＯ3／ΔＴＯＣは変わらない。すなわち
オゾン注入率１０ｍｇ／Ｌのときは注入オゾン濃度６０
ｍｇ／Ｌ以上で、オゾン注入率３０ｍｇ／Ｌのときは注
入オゾン濃度１００ｍｇ／Ｌ以上で、オゾン注入率６０
ｍｇ／Ｌのときは注入オゾン濃度１５０ｍｇ／Ｌ以上
で、オゾン注入率９０ｍｇ／Ｌのときは注入オゾン濃度
１８０ｍｇ／Ｌ以上で、オゾン注入率１５０ｍｇ／Ｌの
ときは注入オゾン濃度２００ｍｇ／Ｌ以上で、オゾン注
入率２００ｍｇ／Ｌのときは注入オゾン濃度２５０ｍｇ
／Ｌ以上でΔＯ3／ΔＴＯＣはほぼ一定値をとる。従っ
て図３および図４より各オゾン注入率に対して注入オゾ
ン濃度の実用値が存在することが分かる。
よるΔＯ3／ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。図か
ら明らかなように、図３同様各オゾン注入率において注
入オゾン濃度がある値以上になると、注入オゾン濃度を
大きくしてもΔＯ3／ΔＴＯＣは変わらない。すなわち
オゾン注入率１０ｍｇ／Ｌのときは注入オゾン濃度６０
ｍｇ／Ｌ以上で、オゾン注入率３０ｍｇ／Ｌのときは注
入オゾン濃度１００ｍｇ／Ｌ以上で、オゾン注入率６０
ｍｇ／Ｌのときは注入オゾン濃度１５０ｍｇ／Ｌ以上
で、オゾン注入率９０ｍｇ／Ｌのときは注入オゾン濃度
１８０ｍｇ／Ｌ以上で、オゾン注入率１５０ｍｇ／Ｌの
ときは注入オゾン濃度２００ｍｇ／Ｌ以上で、オゾン注
入率２００ｍｇ／Ｌのときは注入オゾン濃度２５０ｍｇ
／Ｌ以上でΔＯ3／ΔＴＯＣはほぼ一定値をとる。従っ
て図３および図４より各オゾン注入率に対して注入オゾ
ン濃度の実用値が存在することが分かる。
【００２１】図５は図１に示す水処理装置を用い、オゾ
ン注入率が３０ｍｇ／Ｌで、過酸化水素注入率を５、１
０、２０または４０ｍｇ／Ｌと変化させて被処理水（Ｔ
ＯＣ＝６．０ｍｇ／Ｌ）を処理したときの、上記各過酸
化水素注入率における、注入オゾン濃度による処理水の
ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。図から明らかなよ
うに、過酸化水素注入率に関係なく、注入オゾン濃度が
１００ｍｇ／Ｌ以上でΔＴＯＣはほぼ一定値をとる。
ン注入率が３０ｍｇ／Ｌで、過酸化水素注入率を５、１
０、２０または４０ｍｇ／Ｌと変化させて被処理水（Ｔ
ＯＣ＝６．０ｍｇ／Ｌ）を処理したときの、上記各過酸
化水素注入率における、注入オゾン濃度による処理水の
ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。図から明らかなよ
うに、過酸化水素注入率に関係なく、注入オゾン濃度が
１００ｍｇ／Ｌ以上でΔＴＯＣはほぼ一定値をとる。
【００２２】図６は図５と同条件での注入オゾン濃度に
よる処理水のΔＯ3／ΔＴＯＣの変化を示す特性図であ
る。図から明らかなように、過酸化水素注入率に関係な
く、注入オゾン濃度が１００ｍｇ／Ｌ以上でΔＯ3／Δ
ＴＯＣはほぼ一定値をとる。
よる処理水のΔＯ3／ΔＴＯＣの変化を示す特性図であ
る。図から明らかなように、過酸化水素注入率に関係な
く、注入オゾン濃度が１００ｍｇ／Ｌ以上でΔＯ3／Δ
ＴＯＣはほぼ一定値をとる。
【００２３】図７は図１に示す水処理装置を用い、オゾ
ン注入率が３０ｍｇ／Ｌ、過酸化水素注入率が２０ｍｇ
／Ｌで、オゾンガス注入点へのオゾンガスの注入間隔を
２、４、８、１０または２０秒と変化させて被処理水
（ＴＯＣ＝６．０ｍｇ／Ｌ）を処理したときの、上記各
オゾンガスの注入間隔における、注入オゾン濃度による
処理水のΔＴＯＣの変化を示す特性図である。図から明
らかなように、オゾンガス注入点へのオゾンガスの注入
間隔に関係なく、注入オゾン濃度が１００ｍｇ／Ｌ以上
でΔＴＯＣはほぼ一定値をとる。
ン注入率が３０ｍｇ／Ｌ、過酸化水素注入率が２０ｍｇ
／Ｌで、オゾンガス注入点へのオゾンガスの注入間隔を
２、４、８、１０または２０秒と変化させて被処理水
（ＴＯＣ＝６．０ｍｇ／Ｌ）を処理したときの、上記各
オゾンガスの注入間隔における、注入オゾン濃度による
処理水のΔＴＯＣの変化を示す特性図である。図から明
らかなように、オゾンガス注入点へのオゾンガスの注入
間隔に関係なく、注入オゾン濃度が１００ｍｇ／Ｌ以上
でΔＴＯＣはほぼ一定値をとる。
【００２４】図８は図７と同条件での、注入オゾン濃度
によるΔＯ3／ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。図
から明らかなように、オゾンガス注入点へのオゾンガス
の注入間隔に関係なく、注入オゾン濃度が１００ｍｇ／
Ｌ以上でΔＯ3／ΔＴＯＣはほぼ一定値をとる。
によるΔＯ3／ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。図
から明らかなように、オゾンガス注入点へのオゾンガス
の注入間隔に関係なく、注入オゾン濃度が１００ｍｇ／
Ｌ以上でΔＯ3／ΔＴＯＣはほぼ一定値をとる。
【００２５】図９は図１に示す水処理装置を用い、オゾ
ン注入率が３０ｍｇ／Ｌ、過酸化水素注入率が２０ｍｇ
／Ｌで、オゾンガス注入点におけるオゾンの被処理流体
へのＫLａ（総括オゾン移動容量係数）を２０００、４
０００、１００００または２００００（１／ｈ）と変化
させて被処理水（ＴＯＣ＝６．０ｍｇ／Ｌ）を処理した
ときの、上記各ＫLａにおける、注入オゾン濃度による
処理水のΔＴＯＣの変化を示す特性図である。図から明
らかなように、被処理流体へのＫLａに関係なく、注入
オゾン濃度が１００ｍｇ／Ｌ以上でΔＴＯＣはほぼ一定
値をとる。
ン注入率が３０ｍｇ／Ｌ、過酸化水素注入率が２０ｍｇ
／Ｌで、オゾンガス注入点におけるオゾンの被処理流体
へのＫLａ（総括オゾン移動容量係数）を２０００、４
０００、１００００または２００００（１／ｈ）と変化
させて被処理水（ＴＯＣ＝６．０ｍｇ／Ｌ）を処理した
ときの、上記各ＫLａにおける、注入オゾン濃度による
処理水のΔＴＯＣの変化を示す特性図である。図から明
らかなように、被処理流体へのＫLａに関係なく、注入
オゾン濃度が１００ｍｇ／Ｌ以上でΔＴＯＣはほぼ一定
値をとる。
【００２６】図１０は図９と同条件での、注入オゾン濃
度によるΔＯ3／ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。
図から明らかなように、オゾンの被処理流体へのＫLａ
に関係なく、注入オゾン濃度が１００ｍｇ／Ｌ以上でΔ
Ｏ3／ΔＴＯＣはほぼ一定値をとる。
度によるΔＯ3／ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。
図から明らかなように、オゾンの被処理流体へのＫLａ
に関係なく、注入オゾン濃度が１００ｍｇ／Ｌ以上でΔ
Ｏ3／ΔＴＯＣはほぼ一定値をとる。
【００２７】図１１は図１に示す水処理装置を用い、オ
ゾン注入率が３０ｍｇ／Ｌ、過酸化水素注入率が２０ｍ
ｇ／Ｌで、被処理水のｐＨを６、７、８または９と変化
させて被処理水（ＴＯＣ＝６．０ｍｇ／Ｌ）を処理した
ときの、上記各ｐＨにおける、注入オゾン濃度による処
理水のΔＴＯＣの変化を示す特性図である。図から明ら
かなように、被処理水のｐＨに関係なく、注入オゾン濃
度が１００ｍｇ／Ｌ以上でΔＴＯＣはほぼ一定値をと
る。
ゾン注入率が３０ｍｇ／Ｌ、過酸化水素注入率が２０ｍ
ｇ／Ｌで、被処理水のｐＨを６、７、８または９と変化
させて被処理水（ＴＯＣ＝６．０ｍｇ／Ｌ）を処理した
ときの、上記各ｐＨにおける、注入オゾン濃度による処
理水のΔＴＯＣの変化を示す特性図である。図から明ら
かなように、被処理水のｐＨに関係なく、注入オゾン濃
度が１００ｍｇ／Ｌ以上でΔＴＯＣはほぼ一定値をと
る。
【００２８】図１２は図１１と同条件での、注入オゾン
濃度によるΔＯ3／ΔＴＯＣの変化を示す特性図であ
る。図から明らかなように、被処理水のｐＨに関係な
く、注入オゾン濃度が１００ｍｇ／Ｌ以上でΔＯ3／Δ
ＴＯＣはほぼ一定値をとる。
濃度によるΔＯ3／ΔＴＯＣの変化を示す特性図であ
る。図から明らかなように、被処理水のｐＨに関係な
く、注入オゾン濃度が１００ｍｇ／Ｌ以上でΔＯ3／Δ
ＴＯＣはほぼ一定値をとる。
【００２９】図１３は図１に示す水処理装置を用い、オ
ゾン注入率が３０ｍｇ／Ｌ、過酸化水素注入率が２０ｍ
ｇ／Ｌで、被処理水のＴＯＣ濃度を３、６、１０、１５
または２０ｍｇ／Ｌと変化させて被処理水を処理したと
きの、上記各ＴＯＣ濃度における、注入オゾン濃度によ
る処理水のΔＴＯＣの変化を示す特性図である。図から
明らかなように、被処理水のＴＯＣ濃度に関係なく、注
入オゾン濃度が１００ｍｇ／Ｌ以上でΔＴＯＣはほぼ一
定値をとる。
ゾン注入率が３０ｍｇ／Ｌ、過酸化水素注入率が２０ｍ
ｇ／Ｌで、被処理水のＴＯＣ濃度を３、６、１０、１５
または２０ｍｇ／Ｌと変化させて被処理水を処理したと
きの、上記各ＴＯＣ濃度における、注入オゾン濃度によ
る処理水のΔＴＯＣの変化を示す特性図である。図から
明らかなように、被処理水のＴＯＣ濃度に関係なく、注
入オゾン濃度が１００ｍｇ／Ｌ以上でΔＴＯＣはほぼ一
定値をとる。
【００３０】図１４は図１３と同条件での、注入オゾン
濃度によるΔＯ3／ΔＴＯＣの変化を示す特性図であ
る。図から明らかなように、被処理水のＴＯＣ濃度に関
係なく、注入オゾン濃度が１００ｍｇ／Ｌ以上でΔＯ3
／ΔＴＯＣはほぼ一定値をとる。
濃度によるΔＯ3／ΔＴＯＣの変化を示す特性図であ
る。図から明らかなように、被処理水のＴＯＣ濃度に関
係なく、注入オゾン濃度が１００ｍｇ／Ｌ以上でΔＯ3
／ΔＴＯＣはほぼ一定値をとる。
【００３１】上記のように、各パラメータを実用的な範
囲で変化させたことにより発明者らは次のような考察を
導いた。すなわち、今回のシミュレーション条件におい
て、オゾン注入率、過酸化水素注入率、ＫLａ、被処理
水の水質（ｐＨ、ＴＯＣ濃度）およびオゾンガスの注入
間隔に関係なく、すなわち現実的かつ実用的な条件のも
とで注入オゾン濃度を３０〜３００ｍｇ／Ｌとすること
により効率的な過酸化水素添加オゾン処理を行うことが
できる。注入オゾン濃度が３０ｍｇ／Ｌ未満ではΔＴＯ
Ｃが低くなり実用的でなく、３００ｍｇ／Ｌを越えると
オゾン製造装置が大規模になり、消費電力が非常に大き
くなる。また、オゾンを被処理流体に混合させにくくな
る。すなわち、あらかじめ過酸化水素を添加した被処理
流体に濃度３０〜３００ｍｇ／Ｌのオゾンガスを注入す
ることにより、単位有機性炭素量を分解除去するために
必要なオゾン量が低減されかつ分解除去効率が良好とな
る高度処理を行うことができる。
囲で変化させたことにより発明者らは次のような考察を
導いた。すなわち、今回のシミュレーション条件におい
て、オゾン注入率、過酸化水素注入率、ＫLａ、被処理
水の水質（ｐＨ、ＴＯＣ濃度）およびオゾンガスの注入
間隔に関係なく、すなわち現実的かつ実用的な条件のも
とで注入オゾン濃度を３０〜３００ｍｇ／Ｌとすること
により効率的な過酸化水素添加オゾン処理を行うことが
できる。注入オゾン濃度が３０ｍｇ／Ｌ未満ではΔＴＯ
Ｃが低くなり実用的でなく、３００ｍｇ／Ｌを越えると
オゾン製造装置が大規模になり、消費電力が非常に大き
くなる。また、オゾンを被処理流体に混合させにくくな
る。すなわち、あらかじめ過酸化水素を添加した被処理
流体に濃度３０〜３００ｍｇ／Ｌのオゾンガスを注入す
ることにより、単位有機性炭素量を分解除去するために
必要なオゾン量が低減されかつ分解除去効率が良好とな
る高度処理を行うことができる。
【００３２】実施の形態２．図１５および図１６は各々
図１に示す水処理装置を用い、過酸化水素注入率が２０
ｍｇ／Ｌで、注入オゾン濃度を３０、６０、１００、２
００または３００ｍｇ／Ｌと変化させて被処理水（ＴＯ
Ｃ＝６．０ｍｇ／Ｌ）を処理したときの、上記各注入オ
ゾン濃度における、オゾン注入率によるΔＴＯＣおよび
ΔＯ3／ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。図から明
らかなように、オゾン注入率が１５０ｍｇ／Ｌ以上はΔ
ＴＯＣの上昇は緩やかになり、またΔＯ3／ΔＴＯＣは
オゾン注入率が大きくなるにつれて増大し、効率が低下
する。
図１に示す水処理装置を用い、過酸化水素注入率が２０
ｍｇ／Ｌで、注入オゾン濃度を３０、６０、１００、２
００または３００ｍｇ／Ｌと変化させて被処理水（ＴＯ
Ｃ＝６．０ｍｇ／Ｌ）を処理したときの、上記各注入オ
ゾン濃度における、オゾン注入率によるΔＴＯＣおよび
ΔＯ3／ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。図から明
らかなように、オゾン注入率が１５０ｍｇ／Ｌ以上はΔ
ＴＯＣの上昇は緩やかになり、またΔＯ3／ΔＴＯＣは
オゾン注入率が大きくなるにつれて増大し、効率が低下
する。
【００３３】さらに、上記のように注入オゾン濃度をパ
ラメータとする代わりに、実施の形態１と同様にして、
過酸化水素注入率、オゾンガスの注入間隔、ＫLａ、被
処理水の水質（ｐＨ、ＴＯＣ濃度）をパラメータとして
相当する図を得たところ、図１５または図１６と同様オ
ゾン注入率が１５０ｍｇ／Ｌ以上はΔＴＯＣの上昇は緩
やかになった。以上のことから、各パラメータを実用的
な範囲で変化させた今回のシミュレーション条件におい
て、注入オゾン濃度、過酸化水素注入率、オゾンガスの
注入間隔、ＫLａ、被処理水の水質（ｐＨ、ＴＯＣ濃
度）に関係なく、すなわち現実的かつ実用的な条件のも
とでオゾン注入率を１０〜１５０ｍｇ／Ｌの範囲で設定
することにより効率よく排水を処理することができる。
オゾン注入率が１０ｍｇ／Ｌ未満ではΔＴＯＣが低くな
り実用的でなく、１５０ｍｇ／Ｌを越えるとオゾン発生
装置の規模が大きくなりまた消費電力も非常に大きくな
るため現実的ではない。
ラメータとする代わりに、実施の形態１と同様にして、
過酸化水素注入率、オゾンガスの注入間隔、ＫLａ、被
処理水の水質（ｐＨ、ＴＯＣ濃度）をパラメータとして
相当する図を得たところ、図１５または図１６と同様オ
ゾン注入率が１５０ｍｇ／Ｌ以上はΔＴＯＣの上昇は緩
やかになった。以上のことから、各パラメータを実用的
な範囲で変化させた今回のシミュレーション条件におい
て、注入オゾン濃度、過酸化水素注入率、オゾンガスの
注入間隔、ＫLａ、被処理水の水質（ｐＨ、ＴＯＣ濃
度）に関係なく、すなわち現実的かつ実用的な条件のも
とでオゾン注入率を１０〜１５０ｍｇ／Ｌの範囲で設定
することにより効率よく排水を処理することができる。
オゾン注入率が１０ｍｇ／Ｌ未満ではΔＴＯＣが低くな
り実用的でなく、１５０ｍｇ／Ｌを越えるとオゾン発生
装置の規模が大きくなりまた消費電力も非常に大きくな
るため現実的ではない。
【００３４】実施の形態３．注入オゾン濃度、オゾン注
入率、オゾンガスと被処理流体の流量比（オゾンガスの
流量／被処理流体の流量）には （流量比）＝（オゾン注入率）／（注入オゾン濃度） の関係があり、オゾン注入率を注入オゾン濃度で除する
ことにより流量比が決定される。実際にオゾンガスを注
入する操作を行う場合、注入オゾン濃度とオゾン注入率
からよりも、注入オゾン濃度と流量比とから運転条件を
決めるほうが現実的である。すなわち上述した注入オゾ
ン濃度およびオゾン注入率の範囲ではオゾンガスと被処
理流体の流量比は０．１〜１．０となり、流量比をこの
範囲に設定することにより効率よく排水を処理すること
ができる。
入率、オゾンガスと被処理流体の流量比（オゾンガスの
流量／被処理流体の流量）には （流量比）＝（オゾン注入率）／（注入オゾン濃度） の関係があり、オゾン注入率を注入オゾン濃度で除する
ことにより流量比が決定される。実際にオゾンガスを注
入する操作を行う場合、注入オゾン濃度とオゾン注入率
からよりも、注入オゾン濃度と流量比とから運転条件を
決めるほうが現実的である。すなわち上述した注入オゾ
ン濃度およびオゾン注入率の範囲ではオゾンガスと被処
理流体の流量比は０．１〜１．０となり、流量比をこの
範囲に設定することにより効率よく排水を処理すること
ができる。
【００３５】実施の形態４．図１７および図１８は各々
図１に示す水処理装置を用い、オゾン注入率が３０ｍｇ
／Ｌで、注入オゾン濃度を３０、６０、１００、２００
または３００ｍｇ／Ｌと変化させて被処理水（ＴＯＣ＝
６．０ｍｇ／Ｌ）を処理したときの、上記各注入オゾン
濃度における、過酸化水素注入率による処理水のΔＴＯ
ＣおよびΔＯ3／ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。
図から明らかなように、過酸化水素注入率を４０ｍｇ／
Ｌ以上としてもΔＴＯＣおよびΔＯ3／ΔＴＯＣはほぼ
一定値をとった。
図１に示す水処理装置を用い、オゾン注入率が３０ｍｇ
／Ｌで、注入オゾン濃度を３０、６０、１００、２００
または３００ｍｇ／Ｌと変化させて被処理水（ＴＯＣ＝
６．０ｍｇ／Ｌ）を処理したときの、上記各注入オゾン
濃度における、過酸化水素注入率による処理水のΔＴＯ
ＣおよびΔＯ3／ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。
図から明らかなように、過酸化水素注入率を４０ｍｇ／
Ｌ以上としてもΔＴＯＣおよびΔＯ3／ΔＴＯＣはほぼ
一定値をとった。
【００３６】さらに、上記のように注入オゾン濃度をパ
ラメータとする代わりに、実施の形態１と同様にして、
オゾン注入率、オゾンガスの注入間隔、ＫLａ、被処理
水の水質（ｐＨ、ＴＯＣ濃度）をパラメータとして相当
する図を得たところ、図１７または図１８と同様過酸化
水素注入率を４０ｍｇ／Ｌ以上としてもΔＴＯＣおよび
ΔＯ3／ΔＴＯＣはほぼ一定値をとった。以上のことか
ら、各パラメータを実用的な範囲で変化させた今回のシ
ミュレーション条件において、オゾン注入率、注入オゾ
ン濃度、オゾンガスの注入間隔、ＫLａおよび被処理水
の水質（ｐＨ、ＴＯＣ濃度）に関係なく、すなわち現実
的かつ実用的な条件のもとで過酸化水素を無駄なく使う
ためには注入率を１〜５０ｍｇ／Ｌの範囲とすることに
より効率よく排水を処理することができる。注入率が１
ｍｇ／Ｌ未満ではΔＴＯＣが低くなり実用的でなく、５
０ｍｇ／Ｌを越えると過酸化水素の注入量が増えてコス
トがかかり、また処理後の水に多量の過酸化水素が残存
するため好ましくない。
ラメータとする代わりに、実施の形態１と同様にして、
オゾン注入率、オゾンガスの注入間隔、ＫLａ、被処理
水の水質（ｐＨ、ＴＯＣ濃度）をパラメータとして相当
する図を得たところ、図１７または図１８と同様過酸化
水素注入率を４０ｍｇ／Ｌ以上としてもΔＴＯＣおよび
ΔＯ3／ΔＴＯＣはほぼ一定値をとった。以上のことか
ら、各パラメータを実用的な範囲で変化させた今回のシ
ミュレーション条件において、オゾン注入率、注入オゾ
ン濃度、オゾンガスの注入間隔、ＫLａおよび被処理水
の水質（ｐＨ、ＴＯＣ濃度）に関係なく、すなわち現実
的かつ実用的な条件のもとで過酸化水素を無駄なく使う
ためには注入率を１〜５０ｍｇ／Ｌの範囲とすることに
より効率よく排水を処理することができる。注入率が１
ｍｇ／Ｌ未満ではΔＴＯＣが低くなり実用的でなく、５
０ｍｇ／Ｌを越えると過酸化水素の注入量が増えてコス
トがかかり、また処理後の水に多量の過酸化水素が残存
するため好ましくない。
【００３７】実施の形態５．図１９および図２０は各々
図１に示す水処理装置を用い、オゾン注入率が３０ｍｇ
／Ｌ、過酸化水素注入率２０ｍｇ／Ｌで、注入オゾン濃
度を３０、６０、１００、２００または３００ｍｇ／Ｌ
と変化させて被処理水（ＴＯＣ＝６．０ｍｇ／Ｌ）を処
理したときの、上記各注入オゾン濃度における、オゾン
ガスの注入間隔による処理水のΔＴＯＣおよびΔＯ3／
ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。図から明らかなよ
うに、オゾンガスの注入間隔を２０秒以上としてもΔＴ
ＯＣおよびΔＯ3／ΔＴＯＣはほぼ一定値をとる。
図１に示す水処理装置を用い、オゾン注入率が３０ｍｇ
／Ｌ、過酸化水素注入率２０ｍｇ／Ｌで、注入オゾン濃
度を３０、６０、１００、２００または３００ｍｇ／Ｌ
と変化させて被処理水（ＴＯＣ＝６．０ｍｇ／Ｌ）を処
理したときの、上記各注入オゾン濃度における、オゾン
ガスの注入間隔による処理水のΔＴＯＣおよびΔＯ3／
ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。図から明らかなよ
うに、オゾンガスの注入間隔を２０秒以上としてもΔＴ
ＯＣおよびΔＯ3／ΔＴＯＣはほぼ一定値をとる。
【００３８】さらに、上記のように注入オゾン濃度をパ
ラメータとする代わりに、実施の形態１と同様にして、
オゾン注入率、過酸化水素注入率、ＫLａ、被処理水の
水質（ｐＨ、ＴＯＣ濃度）をパラメータとして相当する
図を得たところ、図１９または図２０と同様オゾンガス
の注入間隔を２０秒以上としてもΔＴＯＣおよびΔＯ3
／ΔＴＯＣはほぼ一定値をとった。以上のことから、各
パラメータを実用的な範囲で変化させた今回のシミュレ
ーション条件において、オゾン注入率、注入オゾン濃
度、過酸化水素注入率、ＫLａおよび被処理水の水質
（ｐＨ、ＴＯＣ濃度）に関係なく、すなわち現実的かつ
実用的な条件のもとでオゾンガスの注入間隔を５〜４０
秒とすることにより効率よく排水を処理することができ
る。オゾンガスの注入間隔が５秒未満では反応が不十分
であり、４０秒を越えると装置の小型化が困難である。
ラメータとする代わりに、実施の形態１と同様にして、
オゾン注入率、過酸化水素注入率、ＫLａ、被処理水の
水質（ｐＨ、ＴＯＣ濃度）をパラメータとして相当する
図を得たところ、図１９または図２０と同様オゾンガス
の注入間隔を２０秒以上としてもΔＴＯＣおよびΔＯ3
／ΔＴＯＣはほぼ一定値をとった。以上のことから、各
パラメータを実用的な範囲で変化させた今回のシミュレ
ーション条件において、オゾン注入率、注入オゾン濃
度、過酸化水素注入率、ＫLａおよび被処理水の水質
（ｐＨ、ＴＯＣ濃度）に関係なく、すなわち現実的かつ
実用的な条件のもとでオゾンガスの注入間隔を５〜４０
秒とすることにより効率よく排水を処理することができ
る。オゾンガスの注入間隔が５秒未満では反応が不十分
であり、４０秒を越えると装置の小型化が困難である。
【００３９】実施の形態６．図２１および図２２は各々
図１に示す水処理装置を用い、オゾン注入率が３０ｍｇ
／Ｌ、過酸化水素注入率２０ｍｇ／Ｌで、注入オゾン濃
度を３０、６０、１００、２００または３００ｍｇ／Ｌ
と変化させて被処理水（ＴＯＣ＝６．０ｍｇ／Ｌ）を処
理したときの、上記各注入オゾン濃度における、オゾン
ガス注入点でのＫLａによる処理水のΔＴＯＣおよびΔ
Ｏ3／ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。 図から明
らかなように、オゾンガス注入点におけるＫLａを１０
０００（１／ｈ）以上としてもΔＴＯＣおよびΔＯ3／
ΔＴＯＣはほぼ一定値をとる。
図１に示す水処理装置を用い、オゾン注入率が３０ｍｇ
／Ｌ、過酸化水素注入率２０ｍｇ／Ｌで、注入オゾン濃
度を３０、６０、１００、２００または３００ｍｇ／Ｌ
と変化させて被処理水（ＴＯＣ＝６．０ｍｇ／Ｌ）を処
理したときの、上記各注入オゾン濃度における、オゾン
ガス注入点でのＫLａによる処理水のΔＴＯＣおよびΔ
Ｏ3／ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。 図から明
らかなように、オゾンガス注入点におけるＫLａを１０
０００（１／ｈ）以上としてもΔＴＯＣおよびΔＯ3／
ΔＴＯＣはほぼ一定値をとる。
【００４０】さらに、上記のように注入オゾン濃度をパ
ラメータとする代わりに、実施の形態１と同様にして、
オゾン注入率、オゾンガスの注入間隔、過酸化水素注入
率、被処理水の水質（ｐＨ、ＴＯＣ濃度）をパラメータ
として相当する図を得たところ、図２１または図２２と
同様オゾンガス注入点におけるＫLａを１００００（１
／ｈ）以上としてもΔＴＯＣおよびΔＯ3／ΔＴＯＣは
ほぼ一定値をとった。以上のことから、各パラメータを
実用的な範囲で変化させた今回のシミュレーション条件
において、オゾン注入率、注入オゾン濃度、過酸化水素
注入率、オゾンガスの注入間隔および被処理水の水質
（ｐＨ、ＴＯＣ濃度）に関係なく、すなわち現実的かつ
実用的な条件のもとでオゾンガス注入点におけるＫLａ
を１００〜１００００（１／ｈ）の範囲とすることによ
り効率よく排水を処理することができる。ＫLａが１０
０未満ではオゾンの被処理水への溶解が不十分であり、
１００００を越えても処理効率は向上しないため好まし
くない。
ラメータとする代わりに、実施の形態１と同様にして、
オゾン注入率、オゾンガスの注入間隔、過酸化水素注入
率、被処理水の水質（ｐＨ、ＴＯＣ濃度）をパラメータ
として相当する図を得たところ、図２１または図２２と
同様オゾンガス注入点におけるＫLａを１００００（１
／ｈ）以上としてもΔＴＯＣおよびΔＯ3／ΔＴＯＣは
ほぼ一定値をとった。以上のことから、各パラメータを
実用的な範囲で変化させた今回のシミュレーション条件
において、オゾン注入率、注入オゾン濃度、過酸化水素
注入率、オゾンガスの注入間隔および被処理水の水質
（ｐＨ、ＴＯＣ濃度）に関係なく、すなわち現実的かつ
実用的な条件のもとでオゾンガス注入点におけるＫLａ
を１００〜１００００（１／ｈ）の範囲とすることによ
り効率よく排水を処理することができる。ＫLａが１０
０未満ではオゾンの被処理水への溶解が不十分であり、
１００００を越えても処理効率は向上しないため好まし
くない。
【００４１】
【発明の効果】本発明の第１のオゾン混合処理法は、被
処理流体に過酸化水素とオゾンとを添加、混合して被処
理流体の有機物を分解処理するオゾン混合処理法におい
て、上記オゾン濃度が３０〜３００ｍｇ／Ｌの方法であ
り、分解除去効率が良好で、経済的で実用的であるとい
う効果がある。
処理流体に過酸化水素とオゾンとを添加、混合して被処
理流体の有機物を分解処理するオゾン混合処理法におい
て、上記オゾン濃度が３０〜３００ｍｇ／Ｌの方法であ
り、分解除去効率が良好で、経済的で実用的であるとい
う効果がある。
【００４２】本発明の第２のオゾン混合処理法は、被処
理流体に過酸化水素とオゾンとを添加、混合して被処理
流体の有機物を分解処理するオゾン混合処理法におい
て、上記オゾン注入率が１０〜１５０ｍｇ／Ｌの方法で
あり、分解除去効率が良好で、経済的で実用的であると
いう効果がある。
理流体に過酸化水素とオゾンとを添加、混合して被処理
流体の有機物を分解処理するオゾン混合処理法におい
て、上記オゾン注入率が１０〜１５０ｍｇ／Ｌの方法で
あり、分解除去効率が良好で、経済的で実用的であると
いう効果がある。
【００４３】本発明の第３のオゾン混合処理法は、被処
理流体に過酸化水素とオゾンとを添加、混合して被処理
流体の有機物を分解処理するオゾン混合処理法におい
て、上記オゾンガスと上記被処理流体の流量比（オゾン
ガスの流量／被処理流体の流量）が０．１〜１．０の方
法であり、分解除去効率が良好で、経済的で実用的であ
るという効果がある。
理流体に過酸化水素とオゾンとを添加、混合して被処理
流体の有機物を分解処理するオゾン混合処理法におい
て、上記オゾンガスと上記被処理流体の流量比（オゾン
ガスの流量／被処理流体の流量）が０．１〜１．０の方
法であり、分解除去効率が良好で、経済的で実用的であ
るという効果がある。
【００４４】本発明の第４のオゾン混合処理法は、被処
理流体に過酸化水素とオゾンとを添加、混合して被処理
流体の有機物を分解処理するオゾン混合処理法におい
て、上記過酸化水素注入率が１〜５０ｍｇ／Ｌの方法で
あり、分解除去効率が良好で、経済的で実用的であると
いう効果がある。
理流体に過酸化水素とオゾンとを添加、混合して被処理
流体の有機物を分解処理するオゾン混合処理法におい
て、上記過酸化水素注入率が１〜５０ｍｇ／Ｌの方法で
あり、分解除去効率が良好で、経済的で実用的であると
いう効果がある。
【００４５】本発明の第５のオゾン混合処理法は、被処
理流体に過酸化水素とオゾンとを添加、混合して被処理
流体の有機物を分解処理するオゾン混合処理法におい
て、上記オゾンガスの注入間隔が５〜４０秒の方法であ
り、分解除去効率が良好で、経済的で実用的であるとい
う効果がある。
理流体に過酸化水素とオゾンとを添加、混合して被処理
流体の有機物を分解処理するオゾン混合処理法におい
て、上記オゾンガスの注入間隔が５〜４０秒の方法であ
り、分解除去効率が良好で、経済的で実用的であるとい
う効果がある。
【００４６】本発明の第６のオゾン混合処理法は、被処
理流体に過酸化水素とオゾンとを添加、混合して被処理
流体の有機物を分解処理するオゾン混合処理法におい
て、上記オゾンの上記被処理流体への総括オゾン移動係
数（ＫLａ）が１００〜１００００（１／ｈｒ）の方法
であり、分解除去効率が良好で、経済的で実用的である
という効果がある。
理流体に過酸化水素とオゾンとを添加、混合して被処理
流体の有機物を分解処理するオゾン混合処理法におい
て、上記オゾンの上記被処理流体への総括オゾン移動係
数（ＫLａ）が１００〜１００００（１／ｈｒ）の方法
であり、分解除去効率が良好で、経済的で実用的である
という効果がある。
【００４７】本発明の第７のオゾン混合処理法は、上記
第１ないし第６のいずれかのオゾン混合処理法におい
て、オゾンを二カ所以上で添加する方法であり、さらに
分解除去効率が良好で、経済的で実用的であるという効
果がある。
第１ないし第６のいずれかのオゾン混合処理法におい
て、オゾンを二カ所以上で添加する方法であり、さらに
分解除去効率が良好で、経済的で実用的であるという効
果がある。
【００４８】本発明の第１のオゾン混合処理装置は、上
記第１ないし第７のいずれかのオゾン混合処理法を用
い、被処理流体の有機物を分解処理するもので、分解除
去効率が良好で、経済的で実用的であるという効果があ
る。
記第１ないし第７のいずれかのオゾン混合処理法を用
い、被処理流体の有機物を分解処理するもので、分解除
去効率が良好で、経済的で実用的であるという効果があ
る。
【図１】 本発明のオゾン混合処理法のシミュレーショ
ンに用いた水処理装置の構成を示す説明図である。
ンに用いた水処理装置の構成を示す説明図である。
【図２】 本発明のオゾン混合処理法のシミュレーショ
ンに用いた反応機構とそれに基づく反応式を示す説明図
である。
ンに用いた反応機構とそれに基づく反応式を示す説明図
である。
【図３】 本発明を説明するための各オゾン注入率にお
ける、注入オゾン濃度による処理水のΔＴＯＣの変化を
示す特性図である。
ける、注入オゾン濃度による処理水のΔＴＯＣの変化を
示す特性図である。
【図４】 本発明を説明するための各オゾン注入率にお
ける、注入オゾン濃度による処理水のΔＯ3／ΔＴＯＣ
の変化を示す特性図である。
ける、注入オゾン濃度による処理水のΔＯ3／ΔＴＯＣ
の変化を示す特性図である。
【図５】 本発明を説明するための各過酸化水素注入率
における、注入オゾン濃度による処理水のΔＴＯＣの変
化を示す特性図である。
における、注入オゾン濃度による処理水のΔＴＯＣの変
化を示す特性図である。
【図６】 本発明を説明するための各過酸化水素注入率
における、注入オゾン濃度による処理水のΔＯ3／ΔＴ
ＯＣの変化を示す特性図である。
における、注入オゾン濃度による処理水のΔＯ3／ΔＴ
ＯＣの変化を示す特性図である。
【図７】 本発明を説明するための各オゾンガスの注入
間隔における、注入オゾン濃度による処理水のΔＴＯＣ
の変化を示す特性図である。
間隔における、注入オゾン濃度による処理水のΔＴＯＣ
の変化を示す特性図である。
【図８】 本発明を説明するための各オゾンガスの注入
間隔における、注入オゾン濃度による処理水のΔＯ3／
ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。
間隔における、注入オゾン濃度による処理水のΔＯ3／
ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。
【図９】 本発明を説明するための各オゾンガス注入点
におけるＫLａにおける、注入オゾン濃度による処理水
のΔＴＯＣの変化を示す特性図である。
におけるＫLａにおける、注入オゾン濃度による処理水
のΔＴＯＣの変化を示す特性図である。
【図１０】 本発明を説明するための各オゾンガス注入
点におけるＫLａにおける、注入オゾン濃度による処理
水のΔＯ3／ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。
点におけるＫLａにおける、注入オゾン濃度による処理
水のΔＯ3／ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。
【図１１】 本発明を説明するための各被処理水のｐＨ
における、注入オゾン濃度による処理水のΔＴＯＣの変
化を示す特性図である。
における、注入オゾン濃度による処理水のΔＴＯＣの変
化を示す特性図である。
【図１２】 本発明を説明するための各被処理水のｐＨ
における、注入オゾン濃度による処理水のΔＯ3／ΔＴ
ＯＣの変化を示す特性図である。
における、注入オゾン濃度による処理水のΔＯ3／ΔＴ
ＯＣの変化を示す特性図である。
【図１３】 本発明を説明するための各被処理水のＴＯ
Ｃ濃度における、注入オゾン濃度による処理水のΔＴＯ
Ｃの変化を示す特性図である。
Ｃ濃度における、注入オゾン濃度による処理水のΔＴＯ
Ｃの変化を示す特性図である。
【図１４】 本発明を説明するための各被処理水のＴＯ
Ｃ濃度における、注入オゾン濃度による処理水のΔＯ3
／ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。
Ｃ濃度における、注入オゾン濃度による処理水のΔＯ3
／ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。
【図１５】 本発明を説明するための各注入オゾン濃度
における、オゾン注入率による処理水のΔＴＯＣの変化
を示す特性図である。
における、オゾン注入率による処理水のΔＴＯＣの変化
を示す特性図である。
【図１６】 本発明を説明するための各注入オゾン濃度
における、オゾン注入率による処理水のΔＯ3／ΔＴＯ
Ｃの変化を示す特性図である。
における、オゾン注入率による処理水のΔＯ3／ΔＴＯ
Ｃの変化を示す特性図である。
【図１７】 本発明を説明するための各注入オゾン濃度
における、過酸化水素注入率による処理水のΔＴＯＣの
変化を示す特性図である。
における、過酸化水素注入率による処理水のΔＴＯＣの
変化を示す特性図である。
【図１８】 本発明を説明するための各注入オゾン濃度
における、過酸化水素注入率による処理水のΔＯ3／Δ
ＴＯＣの変化を示す特性図である。
における、過酸化水素注入率による処理水のΔＯ3／Δ
ＴＯＣの変化を示す特性図である。
【図１９】 本発明を説明するための各注入オゾン濃度
における、オゾンガスの注入間隔による処理水のΔＴＯ
Ｃの変化を示す特性図である。
における、オゾンガスの注入間隔による処理水のΔＴＯ
Ｃの変化を示す特性図である。
【図２０】 本発明を説明するための各注入オゾン濃度
における、オゾンガスの注入間隔による処理水のΔＯ3
／ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。
における、オゾンガスの注入間隔による処理水のΔＯ3
／ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。
【図２１】 本発明を説明するための各注入オゾン濃度
における、オゾンガス注入点でのＫLａによる処理水の
ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。
における、オゾンガス注入点でのＫLａによる処理水の
ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。
【図２２】 本発明を説明するための各注入オゾン濃度
における、オゾンガス注入点でのＫLａによる処理水の
ΔＯ3／ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。
における、オゾンガス注入点でのＫLａによる処理水の
ΔＯ3／ΔＴＯＣの変化を示す特性図である。
ａ 被処理水の流れ方向、ｂ 過酸化水素の注入方向、
ｃ オゾンガスの注入方向、１〜８ オゾンガス注入
点、９ オゾン発生装置、１０ 過酸化水素貯留槽。
ｃ オゾンガスの注入方向、１〜８ オゾンガス注入
点、９ オゾン発生装置、１０ 過酸化水素貯留槽。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河相 好孝 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 中山 繁樹 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内
Claims (8)
- 【請求項１】 被処理流体に過酸化水素とオゾンとを添
加、混合して被処理流体の有機物を分解処理するオゾン
混合処理法において、上記オゾン濃度が３０〜３００ｍ
ｇ／Ｌであることを特徴とするオゾン混合処理法。 - 【請求項２】 被処理流体に過酸化水素とオゾンとを添
加、混合して被処理流体の有機物を分解処理するオゾン
混合処理法において、上記オゾン注入率が１０〜１５０
ｍｇ／Ｌであることを特徴とするオゾン混合処理法。 - 【請求項３】 被処理流体に過酸化水素とオゾンとを添
加、混合して被処理流体の有機物を分解処理するオゾン
混合処理法において、上記オゾンガスと上記被処理流体
の流量比（オゾンガスの流量／被処理流体の流量）が
０．１〜１．０であることを特徴とする高度処理法。 - 【請求項４】 被処理流体に過酸化水素とオゾンとを添
加、混合して被処理流体の有機物を分解処理するオゾン
混合処理法において、上記過酸化水素注入率が１〜５０
ｍｇ／Ｌであることを特徴とするオゾン混合処理法。 - 【請求項５】 被処理流体に過酸化水素とオゾンとを添
加、混合して被処理流体の有機物を分解処理するオゾン
混合処理法において、上記オゾンガスの注入間隔が５〜
４０秒であることを特徴とするオゾン混合処理法。 - 【請求項６】 被処理流体に過酸化水素とオゾンとを添
加、混合して被処理流体の有機物を分解処理するオゾン
混合処理法において、上記オゾンの上記被処理流体への
総括オゾン移動係数（ＫLａ）が１００〜１００００
（１／ｈｒ）であることを特徴とするオゾン混合処理
法。 - 【請求項７】 オゾンを二カ所以上で添加することを特
徴とする請求項１ないし請求項６のいずれかに記載のオ
ゾン混合処理法。 - 【請求項８】 請求項１ないし請求項７のいずれかに記
載のオゾン混合処理法を用い、被処理流体の有機物を分
解処理するオゾン混合処理装置。
Priority Applications (3)
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|---|---|---|---|
| JP10149608A JPH11333476A (ja) | 1998-05-29 | 1998-05-29 | オゾン混合処理法およびオゾン混合処理装置 |
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| EP99110297A EP0960859A1 (en) | 1998-05-29 | 1999-05-27 | Method and apparatus for waste water treatment using ozone and hydrogen peroxide |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10149608A JPH11333476A (ja) | 1998-05-29 | 1998-05-29 | オゾン混合処理法およびオゾン混合処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11333476A true JPH11333476A (ja) | 1999-12-07 |
Family
ID=15478934
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10149608A Pending JPH11333476A (ja) | 1998-05-29 | 1998-05-29 | オゾン混合処理法およびオゾン混合処理装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6214240B1 (ja) |
| EP (1) | EP0960859A1 (ja) |
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