JPH11331988A - 半導体エレクトレットコンデンサーマイクロホン - Google Patents

半導体エレクトレットコンデンサーマイクロホン

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JPH11331988A
JPH11331988A JP14659098A JP14659098A JPH11331988A JP H11331988 A JPH11331988 A JP H11331988A JP 14659098 A JP14659098 A JP 14659098A JP 14659098 A JP14659098 A JP 14659098A JP H11331988 A JPH11331988 A JP H11331988A
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microphone
case
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electret condenser
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Takao Kawamura
孝夫 河村
Yoshiaki Obayashi
義昭 大林
Mamoru Yasuda
護 安田
Yasuo Sugimori
康雄 杉森
Shuji Osawa
周治 大澤
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Hosiden Corp
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  • Electrostatic, Electromagnetic, Magneto- Strictive, And Variable-Resistance Transducers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 コストアップの要因となるウエハ部の貫通孔
を不要とする。また、従来のものより薄型に形成する。 【構成】 入力された音響を電気信号として出力するマ
イクロホン部100と、このマイクロホン部100を収
納するケース部200とを備えており、前記マイクロホ
ン部100は、集積回路120が形成されたウエハ部1
10と、前記集積回路120の上に積層されたエレクト
レット層131と、スペーサ140に取り付けられ、前
記エレクトレット層131との間に所定の空間160を
有して設けられた振動膜150とを有しており、前記ケ
ース部200は背室211を有しており、前記スペーサ
140は複数個のスペーサ片141から構成されてお
り、隣接するスペーサ片141の間は、前記空間160
と背室211とを連通させる連通部142となってお
り、前記背室211はケース部200に収納されたマイ
クロホン部100の下方に位置している。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子を形成
する技術を応用した半導体エレクトレットコンデンサマ
イクロホンに関する。
【0002】
【従来の技術】従来のエレクトレットコンデンサマイク
ロホンを図9を参照しつつ説明する。この従来のエレク
トレットコンデンサマイクロホンは、主として入力され
た音響を電気信号として出力するマイクロホン部500
と、このマイクロホン部500を収納するケース部60
0とから構成されている。
【0003】前記マイクロホン部500は、表面にエレ
クトレット層511が形成された固定電極510と、こ
の固定電極510にスペーサ520を介して一定の間隔
をもって対向させられた振動膜530と、ゲート端子5
41が前記固定電極510に、ソース端子542が前記
振動膜530の電極層 (図示省略) にそれぞれ接続され
たインピーダンス変換素子としてのFET540とを有
している。
【0004】固定電極510とこの固定電極510の表
面に形成されたエレクトレット層511には、前記固定
電極510と振動膜530との間の空間550を背室6
50と連通させるための貫通孔512が開設されてい
る。
【0005】一方、前記ケース部600は、導電性の素
材から形成された略有底円筒形状のケース本体部610
と、このケース本体部610の開放側を閉塞するととも
に前記FET540が実装される基板部620と、前記
マイクロホン部500を保持するホルダ部630と、前
記振動膜530とケース本体部610との間に介在され
る導電性を有するリング640とを有している。
【0006】そして、この種のエレクトレットコンデン
サマイクロホンは、音響がケース本体部610に開設さ
れた音孔611を介して振動膜530に伝わり、振動膜
530の振動に伴う固定電極510のエレクトレット層
511とで構成されたコンデンサーの静電容量の変化に
よる電圧の変化を電気信号として出力している。
【0007】また、より小型化を指向した半導体エレク
トレットコンデンサマイクロホンもある。この半導体エ
レクトレットコンデンサマイクロホンは、図10に示す
ように、マイクロホン部700を半導体素子を形成する
技術を応用して構成している。すなわち、このマイクロ
ホン部700は、インピーダンス変換素子や増幅素子等
からなる集積回路が形成されたウエハ部710と、この
表面に形成されたエレクトレット層720と、このエレ
クトレット層720の上に形成されたスペーサ730
と、このスペーサ730に取り付けられた振動膜740
とを有しており、前記ウエハ部710とエレクトレット
層720とには貫通孔711が開設されている。
【0008】一方、前記ケース部800は、導電性の素
材から形成された略有底円筒形状のケース本体部810
と、このケース本体部810の開放側を閉塞するととも
に前記ケース本体部810と導通されるアース板部82
0と、前記マイクロホン部700を保持するホルダ部8
30とを有している。
【0009】前記マイクロホン部700に形成された貫
通孔711は、ケース部800を構成するホルダ部83
0に凹設された背室840と連通している。
【0010】このような半導体エレクトレットコンデン
サマイクロホンのマイクロホン部700の製造工程は次
の通りである。まず、ウエハ部710に多数個の集積回
路を形成する。集積回路が形成された側にシリコン酸化
膜を形成する。前記シリコン酸化膜を加熱冷却又は電子
線照射等の適宜な手法によってエレクトレット化してエ
レクトレット層720とする。
【0011】次に、エレクトレット層720とウエハ部
710とに貫通孔711を開設する。この貫通孔711
は、レーザ加工や超音波加工によって行われる。さら
に、スペーサ730を形成する。
【0012】前記スペーサ730に振動膜740を取り
付ける。すると、エレクトレット層720と振動膜74
0との間には、スペーサ730の厚さに相当する空間7
50が形成される。なお、振動膜740の上面には電極
膜741が予め形成されている。
【0013】ウエハに形成された多数のマイクロホン部
700は、ダイシングソーで分割される。この分割され
たマイクロホン部700のウエハ部710の裏面側に端
子760が取り付けられて、マイクロホン部700とし
て完成する。
【0014】このように形成されたマイクロホン部70
0は、セラミックス等からなるケース部800のホルダ
部830に保持されるとともに、ホルダ部830の背面
側に取り付けられたアース板820とともに、ケース本
体部810に取り付けられる。この際、振動膜740
は、ケース本体部810の音孔811に正対させる。ま
た、前記空間750は、貫通孔711を介して背室84
0に連通される。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の半導体エレクトレットコンデンサマイクロホン
には以下のような問題点がある。すなわち、マイクロホ
ン部のウエハ部に形成される貫通孔のレーザ加工や超音
波加工等は技術的にも困難であり、コストアップの要因
となる。また、ウエハ部の裏側に背室となる凹部を設け
る必要があるが、この凹部は半導体エレクトレットコン
デンサマイクロホンの薄型化の阻害要因にもなってい
た。
【0016】本発明は上記事情に鑑みて創案されたもの
で、コストアップの要因となるウエハ部の貫通孔を形成
する必要がない半導体エレクトレットコンデンサマイク
ロホンを提供することを目的としている。また、従来の
ものより薄型に形成することができる半導体エレクトレ
ットコンデンサマイクロホンを提供することを目的とし
ている。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明に係る半導体エレ
クトレットコンデンサマイクロホンは、入力された音響
を電気信号として出力するマイクロホン部と、このマイ
クロホン部を収納するケース部とを備えており、前記マ
イクロホン部は、集積回路が形成されたウエハ部と、前
記集積回路の上に積層されたエレクトレット層と、スペ
ーサに取り付けられ、前記エレクトレット層との間に所
定の空間を有して設けられた振動膜とを有しており、前
記ケース部は背室を有しており、前記スペーサは複数個
のスペーサ片から構成されており、隣接するスペーサ片
の間は、前記空間と背室とを連通させる連通部となって
いる。
【0018】また、他の本発明に係る半導体エレクトレ
ットコンデンサマイクロホンは、入力された音響を電気
信号として出力するマイクロホン部と、このマイクロホ
ン部を収納するケース部とを備えており、前記マイクロ
ホン部は、集積回路が形成されたウエハ部と、前記集積
回路の上に積層されたエレクトレット層と、スペーサに
取り付けられ、前記エレクトレット層との間に所定の空
間を有して設けられた振動膜とを有しており、前記ケー
ス部は背室を有しており、前記ウエハ部には前記空間と
背室とを連通させる連通溝が形成されている。
【0019】
【発明の実施の形態】図1は本発明の第1の実施の形態
に係る半導体エレクトレットコンデンサマイクロホンの
概略的断面図、図2は本発明の第1の実施の形態に係る
半導体エレクトレットコンデンサマイクロホンに用いら
れるマイクロホン部の製造工程を示す概略的説明図、図
3は本発明の第1の実施の形態に係る半導体エレクトレ
ットコンデンサマイクロホンに用いられるケース部のケ
ース本体部の概略的斜視図、図4は本発明の第1の実施
の形態に係る半導体エレクトレットコンデンサマイクロ
ホンに用いられるケース部のキャップ部の概略的斜視
図、図5は本発明の第1の実施の形態に係る半導体エレ
クトレットコンデンサマイクロホンのスペーサの概略的
平面図である。
【0020】また、図6は本発明の第2の実施の形態に
係る半導体エレクトレットコンデンサマイクロホンの概
略的断面図、図7は本発明の第2の実施の形態に係る半
導体エレクトレットコンデンサマイクロホンに用いられ
るケース部のケース本体部の概略的斜視図、図8は本発
明の第3の実施の形態に係る半導体エレクトレットコン
デンサマイクロホンに用いられるマイクロホン部を構成
するウエハ部の図面であって、同図(A)はスペーサが
形成された状態の概略的平面図、同図(B)はスペーサ
が形成されていない状態の概略的側面図、同図(C)は
同図(B)のA部の概略的拡大図である。
【0021】本発明の第1の実施の形態に係る半導体エ
レクトレットコンデンサマイクロホンは、入力された音
響を電気信号として出力するマイクロホン部100と、
このマイクロホン部100を収納するケース部200と
を備えており、前記マイクロホン部100は、集積回路
120が形成されたウエハ部110と、前記集積回路1
20の上に積層されたエレクトレット層131と、スペ
ーサ140に取り付けられ、前記エレクトレット層13
1との間に所定の空間160を有して設けられた振動膜
150とを有しており、前記ケース部200は背室21
1を有しており、前記スペーサ140は複数個のスペー
サ片141から構成されており、隣接するスペーサ片1
41の間は、前記空間160と背室211とを連通させ
る連通部142となっており、前記背室211はケース
部200に収納されたマイクロホン部100の下方に位
置している。
【0022】この半導体エレクトレットコンデンサマイ
クロホンに用いられるマイクロホン部100の製造工程
を図2を参照しつつ説明する。なお、図2は説明のため
に各部の寸法は誇張されている。まず、ウエハ部110
にフォトリソグラフィ技術等を用いてインピーダンス変
換素子や増幅素子等からなる多数個の集積回路120を
形成する(図2(A)参照)。ウエハ部110の表面
側、すなわち集積回路120が形成された側にシリコン
酸化膜130を形成する(図2(B)参照)。すなわ
ち、集積回路120の上にシリコン酸化膜130を積層
するのである。さらに、前記シリコン酸化膜130をコ
ロナ分極や電子線の照射(EB分極)等の手法によって
エレクトレット化してエレクトレット層131とする
(図2(C)参照)。
【0023】次に、エレクトレット層131の上に、ス
ペーサ140を形成する(図2(C)参照)。このスペ
ーサ140が従来の半導体エレクトレットコンデンサマ
イクロホンとは相違する点である。すなわち、本発明の
第1の実施の形態に係る半導体エレクトレットコンデン
サマイクロホンにおけるスペーサ140は、複数個のス
ペーサ片141から構成されているのである。
【0024】前記スペーサ片141は、例えば図5
(A)に示すように、略1/4円弧状に形成されてお
り、4つのスペーサ片141が円形に並んでスペーサ1
40を構成している。従って、隣接するスペーサ片14
1の間には、スペーサ片141がない部分があり、この
部分が連通部142とされている。従って、このスペー
サ140には、4つの連通部142が90°間隔で形成
されている。
【0025】この連通部142は、スペーサ140に取
り付けられた振動膜150と、前記エレクトレット層1
31との間の空間160と外部とを連通させるものであ
る。この連通部142は、従来の半導体エレクトレット
コンデンサマイクロホンの貫通孔711(図10参照)
と略同等の作用を果たす部分である。
【0026】このスペーサ140は、印刷又はフォトリ
ソグラフィ等によって5μm〜25μmのポリイミド等
によって形成される。
【0027】さらに、スペーサ140に振動膜150を
取り付ける(図2(D)参照)。この振動膜150の上
面は、電極膜 (図示省略) が予め形成されている。する
と、エレクトレット層131と振動膜150との間に
は、スペーサ140の厚さに相当する空間160が形成
される。なお、振動膜150としては、PPSフィルム
等が用いられる。
【0028】このようにして形成されたウエハをダイシ
ングソーで分割して複数個のマイクロホン部100とす
る(図2(E)参照)。
【0029】一方、前記ケース部200は、セラミック
スから形成されたケース本体部210と、このケース本
体部210に取り付けられるキャップ部220とを有し
ている。
【0030】前記ケース本体部210はセラミックスか
ら形成されており、中央部には、背室211が凹設され
ている。この背室211には、背室211とマイクロホ
ン部100の空間160とを連通させる溝部212が連
通している。
【0031】また、ケース本体部210には、前記マイ
クロホン部100の図示しない電極部と接触する電極部
214が印刷によって予め形成されている。この電極部
214は、ケース本体部210の側面部にまで延設され
ている。
【0032】さらに、このケース本体部210の周縁部
には、セラミックスからなる略額縁状の壁部213が取
り付けられている。この壁部213の高さ寸法は、ケー
ス本体部210に収納されるマイクロホン部100の厚
さ寸法より大きく設定されている。
【0033】また、このケース本体部210は、マイク
ロホン部100より大きく設定されている。従って、マ
イクロホン部100をケース本体部210に載置する
と、マイクロホン部100と壁部213との間には隙間
ができる。
【0034】また、前記キャップ部220は、薄板状で
あり、中央には音孔221が開設されている。このキャ
ップ部220の背面側には、音孔221を内側にしてマ
イクロホン部100のスペーサ140に当接する円形の
突脈部222が形成されている。
【0035】このように構成されたケース部200にマ
イクロホン部100を取り付ける手順について説明す
る。まず、振動膜150を上向きにしたマイクロホン部
100をケース本体部210に載置する。その際、マイ
クロホン部100の電極がケース本体部210の電極部
214に接触するようにする。また、マイクロホン部1
00で背室211を覆うようにする。しかし、背室21
1には溝部212が連通しているため、背室211はマ
イクロホン部100によって密閉されることはない。
【0036】このようにマイクロホン部100が取り付
けられたケース本体部210にキャップ部220を取り
付けると、突脈部222が振動膜150とスペーサ14
0とを挟み込み、振動膜150とキャップ部220との
間の空間230は音孔221によって外部と連通するよ
うになる。また、振動膜150とエレクトレット層13
1との間の空間は、スペーサ140を構成するスペーサ
片141の間に形成された連通部142を介してキャッ
プ部220とケース部本体部210との間の空間240
と連通する。
【0037】次に、このように構成された半導体エレク
トレットコンデンサマイクロホンの作用について説明す
る。前記音孔221を通じて音波がケース部200の突
脈部222と振動膜150との間の空間230に侵入し
(図1の矢印A参照)、振動膜150を振動させる。こ
の振動膜150の振動によって、振動膜150とエレク
トレット層131との間の空間160の容積が変化し、
この変化に伴って振動膜150とエレクトレット膜13
1との間の静電容量が変化する。そして、前記静電容量
の変化が電圧の変化として電極部214から出力され
る。
【0038】また、振動膜150の振動による前記空間
160の容量の変化によって発生した圧力は、スペーサ
片141の間の連通部142からキャップ部220とケ
ース本体部210との間の空間240に伝わり(図1の
矢印B参照)、さらに溝部212を介して背室211に
まで伝わる(図1の矢印C参照)。これによって、音響
の補正を行うことができる。
【0039】上述した実施の形態では、スペーサ140
は4つの略1/4円弧状のスペーサ片141から構成さ
れるとしたが、図5(B)〜(F)に示すようなタイプ
であってもよい。
【0040】すなわち、図5(B)に示すように、スペ
ーサ140Bはより多くのスペーサ片141B(図面で
は24個)から構成し、隣接するスペーサ片141Bの
間を連通部142Bとする。すると、すべての連通部1
42Bの開口面積が大きくなるので、音響抵抗が小さく
なるいう効果が生じる。
【0041】また、図5(C)に示すように、4つの略
1/4円弧状のスペーサ片141Cの両端部を細くして
細長い三日月状にし、各スペーサ片141Cの一部を重
ね合わせるようにしてスペーサ140Cを構成すること
も可能である。すなわち、スペーサ140Cを渦巻きの
ようにするのである。すると、音響抵抗が図5(B)に
示すものより若干増すという効果が生じる。
【0042】さらに、図5(D)に示すように、4つの
略1/4円弧状のスペーサ片141Dの一部を重ね合わ
せるようにしてスペーサ140Dを構成することも可能
である。この場合は、図5(C)の場合とは違って各ス
ペーサ片142Dの両端部は細く形成されておらず、斜
めに形成されている。
【0043】一方、図5(E)に示すように、図5
(A)に示すタイプのスペーサ140を二重にしたスペ
ーサ140Eであってもよい。この場合には、内側のス
ペーサ140E1 の隣接するスペーサ片141E1 の間
の連通部142E1と、外側のスペーサ140E2 の隣
接するスペーサ片141E2 の間の連通部142E2
が重ならないようにする。
【0044】さらに、図5(F)に示すように、図5
(D)に示すタイプのスペーサ140Dを二重にしたス
ペーサ140Fであってもよい。この場合には、内側の
スペーサ140F1 の隣接するスペーサ片141F1
間の連通部142F2 と、外側のスペーサ140F2
隣接するスペーサ片141F2 の間の連通部142F2
とが重ならないようにする。
【0045】特に、図5(E)及び(F)に示されるよ
うに、二重になったスペーサ140E、140Fや、図
5(C)及び(D)に示されるように、連通部142
C、142Dが斜めに形成されたスペーサ140C、1
40Dでは、振動膜150を取り付ける際に振動膜15
0に加えられる張力の不均衡に起因するしわの発生を抑
制することができるという効果がある。
【0046】次に、本発明の第2の実施の形態に係る半
導体エレクトレットコンデンサマイクロホンについて、
図6及び図7を参照しつつ説明する。この第2の実施の
形態に係る半導体エレクトレットコンデンサマイクロホ
ンが、第1の実施の形態に係るものと相違する点は背室
211の位置である。すなわち、第1の実施の形態に係
るものでは、背室211は、ケース部200に収納され
たマイクロホン部100の下方に位置していたのに対
し、第2の実施の形態に係るものでは、ケース部200
に収納されたマイクロホン部100の側方に位置してい
るのである。
【0047】かかる構成の相違から各構成部品は次のよ
うに構成されている。まず、マイクロホン部100は、
第1の実施の形態に係るものに使用されるものと同一で
ある。
【0048】第2の実施の形態に係る半導体エレクトレ
ットコンデンサマイクロホンは、ケース部200のケー
ス本体部210が第1の実施の形態に係るものと相違す
る。すなわち、図6や図7に示すように、第1の実施の
形態における背室211ではなく、マイクロホン部10
0が嵌まり込む凹部215が形成されている。この凹部
215には、マイクロホン部100の電極に接触する電
極部214が形成されている。また、この凹部215に
は、第1の実施の形態における背室211とは違って溝
部212に相当するものがない。
【0049】このように構成されたケース本体部210
を有する第2の実施の形態に係る半導体エレクトレット
コンデンサマイクロホンは、次のように構成される。す
なわち、図6に示すように、背室250はケース部20
0に収納されたマイクロホン部100の側方に位置する
のである。すなわち、第1の実施の形態においては、空
間240であった部分が、この第2の実施の形態に係る
ものでは背室250となるのである。振動膜150とエ
レクトレット層131との間の空間160は、スペーサ
片141の間の連通部142を介して前記背室250と
連通する。
【0050】このように構成すると、ケース部200に
収納されたマイクロホン部100の下方に背室211を
形成するもの(図1参照)より薄型に構成することが可
能となる。
【0051】なお、この第2の実施の形態に係る半導体
エレクトレットコンデンサマイクロホンにおけるスペー
サ140も図5(A)〜(F)に示すタイプを選択する
ことが可能なことはいうまでもない。
【0052】次に、第3の実施の形態に係る半導体エレ
クトレットコンデンサマイクロホンについて図8を参照
しつつ説明する。この第3の実施の形態に係る半導体エ
レクトレットコンデンサマイクロホンが第1や第2の実
施の形態に係るものと相違する点は、エレクトレット層
131と振動膜150との間の空間160を背室21
1、250に連通させる手段にある。
【0053】すなわち、第1や第2の実施の形態に係る
ものでは、スペーサ140を複数のスペーサ片141か
ら構成し、各スペーサ片141の間に設けられた連通部
142によって、振動膜150とエレクトレット層13
1との間の空間160を背室211、250と連通させ
ていた。
【0054】これに対して、第3の実施の形態に係る半
導体エレクトレットコンデンサマイクロホンでは、スペ
ーサ140は単なる円形に形成し、前記連通部142に
相当する部分を形成しない。そして、前記空間160と
背室211、250とを連通させるのは、ウエハ部11
0に形成された連通溝111である。
【0055】この連通溝111は、ウエハ部110に集
積回路120を形成する際又はその前に形成される。か
かる連通溝111は、図8(A)に示すように、ウエハ
部110の中心で直交するように縦横2本形成されてい
る。そして、この連通溝111は、ウエハ部110の縁
部まで形成されている。なお、この連通溝111は、断
面略V字形状に形成されている。
【0056】そして、この連通溝111は、エレクトレ
ット層131を形成しても凹んだ部分が埋まることはな
い。すなわち、エレクトレット層131の部分でも断面
略V字形状に凹んでいる。
【0057】円形のスペーサ140を形成する際に、ス
ペーサ140が連通溝111を埋めないようにすると、
スペーサ140の内側と外側とは連通溝111によって
連通することになる。特に、スペーサ140に振動膜1
50を取り付けたとしても、連通溝111によってスペ
ーサ140の内側と外側とは連通している。
【0058】このように構成されたマイクロホン部10
0を用いると、エレクトレット層131と転動膜150
との間の空間160は、連通溝11を介して背室 (図示
省略) と連通されるのである。
【0059】
【発明の効果】請求項1に係る半導体エレクトレットコ
ンデンサマイクロホンは、入力された音響を電気信号と
して出力するマイクロホン部と、このマイクロホン部を
収納するケース部とを備えており、前記マイクロホン部
は、集積回路が形成されたウエハ部と、前記集積回路の
上に積層されたエレクトレット層と、スペーサに取り付
けられ、前記エレクトレット層との間に所定の空間を有
して設けられた振動膜とを有しており、前記ケース部は
背室を有しており、前記スペーサは複数個のスペーサ片
から構成されており、隣接するスペーサ片の間は、前記
空間と背室とを連通させる連通部となっている。
【0060】従って、この半導体エレクトレットコンデ
ンサマイクロホンは、エレクトレット層と振動膜との間
の空間と背室とを連通させるために、従来のように、マ
イクロホン部を構成するウエハ部に貫通孔を開設する必
要がないので、貫通孔を形成する困難な工程が不要とな
るので、コストの低減を図ることができる。また、困難
な工程が不要となるので、歩留りが向上するという効果
もある。
【0061】また、請求項2に係る半導体エレクトレッ
トコンデンサマイクロホンにおける前記スペーサ片は、
隣接するスペーサ片と一部が重なるように形成されてい
る。このため、音響抵抗が増す効果がある。
【0062】また、請求項3に係る半導体エレクトレッ
トコンデンサマイクロホンにおける前記スペーサは、二
重以上に形成されている。このため、さらに音響抵抗が
増すとうい効果がある。
【0063】一方、請求項4に係る半導体エレクトレッ
トコンデンサマイクロホンにおける前記背室は、ケース
部に収納されたマイクロホン部の下方に位置している。
このため、背室を従来のものと同様の大きさに形成する
ことができるので、音響補正に余裕がある。
【0064】また、請求項5に係る半導体エレクトレッ
トコンデンサマイクロホンにおける前記背室は、ケース
部に収納されたマイクロホン部の側方に位置している。
このため、背室がマイクロホン部の下方に位置するタイ
プよりケース部を薄型に形成することが可能となるの
で、半導体エレクトレットコンデンサマイクロホンの全
体を薄く構成することができる。
【0065】さらに、請求項6に係る半導体エレクトレ
ットコンデンサマイクロホンは、入力された音響を電気
信号として出力するマイクロホン部と、このマイクロホ
ン部を収納するケース部とを備えており、前記マイクロ
ホン部は、集積回路が形成されたウエハ部と、前記集積
回路の上に積層されたエレクトレット層と、スペーサに
取り付けられ、前記エレクトレット層との間に所定の空
間を有して設けられた振動膜とを有しており、前記ケー
ス部は背室を有しており、前記ウエハ部には前記空間と
背室とを連通させる連通溝が形成されている。
【0066】このため、スペーサを複数のスペーサ片に
分割する必要がないので、スペーサの形成工程が従来の
ものと同様になり、工程の複雑化を招くことなくコスト
ダウンを図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態に係る半導体エレク
トレットコンデンサマイクロホンの概略的断面図であ
る。
【図2】本発明の第1の実施の形態に係る半導体エレク
トレットコンデンサマイクロホンに用いられるマイクロ
ホン部の製造工程を示す概略的説明図である。
【図3】本発明の第1の実施の形態に係る半導体エレク
トレットコンデンサマイクロホンに用いられるケース部
のケース本体部の概略的斜視図である。
【図4】本発明の第1の実施の形態に係る半導体エレク
トレットコンデンサマイクロホンに用いられるケース部
のキャップ部の概略的斜視図である。
【図5】本発明の第1の実施の形態に係る半導体エレク
トレットコンデンサマイクロホンのスペーサの概略的平
面図である。
【図6】本発明の第2の実施の形態に係る半導体エレク
トレットコンデンサマイクロホンの概略的断面図であ
る。
【図7】本発明の第2の実施の形態に係る半導体エレク
トレットコンデンサマイクロホンに用いられるケース部
のケース本体部の概略的斜視図である。
【図8】本発明の第3の実施の形態に係る半導体エレク
トレットコンデンサマイクロホンに用いられるマイクロ
ホン部を構成するウエハ部の図面であって、同図(A)
はスペーサが形成された状態の概略的平面図、同図
(B)はスペーサが形成されていない状態の概略的側面
図、同図(C)は同図(B)のA部の概略的拡大図であ
る。
【図9】従来のエレクトレットコンデンサマイクロホン
の概略的断面図である。
【図10】従来の半導体エレクトレットコンデンサマイ
クロホンの概略的断面図である。
【符号の説明】
100 マイクロホン部 140 スペーサ 141 スペーサ片 142 連通部 150 振動膜 200 ケース部 211 背室
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 杉森 康雄 大阪府八尾市北久宝寺1丁目4番33号 ホ シデン株式会社内 (72)発明者 大澤 周治 大阪府八尾市北久宝寺1丁目4番33号 ホ シデン株式会社内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 入力された音響を電気信号として出力す
    るマイクロホン部と、このマイクロホン部を収納するケ
    ース部とを具備しており、前記マイクロホン部は、集積
    回路が形成されたウエハ部と、前記集積回路の上に積層
    されたエレクトレット層と、スペーサに取り付けられ、
    前記エレクトレット層との間に所定の空間を有して設け
    られた振動膜とを有しており、前記ケース部は背室を有
    しており、前記スペーサは複数個のスペーサ片から構成
    されており、隣接するスペーサ片の間は、前記空間と背
    室とを連通させる連通部となっていることを特徴とする
    半導体エレクトレットコンデンサマイクロホン。
  2. 【請求項2】 前記スペーサ片は、隣接するスペーサ片
    と一部が重なるように形成されていることを特徴とする
    請求項1記載の半導体エレクトレットコンデンサマイク
    ロホン。
  3. 【請求項3】 前記スペーサは、二重以上に形成されて
    いることを特徴とする請求項1又は2記載の半導体エレ
    クトレットコンデンサマイクロホン。
  4. 【請求項4】 前記背室は、ケース部に収納されたマイ
    クロホン部の下方に位置していることを特徴とする請求
    項1、2又は3記載の半導体エレクトレットコンデンサ
    マイクロホン。
  5. 【請求項5】 前記背室は、ケース部に収納されたマイ
    クロホン部の側方に位置していることを特徴とする請求
    項1、2又は3記載の半導体エレクトレットコンデンサ
    マイクロホン。
  6. 【請求項6】 入力された音響を電気信号として出力す
    るマイクロホン部と、このマイクロホン部を収納するケ
    ース部とを具備しており、前記マイクロホン部は、集積
    回路が形成されたウエハ部と、前記集積回路の上に積層
    されたエレクトレット層と、スペーサに取り付けられ、
    前記エレクトレット層との間に所定の空間を有して設け
    られた振動膜とを有しており、前記ケース部は背室を有
    しており、前記ウエハ部には前記空間と背室とを連通さ
    せる連通溝が形成されていることを特徴とする半導体エ
    レクトレットコンデンサマイクロホン。
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