JPH11326846A - 同定マ―ク入りコンタクトレンズ - Google Patents
同定マ―ク入りコンタクトレンズInfo
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- JPH11326846A JPH11326846A JP11089358A JP8935899A JPH11326846A JP H11326846 A JPH11326846 A JP H11326846A JP 11089358 A JP11089358 A JP 11089358A JP 8935899 A JP8935899 A JP 8935899A JP H11326846 A JPH11326846 A JP H11326846A
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Abstract
ンタクトレンズを提供する。 【解決手段】 表面13、裏面及び、表面と裏面の少な
くとも1つに同定マークを有するコンタクトレンズ12
であって、同定マークは押印領域11を含み、押印領域
は押印領域の底部に少なくとも2つの交差凹面21,2
2,23を有する断面を有するコンタクトレンズを提供
する。
Description
が改善された同定マーク(identifying mark)入りコン
タクトレンズに関する。
タクトレンズに1以上の同定マークを入れることが知ら
れている。同定マークは、どのコンタクトレンズがどの
眼に入るか、コンタクトレンズが上か下か又は表か裏か
を示すのに有用であることが明らかにされてきた。同定
マークはまた、連番、ロットとバッチ番号及び光学的力
価を示すものとして有用であることが明らかにされてき
た。同定マークはまた、検眼士がコンタクトレンズが眼
で回転するのを測定するために使用でき、さらに、検査
目的で品質管理者がコンタクトレンズを配向するのに使
用できる。同定マークは、例えば「A」等の文字、例え
ば「3」等の番号、例えば「* 」等の記号、例えば「Ac
uvue(登録商標)」等の商標、例えば「□」等の図形、
及び例えば「123」、「#A1」等の1以上の処置リ
ストの同種又は異種のグループでよい。この定義に従っ
て「同定マーク」の用語をここに使用する。
方法を示す。例えば、欧州特許第291459号及び日
本特許第61223820号に示されるレーザーエッチ
ング及び焼損、及びドイツ特許第3316730号に開
示されるダンヤモンドポイント彫刻がある。プリント技
術(そのうちの幾つかはUV照射に晒される感光物質を
使用する)は、英国特許第200614号、ドイツ特許
第3219890号及び日本特許第61211382号
に開示される。他の染色技術及び着色技術は日本特許第
62186221号、同第2186222号及び同第6
2250286号に開示される。
的に透明な面に刻まれた同定マークの見易さは、マーク
の境界内で異なる深さの領域パターンからマークを構成
することにより、改善できることを開示している。この
特許は、コンタクトレンズの表面に刻まれたストライプ
(すじ)から構成するマークを開示する。ストライプの
輪郭は、コンタクトレンズの面と平行な底とコンタクト
レンズの面と垂直なサイドを有する。
コンタクトレンズ上の番号を、コンタクトレンズに丸い
ダイヤモンドチップをプレスして形成するドットで構成
することを開示する。
称レンズの回転を測定するのに使用するコンタクトレン
ズ上のラインを染料を用いて、レーザーエッチング又は
軽研磨エッチングによって、形成することを開示する。
容レベルに保ち、コンタクトレンズを眼に入れたとき、
そのマークに他の者が気付かないくらい小さくしなが
ら、コンタクトレンズ上の同定マークを使用者にさらに
見易くする必要がある。
び、表面と裏面の少なくとも1つに同定マークを有する
コンタクトレンズであって、同定マークは押印領域を含
み、この押印領域は押印領域の底部に少なくとも2つの
交差する凹面(交差凹面)を有する断面を有するコンタ
クトレンズを提供する。なお、本願において「押印領域
(depressed region)」とは、窪んだ領域、凹んだ領域、
陥没した領域等を総称するものである。
定マークを含むコンタクトレンズを提供する。即ち、押
印領域の底部に少なくとも2つの交差凹面を有する押印
領域を含む同定マークは、非常に見易く、さらにコンタ
クトレンズ装着者にとって非常に快適な構造である。
13に押印された同定マーク「AV」10を示す拡大概
略図である。図1は、「A」を形成する連続押印領域1
4と、「V」を形成する別の連続押印領域11を示す図
である。しかし、本発明の同定マークの文字、番号又は
他の任意の形は、ダッシュ、穴などの不連続押印領域で
形成することもできる。不連続押印領域はコンタクトレ
ンズの面に押印され、同定マークの文字、番号又は他の
形の全体の形を形成する。同定マークの押印領域の少な
くともある部分が、押印領域の底部に少なくとも2つの
交差凹面を含む限り、不連続押印領域はどのような形で
もよい。不連続押印領域については、同時に出願され
た、発明の名称が「マーク入りコンタクトレンズ」(V
TN−405)であるWu等の米国特許出願番号第09
/052,684号に、さらに説明されている。この米
国特許出願は参考としてここに取り込む。
の「V」の押印領域の拡大断面図である。図2は、
「V」の押印領域11が押印領域の底部にある3つの交
差凹面からなることを示す図である。押印領域11は凹
面21,22,23からなり、これら全ての凹面は、押
印領域が押されたコンタクトレンズ12の面13に向
く、又は面13の方に開く。凹面21及び凹面22はエ
ッジ24で交差する。凹面21及び凹面23はエッジ2
5で交差する。これらのエッジで形成される角度βは、
図2ではエッジ24に示される。好ましくは、押印領域
の断面の幅又は直径全体は押印領域で一定であり、図1
に示すように上から見ると押印領域11は実質的に長方
形の溝の形である。しかし、押印領域の断面が、押印領
域の底部において少なくとも2つ、より好ましくは少な
くとも3つの交差曲面を有する限り、押印領域は三角
形、正方形、菱形、円又は不定形等、どのような形でも
よい。
交差凹面を含む。図2に示すように、好ましくは凹面
は、凹面21,22,23のように穴が押印されたコン
タクトレンズの面の方に開く、又は向く。しかし、凹面
は反対の面に向いてもよく、又は押印領域の底部におけ
る凹面の一部がコンタクトレンズの1つの面に向き、押
印領域の底部における凹面の一部がコンタクトレンズの
反対の面に向いてもよい。後者の実施形態では、好まし
くは、押印領域の底部の凹面の大部分が、押印領域が押
印された面に向く。各押印領域の凹面は、レンズの表面
又は裏面のいずれかから同定マークの凹面に突き当たる
光を反射し集束する。このように押印領域の凹面に反射
した光が集束すると、同定マークは同定マークの面が平
ら又は無秩序に凸凹があるときよりも、より見易くな
る。製造を簡単にするために、好ましくは同定マークの
凹面の全体の幅又は直径を、同定マークの押印領域を通
して同じにする。さらに好ましくは、押印領域の直径又
は幅全体を含む押印領域の断面、サイズ、形及び同定マ
ークの押印領域の凹面の位置は、同定マークの凹面を通
して一定にする。しかし、押印領域の凹面は、同定マー
クを通してサイズ、深さ及び形が変わってもよい。
の上部と底部は隣接している。押印領域の上部は、一般
に、押印領域が、押印領域が押印されたコンタクトレン
ズの面と合う所である。押印領域の上部は、図2にエッ
ジ26及びエッジ27として示されるエッジとなりう
る、または、押印領域の上部は、押印領域が押印された
コンタクトレンズの面から離れた方を向く凹面としてよ
い。凹面はエッジを丸めて形成してもよい。押印領域が
押印されたコンタクトレンズの面から離れた方を向く凹
面からなる上部は、図3で36及び37として示され
る。図2の上部26及び上部27または図3の上部36
及び上部37でない押印領域の面の残りが、それぞれ押
印領域の底部である。
定マークの押印領域の拡大断面図である。図3の押印領
域は2より多い交差凹面を有する。図3は、押印領域の
底部にある凹面31,32,33,34,35を示す図
である。凹面31,32,33は、押印領域が押された
コンタクトレンズ48の第一の面43(これはコンタク
トレンズの表面又は裏面のいずれかでもよい)の方に向
いている。凹面31及び凹面32の間にある凹面34
と、凹面31及び凹面33の間にある凹面35は、コン
タクトレンズ48の第二の面44の方に向いている。凹
面31,32,33はそれぞれ、図2で説明した凹面2
1,22,23と同様である。ただし、凹面31,3
2,33は、エッジで交差する代わりに、反対向きの凹
面34と35と交差する。凹面34及び凹面35によっ
て凹面31,32,33の間は非常に快適に移行する。
押印領域の凹面は、同定マークの凹面に突き当たる光を
反射し集束する。このように同定マークの凹面に反射し
た光が集束すると、同定マークは、同定マークの面が平
ら又は無秩序に凸凹があるときよりも、より見易くな
る。
3が実質的にエッジ24及びエッジ25で合う図2に示
す同定マークは、上方に面する凹面31,32,33が
コンタクトレンズの反対面に向く凹面34,35と交差
する図3に示す輪郭よりも見易いので好ましい。同じ方
向を向く凹面があることは、同じ方向により多くの光を
集束させ、マークがさらに明るく見易くなると考えられ
る。
くは、より見易くするために押印領域が押印された面に
向く凹面(例えば、凹面21,22,23又は凹面3
1,32,33)の半径は、全て等しくない。好ましく
は、中央の凹面(1つ又は複数を含む)の曲率半径は、
最も外側の凹面(1つ又は複数を含む)の曲率半径より
小さい。例えば、好ましくは、凹面21は、凹面22及
び凹面23のいずれか、好ましくは両方よりも、小さい
半径を有する。曲率半径が小さいと集束力がより強くな
り、曲率半径が大きいと快適さが増す。また、好ましく
は、押印領域の底部に2以上の凹面があるとき、押印領
域の底部にある少なくとも2つの凹面の深さは異なる。
好ましくは、凹面は奇数であり、中央の凹面が押印領域
の最大深さにある。また、好ましくは、中央の凹面は実
質的に押印領域の中心にある。中心にある中央の凹面の
いずれかの側にさらに2つの凹面があるとき、好ましく
は、これら2つの凹面は実質的に同じ深さであり、好ま
しくは、これら凹面の最大深さは、押印領域の最大深さ
の80%より小さく、より好ましくは50%より小さ
く、最も好ましくは30%より小さい。押印領域の底部
に、コンタクトレンズの同じ面を向く少なくとも3つの
凹面がある実施形態では、好ましくは、中央の凹面の幅
又は直径は、押印領域の断面の幅又は直径全体の50%
より大きく、より好ましくは70%より大きく、最も好
ましくは85%より大きい。中央の凹面が大きいと、光
集束による見易さが改善され、中央の凹面の両側に凹面
があると快適になる。
の全面積の少なくとも25%、より好ましくは少なくと
も50%、最も好ましくは少なくとも75%の断面が、
少なくとも2つの交差凹面を有する。最も好ましい実施
形態では、押印領域の底部の全面積の90%より多くの
断面が、少なくとも2つの交差凹面を有する。図2及び
図3は、押印領域の実質的に全ての面の断面が、凹面を
有する実施形態を示す図である。
に、好ましくは、同定マークの押印領域は滑らかであ
り、即ち面は、好ましくは10ミクロンRMSより少な
い面粗さ、より好ましくは3ミクロンRMSより少ない
面粗さ、最も好ましくは0.5ミクロンRMSより少な
い面粗さを有する。
ンズを周囲の光又は追加の光の下で持つと、本発明の同
定マークの見易さは改善される。ヒトの裸眼には、凹面
から反射された光の明るい領域が、同定マークの全体の
形状に通常対応する凹面の形や数字に従って、明るいラ
イン、ドット、円、その他の形として見える。
ークの入ったコンタクトレンズは、機械器具及びコンタ
クトレンズの分野で良く知られた方法で製造できる。例
えば、レーザー、電気放電、機械加工、機械刻み、ダイ
ヤモンド刻み、超音波刻み、ホログラフィックマーキン
グ、面破壊によるスキャッタリング等がある。マークは
コンタクトレンズを製造した後に入れることができる
が、コンタクトレンズの製造中に入れることが好まし
い。
くは金属型を使用して樹脂型を製造し、その中へモノマ
ー又はプレポリマーを入れ硬化してコンタクトレンズを
製造する。好ましくは、耐久性型を複数回使用し、複数
の樹脂型を製造する。しばしば、耐久性型は、水晶、ガ
ラス、ステンレス鋼、銅合金又は真鍮製であり、様々な
ニッケル又はニッケル合金プレートコーティングを追加
することができる。耐久性型は、酸エッチング、レーザ
ー、電気分解、ダイヤモンド刻み、又は当業者が知る他
の方法で処理して、耐久性型の表面に所望の同定マーク
を刻むことができる。その後、耐久性型を統合して、樹
脂型を製造するために使用する射出成型方法を用いるこ
とができる。しばしば樹脂型は熱可塑性物質又は熱硬化
性樹脂、好ましくは、ポリプロピレン又はポリスチレン
であり、好ましくはコンタクトレンズを製造するとき一
度だけ使用する。好ましい実施形態によると、同定マー
クは樹脂型の表面から突き出す。コンタクトレンズを製
造するために使用するプレポリマー又はモノマー混合物
を、鋳造成型の間、半型の間で硬化すると、又はスピン
鋳造して硬化すると、樹脂型の上に刻印された同定マー
クが耐久性型からコンタクトレンズに移る。コンタクト
レンズは、コンタクトレンズの製造に有用ないかなる既
知物質から構成できる。好ましいコンタクトレンズはソ
フトコンタクトレンズであり、好ましくは、当業者に良
く知られているシリコーン又は親水性ヒドロゲルからな
る。他の方法では、耐久性型に同定マークを入れ、本発
明の同定マーク入りコンタクトレンズを製造するのに直
接使用できる。
る耐久性型の好ましいマーキング方法は、レーザー又は
ダイヤモンドを使用して耐久性型の表面をエッチングす
ることであり、より好ましくはダイヤモンドを使用して
耐久性型の面を刻むことである。押印領域の所望の凹面
を形成するために、ダイヤモンドが選択される。複数の
ダイヤモンドを使用すれば、異なる半径の凹面を形成で
きる。しかし、1つのダイヤモンドを複数回パス(pass
es)もしくは通過させて使用して、本発明の押印領域を
形成するのが好ましい。一般には、同定マークの押印領
域に各凹面を形成するために、少なくとも1回のダイヤ
モンドのパス(通過)が必要である。凹面を耐久性型に
刻んだ後、好ましくは同定マークを磨いて(例えば、オ
ービタル(orbital)研磨)、耐久性型に刻むことによ
り生じる残存物質を除く。残存物質はコンタクトレンズ
の面と同定マークの押印領域の間の連結部の滑らかさに
悪影響を与える。図2及び図3に示す輪郭を有する同定
マークを形成するために、各耐久性型を3工程又は3パ
スプロセスでダイヤモンドで刻んだ。第一の工程又は第
一のパスでは、ダイヤモンドは中央の凹面を最も低い深
さで切り、第二のパス及び第三のパスで、ダイヤモンド
は中央の凹面の両サイドにある2つの凹面をより浅い深
さで切った。ダイヤモンドが耐久性型を刻んだ後、この
型を磨き残存物質(スラグとも言う)を除いた。滑らか
な面が快適さには重要である。図3に示すさらなる凹面
34,35,36,37を形成するために、3パスダイ
ヤモンド刻みプロセスにより形成したエッジを磨いて、
耐久性型に滑らかな凹面を形成し、コンタクトレンズに
凹面34,35,36,37を形成した。
ーはYAGレーザーである。レーザーはマスクと共に使
用してもよいし、マスク無しで使用してもよい。マスク
は、耐久性型でレーザーの照射が達してマークの形と文
字を形成する場所を制限する。マスクを使用しないで、
レーザーがマークの部分だけ耐久性型を刻むように制御
するのが好ましい。好ましくは、レーザーは、レーザー
ビームの中央が最もエネルギーが高く、エネルギーレベ
ルはレーザービームの周囲で落ちるレーザービームを有
し、1回のパルス又はパスで耐久性型に凹面を形成す
る。レーザービームを耐久性型に多数回パスさせて、多
数の凹面を形成でき、レーザービームの強さを変えて、
図2及び図3に示す同定マークの押印領域の輪郭を形成
できる。耐久性型をレーザーで刻んだ後、好ましくは型
を磨き残存物質を除く。所望により、特に複数パスレー
ザー焼損(multi-pass laser burning)により形成したエ
ッジの全てを滑らかにする。また、好ましい方法ではな
いけれど、レーザー、例えばYAGレーザーを、本発明
の同定マークをコンタクトレンズに入れるのに直接使用
してもよい。
膜でなくまぶたに面するコンタクトレンズの面(一般に
コンタクトレンズの表面と言う)に押印する。さらに、
同定マークを形成する押印領域の少なくとも一部の直径
又は幅が、まぶたがコンタクトレンズの同定マークを感
じる程大きい実施形態では、現実には直径又は幅が約1
00ミクロン以上と考えられるが、その場合、好ましく
は、同定マーク入りコンタクトレンズの快適さを増すた
めには、図2及び図3に示す角度αは、20°より小さ
く、より好ましくは10°より小さく、最も好ましくは
7°より小さい。ここで、角度αは、押印領域の面とコ
ンタクトレンズの面が合う連結部、即ち押印領域の上部
に形成される角度である。さらに好ましくは、押印領域
の面とコンタクトレンズの面が合う連結部(junction)
は、曲率半径が30ミクロンより大きい、より好ましく
は50ミクロンより大きい、最も好ましくは80ミクロ
ンより大きい、同定マークが押印されるコンタクトレン
ズの面から離れた方を向く凹面を形成する。さらに、1
以上の押印領域の幅又は直径が100ミクロンより大き
な同定マークでは、好ましくは、押印領域の最大深さは
浅く、例えば、0.5マイクロメートル乃至35マイク
ロメートルであり、より好ましくは5ミクロン乃至25
ミクロンであり、最も好ましくは8ミクロン乃至12ミ
クロンである。押印領域の直径又は幅が増えると、好ま
しくは、快適さを改善するために、角度αを小さくし、
同定マークの上部と底部にある曲面の曲率半径を大きく
する。
2に示す実施形態では、図2に示すように凹面の間の角
度である角度βは、0°とはなりえないが、好ましくは
12°より小さく、より好ましくは7°より小さく、最
も好ましくは5°より小さい。好ましくは、角度βは角
度αより小さい。図2に示す凹面21,22,23の曲
率半径は、好ましくは10ミクロン乃至500ミクロン
であり、より好ましくは50ミクロン乃至300ミクロ
ンであり、最も好ましくは80ミクロン乃至150ミク
ロンである。
度αは15°より小さく、より好ましくは5°より小さ
く、最も好ましくは3°より小さい。押印領域が押印さ
れたコンタクトレンズの面の方を向く凹面の曲率半径
は、好ましくは10ミクロン乃至500ミクロンであ
り、より好ましくは50ミクロン乃至300ミクロンで
あり、最も好ましくは80ミクロン乃至150ミクロン
である。押印領域の底部にある押印領域が押印されたコ
ンタクトレンズの面と反対の面の方を向く凹面の曲率半
径は、好ましくは5ミクロン乃至300ミクロンであ
り、より好ましくは20ミクロン乃至200ミクロン、
最も好ましくは50ミクロン乃至120ミクロンであ
る。図3に示す実施形態の角度βは、0とはなりえない
が、好ましくは10°より小さく、より好ましくは5°
より小さく、最も好ましくは3°より小さい。
さい幅又は直径を有するなら、好ましくはまぶたが同定
マークの形をあまり感じない90ミクロンより小さい幅
又は直径を有するなら、角度αはどのような大きさでも
よい。同定マークが浅く、10ミクロンより小さいな
ら、好ましくは角度αは30°乃至60°であり曲がっ
た底部の形成を助ける。しかし、同定マークが深く、1
0ミクロン乃至70ミクロンであるなら、好ましくは角
度αは45°乃至90°であり、より好ましくは60°
乃至89°であり、さらに好ましくは70°乃至85°
であり、同定マークの底部に、同定マークの底部とし
て、曲面が形成される。1以上の押印領域の幅又は直径
が100ミクロン、より好ましくは90ミクロンより小
さい同定マークでは、押印領域の最大深さは好ましくは
10マイクロメートル乃至100マイクロメートルであ
り、より好ましくは20ミクロン乃至70ミクロンであ
り、最も好ましくは25ミクロン乃至55ミクロンであ
る。
ンズ上の同定マークの押印領域の輪郭は、押印領域の中
心から両側で鏡像である。押印領域が鏡像であることが
好ましいが、必要とされるわけではない。
る曲面の集束力から最大の利益を得るためには、好まし
くは、押印領域の断面を横切る直径又は幅全体が10ミ
クロン乃至500ミクロンであり、より好ましくは30
ミクロン乃至300ミクロンであり、最も好ましくは5
0ミクロン乃至200ミクロンであり、押印領域の最大
深さが5ミクロン乃至80ミクロンであり、より好まし
くは10ミクロン乃至60ミクロンであり、最も好まし
くは30ミクロン乃至50ミクロンである。押印領域の
輪郭にわたって押印領域の底部に曲面が幾つあってもよ
い。しかし、押印領域の直径又は幅の限界のため、押印
領域の底部には曲面が好ましくは2乃至10以下、より
好ましくは3乃至8、最も好ましくは3乃至6ある。押
印領域の直径又は半径が小さすぎたり曲面の数が多すぎ
ると、光が多すぎる面により多すぎる方向に集束される
ため、本発明によって同定マークの明るさがそれ程増加
しなくなる。最も好ましい実施形態では、図2及び図3
に示すように、押印領域の底部には3又は5の曲面があ
る。
は、双曲的、球状、楕円等でよく、好ましくは球状であ
る。好ましくは、押印領域の実質的に全ての面はコンタ
クトレンズの面と平行でも垂直でもない。
が、押印領域の最大深さの約3乃至30倍であり、好ま
しくは押印領域の最大深さの約5倍乃至11倍であり、
最も好ましくは押印領域の最大深さの約6倍乃至10倍
である。また、好ましくは、同定マークの各押印領域の
最大深さは押印領域の断面の中央又は中心にあり、押印
領域の中心にある最大深さからコンタクトレンズの面へ
の押印領域の面は、交差曲面を有する。押印領域の断面
の中心からコンタクトレンズの面まで、好ましくは実質
的に連続して、より好ましくは連続して、深さが減少す
る。
しくは、コンタクトレンズ上の同定マーク全体のサイズ
は、1フィート以上離れて通常の観察者がコンタクトレ
ンズ上の同定マークに気付かない大きさである。従っ
て、好ましくは、同定マークの全体の幅(例えば、図1
に示す同定マーク「AV」のAとVを横切る距離)が1
0ミリメートルより小さく、より好ましくは0.5ミリ
メートル乃至7ミリメートルであり、最も好ましくは2
ミリメートル乃至5ミリメートルである。好ましくは、
同定マークの全体の長さ(例えば、図1に示す同定マー
ク「AV」のAの上から下までの距離)が5ミリメート
ルより小さく、より好ましくは0.5ミリメートル乃至
3ミリメートルであり、最も好ましくは1.2ミリメー
トル乃至1.8ミリメートルである。
を説明してきた。当業者には、特許請求の範囲にある他
の実施形態が明らかであろう。
に前記文字、番号又は形の押印領域が連続する押印領域
で形成されるの請求項1に記載のコンタクトレンズ。 (2)前記押印領域の断面の幅又は直径全体が実質的に
一定である請求項1に記載のコンタクトレンズ。 (3)前記押印領域の前記断面が実質的に一定である請
求項1に記載のコンタクトレンズ。 (4)前記押印領域が少なくとも3つの交差凹面を有す
る請求項1に記載のコンタクトレンズ。 (5)前記交差凹面が前記表面に向いている請求項1に
記載のコンタクトレンズ。
記表面に向き、前記交差凹面の少なくとも1つが前記裏
面に向いている請求項1に記載のコンタクトレンズ。 (7)前記交差凹面が前記交差凹面の間にエッジを形成
する請求項1に記載のコンタクトレンズ。 (8)前記交差凹面により形成される角度βが12°よ
り小さいが0°にはなりえない実施態様(7)に記載の
コンタクトレンズ。 (9)前記凹面の面粗さが10ミクロンRMSより少な
い請求項1に記載のコンタクトレンズ。 (10)前記押印領域の上部がエッジである請求項1に
記載のコンタクトレンズ。
請求項1に記載のコンタクトレンズ。 (12)前記押印領域の最大深さが前記押印領域の断面
の中心にある請求項1に記載のコンタクトレンズ。 (13)前記押印領域の交差凹面が前記コンタクトレン
ズの面の下で様々な深さで位置する請求項1に記載のコ
ンタクトレンズ。 (14)前記交差凹面の少なくとも2つの曲率半径が異
なる請求項1に記載のコンタクトレンズ。 (15)前記交差凹面が、型を機械的に刻む工程を含む
方法によって製造される請求項1に記載のコンタクトレ
ンズ。
ロン乃至80ミクロンである請求項1に記載のコンタク
トレンズ。 (17)前記押印領域の最大深さが10ミクロン乃至6
0ミクロンである請求項1に記載のコンタクトレンズ。 (18)前記交差凹面の断面の形が実質的に放物状、楕
円、双曲的又は球状である請求項1に記載のコンタクト
レンズ。 (19)前記断面の幅又は直径全体が10ミクロン乃至
500ミクロンである請求項1に記載のコンタクトレン
ズ。 (20)前記断面の幅又は直径全体が30ミクロン乃至
300ミクロンである請求項1に記載のコンタクトレン
ズ。
100ミクロンより大きく、前記押印領域の上部の角度
αが20°より小さい請求項1に記載のコンタクトレン
ズ。 (22)前記押印領域の幅又は直径全体が100ミクロ
ンより大きく、前記押印領域の上部の曲率半径が30ミ
クロンより大きい請求項1に記載のコンタクトレンズ。 (23)前記押印領域の幅又は直径全体が前記押印領域
の最大深さの3倍乃至30倍である請求項1に記載のコ
ンタクトレンズ。 (24)前記押印領域の幅又は直径全体が前記押印領域
の最大深さの5倍乃至11倍である請求項1に記載のコ
ンタクトレンズ。 (25)前記表面を向く少なくとも1つの凹面の曲率半
径が10ミクロン乃至500ミクロンであり、前記裏面
を向く少なくとも1つの凹面の曲率半径が5ミクロン乃
至300ミクロンである実施態様(6)に記載のコンタ
クトレンズ。
含み、中央の凹面の曲率半径が最も小さい請求項1に記
載のコンタクトレンズ。 (27)前記中央凹面の幅又は直径が、前記押印領域の
幅又は直径全体の50%より大きい実施態様(28)に
記載のコンタクトレンズ。 (28)前記押印領域の表面の25%より多くが前記断
面を含む請求項1に記載のコンタクトレンズ。 (29)前記断面が前記交差凹面を3乃至8有する請求
項1に記載のコンタクトレンズ。 (30)前記角度αが10°より小さい請求項2に記載
のコンタクトレンズ。 (31)前記曲率半径が50ミクロンより大きい請求項
3に記載のコンタクトレンズ。
着が快適でマークが見易い、マーク入りコンタクトレン
ズを提供できる効果がある。
「AV」を示す拡大概略切取図である。
レンズ上の「V」の拡大断面図である。
断面図である。
面
Claims (3)
- 【請求項1】 表面、裏面及び、前記表面と前記裏面の
少なくとも1つに同定マークを有するコンタクトレンズ
であって、前記同定マークは押印領域を含み、前記押印
領域は前記押印領域の底部に少なくとも2つの交差凹面
を有する断面を有するコンタクトレンズ。 - 【請求項2】 表面、裏面及び、前記表面と前記裏面の
少なくとも1つに同定マークを有するコンタクトレンズ
であって、前記同定マークは押印領域を含み、前記押印
領域の直径又は半径は100ミクロンより大きく、前記
押印領域の上部の角度αは20°より小さいコンタクト
レンズ。 - 【請求項3】 表面、裏面及び、前記表面と前記裏面の
少なくとも1つに同定マークを有するコンタクトレンズ
であって、前記同定マークは押印領域を含み、前記押印
領域の直径又は半径は100ミクロンより大きく、前記
押印領域の上部の曲率半径は30ミクロンより大きいコ
ンタクトレンズ。
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