JPH11321140A - グラビア印刷版 - Google Patents

グラビア印刷版

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JPH11321140A
JPH11321140A JP14213598A JP14213598A JPH11321140A JP H11321140 A JPH11321140 A JP H11321140A JP 14213598 A JP14213598 A JP 14213598A JP 14213598 A JP14213598 A JP 14213598A JP H11321140 A JPH11321140 A JP H11321140A
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film
plating film
cell
gravure printing
printing plate
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Kaku Shigeta
核 重田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 セルの深さをハイライト部からシャドウ部ま
で均一にすることができ、濃淡階調度を直線的に変化さ
せることができ、濃淡階調度が豊かでシャープなグラビ
ア画像が得られるグラビア印刷版。 【解決手段】 版基材1に下地金属被膜2を形成し、そ
の表面にバラードメッキ被膜3を形成し、さらのその表
面に、膜厚がセルの深さに等しくなるようにクロムメッ
キ被膜4を形成し、該クロムメッキ被膜4に対してバラ
ードメッキ被膜が露出するようにインキを収容するセル
5を形成した。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明が属する技術分野】本願発明は、セルの深さをハ
イライト部からシャドウ部まで均一にすることができ、
濃淡階調度を直線的に変化させることができ、濃淡階調
度が豊かでシャープなグラビア画像が得られ、さらにラ
イト部のセルの表面形状を改善することによりセルから
の被印刷物へのインキの転移性が良好でありライト部が
白く抜けて見えるインキが転移していないポイントを無
くした印刷物が得られるグラビア印刷版に関する。 【0002】 【従来の技術】従来のグラビア印刷版は、銅メッキ層に
セルが形成されており、セルの深さは均一ではない。深
さが7〜10μm位に浅く、均一な深さのセルを有する
グラビア印刷版は、実現されてなかった。セルは、ハイ
ライト部で7〜10μm位に浅く、シャドウ部で15〜
20μm位に深くエッチングされる。クロムメッキは、
上記セルが形成された銅メッキ層の表面を被覆してい
る。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】コンパクトディスク等
への画像の印刷は、インキの膜厚を可能な限り薄くする
ことが要望されている。その理由は、コンパクトディス
ク等に印刷する画像は、中心に対して偏って印刷される
ので、画像を形成しているインキの重量が、次世代のコ
ンパクトディスク装置の流体動圧軸受を採用したスピン
ドルモータの高速回転化にともなって、アンバランス回
転の原因として無視できなくなるからである。他方、油
性インキは、揮発する溶剤が大気汚染し地球環境に悪影
響を与えるとの理由で敬遠されており、水性インキ、光
硬化性インキが注目されてきている。特に、光硬化性イ
ンキは、油性インキに比べて、顔料の配合割合が高いの
でインキの膜厚を薄くすることができ、しかもモノマー
の配合により所望の低粘性に制御できるので、浅くて、
均一な深さのセルを有するグラビア印刷版が要望されて
いる。画像の濃淡階調度は、セルの面積の大小と深さ等
との相関関係によって決まる。ドットの面積が小さくて
もインキが厚く転移すると濃淡階調度が不自然になる。
また、ドットの面積が大きくてもインキが均一に転移せ
ず中央が高くなる山盛り状態であると、ドットの大きさ
に対するインクの分散性が悪く、濃淡階調度も悪くな
る。さらに、転移インキ量及びセルの面積が同一の場
合、丸いドット形状は細長いドット形状に比べてインク
の分散性が悪い。セルの面積が小さいと、インキの表面
張力が大きく作用しインクの転移性が劣る。 【0004】本願発明は、上述した点に鑑み案出したも
ので、セルの深さをハイライト部からシャドウ部まで均
一にすることができ、濃淡階調度を直線的に変化させる
ことができ、濃淡階調度が豊かでシャープなグラビア画
像が得られ、さらにライト部のセルの表面形状を改善す
ることによりセルからの被印刷物へのインキの転移性が
良好でありライト部が白く抜けて見えるインキが転移し
ていないポイントを無くした印刷物が得られるグラビア
印刷版を提供することにある。 【0005】 【課題を解決するための手段】本願第一の発明は、版基
材に銅被膜、ニッケル被膜、又は銅若しくはニッケルの
合金被膜のいずれかの下地金属被膜を形成し、該下地金
属被膜の表面にバラードメッキ被膜を形成し、該バラー
ドメッキ被膜の表面に、膜厚がセルの深さに等しくなる
ようにクロムメッキ被膜を形成し、該クロムメッキ被膜
に前記バラードメッキ被膜が露出するようにインキを収
容するセルを形成してなることを特徴とするグラビア印
刷版を提供するものである。本願第二の発明は、版基材
に銅被膜、ニッケル被膜、又は銅若しくはニッケルの合
金被膜のいずれかの下地金属被膜を形成し、該下地金属
被膜の表面にバラードメッキ被膜を形成し、該バラード
メッキ被膜の表面に、膜厚がセルの深さに等しくなるよ
うにクロムメッキ被膜を形成し、該クロムメッキ被膜に
前記バラードメッキ被膜が露出するようにインキを収容
するセルを形成し、さらに、全面に微小のクロムメッキ
を付けてなることを特徴とするグラビア印刷版を提供す
るものである。本願第三の発明は、前記セルの中、ライ
ト部のセルの表面形状が、円形中心部より二本以上の短
線が放射する放射形、又は中心を集合点として三本以上
の短線が放射する放射形であることを特徴とするグラビ
ア印刷版を提供するものである。 【0006】 【発明の実施の形態】本願発明の実施の形態にかかるグ
ラビア印刷版を図面を参照して説明する。図1におい
て、(a)はロール状のグラビア印刷版用版材を示す断
面図、(b)は凹版用版材の拡大断面図、(c)は凹版
用版材のクロムメッキにセルをエッチング形成した状態
を示す拡大断面図である。符号1は版基材、符号2は下
地金属被膜、符号3はバラードメッキ被膜、符号4はク
ロムメッキ被膜、符号5はセルである。この凹版は、両
端に被チャック孔を有する中空形状で、外面が真円かつ
円筒に精密研磨されたアルミニウム製(鉄製でもよい)
の版基材1の両端の被チャック孔を両端チャックして版
基材1の端面からクッション層2の表面にかけて電解銅
メッキ液に浸漬し回転しかつ版基材1にメッキ電流を流
して電気銅メッキの下地金属被膜2を形成してから、下
地金属被膜2の表面を砥石研磨装置により平滑に円筒研
磨しバラード処理してから、再び電気銅メッキして25
〜35μmの膜厚となるようにバラードメッキ被膜3を
形成し、さらにバラードメッキ被膜3の表面を砥石研磨
装置により平滑に円筒研磨しさらに鏡面研磨し、次いで
セルの深さに等しくなるようにクロムメッキ4を形成し
てその表面にドクターのような部材を軽く摺接して表面
の微小凸部を潰してロール状のグラビア印刷版用版材
(図1(a))を構成し、続いて、クロムメッキ4の表
面を活性化処理してから感光膜を均一に塗布して乾固
し、レーザー露光装置により直接画像を焼き付けるか、
フィルムを重ねて露光して画像を焼き付け、次いで、現
像してからエッチングすることにより、前記バラードメ
ッキ被膜3が露出するようにインキを収容するセル5を
前記クロムメッキ4に形成し、次いで、レジスト剥離す
れば、グラビア印刷版が完成する。この版は、バラード
メッキ被膜3が露出した銅色の鮮やかな画像が得られ
る。切手や印紙等の印刷のように、スクリン線数が例え
ば300本/インチと大きくして高精細な印刷が必要な
ときは、シャドウ部におけるスクリン線の幅が極めて小
さくなり、そのために、ドクターの摺接に対して耐刷力
が不十分となるときは、上記のレジスト剥離の後に、1
〜2μmの膜厚のクロムメッキを版全面に付ける。この
ようにすると、クロムメッキのスクリン線の耐刷力が大
きくなる。 【0007】このグラビア印刷版は、クロムメッキ被膜
4の膜厚を容易かつ正確に制御できる。従って、バラー
ドメッキ被膜3が露出するようにクロムメッキ被膜4を
エッチングするのは、セル5の深さをハイライト部から
シャドウ部のいずれにおいても等しく得られるためであ
る。その結果、ハイライト部からシャドウ部までのイン
キの転移量をセルの面積に完全に比例させることがで
き、もって、ハイライト部からシャドウ部までの濃淡階
調度を直線的に変化させることができ、濃淡階調度が豊
かでシャープなグラビア画像が得られる。このグラビア
印刷版は、セル5の深さが5〜10μmとして、光硬化
性インキや水溶性インキを使用してインキの膜厚を小さ
くする印刷に適しているが、インキの膜厚を大きくする
必要がある印刷にあっては、クロムメッキ4の膜厚を例
えば10〜20μmと大きくすれば良い。この凹版は、
使用後にバラードメッキ3を引き裂いて取り除けば落版
ができるので、版に繰り返し使用性が生じ、経済的で好
ましい。 【0008】図2は、本願発明のグラビア印刷版のセル
の表面形状を示す。このグラビア印刷版は、最シャドウ
部(限定するものでないが、例えば80%の開孔率)が
六角形のドットを敷き詰めた形状である。そして、最シ
ャドウ部以外の大きさのドットが、最シャドウ部のドッ
トを敷き詰めた時の各六角形の中心に位置するように分
布している。濃淡階調度が0%超〜8%以下のライト部
のセルは、円形中心部より二本の短線が放射する放射形
であり、かつ濃淡階調度に対応するように略相似形を維
持して漸次に大きくなっている。濃淡階調度が8%超〜
25%以下のライト部のセルは、円形中心部より六本の
短線が放射する放射形であり、かつ濃淡階調度に対応す
るように略相似形を維持して漸次に大きくなっている。
図示しない、濃淡階調度が25%超〜35%未満のライ
ト部ないし中間調部のセルを設けるときは、円形中心部
より六本の短線が放射する放射形であり、そして、濃淡
階調度に対応するように、25%のライト部のセルに比
べて、円形より放射する短線の長さが同じで、短線の幅
及び円形中心部の径が漸次に大きくなっている。濃淡階
調度が35%超〜64%以下の中間調部ないしシャドウ
部のセルは、円形中心部より六本の短線が放射する放射
形であり、かつ濃淡階調度に対応するように略相似形を
維持して漸次に大きくなっている。図示しない、濃淡階
調度が64%超〜75%未満のシャドウ部のセルを設け
るときは、円形中心部より六本の短線が放射するセルか
ら六角形のセルに漸次に変移する形状である。濃淡階調
度が75%以上のシャドウ部のセルないし〜80%のシ
ャドウ部のセル(この実施の態様において、80%のシ
ャドウ部のセルはベタ印刷に対応している)は、略六角
形であり、かつ濃淡階調度に対応するようにほぼ相似形
を維持して漸次に大きくなっている。このグラビア印刷
版は、0%超〜64%以下のセルが、円形中心部より複
数本の短線が放射する放射形であるので、インキの分散
性が高くなる。このグラビア印刷版は、表面張力の影響
を受けやすいライト部のセルの表面形状を、円形中心部
より二本以上の短線が放射する放射形、又は中心を集合
点として三本以上の短線が放射する放射形にすると、表
面張力の影響を解消できる。 【0009】 【実施例】20ミクロンの膜厚にバラード銅メッキして
鏡面・円筒研磨し10μmの膜厚になるように形成した
クロムメッキ被膜の表面を活性化処理してから、アルゴ
ン・ネオンガスレーザによって硬化し得る高感度特性を
有する感光性樹脂膜を2ミクロンの厚さとなるように塗
布して乾固し、次いで、感光性樹脂膜にレーザ露光装置
により、感光性樹脂膜にネガチブな印刷情報を書き込ん
だ後、現像を行って感光性樹脂膜の未露光部分を溶解し
て後、レジストを加熱硬化してからバラードメッキ被膜
が露出するようにクロムメッキ被膜に対してエッチング
してポジチブな印刷画像を彫り込み、レジスト剥離して
グラビア印刷版を完成させ、印刷テストをしたところ、
ライト部の印刷がインキが転移せずに白く見えるポイン
トを大幅に無くした印刷物が得られた。また、インキの
分散性も大幅に向上した。 【0010】 【発明の効果】以上説明してきたように、本願第一及び
第二発明のグラビア印刷版によれば、セルの深さをハイ
ライト部からシャドウ部まで均一にすることができ、濃
淡階調度を直線的に変化させることができ、濃淡階調度
が豊かでシャープなグラビア画像が得られる。さらに、
本願第二発明のグラビア印刷版によれば、ライト部のセ
ルの表面形状を、円形中心部より二本以上の短線が放射
する放射形、又は中心を集合点として三本以上の短線が
放射する放射形にしたので、ライト部のセルの表面形状
をインキの表面張力の影響を受けず、インキの分散性が
向上し、セルからの被印刷物へのインキの転移性が良好
であり、ライト部の白抜けを無くした良好な印刷物が得
られる。
【図面の簡単な説明】 【図1】本願発明の実施の形態にかかるグラビア印刷版
に係り、(a)はロール状のグラビア印刷版用版材を示
す断面図、(b)はグラビア印刷版用版材の拡大断面
図、(c)はグラビア印刷版用版材のクロムメッキにセ
ルをエッチング形成した状態を示す拡大断面図である。 【図2】本願発明の実施の形態にかかるグラビア印刷版
のハイライト部からシャドウ部までの十段階のドット%
におけるセルの表面形状を示す図。 【符号の説明】 1 ・・・・版基材 2 ・・・・下地金属被膜 3 ・・・・バラードメッキ被膜 4 ・・・・クロムメッキ被膜 5 ・・・・セル

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 版基材に銅被膜、ニッケル被膜、又は銅
    若しくはニッケルの合金被膜のいずれかの下地金属被膜
    を形成し、該下地金属被膜の表面にバラードメッキ被膜
    を形成し、該バラードメッキ被膜の表面に、膜厚がセル
    の深さに等しくなるようにクロムメッキ被膜を形成し、
    該クロムメッキ被膜に前記バラードメッキ被膜が露出す
    るようにインキを収容するセルを形成してなることを特
    徴とするグラビア印刷版。 【請求項2】 版基材に銅被膜、ニッケル被膜、又は銅
    若しくはニッケルの合金被膜のいずれかの下地金属被膜
    を形成し、該下地金属被膜の表面にバラードメッキ被膜
    を形成し、該バラードメッキ被膜の表面に、膜厚がセル
    の深さに等しくなるようにクロムメッキ被膜を形成し、
    該クロムメッキ被膜に前記バラードメッキ被膜が露出す
    るようにインキを収容するセルを形成し、さらに、全面
    に微小のクロムメッキを付けてなることを特徴とするグ
    ラビア印刷版。 【請求項3】 前記セルの中、ライト部のセルの表面形
    状が、円形中心部より二本以上の短線が放射する放射
    形、又は中心を集合点として三本以上の短線が放射する
    放射形であることを特徴とする〔請求項1〕又は〔請求
    項2〕に記載のグラビア印刷版。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004136674A (ja) * 2002-10-17 2004-05-13 Hell Gravure Systems Gmbh 凹版印刷に用いられる印刷版を製造するための方法、凹版印刷に用いられる印刷版およびその使用
JP4859849B2 (ja) * 2006-01-31 2012-01-25 株式会社シンク・ラボラトリー グラビア印刷方法
JP2020121412A (ja) * 2019-01-29 2020-08-13 三洋グラビア株式会社 印刷方法及び包装用樹脂フィルム印刷体の製造方法

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JP4859849B2 (ja) * 2006-01-31 2012-01-25 株式会社シンク・ラボラトリー グラビア印刷方法
JP2020121412A (ja) * 2019-01-29 2020-08-13 三洋グラビア株式会社 印刷方法及び包装用樹脂フィルム印刷体の製造方法

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