JPH11316934A

JPH11316934A - 磁気記録ディスク用ポリエステルフィルム

Info

Publication number: JPH11316934A
Application number: JP13611598A
Authority: JP
Inventors: Hidekazu Kato; 秀和加藤; Masami Kuno; 政己久野
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1998-04-30
Filing date: 1998-04-30
Publication date: 1999-11-16

Abstract

(57)【要約】【課題】特定の摩擦係数をフィルムに与えることによ
って剛性が低く表面が平滑であっても表面欠点の少な
い、さらに該フィルムのオリゴマー量を制御した磁気記
録ディスク用ポリエステルフィルムを提供する。【解決手段】平均粒径０．０４μｍ以上０．３μｍ未
満の粒子を０．２〜０．４重量％含有するとともに、平
均粒径０．５μｍ以上の粒子は実質的に含有しないポリ
エステル樹脂からなり、厚さが２５〜７０μｍ、フィル
ム表面の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）が４〜７ｎｍで、
オリゴマー量が４５ｍｇ／ｍ²以下であることを特徴と
する磁気記録ディスク用ポリエステルフィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録ディスク
用ポリエステルフィルムに関し、とくに、フィルム表面
が平滑でありながら表面欠点の生じにくい、高密度、高
容量化が可能な高性能磁気記録ディスク用ポリエステル
フィルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年のパーソナルコンピューター等の普
及とともに記憶装置としてのフロッピーディスクドライ
ブ装置およびフロッピーディスクは広く普及し、また、
フロッピーディスクの大容量化、高密度化も平行して進
行しつつある。フロッピーディスクは、二軸延伸ポリス
テルフィルムに磁性層を塗布して平滑化処理を行ない、
ディスク形状に打ち抜いて製造するのが一般的であり、
磁性層塗布には予め易接着層を設けることが多い。

【０００３】磁気記録ディスクの高密度記録化にはディ
スク本体に起因する記録エラーを低減することが重要だ
が、ディスク起因の記録エラーの大きな部分として支持
体である二軸延伸ポリエステルフィルムの表面欠点を原
因とするものがある。表面欠点には、フィルム表面の
傷、しわ、ロール状にフィルムを巻取った時の巻き締り
跡等の変形などが挙げられ、これらはフィルム製膜中や
フロッピーディスク製造時に発生するものである。そこ
で、フロッピーディスク製造者側からは製造工程数を減
らして表面欠点発生の機会を少なくする目的で、磁性層
に対する易接着層をポリエステルフィルムが求められる
ことが多い。このことは一方で、製造コストの削減とい
う効果もある。この他にフィルム中の異物が表面欠点と
なる場合もある。

【０００４】従来はフロッピーディスク用のフィルム厚
さは７５μｍに統一されていたが、この程度の厚さがあ
るとフィルムの剛性度がかなりあるため上記のようなし
わ、フィルム変形が起こりにくく表面欠点を実用レベル
に抑えることが可能であった。また、現在最も普及して
いる３．５インチ型フロッピーディスクにおける記録密
度では、表面形成のためポリエステル中に含有させる粒
子として、主体となる比較的小さな粒子の他にスパイク
粒子と称する平均粒径１．５μｍ程度のかなり大きな粒
子を添加することが許容されていた。これによってもフ
ィルム表面の傷の発生の面で有利であった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】フロッピーディスクの
高密度記録方法として最近提案されているものは、高速
の書込み読出しを可能にするため磁気ヘッドの記録再生
においてフロッピーディスクの柔軟性を利用しており、
フィルム厚さとして従来の７５μｍではなく７０μｍ以
下、さらには６５μｍ以下が求められている。６５μｍ
の場合、厚さとしては約１５％以上の減少ではあるが、
フィルムの剛性度は概略厚さの３乗に比例することを考
慮すると、最低でも剛性度は４０％低下することにな
り、これが新しい磁気記録方式において重要である反
面、フィルム製膜や加工工程でのフィルムのしわ、巻き
締り跡等の変形などの発生が著しく増加する問題が起こ
った。更に、表面粗さについても当然平滑化が必要とな
り、粒径の大きな無機粒子の添加も許容されなくなるた
めフィルム表面の傷という面で不利である。また、従来
の厚みの易滑層を有するフィルムに、磁気記録ディスク
製造者側で磁性層を塗布後、ディスク状に打ち抜いた状
態で一定期間放置すると、ディスク表面にオリゴマーが
発生するため好ましくないという問題もある。

【０００６】本発明は、このような従来技術における近
年の状況に鑑み、特定の摩擦係数をフィルムに与えるこ
とによって剛性が低く表面が平滑であっても表面欠点が
少なく、易滑層を薄くすることでオリゴマー発生を制御
したフィルムが得られることを見い出したもので、高密
度記録フロッピー用のベースフィルムへの要求を満たす
フィルムを安定的に提供することを課題とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の磁気記録ディスク用ポリエステルフィルム
は、平均粒径０．０４μｍ以上０．３μｍ未満の粒子を
０．２〜０．４重量％含有するとともに、平均粒径０．
５μｍ以上の粒子は実質的に含有しないポリエステル樹
脂からなり、厚さが２５〜７０μｍ、フィルム表面の中
心線平均表面粗さ（Ｒａ）が４〜７ｎｍであることを特
徴とするものからなる。

【０００８】この本発明に係る磁気記録ディスク用ポリ
エステルフィルムによって、該フィルムの表面、望まし
くは両面が、特定の摩擦係数、つまり、フィルム同士の
静摩擦係数が０．４〜０．６、動摩擦係数が０．３〜
０．５の範囲に制御される。

【０００９】また、本発明に係る磁気記録ディスク用ポ
リエステルフィルムは、易滑層を０．０１〜０．０３μ
ｍの厚さ（ドライ）で積層することで、該フィルムのオ
リゴマー量が４５ｍｇ／ｍ²以下に制御される。

【００１０】本発明に係る磁気記録ディスクは、このよ
うな磁気記録ディスク用ポリエステルフィルムフィルム
を用いて製造されたもので、とくに、１００ＭＢ以上の
容量を有することができる。ディスクサイズとしてはと
くに限定されないが、最も汎用的な３．５インチサイズ
が好ましい。トラック密度としては、２０００トラック
／インチ以上の高密度が可能である。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明を、望ましい実施の
形態とともに詳細に説明する。本発明の磁気記録ディス
ク用ポリエステルフィルムを構成するポリエステル樹脂
とは、主な酸成分、グリコール成分の各々を芳香族ジカ
ルボン酸、脂肪族グリコールとする実質的に線状のポリ
エステルである。芳香族ジカルボン酸成分としては、例
えばテレフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、イソフタ
ル酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルエーテルジ
カルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェ
ニルケトンジカルボン酸などを用いることができる。脂
肪族グリコールとしては、例えばエチレングリコール、
ジエチレングリコール、トリメチレングリコール、テト
ラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコールなど
の炭素数２〜１０のポリメチレングリコール、シクロヘ
キサンジメタノールなどの脂環族グリコールなどを用い
ることができる。これらのポリエステルのうち、特にポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナ
フタレート、あるいは全ジカルボン酸成分、全グリコー
ル成分の各々の８０モル％以上がテレフタル酸および／
または２，６−ナフタレンジカルボン酸、エチレングリ
コールである共重合ポリエステルが好ましい。また、酸
成分、グリコール成分の各々の２０モル％未満で共重合
できる成分は上記以外に、酸成分としては例えばアジピ
ン酸、セバシン酸、アジピン酸、ダイマー酸、ドデカジ
オン酸などの脂肪族ジカルボン酸、トリメリット酸など
の３官能カルボン酸、シクロヘキサン−１，４−ジカル
ボン酸などの脂環族ジカルボン酸などがあり、グリコー
ル成分としてはポリエチレングリコール、ポリプロピレ
ングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどのポ
リアルキレングリコール、ハイドロキノンなどの芳香族
ジオールなどがある。

【００１２】上記ポリエステルは各種の方法で製造で
き、重合触媒として代表的には３酸化アンチモン等のア
ンチモン系、２酸化マンガン等のマンガン系、２酸化ゲ
ルマニウム等のゲルマニウム系、各種チタン化合物を用
いることができる。ポリマの固有粘度としてはとくに限
定されないが、２５℃、ｏ−クロロフェノール中の溶液
としての測定値にて０．４〜１．９のものが好ましい。

【００１３】本発明に係る磁気記録ディスク用ポリエス
テルフィルムは、磁気記録ディスクに要求される機械特
性、等方性等の点から、とくに二軸配向ポリエステルフ
ィルムからなることが好ましい。

【００１４】本発明で使用するポリエステル樹脂は、平
均粒径０．０４μｍ以上０．３μｍ未満の粒子を０．２
〜０．４重量％含有し、平均粒径０．５μｍ以上の粒子
は実質的に含有しない。粒子としては外部添加粒子が好
ましく、内部析出粒子は粒子径のコントロールが難しい
ためこれを主な粒子とすることは好ましくない。外部添
加粒子としては炭酸カルシウム、コロイダルシリカ、凝
集シリカ、アルミナ、有機粒子などの単分散粒子あるい
は凝集粒子を用いることができる。表面粗さの再現性、
粗大な突起を減少させる等の観点から、単分散粒子のう
ち特にコロイダルシリカ、有機粒子が主な粒子として含
有される場合が好ましく、更に球状粒子であることが好
ましい。また、粒径の異なる粒子を組合せて（例えばコ
ロイダルシリカと炭酸カルシウム、有機粒子とアルミナ
など）添加してもよく、有機粒子としては、架橋ジビニ
ルベンゼン粒子、シリコーン粒子などを用いることがで
きる。含有される粒子の平均粒径は０．０４μｍ以上
０．３μｍ未満であり、好ましくは０．０５μｍ〜０．
２μｍ、更に好ましくは０．０８〜０．１５μｍであ
る。含有粒子の平均粒径が０．０４μｍ未満では表面の
易滑性が十分ではなく、０．３μｍ以上では記録出力が
低下するため好ましくない。含有量は所定の表面粗さを
得るために０．２〜０．４重量％の範囲で適宜選択され
る。好ましくは０．２〜０．３５重量％、より好ましく
は０．２５〜０．３５重量％である。更に本発明では、
高密度記録化に合わせ磁性層が薄くなることに対応する
ため、平均粒径０．５μｍ以上、好ましくは０．４μ
ｍ、更に好ましくは０．３μｍ以上の粒子は実質的に含
有されない。ここで実質的に含有されないとは０．０５
重量％未満を目安とする。

【００１５】本発明のポリエステルフィルムは上述のよ
うに高密度磁気記録ディスク用であるため、厚さは２５
〜７０μｍであり、好ましくは２５〜６５μｍである。
フィルム表面（好ましくは、両面）の中心線平均表面粗
さ（Ｒａ）は４〜７ｎｍであり、好ましくは４．５〜
６．５ｎｍである。これらは高密度記録方式の要請を充
たすもので、フィルム厚さ２５μｍ未満ではディスクと
しての剛性が極端に低く、７０μｍを越えると磁気ヘッ
ドによる記録再生においてフィルムの柔軟性が不足する
ため好ましくない。また、表面粗さが４ｎｍ未満ではフ
ィルム製造時に極端に傷が発生しやすくなり、７ｎｍを
越えると記録出力が低下するため好ましくない。なお、
中心線平均表面粗さについて、後述の易滑層がフィルム
表面に積層されている場合は易滑層表面を測定した値を
意味する。

【００１６】本発明におけるポリエステルフィルムは上
述のように高密度磁気記録ディスク用であるため、フィ
ルム表面（好ましくは、両面）の中心面平均粗さ（ＳＲ
ａ）は６〜１０ｎｍの範囲にあることが好ましく、より
好ましくは７〜９ｎｍの範囲である。これらは高密度記
録方式の要請を充たすもので、中心面平均表面粗さ（Ｓ
Ｒａ）が６ｎｍ未満ではフィルム製造時に極端に傷が発
生しやすくなり、１０ｎｍを越えると記録出力が低下す
るため好ましくない。なお、中心面平均表面粗さについ
て、後述の易滑層がフィルム表面に積層されている場合
は易滑層表面を測定した値を意味する。

【００１７】さらに、本発明におけるポリエステルフィ
ルムは上述のように高密度磁気記録ディスク用であるた
め、フィルム表面（好ましくは、両面）の突起最大高さ
（ＳＲｍａｘ）が１５０ｎｍ以下であることが好まし
く、より好ましくは１３０ｎｍ以下である。これも高密
度記録方式の要請を充たすもので、突起最大高さ（ＳＲ
ｍａｘ）が１５０ｎｍを越えるとフィルム製造時に極端
に傷が発生しやすくなる。この突起最大高さについて
も、後述の易滑層がフィルム表面に積層されている場合
は易滑層表面を測定した値を意味する。

【００１８】本発明に係るポリエステルフィルムにおい
ては、フィルム同士の静摩擦係数は０．４〜０．６の範
囲にあることが好ましく、より好ましくは０．４５〜
０．５５の範囲である。動摩擦係数は０．３〜０．５の
範囲にあることが好ましく、より好ましくは０．３５〜
０．４５の範囲である。剛性度が低く表面平滑な磁気記
録ディスク用フィルムについて、製膜工程中および磁性
層加工工程での表面欠点を防止するには摩擦係数をこの
ように特定の範囲とする必要があり、例えば、摩擦係数
が上記範囲より大きい場合、工程内のロール上での走行
中あるいはロール状に巻き取る際、フィルムにしわや傷
が発生しやすくなる。反対に上記範囲より小さい場合に
もフィルムが走行する際にずれや振動が起こりやすく、
しわや傷の原因となる。

【００１９】本発明のポリエステルフィルムには、摩擦
係数をコントロールするために単分散粒子を含有した易
滑層をフィルム表面に積層してもよい。単分散粒子とし
ては平均粒径０．０３〜０．３μｍが好ましく、含有量
は１×１０⁵個／ｍｍ²〜１×１０⁸個／ｍｍ²が好ま
しい。ポリエステル樹脂への添加粒子のみで必要な摩擦
係数を得ようとすると、粒子の多くはフィルム内に埋も
れてしまうため平均粒径が大きく添加量も多くなり、大
きな突起が形成されてしまう場合があるのに対して、易
滑層に添加した粒子はポリエステル樹脂界面上に並ぶた
め平均粒径が小さくとも易滑性において有効である。た
だし、単分散粒子が１×１０⁵個／ｍｍ²未満では単分
散粒子同士の間隔が広くなりすぎるために実質的なブロ
ッキング防止効果が薄れために好ましくなく、１×１０
⁸個／ｍｍ²より多い場合には粒子の凝集が生じ易くな
って粒子の脱落や、粗大突起の形成を引き起こすため好
ましくない。単分散粒子としては炭酸カルシウム、コロ
イダルシリカ、アルミナ、有機粒子などがあり、コロイ
ダルシリカ、有機粒子が主な粒子として含有される場合
が好ましい。単分散粒子は球状粒子であることが好まし
く、更に球形比が１．０〜１．３の粒子であることが好
ましい。また、粒径の異なる粒子を組み合せて（例えば
コロイダルシリカと炭酸カルシウム、有機粒子とアルミ
ナなど）添加されていてもよい。有機粒子としては、架
橋ジビニルベンゼン粒子、シリコーン粒子などがある。

【００２０】易滑層に使用する樹脂としては、ポリエス
テル、アクリル、ウレタン、ナイロンなどの各系統の樹
脂およびそれらの混合物を用いることができるが、易滑
層の上に磁性層を積層することになるために易接着性が
あることが好ましく、ポリエステル樹脂、特に水溶性ま
たは水分散性ポリエステル樹脂が好ましく用いられる。
水溶性ポリエステルとしてはスルホン酸塩基含有ポリエ
ステルが代表的であり、５−Ｎａスルホイソフタル酸、
５−アンモニウムスルホイソフタル酸、５−Ｋスルホイ
ソフタル酸、４−Ｎａスルホイソフタル酸などの成分に
よって、スルホン酸塩の基を分子内に導入したポリエス
テル樹脂である。スルホン酸塩の基を有する多価カルボ
ン酸成分は全多価カルボン酸成分の３〜５０モル％、好
ましくは５〜２５モル％含まれる。その他の多価カルボ
ン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、２，
６−ナフタレンジカルボン酸、シクロヘキサン−１，４
−ジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、トリメリッ
ト酸、ピロメリット酸などがある。グリコール成分とし
ては、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、
ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ヘキ
サメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、
ポリテトラメチレングリコールなどがある。易滑層に使
用するポリエステル樹脂はガラス転移点４０℃以上であ
ることが好ましい。フィルム製膜工程あるいは磁性層塗
布工程ともにフィルムは加熱を受けるため、ガラス転移
点が低い樹脂では易滑層が工程内ロールに張り付き、か
えってしわ発生などの原因になる。このような易滑層
が、乾燥後の（ドライの）厚みにて、０．０１〜０．０
３μｍの厚さで積層されることが好ましい。

【００２１】また、本発明に係るポリエステルフィルム
は、高密度磁気記録ディスク用であるため、オリゴマー
量が少ないことが好ましく、クロロフォルム１時間抽出
により定量されるオリゴマー量が４５ｍｇ／ｍ²以下で
あることが好ましく、より好ましくは４０ｍｇ／ｍ²以
下である。これも高密度記録方式の要請を充たすもの
で、内部オリゴマー量が４５ｍｇ／ｍ²を越えると、磁
気記録ディスク製造者側で磁性層塗布後、ディスク状に
打ち抜いた状態で一定期間放置すると、ディスク表面に
オリゴマーが発生するため好ましくない。

【００２２】本発明の二軸配向ポリエステルフィルム
は、上記ポリエステルより公知の方法によって製造する
ことができる。押出機により溶融されたポリエステルは
シート状に口金から押し出され、冷却ドラム上で冷却固
化され、次いで逐次延伸または同時二軸延伸を経て、熱
固定のあと二軸配向フィルムとして巻き取られる。これ
らの製造工程のなかで、フィルムの物性は、縦横方向の
延伸倍率および延伸温度、熱固定温度、さらには縦横方
向にリラックス操作などの条件を適宜選択することから
調整される。

【００２３】本発明における易滑層の積層方法として
は、水性塗剤を調製しフィルム製膜工程内で塗布する方
法、共押出する方法、有機溶剤系の塗剤を調製して製膜
工程とは別途オフラインで塗工する方法などがあるが、
易滑層の厚さ、樹脂の特性、単分散粒子の添加、生産性
等から水性塗剤の塗布による方法が最もで好ましい。水
性塗剤の調製方法としては、樹脂を水に完全に溶解させ
る方法、乳化剤、分散剤等を用いて乳化液、懸濁液を作
る方法などがある。また、この時単分散粒子の添加を行
なうことが好ましく、そのため単分散粒子も水系の分散
液として調製されていることが好ましい。水性塗剤に
は、塗布に際してフィルムへの濡れ性を向上させるため
に界面活性剤（アニオン型、ノニオン型）を添加しても
よい。水性塗剤の塗布は、ポリエステルフィルムの配
向、結晶化が完了する以前に行なうことが必要で、例え
ば逐次二軸延伸製膜工程では縦延伸後のフィルムに塗布
し、横延伸、熱固定を経る間に易接着層とフィルム本体
との密着向上を得る方法が一般的である。塗布方式とし
ては、グラビアコート法、ロールコート法、メイヤバー
法などが用いられ、塗布前のフィルム表面をコロナ処理
等によって濡れ性を向上させる方法などが採られる場合
もある。

【００２４】〔物性の測定方法ならびに効果の評価方
法〕本発明における特性値の測定方法ならびに効果の評
価方法は次の通りである。（１）フィルム表面粗さ（中心線平均表面粗さＲａ）（株）小坂研究所製の触針式表面粗さ計を用いて、触針
荷重８０ｍｇ、測定長４ｍｍ、カットオフ０．２５ｍｍ
の条件で測定した。なお、Ｒａの定義は、例えば奈良治
郎著「表面粗さの測定・評価法」（総合技術センター、
１９８３）に示されているものである。

【００２５】（２）フィルム表面粗さ（中心面平均粗さ
ＳＲａ）（株）小坂研究所製の３次元粗さ計を用いて、触針荷重
６ｍｇ、測定長５００ｍｍ、カットオフ０．２５ｍｍの
条件で測定した。このＳＲａの最大値をフィルム表面の
突起最大高さ（ＳＲｍａｘ）とした。

【００２６】（３）静摩擦係数、動摩擦係数７５ｍｍ（幅）×１００ｍｍ（長さ）のカットフィルム
サンプルを２枚重ねた上に重量２００ｇの荷重（Ｗ）を
乗せ、上側のフィルムを１５０ｍｍ／分の速度で滑ら
せ、滑り始めの引っ張り力（Ｆｓ）から静摩擦係数（μ
ｓ）を、滑らせている時の力（Ｆｄ）から動摩擦係数
（μｄ）を計算する。 μｓ＝Ｆｓ（ｇ）／Ｗ（ｇ）、 μｄ＝Ｆｄ（ｇ）／Ｗ
（ｇ）フィルムは２３℃、６５％ＲＨで２４時間調湿する。

【００２７】（４）フィルム中の粒子の平均粒径、含有
量粒子の平均粒径は、フィルム断面を透過型電子顕微鏡
（ＴＥＭ）を用い、１０万倍以上の倍率で観察する。Ｔ
ＥＭの切片厚さは約１００ｎｍとし、場所を変えて１０
０視野以上測定する。凝集粒子は凝集体について、単分
散粒子の粒径は単分散粒子について、それぞれ等価円相
当径の平均値である。粒子の含有量は、ポリエステルは
溶解し、粒子は溶解させない溶媒を選択し、粒子をポリ
エステルから遠心分離し、粒子の全体重量に対する比率
（重量％）をもって粒子含有量とする。場合によっては
赤外分光法の併用も有効である。

【００２８】（５）易滑層中の単分散粒子の粒径、含有
量、球形比フィルムの易滑層積層面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）
で撮影し、粒子ごとに最大径と最小径を測定し、個々の
粒子の粒径を最大径と最小径の平均として求めた。１０
０個以上の粒子の粒径を測定し、それらの平均値を単分
散粒子の粒径とした。また、ＳＥＭ撮影写真から粒子の
個数を数え、単位面積当りの粒子数を算出して含有量と
した。個々の粒子の最大径／最小径の比を１００個以上
の粒子について求め、それらの平均を球形比とした。

【００２９】（６）フィルム表面欠点の評価透過光、反射光の下で目視でフィルム表面の傷を検査し
た。確認された傷については、３次元粗さ計で傷高さ
（または深さ）を測定した。フィルムのしわ、巻き締り
による変形も同様の照明下で目視により検査した。

【００３０】（７）フィルム内部オリゴマー量１００ｍｌのビーカーに４０ｍｌのクロロフォルム（試
薬特級）を入れ、試料のフィルム１枚をクロロフォルム
に浸し、ビーカーを２４℃に保って１時間抽出する。抽
出した液を新しいクロロフォルム液で希釈する（＋５０
ｍｌ）。これを分光光度計にセットし、吸光度を測定す
る（波長：２２０〜２８０ｎｍ）。この測定において、
波長２５０ｎｍの値（最大値）を読み取り、下記計算式
でオリゴマー量を求めた。オリゴマー量（ｍｇ／ｍ²）＝吸光度（最大値）×６
６．４６９なお、分光光度計としては、（株）日立製作所製の２２
０型ダブルビーム分光光度計を用いた。

【００３１】

【実施例】次に実施例に基づき、本発明の実施態様を説
明する。実施例１（水性塗剤の調製）テレフタル酸８７モル％、５−Ｎａ
スルホイソフタル酸１３モル％、エチレングリコール１
００モル％から得られた重合体と分子量１０００のポリ
エチレングリコールとが重量比８５：１５に混合された
ポリエステルの粉体（ガラス転移点５２℃）を水に加熱
溶解し、平均粒径０．０８μｍ、球形比１．２の球状コ
ロイダルシリカを添加分散させて、固形分濃度２．５重
量％（粒子濃度１重量％）の水性塗剤を調製した。

【００３２】（二軸配向ポリエステルフィルムの製造）
常法により重合したポリエチレンテレフタレート（重合
触媒：酢酸マグネシウム０．１重量％、三酸化アンチモ
ン０．０３重量％、リン化合物としてジメチルフェニル
ホスホネート０．３５重量％使用）を用い、平均粒径
０．１μｍのコロイダルシリカを０．３重量％となるよ
う添加混合した原料ペレットを、１８０℃で３時間真空
乾燥（５Ｔｏｒｒ）した後、押出機に供給して２８５℃
で溶融した。

【００３３】溶融ポリマを高精度濾過した後、口金から
シート状に押出し、表面温度２５℃のキャスティングド
ラムに巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを作っ
た。この未延伸フィルムを８５℃で長手方向に３．４倍
延伸した。次にフィルムの両面をコロナ放電処理し、上
述の水性塗剤をメイヤバーコート法で両面に同じ塗布量
となるように、かつ、最終厚みが０．０２μｍ（ドラ
イ）なるように塗布した。続いて、ステンタを用いて１
０５℃で幅方向に３．７５倍延伸し、さらに定長下２１
５℃で１０秒間熱固定を行ない、１５０℃で横方向に６
％弛緩処理し、厚さ６２μｍの二軸配向ポリエステルフ
ィルムを得た。得られたフィルムは中心線平均表面粗さ
（Ｒａ）が５．９ｎｍ、中心面平均表面粗さ（ＳＲａ）
が９．３ｎｍ、フィルム表面の突起最大高さ（ＳＲｍａ
ｘ）が１２０ｎｍ、フィルム同士の静摩擦係数が０．５
０、動摩擦係数が０．３７、オリゴマー量は４０．５ｍ
ｇ／ｍ²であった。

【００３４】次にフィルムを幅５００ｍｍ長さ１０００
ｍに巻取り張力１０ｋｇ／ｍでスリットして６インチ紙
コアに巻き取り、１０本のロールを作成した。各ロール
について表面欠点の検査を行ったが、傷、しわなどの発
生は１０本のロール全て確認されなかった。

【００３５】実施例２実施例１と同じ水性塗剤を用い、ポリエステルフィルム
の製造においては、実施例１と同じ粒子処方でコロイダ
ルシリカの添加量を０．２重量％とした原料を用い、実
施例１と同様の方法で厚さ６２μｍのフィルムを得た。
得られたフィルムは中心線平均表面粗さ（Ｒａ）が４．
６ｎｍ、中心面平均表面粗さ（ＳＲａ）が７．５ｎｍ、
フィルム表面の突起最大高さ（ＳＲｍａｘ）が１１５ｎ
ｍ、フィルム同士の静摩擦係数が０．５９、動摩擦係数
が０．４０、オリゴマー量は３９．８ｍｇ／ｍ²であっ
た。次に実施例１と同様のスリットを行い１０本のロー
ルを作成した。各ロールについて表面欠点の検査を行っ
たが、傷、しわなどの発生は１０本のロール全て確認さ
れなかった。

【００３６】比較例１水性塗剤の固形分濃度を５．０重量％とした以外は実施
例１と同じ方法で厚さ６２μｍのフィルムを得た。得ら
れたフィルムは中心線平均表面粗さ（Ｒａ）が７．１ｎ
ｍ、中心面平均表面粗さ（ＳＲａ）が１２．１ｎｍ、フ
ィルム表面の突起最大高さ（ＳＲｍａｘ）が１４５ｎ
ｍ、フィルム同士の静摩擦係数が０．４４、動摩擦係数
が０．３３、オリゴマー量は５１．９ｍｇ／ｍ²であっ
た。次に実施例１と同様のスリットを行い１０本のロー
ルを作成した。各ロールについて表面欠点の検査を行っ
たところ、６本のロールにすり傷の発生が確認された。

【００３７】比較例２水性塗剤の固形分濃度を１．３重量％とした以外は実施
例１と同じ方法で厚さ６２μｍのフィルムを得た。得ら
れたフィルムは中心線平均表面粗さ（Ｒａ）が４．８ｎ
ｍ、中心面平均表面粗さ（ＳＲａ）が７．２ｎｍ、フィ
ルム表面の突起最大高さ（ＳＲｍａｘ）が１４５ｎｍ、
フィルム同士の静摩擦係数が０．６４、動摩擦係数が
０．４１、オリゴマー量は２９．０ｍｇ／ｍ²であっ
た。次に実施例１と同様のスリットを行い１０本のロー
ルを作成した。各ロールについて表面欠点の検査を行っ
たところ、２本のロールにしわが生じた。また、ディス
ク製造者側工程での易接着性、削れ性の問題が発生し
た。

【００３８】比較例３水性塗剤を塗布しなかった以外は実施例１と同様にして
６２μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得ら
れたフィルムは中心線平均表面粗さ（Ｒａ）が４．５ｎ
ｍ、中心面平均表面粗さ（ＳＲａ）が５．９ｎｍ、フィ
ルム表面の突起最大高さ（ＳＲｍａｘ）が１１５ｎｍ、
フィルム同士の静摩擦係数が１．４６、動摩擦係数が
０．８２、オリゴマー量は２７．２ｍｇ／ｍ²であっ
た。次に実施例１と同様のスリットを行い１０本のロー
ルを作成した。各ロールについて表面欠点の検査の行っ
たところ、４本のロールにしわが生じ、ロールはブロッ
キング傾向を示した。また、ディスク製造者側工程での
易接着性、削れ性の問題が発生した。

【００３９】上記実施例１、２、比較例１〜３の結果を
まとめて表１に示す。

【００４０】

【表１】

【００４１】

【発明の効果】本発明により、フィルムが薄く表面平滑
な高密度磁気記録ディスク用フィルムにおいて、特定の
粒子含有形態、特定の形態に制御することにより、望ま
しいフィルム同士の摩擦係数を与えることができ、フィ
ルム製膜工程および磁性層塗布等の加工工程で表面欠点
が発生するのを防止することができる。また、易滑層の
積層厚みを薄くすることで、フィルムのオリゴマー量を
コントロールすることができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＣ０８Ｌ 67/02 Ｃ０８Ｌ 67/02 Ｃ０９Ｄ 5/00 Ｃ０９Ｄ 5/00 Ｇ // Ｂ２９Ｋ 67:00 Ｂ２９Ｌ 9:00 Ｃ０８Ｌ 67:00

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】平均粒径０．０４μｍ以上０．３μｍ未
満の粒子を０．２〜０．４重量％含有するとともに、平
均粒径０．５μｍ以上の粒子は実質的に含有しないポリ
エステル樹脂からなり、厚さが２５〜７０μｍ、フィル
ム表面の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）が４〜７ｎｍであ
ることを特徴とする磁気記録ディスク用ポリエステルフ
ィルム。
【請求項２】フィルム同士の静摩擦係数が０．４〜
０．６、動摩擦係数が０．３〜０．５である、請求項１
の磁気記録ディスク用ポリエステルフィルム。
【請求項３】二軸配向フィルムからなる、請求項１ま
たは２の磁気記録ディスク用ポリエステルフィルム。
【請求項４】フィルム表面の中心面平均粗さ（ＳＲ
ａ）が６〜１０ｎｍの範囲にある、請求項１ないし３の
いずれかに記載の磁気記録ディスク用ポリエステルフィ
ルム。
【請求項５】フィルム表面の突起最大高さ（ＳＲｍａ
ｘ）が１５０ｎｍ以下である、請求項１ないし４のいず
れかに記載の磁気記録ディスク用ポリエステルフィル
ム。
【請求項６】フィルム表面に平均粒径０．０３〜０．
３μｍの単分散粒子を含有する易滑層が積層されてい
る、請求項１ないし５のいずれかに記載の磁気記録ディ
スク用ポリエステルフィルム。
【請求項７】易滑層が０．０１〜０．０３μｍの厚さ
（ドライ）で積層されている、請求項６の磁気記録ディ
スク用ポリエステルフィルム。
【請求項８】クロロフォルム１時間抽出により定量さ
れるオリゴマー量が４５ｍｇ／ｍ²以下である、請求項
１ないし７のいずれかに記載の磁気記録ディスク用ポリ
エステルフィルム。
【請求項９】フィルム表面に水溶性または水分散性樹
脂を塗布後延伸されている、請求項１ないし８のいずれ
かに記載の磁気記録ディスク用ポリエステルフィルム。
【請求項１０】請求項１ないし９のいずれかに記載の
磁気記録ディスク用ポリエステルフィルムフィルムを用
いて製造された１００ＭＢ以上の容量を有する磁気記録
ディスク。
【請求項１１】３．５インチサイズである、請求項１
０の磁気記録ディスク。