JPH11315083A - 3―グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシランの製法 - Google Patents
3―グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシランの製法Info
- Publication number
- JPH11315083A JPH11315083A JP11030128A JP3012899A JPH11315083A JP H11315083 A JPH11315083 A JP H11315083A JP 11030128 A JP11030128 A JP 11030128A JP 3012899 A JP3012899 A JP 3012899A JP H11315083 A JPH11315083 A JP H11315083A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- platinum
- reaction
- trialkoxysilane
- alkyl group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 9
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 48
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 40
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 12
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 20
- -1 glycidyloxypropyl Chemical group 0.000 claims description 19
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 claims description 6
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 claims description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 claims description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 1
- 239000002638 heterogeneous catalyst Substances 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 7
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 6
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 6
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 6
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 6
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- NDBYXKQCPYUOMI-UHFFFAOYSA-N platinum(4+) Chemical compound [Pt+4] NDBYXKQCPYUOMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000007210 heterogeneous catalysis Methods 0.000 description 3
- 238000007172 homogeneous catalysis Methods 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 description 3
- VJRVYLRYHDIJAX-UHFFFAOYSA-N 2-(prop-1-en-2-yloxymethyl)oxirane Chemical compound CC(=C)OCC1CO1 VJRVYLRYHDIJAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 2
- HRGDZIGMBDGFTC-UHFFFAOYSA-N platinum(2+) Chemical compound [Pt+2] HRGDZIGMBDGFTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NWAHZABTSDUXMJ-UHFFFAOYSA-N platinum(2+);dinitrate Chemical compound [Pt+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O NWAHZABTSDUXMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 150000004052 8-membered heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229940045985 antineoplastic platinum compound Drugs 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- FSIJKGMIQTVTNP-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-methyl-trimethylsilyloxysilane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C=C)C=C FSIJKGMIQTVTNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000012018 catalyst precursor Substances 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical class O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- NMNIYWVCJLLETC-UHFFFAOYSA-N ethoxy-dimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical group CCO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 NMNIYWVCJLLETC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITAHRPSKCCPKOK-UHFFFAOYSA-N ethyl trimethyl silicate Chemical compound CCO[Si](OC)(OC)OC ITAHRPSKCCPKOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011152 fibreglass Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 239000013462 industrial intermediate Substances 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 1
- JSQGUXAPUPEOSA-UHFFFAOYSA-J platinum(4+);tetraacetate Chemical compound [Pt+4].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O JSQGUXAPUPEOSA-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- FBEIPJNQGITEBL-UHFFFAOYSA-J tetrachloroplatinum Chemical compound Cl[Pt](Cl)(Cl)Cl FBEIPJNQGITEBL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1876—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 3−グリシジルオキシプロピルトリアルコキ
シシランの製法 【解決手段】 白金触媒作用不均一系ヒドロシリル化反
応で、アリルグリシジルエーテル: CH2(O)C
HCH2−O−CH2CH=CH2 (II) と一般式: HSi(OR)3
(III)[式中、Rはアルキル基を表
す]のトリアルコキシシランとの反応により、一般式:
CH2(O)CHCH2−O−(CH2)3Si(O
R)3 (I)[式中、Rはアルキル基を表す]の3
−グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシランを製
造する方法において、触媒として、非金属担体物質上の
白金(0)−触媒を使用する。
シシランの製法 【解決手段】 白金触媒作用不均一系ヒドロシリル化反
応で、アリルグリシジルエーテル: CH2(O)C
HCH2−O−CH2CH=CH2 (II) と一般式: HSi(OR)3
(III)[式中、Rはアルキル基を表
す]のトリアルコキシシランとの反応により、一般式:
CH2(O)CHCH2−O−(CH2)3Si(O
R)3 (I)[式中、Rはアルキル基を表す]の3
−グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシランを製
造する方法において、触媒として、非金属担体物質上の
白金(0)−触媒を使用する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、白金−触媒作用ヒ
ドロシリル化反応で、アリルグリシジルエーテル: CH2(O)CHCH2−O−CH2CH=CH2 (II) と一般式: HSi(OR)3 (III) [式中、Rはアルキル基を表す]のトリアルコキシシラ
ンとの反応により、一般式: CH2(O)CHCH2−O−(CH2)3Si(OR)3 (I) [式中、Rはアルキル基を表す]の3−グリシジルオキ
シプロピルトリアルコキシシランを製造する方法に関す
る。
ドロシリル化反応で、アリルグリシジルエーテル: CH2(O)CHCH2−O−CH2CH=CH2 (II) と一般式: HSi(OR)3 (III) [式中、Rはアルキル基を表す]のトリアルコキシシラ
ンとの反応により、一般式: CH2(O)CHCH2−O−(CH2)3Si(OR)3 (I) [式中、Rはアルキル基を表す]の3−グリシジルオキ
シプロピルトリアルコキシシランを製造する方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】3−グリシジルオキシプロピルトリアル
コキシシラン(I)は、オルガノシラン化学における重
要な工業的中間体又は最終生成物である。これは、特に
複合材料における接着助剤として、例えばラッカー及び
ガラス繊維工業で、鋳物工業で、及び接着剤工業で使用
される。この3−グリシジルオキシプロピルトリアルコ
キシシラン(I)は、光学ガラスの被覆の際にも重要な
役割を演じる。
コキシシラン(I)は、オルガノシラン化学における重
要な工業的中間体又は最終生成物である。これは、特に
複合材料における接着助剤として、例えばラッカー及び
ガラス繊維工業で、鋳物工業で、及び接着剤工業で使用
される。この3−グリシジルオキシプロピルトリアルコ
キシシラン(I)は、光学ガラスの被覆の際にも重要な
役割を演じる。
【0003】3−グリシジルオキシプロピルトリアルコ
キシシラン(I)は、次の反応式に従うヒドロシリル化
反応で、水素原子を有するトリアルコキシシラン(II
I)(H−シラン)とアリルグリシジルエーテル(I
I)との反応により製造される: CH2(O)CHCH2OCH2CH=CH2 + HSi(OR)3 −−−>CH2(O)CHCH2O(CH2)3Si(OR)3 この際、Rはアルキル基を表す。R=メチルの場合の3
−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン(GL
YMO)の製造、R=エチルの場合の3−グリシジルオ
キシプロピルトリエトキシシラン(GLYEO)の製造
が記載されている。この反応で、副産物として、(I)
の2種の異性体: CH2(O)CHCH2−O−CH2CH[Si(OR)3]CH3 (IV) (これはイソ−3−グリシジルオキシプロピルトリアル
コキシシランとも称される)及び式:
キシシラン(I)は、次の反応式に従うヒドロシリル化
反応で、水素原子を有するトリアルコキシシラン(II
I)(H−シラン)とアリルグリシジルエーテル(I
I)との反応により製造される: CH2(O)CHCH2OCH2CH=CH2 + HSi(OR)3 −−−>CH2(O)CHCH2O(CH2)3Si(OR)3 この際、Rはアルキル基を表す。R=メチルの場合の3
−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン(GL
YMO)の製造、R=エチルの場合の3−グリシジルオ
キシプロピルトリエトキシシラン(GLYEO)の製造
が記載されている。この反応で、副産物として、(I)
の2種の異性体: CH2(O)CHCH2−O−CH2CH[Si(OR)3]CH3 (IV) (これはイソ−3−グリシジルオキシプロピルトリアル
コキシシランとも称される)及び式:
【0004】
【化1】
【0005】の8員のヘテロ環化合物が生じる。
【0006】更なる副産物は、グリシジルオキシトリア
ルコキシシラン、プロピルトリアルコキシシラン、1−
メチルビニルグリシジルエーテル及びテトラアルコキシ
シラン並びに高沸点成分である。
ルコキシシラン、プロピルトリアルコキシシラン、1−
メチルビニルグリシジルエーテル及びテトラアルコキシ
シラン並びに高沸点成分である。
【0007】1個のC=C−二重結合を有する化合物を
用いるH−シランのヒドロシリル化反応は、連続的又は
非連続的に、かついずれの場合にも貴金属−触媒の存在
下に実施される。3−グリシジルオキシプロピルトリア
ルコキシシラン(I)は、一般に、均一系中で触媒とし
てのヘキサクロロ白金(IV)−酸を用いて製造される
(例えばEP 0277023、EP 028828
6、JP 128763及びDE 2159991参
照)。この均一触媒作用方法の欠点は、この反応の間の
困難な温度制御であり、触媒の強制的に必要な分離除去
及び均一に溶解された触媒の影響下での目的生成物の後
続反応による及び/又は熱処理の際の不所望の「異常値
(Ausreissern)」の結果としての副生成物の形成の増
加である。殊に、触媒が蒸留により後処理される場合に
は、蒸留の間に前記の異性体(IV)及び(V)及び3
−グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシラン
(I)のジマー又はトリマーが形成される。更に、ヘキ
サクロロ白金酸の使用下での方法は、塩素不含の方法で
はなく、このことは、製品品質を損ない、例えばトリア
ルコキシシラン(II)を分解してテトラアルコキシシ
ランにすることを促進する。
用いるH−シランのヒドロシリル化反応は、連続的又は
非連続的に、かついずれの場合にも貴金属−触媒の存在
下に実施される。3−グリシジルオキシプロピルトリア
ルコキシシラン(I)は、一般に、均一系中で触媒とし
てのヘキサクロロ白金(IV)−酸を用いて製造される
(例えばEP 0277023、EP 028828
6、JP 128763及びDE 2159991参
照)。この均一触媒作用方法の欠点は、この反応の間の
困難な温度制御であり、触媒の強制的に必要な分離除去
及び均一に溶解された触媒の影響下での目的生成物の後
続反応による及び/又は熱処理の際の不所望の「異常値
(Ausreissern)」の結果としての副生成物の形成の増
加である。殊に、触媒が蒸留により後処理される場合に
は、蒸留の間に前記の異性体(IV)及び(V)及び3
−グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシラン
(I)のジマー又はトリマーが形成される。更に、ヘキ
サクロロ白金酸の使用下での方法は、塩素不含の方法で
はなく、このことは、製品品質を損ない、例えばトリア
ルコキシシラン(II)を分解してテトラアルコキシシ
ランにすることを促進する。
【0008】EP 0548974には、不均一系貴金
属触媒が記載されており、即ちロジウム及び白金は、金
属として、又は担体材料としての金属を含有する化合物
の形で、かつ、特に3−グリシジルオキシプロピルトリ
アルコキシシラン(I)の製造のために使用可能であ
る。更に、同様にヒドロシリル化による3−グリシジル
オキシプロピルトリアルコキシシラン(I)の製造のた
めに使用される、非金属担体上に固定された貴金属−錯
体も記載されている。
属触媒が記載されており、即ちロジウム及び白金は、金
属として、又は担体材料としての金属を含有する化合物
の形で、かつ、特に3−グリシジルオキシプロピルトリ
アルコキシシラン(I)の製造のために使用可能であ
る。更に、同様にヒドロシリル化による3−グリシジル
オキシプロピルトリアルコキシシラン(I)の製造のた
めに使用される、非金属担体上に固定された貴金属−錯
体も記載されている。
【0009】EP 0262642には、3−グリシジ
ルオキシプロピルトリアルコキシシラン(I)の製造用
のロジウムをベースとする触媒、しかも均一系触媒反応
及び不均一系触媒反応のための触媒が記載されている。
均一系触媒反応のためのロジウム触媒は、約70%の3
−グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシラン
(I)の収率を生じ、担体としての活性炭上にロジウム
5%を含有する、不均一系触媒反応用のそれは70〜8
0%の収率を生じる。白金触媒に比べたロジウム触媒の
利点は、最初の窒素化合物に対する低い敏感性であり、
これにより3−グリシジルオキシプロピルトリアルコキ
シシラン(I)の収率が上昇され、この触媒はより僅か
な活性損失をこうむる。
ルオキシプロピルトリアルコキシシラン(I)の製造用
のロジウムをベースとする触媒、しかも均一系触媒反応
及び不均一系触媒反応のための触媒が記載されている。
均一系触媒反応のためのロジウム触媒は、約70%の3
−グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシラン
(I)の収率を生じ、担体としての活性炭上にロジウム
5%を含有する、不均一系触媒反応用のそれは70〜8
0%の収率を生じる。白金触媒に比べたロジウム触媒の
利点は、最初の窒素化合物に対する低い敏感性であり、
これにより3−グリシジルオキシプロピルトリアルコキ
シシラン(I)の収率が上昇され、この触媒はより僅か
な活性損失をこうむる。
【0010】US−A−4736049には、白金の化
合物又は金属白金で均一に又は不均一に触媒反応され、
一般式RCONR1R2のカルボン酸アミドの存在下に
進行する一般的なヒドロシリル化反応が記載されてい
る。担体触媒には炭素上の白金のみが挙げられている。
カルボン酸アミドの存在は、一般に所望のβ−付加生成
物の生成に好適に作用する。しかしながら、EP 02
62642によれば、窒素化合物は、白金触媒を用いる
3−グリシジルプロピルトリアルコキシシラン(I)の
製造の特別な場合にとっては、品質を低下し、従って不
所望であるとみなされる。
合物又は金属白金で均一に又は不均一に触媒反応され、
一般式RCONR1R2のカルボン酸アミドの存在下に
進行する一般的なヒドロシリル化反応が記載されてい
る。担体触媒には炭素上の白金のみが挙げられている。
カルボン酸アミドの存在は、一般に所望のβ−付加生成
物の生成に好適に作用する。しかしながら、EP 02
62642によれば、窒素化合物は、白金触媒を用いる
3−グリシジルプロピルトリアルコキシシラン(I)の
製造の特別な場合にとっては、品質を低下し、従って不
所望であるとみなされる。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、3−
グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシラン(I)
を製造するための、不均一触媒媒作用の、できるだけ簡
単な改善された方法を提供することである。
グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシラン(I)
を製造するための、不均一触媒媒作用の、できるだけ簡
単な改善された方法を提供することである。
【0012】
【課題を解決するための手段】意外にも、この課題は、
白金触媒作用不均一系ヒドロシリル化反応で、アリルグ
リシジルエーテル: CH2(O)CHCH2−O−CH2CH=CH2 (II) と一般式: HSi(OR)3 (III) [式中、Rはアルキル基を表す]のトリアルコキシシラ
ンとの反応により、一般式: CH2(O)CHCH2−O−(CH2)3Si(OR)3 (I) [式中、Rはアルキル基を表す]の3−グリシジルオキ
シプロピルトリアルコキシシランを製造する方法により
解決され、この際、触媒として非金属担体物質上の白金
(0)−触媒が使用される。
白金触媒作用不均一系ヒドロシリル化反応で、アリルグ
リシジルエーテル: CH2(O)CHCH2−O−CH2CH=CH2 (II) と一般式: HSi(OR)3 (III) [式中、Rはアルキル基を表す]のトリアルコキシシラ
ンとの反応により、一般式: CH2(O)CHCH2−O−(CH2)3Si(OR)3 (I) [式中、Rはアルキル基を表す]の3−グリシジルオキ
シプロピルトリアルコキシシランを製造する方法により
解決され、この際、触媒として非金属担体物質上の白金
(0)−触媒が使用される。
【0013】本発明の方法は、一連の意想外の利点と結
びついている: − 触媒作用均一系ヒドロシリル化とは反対に、触媒の
損失が現れず、触媒を相応する配量系を経て反応に導入
する必要がなく、反応混合物から分離する必要もない、 − 副産物の最少の形成の結果、3−グリシジルプロピ
ルトリアルコキシシラン(I)の形成の選択率は>90
%である、 − 触媒及び全ての成分はクロリド不含であり、これに
より、トリアルコキシシラン(III)が分解してテト
ラアルコキシシランになることが最少にされる、 − 熱処理は良好に制御でき、このことは選択率至適化
に寄与する。約140℃までの温度では、高沸点の線状
の及び低沸点の環状の副産物が非常に僅かに生じるだけ
である、 − 白金は担体物質上で0.01〜1質量%の非常に小
さい濃度でのみ存在すればよい、 − 更に、白金の価格は、ロジウムのそれよりも明らか
に低い、 − この触媒は、簡単な方法で、担体物質に白金(I
I)−又は白金(IV)−化合物の溶液を含浸させるか
又は吹き付け、乾燥させ、かつ、引き続き白金(II)
−又は白金(IV)−化合物を水素雰囲気中で還元して
Pt(0)にすることにより製造できる、 − 均一に溶解された触媒は蒸留に達することがないの
で、ヘテロ環式化合物(V)の形成は確実に阻止され
る、 − その結果、ヘテロ環式化合物(V)を分離する必要
がないので、反応混合物は容易に分離可能である、 − アリルグリシジルエーテル(II)が異性化されて
1−メチルビニルグリシジルエーテルになる(これは均
質な反応系中で促進される)ことが最少にされるので、
僅かなアリルグリシジルエーテル(II)で足りる、 − この方法はカルボン酸アミドなしで実施され、この
ことが純粋なヒドロシリル化生成物の取得を簡単にす
る。
びついている: − 触媒作用均一系ヒドロシリル化とは反対に、触媒の
損失が現れず、触媒を相応する配量系を経て反応に導入
する必要がなく、反応混合物から分離する必要もない、 − 副産物の最少の形成の結果、3−グリシジルプロピ
ルトリアルコキシシラン(I)の形成の選択率は>90
%である、 − 触媒及び全ての成分はクロリド不含であり、これに
より、トリアルコキシシラン(III)が分解してテト
ラアルコキシシランになることが最少にされる、 − 熱処理は良好に制御でき、このことは選択率至適化
に寄与する。約140℃までの温度では、高沸点の線状
の及び低沸点の環状の副産物が非常に僅かに生じるだけ
である、 − 白金は担体物質上で0.01〜1質量%の非常に小
さい濃度でのみ存在すればよい、 − 更に、白金の価格は、ロジウムのそれよりも明らか
に低い、 − この触媒は、簡単な方法で、担体物質に白金(I
I)−又は白金(IV)−化合物の溶液を含浸させるか
又は吹き付け、乾燥させ、かつ、引き続き白金(II)
−又は白金(IV)−化合物を水素雰囲気中で還元して
Pt(0)にすることにより製造できる、 − 均一に溶解された触媒は蒸留に達することがないの
で、ヘテロ環式化合物(V)の形成は確実に阻止され
る、 − その結果、ヘテロ環式化合物(V)を分離する必要
がないので、反応混合物は容易に分離可能である、 − アリルグリシジルエーテル(II)が異性化されて
1−メチルビニルグリシジルエーテルになる(これは均
質な反応系中で促進される)ことが最少にされるので、
僅かなアリルグリシジルエーテル(II)で足りる、 − この方法はカルボン酸アミドなしで実施され、この
ことが純粋なヒドロシリル化生成物の取得を簡単にす
る。
【0014】トリアルコキシシラン(III)中の(及
びそれに伴って3−グリシジルオキシプロピルトリアル
コキシシラン(I)中の)アルキル基は、炭素原子1〜
4を有するアルキル基、殊にメチル基又はエチル基が有
利である。トリメトキシ−及びトリエトキシシランは、
アリルグリシジルエーテル(II)と同様に市場で入手
できるか又はトリクロロシランとメタノール又はエタノ
ールとの反応により製造できる。
びそれに伴って3−グリシジルオキシプロピルトリアル
コキシシラン(I)中の)アルキル基は、炭素原子1〜
4を有するアルキル基、殊にメチル基又はエチル基が有
利である。トリメトキシ−及びトリエトキシシランは、
アリルグリシジルエーテル(II)と同様に市場で入手
できるか又はトリクロロシランとメタノール又はエタノ
ールとの反応により製造できる。
【0015】担体触媒のPt(0)−分を得るための出
発物質としては、任意の、有利に水中に又は他の溶剤中
に可溶性の白金(II)−又は白金(IV)−化合物、
例えば硝酸白金(II)、白金(II)−アセチルアセ
トナト、塩化白金(IV)、酢酸白金(IV)、ヘキサ
クロロ白金(IV)酸、並びにこれらの例えばsymm
−ジビニルテトラメチルジシロキサンとの錯体が好適で
ある。好適な担体物質は、例えば活性炭、酸化アルミニ
ウム、沈殿法又は高熱分解法による二酸化珪素、珪酸
塩、酸化マグネシウム並びに天然又は合成のゼオライト
である。大きい表面積の担体物質が有利であり、従っ
て、完成触媒は、ブルナウアー、エメット及びテラーの
方法(BET−法:P.W.Atkins,Physical Chemistry、
第4版、779頁以降.,Oxford University Press(19
86) )により、N2−吸収を用いて測定された比表面
積10〜400m2/gを有する。
発物質としては、任意の、有利に水中に又は他の溶剤中
に可溶性の白金(II)−又は白金(IV)−化合物、
例えば硝酸白金(II)、白金(II)−アセチルアセ
トナト、塩化白金(IV)、酢酸白金(IV)、ヘキサ
クロロ白金(IV)酸、並びにこれらの例えばsymm
−ジビニルテトラメチルジシロキサンとの錯体が好適で
ある。好適な担体物質は、例えば活性炭、酸化アルミニ
ウム、沈殿法又は高熱分解法による二酸化珪素、珪酸
塩、酸化マグネシウム並びに天然又は合成のゼオライト
である。大きい表面積の担体物質が有利であり、従っ
て、完成触媒は、ブルナウアー、エメット及びテラーの
方法(BET−法:P.W.Atkins,Physical Chemistry、
第4版、779頁以降.,Oxford University Press(19
86) )により、N2−吸収を用いて測定された比表面
積10〜400m2/gを有する。
【0016】製造のために、担体物質に、通常は、白金
(II)−又は白金(IV)−化合物の0.1〜10質
量%水溶液を浸漬させるか又は吹き付けるのが有利であ
る。この溶液の量及び濃度は、完成触媒の白金(0)−
含有率が0.01〜1質量%、有利に0.02〜0.2質
量%であるように配分するのが有利である。白金のより
多い割合は害を及ぼさないが、相応する利点ももたらさ
ない。浸漬の後に、触媒前駆物質を白金−化合物と一緒
に、例えば80℃での空気流中で乾燥させ、かつ80〜
140℃での水素の導入により、この白金化合物を還元
して元素状白金(0)にし、こうして触媒を製造する。
還元は、その場で、即ちヒドロシリル化反応用の反応器
中で実施するのが有利である。
(II)−又は白金(IV)−化合物の0.1〜10質
量%水溶液を浸漬させるか又は吹き付けるのが有利であ
る。この溶液の量及び濃度は、完成触媒の白金(0)−
含有率が0.01〜1質量%、有利に0.02〜0.2質
量%であるように配分するのが有利である。白金のより
多い割合は害を及ぼさないが、相応する利点ももたらさ
ない。浸漬の後に、触媒前駆物質を白金−化合物と一緒
に、例えば80℃での空気流中で乾燥させ、かつ80〜
140℃での水素の導入により、この白金化合物を還元
して元素状白金(0)にし、こうして触媒を製造する。
還元は、その場で、即ちヒドロシリル化反応用の反応器
中で実施するのが有利である。
【0017】ヒドロシリル化反応は、不活性溶剤を共用
せずに、かつ20〜200℃、殊に60〜160℃の温
度で実施するのが有利である。より低い温度では、その
反応速度が実際に使用可能な方法のためには低すぎ、よ
り高い温度では、副産物が著しく生じる。この方法は、
大気圧(1バール絶対)で実施できる。しかしながら、
殊に微粒子状担体物質の場合には、例えば20バール
(絶対)までの高めた圧力を用いる方法で触媒帯域の通
過流を促進することができる。前記温度での滞留時間
は、一般に1〜100分、殊に10〜30分である。出
発物質(II)及び(III)のモル比は、広い範囲内
で変動でき、一般に0.1〜10、殊に0.25〜4の範
囲にある。
せずに、かつ20〜200℃、殊に60〜160℃の温
度で実施するのが有利である。より低い温度では、その
反応速度が実際に使用可能な方法のためには低すぎ、よ
り高い温度では、副産物が著しく生じる。この方法は、
大気圧(1バール絶対)で実施できる。しかしながら、
殊に微粒子状担体物質の場合には、例えば20バール
(絶対)までの高めた圧力を用いる方法で触媒帯域の通
過流を促進することができる。前記温度での滞留時間
は、一般に1〜100分、殊に10〜30分である。出
発物質(II)及び(III)のモル比は、広い範囲内
で変動でき、一般に0.1〜10、殊に0.25〜4の範
囲にある。
【0018】本発明によるヒドロシリル化は、固定配置
された触媒(固定層)を用いて実施するのが有利であ
る。反応器としては、例えば循環系を有する又は有しな
い管状反応器、管束反応器(Rohrbuendelreaktor)、棚
型反応器(Hordenreaktor)、交叉流反応器(Kreuzstromre
aktor)が好適である。この方法は、例えば、垂直に立っ
ている管状反応器中に触媒を配置し、出発物質をそれぞ
れそれ自体で又は混合物として触媒の上を流過させ、こ
れを外部加熱により反応温度に保持する方法で、連続的
に実施することができる。この方法の非連続的な変法で
は、反応混合物を触媒固定層の通過の後に、外部循環系
を経て触媒上に戻し、改めてこの固定層を流過させる。
所望の変換度に達するまでこのプロセスを繰り返す。合
計の滞留時間は、この方法でサイクルと同じ数の時間区
分の数に分けられる。反応実施の方式に無関係に、この
反応混合物は、いずれの場合にも連続的又は非連続的な
蒸留によりその成分に分けられる。
された触媒(固定層)を用いて実施するのが有利であ
る。反応器としては、例えば循環系を有する又は有しな
い管状反応器、管束反応器(Rohrbuendelreaktor)、棚
型反応器(Hordenreaktor)、交叉流反応器(Kreuzstromre
aktor)が好適である。この方法は、例えば、垂直に立っ
ている管状反応器中に触媒を配置し、出発物質をそれぞ
れそれ自体で又は混合物として触媒の上を流過させ、こ
れを外部加熱により反応温度に保持する方法で、連続的
に実施することができる。この方法の非連続的な変法で
は、反応混合物を触媒固定層の通過の後に、外部循環系
を経て触媒上に戻し、改めてこの固定層を流過させる。
所望の変換度に達するまでこのプロセスを繰り返す。合
計の滞留時間は、この方法でサイクルと同じ数の時間区
分の数に分けられる。反応実施の方式に無関係に、この
反応混合物は、いずれの場合にも連続的又は非連続的な
蒸留によりその成分に分けられる。
【0019】本発明の方法で、3−グリシジルオキシプ
ロピルトリアルコキシシラン(I)は、100%までの
変換率で、1000モル/h・gPtまでの空時収率及
び95%までの選択率で得られる。
ロピルトリアルコキシシラン(I)は、100%までの
変換率で、1000モル/h・gPtまでの空時収率及
び95%までの選択率で得られる。
【0020】本発明の方法を更に説明するために次の実
施例を示すが、請求項に記載のように、その用途範囲を
限定するものではない。
施例を示すが、請求項に記載のように、その用途範囲を
限定するものではない。
【0021】
【実施例】例1 その中に触媒層を有し、外部循環系を有する非連続的に
作動する管状反応器中で、出発物質アリルグリシジルエ
ーテル(II)(AGE)及びトリメトキシシラン(I
II)(TMOS)を反応させて3−グリシジルオキシ
プロピルトリメトキシシラン(I)(GLYMO)に
し;触媒層が上から下に流過されるように循環ポンプを
調節した。触媒として、活性炭に硝酸白金(II)の5
質量%水溶液を含浸させ、この白金(II)−化合物を
水素流(100℃で8時間)中で還元することにより製
造された白金0.1質量%を有する活性炭11.2gを使
用し、かつ出発物質として、トリメトキシシラン(II
I)342g(2.8モル)及びアリルグリシジルエー
テル(II)348g(3.05モル)からの混合物を
使用する。この反応を、120℃で等温的に実施し、触
媒への接触時間は、各々のサイクルで3秒である。75
分後に3−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラ
ン(I)が92.2%の選択率で形成された。次の表
に、反応終了後の反応混合物のガスクロマトグラフィで
測定された組成を示す:
作動する管状反応器中で、出発物質アリルグリシジルエ
ーテル(II)(AGE)及びトリメトキシシラン(I
II)(TMOS)を反応させて3−グリシジルオキシ
プロピルトリメトキシシラン(I)(GLYMO)に
し;触媒層が上から下に流過されるように循環ポンプを
調節した。触媒として、活性炭に硝酸白金(II)の5
質量%水溶液を含浸させ、この白金(II)−化合物を
水素流(100℃で8時間)中で還元することにより製
造された白金0.1質量%を有する活性炭11.2gを使
用し、かつ出発物質として、トリメトキシシラン(II
I)342g(2.8モル)及びアリルグリシジルエー
テル(II)348g(3.05モル)からの混合物を
使用する。この反応を、120℃で等温的に実施し、触
媒への接触時間は、各々のサイクルで3秒である。75
分後に3−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラ
ン(I)が92.2%の選択率で形成された。次の表
に、反応終了後の反応混合物のガスクロマトグラフィで
測定された組成を示す:
【0022】
【表1】
【0023】高沸点成分は形成されず、同様に、ヘテロ
環式化合物(V)も生じない。空時収率は、GLYMO
158モル/(h・gPt)である。
環式化合物(V)も生じない。空時収率は、GLYMO
158モル/(h・gPt)である。
【0024】例2 外部循環系を有しない、170cm3の容積を有する連
続的に作動する固定層反応器中で、アリルグリシジルエ
ーテル(II)(AGE)及びトリメトキシシラン(I
II)(TMOS)を120℃で、かつ3バールの圧力
下に反応させて、3−グリシジルオキシプロピルトリメ
トキシシラン(I)にする。この固定層反応器に、例1
の触媒と同様な方法で製造された白金0.02質量%を
有する活性炭70gを触媒として充填する。この固定層
反応器に、トリメトキシシラン(TMOS)2.326
モル/h及びアリルグリシジルエーテル(AGE)2.
561モル/hを供給する。従って、AGE対TMOS
とのモル比は1.1:1である。出発物質の供給は、液
相で配量ポンプを経て行う。次の表に反応混合物(排出
ガス流)のガスクロマトグラフィにより測定した組成を
示す:
続的に作動する固定層反応器中で、アリルグリシジルエ
ーテル(II)(AGE)及びトリメトキシシラン(I
II)(TMOS)を120℃で、かつ3バールの圧力
下に反応させて、3−グリシジルオキシプロピルトリメ
トキシシラン(I)にする。この固定層反応器に、例1
の触媒と同様な方法で製造された白金0.02質量%を
有する活性炭70gを触媒として充填する。この固定層
反応器に、トリメトキシシラン(TMOS)2.326
モル/h及びアリルグリシジルエーテル(AGE)2.
561モル/hを供給する。従って、AGE対TMOS
とのモル比は1.1:1である。出発物質の供給は、液
相で配量ポンプを経て行う。次の表に反応混合物(排出
ガス流)のガスクロマトグラフィにより測定した組成を
示す:
【0025】
【表2】
【0026】トリメトキシシランの変換率は90%であ
り、所望のGLYMO(I)に関する選択率は91.9
%である。イソ−GLYMOに関する選択率は1.83
%であり、テトラメトキシシランに関するそれは6.0
5%である。高沸点成分は形成されず、同様にヘテロ環
式異性体GLYMO(V)も生じない。触媒に接しての
滞留時間は16.8分であり、GLYMOの空時収率は
137.4モル/(h・g Pt)である。反応混合物を
非連続的又は連続的に蒸留後処理し、この際、未反応の
TMOS及びAGEを再び反応器に戻す。
り、所望のGLYMO(I)に関する選択率は91.9
%である。イソ−GLYMOに関する選択率は1.83
%であり、テトラメトキシシランに関するそれは6.0
5%である。高沸点成分は形成されず、同様にヘテロ環
式異性体GLYMO(V)も生じない。触媒に接しての
滞留時間は16.8分であり、GLYMOの空時収率は
137.4モル/(h・g Pt)である。反応混合物を
非連続的又は連続的に蒸留後処理し、この際、未反応の
TMOS及びAGEを再び反応器に戻す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ウヴェ シェーン ドイツ連邦共和国 ラインフェルデン カ ール−フュルステンベルク−シュトラーセ 62
Claims (11)
- 【請求項1】 白金−触媒作用不均一系ヒドロシリル化
反応での、アリルグリシジルエーテル: CH2(O)CHCH2−O−CH2CH=CH2 (II) と一般式: HSi(OR)3 (III) [式中、Rはアルキル基を表す]のトリアルコキシシラ
ンとの反応により、一般式: CH2(O)CHCH2−O−(CH2)3Si(OR)3 (I) [式中、Rはアルキル基を表す]の3−グリシジルオキ
シプロピルトリアルコキシシランを製造する方法におい
て、触媒として、非金属担体物質上の白金(0)−触媒
を使用することを特徴とする、3−グリシジルオキシプ
ロピルトリアルコキシシランの製法。 - 【請求項2】 Rは炭素原子数1〜4を有するアルキル
基である、請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 Rはメチル基又はエチル基である、請求
項1に記載の方法。 - 【請求項4】 アリルグリシジルエーテル(II)及び
トリアルコキシシラン(III)を0.1〜10のモル
比で使用する、請求項1から3のいずれか1項に記載の
方法。 - 【請求項5】 モル比は0.25〜4である、請求項4
に記載の方法。 - 【請求項6】 触媒の白金の質量割合は0.01〜1.0
%であり、担体物質は活性炭、酸化アルミニウム又は二
酸化珪素より成り、触媒の比表面積は10〜400m2
/gである、請求項1から5のいずれか1項に記載の方
法。 - 【請求項7】 触媒の白金の質量割合は0.02〜0.1
%である、請求項6に記載の方法。 - 【請求項8】 触媒はハロゲニド不含である、請求項6
又は7に記載の方法。 - 【請求項9】 反応を20〜200℃の温度で、かつ1
〜20バール(絶対)の圧力下に実施する、請求項1か
ら8のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項10】 温度は60〜160℃の間である、請
求項9に記載の方法。 - 【請求項11】 触媒固定層に接しての反応を、循環系
を有する又は有しない管状反応器中、管束反応器中、棚
型反応器中又は交叉流反応器中で実施する、請求項1か
ら10のいずれか1項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19805083A DE19805083A1 (de) | 1998-02-09 | 1998-02-09 | Verfahren zur Herstellung von 3-Glycidyloxypropyltrialkoxysilanen |
DE19805083.6 | 1998-02-09 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11315083A true JPH11315083A (ja) | 1999-11-16 |
Family
ID=7857071
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11030128A Pending JPH11315083A (ja) | 1998-02-09 | 1999-02-08 | 3―グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシランの製法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6100408A (ja) |
EP (1) | EP0934947B1 (ja) |
JP (1) | JPH11315083A (ja) |
DE (2) | DE19805083A1 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004137475A (ja) * | 2002-09-26 | 2004-05-13 | Hitachi Chem Co Ltd | ボラジン系樹脂の製造方法、ボラジン系樹脂組成物、絶縁被膜及びその形成方法 |
JP2004537600A (ja) * | 2001-08-02 | 2004-12-16 | ダウ・コ−ニング・コ−ポレ−ション | ヒドロシリル化方法 |
JP2010500313A (ja) * | 2006-08-10 | 2010-01-07 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | 3−グリシジルオキシプロピルアルコキシシランの連続的工業的製造のための設備及び方法 |
JP2011137161A (ja) * | 2002-09-26 | 2011-07-14 | Hitachi Chem Co Ltd | ボラジン系樹脂組成物、絶縁被膜及びその形成方法 |
US8362199B2 (en) | 2002-09-26 | 2013-01-29 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Borazine-based resin, process for its production, borazine-based resin composition, insulating film and method for its formation |
JP2015504418A (ja) * | 2011-10-31 | 2015-02-12 | モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッド | 不均一系貴金属触媒を用いる、改善された品質を有する有機ケイ素製品の製造プロセス |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19934576C2 (de) | 1999-07-23 | 2003-12-18 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von Epoxysilanen |
CN1325565C (zh) | 2000-03-31 | 2007-07-11 | 日立化成工业株式会社 | 热固性树脂组合物及使用其的物品 |
US7432387B2 (en) * | 2004-08-24 | 2008-10-07 | Toagosei Co., Ltd. | Process for producing organosilicon compound |
DE102004058000A1 (de) | 2004-12-01 | 2006-06-08 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur kontinuierlichen Hydrosilylierung |
DE102007007185A1 (de) * | 2007-02-09 | 2008-08-14 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Glycidyloxyalkyltrialkoxysilanen |
CN101307070A (zh) * | 2007-05-15 | 2008-11-19 | 德古萨有限责任公司 | 制备环氧硅烷的方法 |
DE102007050199A1 (de) * | 2007-10-20 | 2009-04-23 | Evonik Degussa Gmbh | Entfernung von Fremdmetallen aus anorganischen Silanen |
US11219892B2 (en) * | 2017-10-06 | 2022-01-11 | Virginia Commonwealth University | Carbon based materials as solid-state ligands for metal nanoparticle catalysts |
DE102018210886A1 (de) | 2018-07-03 | 2020-01-09 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Alkylalkoxysilanen |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0633288B2 (ja) * | 1986-10-06 | 1994-05-02 | 東レ・ダウコ−ニング・シリコ−ン株式会社 | 付加反応方法 |
JPH0788394B2 (ja) * | 1987-04-22 | 1995-09-27 | 東燃株式会社 | エポキシ基含有シラン化合物の製造方法 |
JPH02255689A (ja) * | 1989-03-29 | 1990-10-16 | Toshiba Silicone Co Ltd | グリシドキシ基含有有機ケイ素化合物 |
US5250490A (en) * | 1991-12-24 | 1993-10-05 | Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation | Noble metal supported on a base metal catalyst |
KR940005716A (ko) * | 1992-06-11 | 1994-03-22 | 아더 엠. 킹 | 에폭시실리콘 단량체 및 중합체의 합성을 위한 선택적 촉매 |
KR0141464B1 (ko) * | 1993-12-01 | 1998-07-01 | 김은영 | 알릴알킬실란 화합물 및 그의 제조방법 |
-
1998
- 1998-02-09 DE DE19805083A patent/DE19805083A1/de not_active Withdrawn
- 1998-12-23 DE DE59808528T patent/DE59808528D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-12-23 EP EP98124625A patent/EP0934947B1/de not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-02-08 JP JP11030128A patent/JPH11315083A/ja active Pending
- 1999-02-09 US US09/246,953 patent/US6100408A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004537600A (ja) * | 2001-08-02 | 2004-12-16 | ダウ・コ−ニング・コ−ポレ−ション | ヒドロシリル化方法 |
JP2004137475A (ja) * | 2002-09-26 | 2004-05-13 | Hitachi Chem Co Ltd | ボラジン系樹脂の製造方法、ボラジン系樹脂組成物、絶縁被膜及びその形成方法 |
JP2011137161A (ja) * | 2002-09-26 | 2011-07-14 | Hitachi Chem Co Ltd | ボラジン系樹脂組成物、絶縁被膜及びその形成方法 |
US8362199B2 (en) | 2002-09-26 | 2013-01-29 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Borazine-based resin, process for its production, borazine-based resin composition, insulating film and method for its formation |
JP2010500313A (ja) * | 2006-08-10 | 2010-01-07 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | 3−グリシジルオキシプロピルアルコキシシランの連続的工業的製造のための設備及び方法 |
JP2015504418A (ja) * | 2011-10-31 | 2015-02-12 | モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッド | 不均一系貴金属触媒を用いる、改善された品質を有する有機ケイ素製品の製造プロセス |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE19805083A1 (de) | 1999-08-12 |
EP0934947A3 (de) | 2000-11-22 |
EP0934947B1 (de) | 2003-05-28 |
DE59808528D1 (de) | 2003-07-03 |
US6100408A (en) | 2000-08-08 |
EP0934947A2 (de) | 1999-08-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0786464B1 (en) | A method for manufacturing acryloxypropylsilane | |
JPH11315083A (ja) | 3―グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシランの製法 | |
US8742104B2 (en) | Saturated N-heterocyclic carbene-ligand metal complex derivatives, preparing method thereof, and preparing method of silane compound by hydrosilylation reaction using the same as catalyst | |
JP3771307B2 (ja) | ヒドロシリル化方法 | |
JPH08337588A (ja) | アルキルヒドロゲンクロルシランの製造方法 | |
US5359113A (en) | Method for maintaining catalytic activity during a hydrosilylation reaction | |
CA2025864C (en) | Removal of hydrogen-containing silanes from organosilane mixtures | |
EP1252167B1 (en) | High purity organofunctional alkyldialkoxysilanes through inverse addition | |
US3793358A (en) | Process for manufacture of alkenylsilanes | |
US5336799A (en) | Process for the removal of hydrogen-containing silanes from methylchlorosilanes | |
WO2016024611A1 (ja) | ヒドロシリル化反応触媒 | |
JP2562560B2 (ja) | ジメチルクロルシランの製造方法 | |
EP2963046B1 (en) | Mononuclear ruthenium complex and organic synthesis reaction using same | |
JPH04235190A (ja) | 立体的に遮蔽されたアミノヒドロカルビルシラン類および製造方法 | |
EP1756123B1 (en) | Process for making haloorganoalkoxysilanes | |
US5302736A (en) | Process for the removal of hydrogen-containing silanes from silanes | |
JP2013502392A (ja) | クロロシランからハイドロジェンシランへの水素化脱塩素のための触媒および該触媒を用いたハイドロジェンシランの製造方法 | |
US4537983A (en) | Method of preparing 2-phenylethylchlorosilanes | |
US20060167296A1 (en) | Method of preparing halogenoalkyldialkyl chlorosilane | |
KR101133865B1 (ko) | 할로유기알콕시실란의 제조 방법 | |
JPS606358B2 (ja) | アルケニルハロシランの製造方法 | |
JP4470886B2 (ja) | 環状有機ケイ素化合物の製造方法 | |
JP2005530855A (ja) | オルガノジアルキルアルコキシシランの製造方法 | |
JP2985461B2 (ja) | トリアルコキシシランの製造方法 | |
JP2003261578A (ja) | カルボン酸またはアミドの還元によるアルコールまたはアミン類の製造方法 |