JPH11302481A - スチレン系樹脂組成物及び半導体搬送用治具 - Google Patents

スチレン系樹脂組成物及び半導体搬送用治具

Info

Publication number
JPH11302481A
JPH11302481A JP10111248A JP11124898A JPH11302481A JP H11302481 A JPH11302481 A JP H11302481A JP 10111248 A JP10111248 A JP 10111248A JP 11124898 A JP11124898 A JP 11124898A JP H11302481 A JPH11302481 A JP H11302481A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
parts
resin composition
component
styrene
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10111248A
Other languages
English (en)
Inventor
Taizo Sugioka
泰蔵 杉岡
Shinichi Miura
慎一 三浦
Masami Mihara
雅己 三原
Shinobu Yamao
忍 山尾
Masahiro Nakamichi
昌宏 中道
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Idemitsu Petrochemical Co Ltd filed Critical Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Priority to JP10111248A priority Critical patent/JPH11302481A/ja
Priority to US09/291,049 priority patent/US6348540B1/en
Priority to DE19918243A priority patent/DE19918243A1/de
Publication of JPH11302481A publication Critical patent/JPH11302481A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B3/00Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
    • H01B3/18Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances
    • H01B3/30Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes
    • H01B3/44Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes vinyl resins; acrylic resins
    • H01B3/442Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes vinyl resins; acrylic resins from aromatic vinyl compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L25/00Compositions of, homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L25/02Homopolymers or copolymers of hydrocarbons
    • C08L25/04Homopolymers or copolymers of styrene
    • C08L25/06Polystyrene
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L23/00Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L23/02Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • C08L23/04Homopolymers or copolymers of ethene
    • C08L23/08Copolymers of ethene
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L53/00Compositions of block copolymers containing at least one sequence of a polymer obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L53/02Compositions of block copolymers containing at least one sequence of a polymer obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers of vinyl-aromatic monomers and conjugated dienes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L71/00Compositions of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L71/08Polyethers derived from hydroxy compounds or from their metallic derivatives
    • C08L71/10Polyethers derived from hydroxy compounds or from their metallic derivatives from phenols
    • C08L71/12Polyphenylene oxides
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐熱性等の諸性質を維持しつつ、さらに耐衝
撃性及び低ソリ性を有するシンジオタクチックポリスチ
レン系樹脂組成物を提供する。 【解決手段】 (A)シンジオタクチックスチレン系重
合体、(B)(A)成分との親和性を有するゴム状弾性
体、(E)(A)成分との相溶性又は親和性を有し、か
つ極性基を有する重合体,(F)(A)以外の熱可塑性
樹脂,(G)MIが25以下のポリオレフィンを適宜配
合した樹脂部100重量部に対し、(C)繊維状充填材
及び(D)平均粒径が4〜700μmであり、平均アス
ペクト比が12〜120である板状充填材を各々10〜
350重量部配合する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はスチレン系樹脂組成
物及び半導体搬送用治具に関し、更に詳しくは、主とし
てシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体
(以下、「シンジオタクチックポリスチレン」と称する
ことがある。またSPSと略することもある。)を主成
分とするスチレン系樹脂組成物に、繊維状充填材及び特
定の性状を有する板状充填材を配合したスチレン系樹脂
組成物及び該スチレン系樹脂組成物を成形してなる半導
体搬送用治具に関する。
【0002】
【従来の技術】シンジオタクチックスチレン系重合体
(SPS)は優れた耐熱性、電気特性、耐薬品性等を有
しており、エンジニアリングプラスチックとして様々な
精密部品の用途に供されているが、さらに用途の拡大を
図るためには、耐衝撃性を一層向上させ、成形品におけ
るソリを低くすることが要求されている。
【0003】かかる耐衝撃性を改良する技術としては、
SPSに表面処理した無機充填材や添加剤を配合したス
チレン系樹脂組成物が提案されている(特開平03−1
26743号公報)。この組成物においては、耐衝撃性
についてはかなり改善されてはいるものの、ソリ低減に
関しては、より厳しい要求に応えるには満足のいくもの
ではなく、耐衝撃性及び低ソリの両方を満足させうる材
料の出現が望まれていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記観点から
なされたものであって、優れた耐熱性等の諸性質を維持
しつつ、低ソリ性を改善し、さらには加えて耐衝撃性を
も有するシンジオタクチックポリスチレン系樹脂組成物
及び該スチレン系樹脂組成物を成形してなる半導体搬送
用治具を提供することを目的とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を重ねた結果、シンジオタクチックポリスチレン(SP
S)を主成分とするスチレン系樹脂組成物に、繊維状充
填材及び特定の性状を有する板状充填材を所定の割合で
配合することにより、その目的を達成しうることを見出
した。本発明は、かかる知見に基づいて完成したもので
ある。
【0006】即ち、本発明は、以下のスチレン系樹脂組
成物及び該スチレン系樹脂組成物を成形してなる半導体
搬送用治具を提供するものである。 (1) 主としてシンジオタクチック構造を有するスチ
レン系重合体を含有するスチレン系樹脂組成物100重
量部に対し、(C)繊維状充填材10〜350重量部及
び(D)平均粒径が4〜700μmであり、平均アスペ
クト比が12〜120である板状充填材10〜350重
量部からなるスチレン系樹脂組成物。 (2)(A)主としてシンジオタクチック構造を有する
スチレン系重合体50〜99重量%及び(B)前記
(A)成分との親和性を有するゴム状弾性体50〜1重
量%よりなるスチレン系樹脂組成物100重量部に対
し、(C)繊維状充填材10〜350重量部及び(D)
平均粒径が4〜700μmであり、平均アスペクト比が
12〜120である板状充填材10〜350重量部から
なるスチレン系樹脂組成物。 (3)(A)主としてシンジオタクチック構造を有する
スチレン系重合体50〜95重量%、(B)前記(A)
成分との親和性を有するゴム状弾性体49.9〜1重量%
及び(E)前記(A)成分との相溶性又は親和性を有
し、かつ極性基を有する重合体0.1〜10重量%よりな
るスチレン系樹脂組成物100重量部に対し、(C)繊
維状充填材10〜350重量部及び(D)平均粒径が4
〜700μmであり、平均アスペクト比が12〜120
である板状充填材10〜350重量部からなるスチレン
系樹脂組成物。 (4)(A)主としてシンジオタクチック構造を有する
スチレン系重合体5〜94重量%、(B)前記(A)成
分との親和性を有するゴム状弾性体50〜1重量%及び
(F)前記(A)以外の熱可塑性樹脂5〜94重量%よ
りなるスチレン系樹脂組成物100重量部に対し、
(C)繊維状充填材10〜350重量部及び(D)平均
粒径が4〜700μmであり、平均アスペクト比が12
〜120である板状充填材10〜350重量部からなる
スチレン系樹脂組成物。 (5)(A)主としてシンジオタクチック構造を有する
スチレン系重合体5〜93.9重量%、(B)前記(A)
成分との親和性を有するゴム状弾性体50〜1重量%、
(E)前記(A)成分との相溶性又は親和性を有し、か
つ極性基を有する重合体0.1〜10重量%及び(F)前
記(A)以外の熱可塑性樹脂5〜93.9重量%よりなる
スチレン系樹脂組成物100重量部に対し、(C)繊維
状充填材10〜350重量部及び(D)平均粒径が4〜
700μmであり、平均アスペクト比が12〜120で
ある板状充填材10〜350重量部からなるスチレン系
樹脂組成物。 (6)(A)主としてシンジオタクチック構造を有する
スチレン系重合体50〜99重量%及び(G)190
℃,2.16kgでのメルトインデックス(MI)が25
(g/10分)以下であるポリオレフィン50〜1重量
%よりなるスチレン系樹脂組成物100重量部に対し、
(C)繊維状充填材10〜350重量部及び(D)平均
粒径が4〜700μmであり、平均アスペクト比が12
〜120である板状充填材10〜350重量部からなる
スチレン系樹脂組成物。 (7)上記(1)〜(6)に記載の(C)繊維状充填材
がガラス繊維であり、(D)平均粒径が4〜700μm
であり、平均アスペクト比が12〜120である板状充
填材がマイカ又はガラスフレークのいずれかである、上
記(1)〜(6)のいずれかに記載のスチレン系樹脂組
成物。 (7)上記(1)〜(7)に記載のスチレン系樹脂組成
物を成形してなる表面抵抗が102 〜1012Ωである半
導体搬送用治具。
【0007】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて詳細に説明する。 1.本発明にかかるスチレン系樹脂組成物の構成成分 本発明にかかるスチレン系樹脂組成物は、以下の樹脂部
及び無機充填材部から構成される。該樹脂部は、後述す
る(A)成分を必須成分とし、さらには(B)成分,
(E)成分,(F)成分及び(G)成分が適宜用いられ
る。また、無機充填材部は、後述する(C)成分及び
(D)成分からなる。 I.樹脂部 (A)主としてシンジオタクチック構造を有するスチレ
ン系重合体 (A)成分である主としてシンジオタクチックポリスチ
レン構造を有するスチレン系重合体において、シンジオ
タクチック構造とは、立体化学構造がシンジオタクチッ
ク構造、即ち炭素- 炭素結合から形成される主鎖に対し
て側鎖であるフェニル基が交互に反対方向に位置する立
体構造を有するものであり、そのタクティシティーは同
位体炭素による核磁気共鳴法(13C-NMR) により定量され
る。13C−NMR法により測定されるタクティシティ
ーは、連続する複数個の構成単位の存在割合、例えば2
個の場合はダイアッド、3個の場合はトリアッド、5個
の場合はペンタッドによって示すことができるが、本発
明に言う主としてシンジオタクチック構造を有するスチ
レン系重合体とは、通常はラセミダイアッドで75%以
上、好ましくは85%以上、若しくはラセミペンタッド
で30%以上、好ましくは50%以上のシンジオタクテ
ィシティーを有するポリスチレン、ポリ(アルキルスチ
レン)、ポリ( ハロゲン化スチレン) 、ポリ( ハロゲン
化アルキルスチレン) 、ポリ(アルコキシスチレン)、
ポリ(ビニル安息香酸エステル)、これらの水素化重合
体およびこれらの混合物、あるいはこれらを主成分とす
る共重合体を指称する。なお、ここでポリ(アルキルス
チレン)としては、ポリ(メチルスチレン)、ポリ(エ
チルスチレン)、ポリ(イソピルスチレン)、ポリ(タ
ーシャリーブチルスチレン)、ポリ(フェニルスチレ
ン)、ポリ(ビニルナフタレン)、ポリ(ビニルスチレ
ン)などがあり、ポリ(ハロゲン化スチレン)として
は、ポリ(クロロスチレン)、ポリ(ブロモスチレ
ン)、ポリ(フルオロスチレン)などがある。また、ポ
リ(ハロゲン化アルキルスチレン)としては、ポリ(ク
ロロメチルスチレン)など、またポリ(アルコキシスチ
レン)としては、ポリ(メチキシスチレン)、ポリ(エ
トキシスチレン)などがある。
【0008】なお、これらのうち特に好ましいスチレン
系重合体としては、ポリスチレン、ポリ(p−メチルス
チレン)、ポリ(m−メチルスチレン)、ポリ(p−タ
ーシャリープチルスチレン)、ポリ(p−クロロスチレ
ン)、ポリ(m−クロロスチレン)、ポリ(p−フルオ
ロスチレン)、水素化ポリスチレン及びこれらの構造単
位を含む共重合体が挙げられる。
【0009】このような主としてシンジオタクチック構
造を有するスチレン系重合体の製造方法については、公
知の方法を用いればよいが、例えば不活性炭化水素溶媒
中または溶媒の不存在下に、チタン化合物及び水とトリ
アルキルアルミニウムの縮合生成物を触媒として、スチ
レン系単量体( 上記スチレン系重合体に対応する単量
体) を重合する方法等が挙げられる( 特開昭62―18
7708号公報等) 。また、ポリ(ハロゲン化アルキル
スチレン)及びこれらの水素化重合体についても同様に
公知の方法、例えば、特開平1−46912号公報、特
開平1−178505号公報記載の方法などにより得る
ことができる。
【0010】分子量については特に制限はないが、重量
平均分子量が10,000以上、好ましくは50,00
0以上である。さらに、分子量分布についてもその広狭
は制約がなく、様々なものを充当することが可能であ
る。ここで、重量平均分子量が10,000未満のもの
では、得られる組成物あるいは成形品の熱的性質、機械
的性質が低下し好ましくない。
【0011】なお、これらのシンジオタクチック構造を
有するスチレン系重合体は一種のみを単独で、または、
二種以上を組み合わせて用いることができる。 (B)上記(A)成分のSPSと親和性を有するゴム状
弾性体 ゴム状弾性体(B)の具体例としては例えば、天然ゴ
ム、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリイソブチレ
ン、ネオプレン、ポリスルフィドゴム、チオコールゴ
ム、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム、エ
ピクロロヒドリンゴム、スチレン−ブタジエンブロック
共重合体(SBR)、水素添加スチレン−ブタジエンブ
ロック共重合体(SEB,SEBC)、スチレン−ブタ
ジエン−スチレンブロック共重合体(SBS)、水素添
加スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体
(SEBS)、スチレン−イソプレンブロック共重合体
(SIR)、水素添加スチレン−イソプレンブロック共
重合体(SEP)、スチレン−イソプレン−スチレンブ
ロック共重合体(SIS)、水素添加スチレン−イソプ
レン−スチレンブロック共重合体(SEPS)、または
エチレンプロピレンゴム(EPM)、エチレンプロピレ
ンジエンゴム(EPDM)、あるいはブタジエン−アク
リロニトリル−スチレン−コアシェルゴム(ABS)、
メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン−コアシ
ェルゴム(MBS)、メチルメタクリレート−ブチルア
クリレート−スチレン−コアシェルゴム(MAS)、オ
クチルアクリレート−ブタジエン−スチレン−コアシェ
ルゴム(MABS)、アルキルアクリレート−ブタジエ
ン−アクリロニトリル−スチレン−コアシェルゴム(A
ABS)、ブタジエン−スチレン−コアシェルゴム(S
BR)、メチルメタクリレート−ブチルアクリレート−
シロキサンをはじめとするシロキサン含有コアシェルゴ
ム等のコアシェルタイプの粒子状弾性体、またはこれら
を変性したゴム等が挙げられる。このうち特に、SB
R、SEB、SBS、SEBS、SIR、SEP、SI
S、SEPS、コアシェルゴム、EPM、EPDM、ま
たはこれらを変性したゴムが好ましく用いられる。
【0012】なお、これらのゴム状弾性体は一種のみを
単独で、または、二種以上を組み合わせて用いることが
できる。 (E)前記(A)成分との相溶性又は親和性を有し、か
つ極性基を有する重合体後述する無機充填材と樹脂の接
着性を向上させるために、(E)成分として(A)との
相溶性又は親和性を有し、かつ極性基を有する重合体を
配合することが好ましい。
【0013】ここで(A)成分との相溶性又は親和性を
有する重合体とは、(A)成分との相溶性又は親和性を
示す連鎖をポリマ−鎖中に含有するものをいう。これら
の相溶性又は親和性を示す重合体としては、例えば、シ
ンジオタクチックポリスチレン、アタクチックポリスチ
レン、アイソタクチックポリスチレン、スチレン系共重
合体、ポリフェニレンエ−テル、ポリビニルメチルエ−
テル等を主鎖、ブロックまたはグラフト鎖として有する
もの等が挙げられる。
【0014】また、ここでいう極性基とは、無機充填剤
との接着性を向上させるものであればよく、具体的に
は、酸無水物基、カルボン酸基、カルボン酸エステル
基、カルボン酸塩化物基、カルボン酸アミド基、カルボ
ン酸塩基、スルホン酸基、スルホン酸エステル基、スル
ホン酸塩化物基、スルホン酸アミド基、スルホン酸塩
基、エポキシ基、アミノ基、イミド基、オキサゾリン基
等が挙げられる。
【0015】(E)成分は溶媒、他樹脂の存在下、また
は非存在下、上記(A)成分との相溶性又は親和性を有
する重合体と後述する変性剤を反応させることにより得
ることができる。変性剤としては、例えば、エチレン性
二重結合と極性基を同一分子内に含む化合物が使用でき
る。具体的には、無水マレイン酸、マレイン酸、マレイ
ン酸エステル、マレイミド及びそのN置換体、マレイン
酸塩をはじめとするマレイン酸誘導体、フマル酸、フマ
ル酸エステル、フマル酸塩をはじめとするフマル酸誘導
体、無水イタコン酸、イタコン酸、イタコン酸エステ
ル、イタコン酸塩をはじめとするイタコン酸誘導体、ア
クリル酸、アクリル酸エステル、アクリル酸アミド、ア
クリル酸塩をはじめとするアクリル酸誘導体、メタクリ
ル酸、メタクリル酸エステル、メタクリル酸アミド、メ
タクリル酸塩、グリシジルメタクリレ−トをはじめとす
るメタクリル酸誘導体等が挙げられる。その中でも特に
好ましくは無水マレイン酸、フマル酸、グリシジルメタ
クリレ−トが用いられる。
【0016】変性には公知の方法が用いられるが、ロ−
ルミル、バンバリ−ミキサ−、押出機等を用いて150
℃〜350℃の温度で溶融混練し、反応させる方法、ま
た、ベンゼン、トルエン、キシレン等の溶媒中で加熱反
応させる方法などを挙げることができる。さらにこれら
の反応を容易に進めるため、反応系にベンゾイルパ−オ
キサイド、ジ−t−ブチルパ−オキサイド、ジクミルパ
−オキサイド、t−ブチルパ−オキシベンゾエ−ト、ア
ゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリ
ル、2,3−ジフェニル−2,3−ジメチルブタン等の
ラジカル発生剤を存在させることは有効である。このう
ち特に2,3−ジフェニル−2,3−ジメチルブタンが
好ましく用いられる。
【0017】また、好ましい変性方法としては、ラジカ
ル発生剤の存在下に溶融混練する方法である。変性の
際、他樹脂を添加してもよい。(E)成分の具体例とし
ては、スチレン−無水マレイン酸共重合体(SMA)、
スチレン−グリシジルメタクリレ−ト共重合体、末端カ
ルボン酸変性ポリスチレン、末端エポキシ変性ポリスチ
レン、末端オキサゾリン変性ポリスチレン、末端アミン
変性ポリスチレン、スルホン化ポリスチレン、スチレン
系アイオノマ−、スチレン−メチルメタクリレ−ト−グ
ラフトポリマ−、(スチレン−グリシジルメタクリレ−
ト)−メチルメタクリレ−ト−グラフト共重合体、酸変
性アクリル−スチレン−グラフトポリマ−、(スチレン
−グリシジルメタクリレ−ト)−スチレン−グラフトポ
リマ−、ポリブチレンテレフタレ−ト−ポリスチレン−
グラフトポリマ−、無水マレイン酸変性PS、フマル酸
変性PS、グリシジルメタクリレ−ト変性PS、アミン
変性PS等の変性スチレン系ポリマ−、(スチレン−無
水マレイン酸)−ポリフェニレンエ−テル−グラフトポ
リマ−、無水マレイン酸変性ポリフェニレンエ−テル、
グリシジルメタクリレ−ト変性ポリフェニレンエ−テ
ル、アミン変性ポリフェニレンエ−テル等の変性ポリフ
ェニレンエ−テル系ポリマ−等が挙げられる。
【0018】このうち特に、変性PS、変性ポリフェニ
レンエ−テルが好ましく用いられる。また、上記重合体
は2種以上を併用して用いることも可能である。(E)
成分中の極性基含有率としては、好ましくは(E)成分
100wt%中の0.01〜20wt%、さらに好まし
くは0.05〜10wt%の範囲である。0.01wt
%未満では無機充填材との接着効果を発揮させるために
(E)成分を多量に添加する必要があり、組成物の力学
物性、耐熱性、成形性を低下させるおそれがあり好まし
くない。また、20wt%を超えると(A)及び(B)
成分との相溶性が低下するおそれがあり好ましくない。 (F)前記(A)成分以外の熱可塑性樹脂 熱可塑性樹脂としては、直鎖状高密度ポリエチレン、直
鎖状低密度ポリエチレン、高圧法低密度ポリエチレン、
アイソタクチックポリプロピレン、シンジオタクチック
ポリプロピレン、ブロックポリプロピレン、ランダムポ
リプロピレン、ポリブテン、1,2−ポリブタジエン、
環状ポリオレフィン、ポリ−4−メチルペンテンをはじ
めとするポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン、HIP
Sをはじめとするポリスチレン系樹脂、ポリカーボネー
ト、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフ
タレートをはじめとするポリエステル系樹脂、ポリアミ
ド6、ポリアミド6,6をはじめとするポリアミド系樹
脂、ポリアリーレンスルフィド樹脂等公知のものから任
意に選択して用いることができる。
【0019】なお、これらの熱可塑性樹脂は一種のみを
単独で、または、二種以上を組み合わせて用いることが
できる。 (G)190℃,2.16kgでのメルトインデックス
(MI)が25(g/10分)以下であるポリオレフィ
ン 本発明における(G)成分であるポリオレフィンには、
モノマー単位として、例えば、エチレン,プロピレン,
ブチレン,ブテン,オクテン,ブタジエン,イソプレ
ン,ノルボルネン,ノルボルナジエン,シクロペンタジ
エン等のオレフィン又はジエンに由来する単位を含有す
るものであればよく、公知のポリオレフィンが該当す
る。
【0020】具体的には、例えば、エチレンプロピレン
ゴム共重合体(EPR),エチレンプロピレンジエンゴ
ム(EPDM),エチレン−オクテン共重合体系エラス
トマー,アイソタクチックポリプロピレン,ブロックポ
リプロピレン,ランダムポリプロピレン,高密度ポリエ
チレン,直鎖状低密度ポリエチレン,高圧法低密度ポリ
エチレン,ポリブテン,ポリブタジエン,ポリイソプレ
ン,ポリイソブチレン環状ポリオレフィン、ポリ−4−
メチルペンテン等が挙げられる。これらの中でも、EP
R,EPDM,エチレン−オクテン共重合体系エラスト
マー,ポリプロピレン,ポリエチレンが好適である。
【0021】本発明における(G)成分であるポリオレ
フィンにおいては、190℃,2.16kgでのメルトイ
ンデックス(MI)が25(g/10分)以下、好まし
くは20以下、さらに好ましくは15以下であることが
必要である。MIが25を超えると、ポリオレフィンの
粘度が低くなりすぎるため、SPSに対する分散性が悪
化するおそれがある。下限については特に制限はない
が、実用に供しうる範囲のものを適宜用いればよい。
【0022】なお、これらのポリオレフィンについては
一種のみを単独で、また二種以上を組み合わせて用いる
ことができる。 II. 無機充填材部 (C)繊維状充填材 繊維状充填材としては、例えば、ガラス繊維、炭素繊
維、ウイスカー等が挙げられる。ウイスカーはカーボ
ン、 チタン酸カリウム、 マグネシア、 炭化ケイ素、窒化
ケイ素、 酸化亜鉛、 炭酸カルシウム等種々の組成のウィ
スカーが挙げられる。 形状としてはクロス状、マット
状、集束切断状、短繊維、フィラメント状、ウィスカー
等があるが、集束切断状の場合、長さが0.05mm〜
50mm、繊維径が5〜20μmのものが好ましい。
【0023】上記の充填材の中でも、特にガラス充填材
が好ましく、ガラスファイバーが更に好ましい。また、
上述の充填材としては表面処理したものが好ましい。表
面処理に用いられるカップリング剤は、充填材と樹脂と
の接着性を良好にするために用いられるものであり、い
わゆるシラン系カップリング剤、チタン系カップリング
剤等、従来公知のものの中から任意のものを選択して用
いることができる。中でもγ−アミノプロピルトリメト
キシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘ
キシル)エチルトリメトキシシラン等のアミノシラン、
エポキシシラン、イソプロピルトリ(N−アミドエチ
ル,アミノエチル)チタネートが好ましい。
【0024】また、上記のカップリング剤とともにガラ
ス用フィルム形成性物質を併用することができる。この
フィルム形成性物質には、特に制限はなく、例えばポリ
エステル系、ポリエーテル系、ウレタン系、エポキシ
系、アクリル系、酢酸ビニル系等の重合体が挙げられ
る。なお、これらの繊維状充填材は一種のみを単独で、
または、二種以上を組み合わせて用いることができる。 (D)板状充填材 板状充填材としては、例えば、マイカ、 ガラスフレー
ク、 板状タルク、鱗片状黒鉛等が挙げられる。
【0025】形状としては平均粒径4 〜700μm、平
均アスペクト比12〜120であることが必要である
が、特に平均粒径10〜200μm、平均アスペクト比
15〜100のものが好ましい。上記の充填材の中で
も、特にマイカ、 板状タルクが好ましい。また、上述の
充填材としては表面処理したものが好ましい。表面処理
に用いられるカップリング剤は、充填材と樹脂との接着
性を良好にするために用いられるものであり、いわゆる
シラン系カップリング剤、チタン系カップリング剤等、
従来公知のものの中から任意のものを選択して用いるこ
とができる。中でもγ−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピル
トリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリメトキシシラン等のアミノシラン、エポ
キシシラン、イソプロピルトリ(N−アミドエチル,ア
ミノエチル)チタネートが好ましい。
【0026】また、上記のカップリング剤とともにガラ
ス用フィルム形成性物質を併用することができる。この
フィルム形成性物質には、特に制限はなく、例えばポリ
エステル系、ポリエーテル系、ウレタン系、エポキシ
系、アクリル系、酢酸ビニル系等の重合体が挙げられ
る。なお、これらの板状充填材は一種のみを単独で、ま
たは、二種以上を組み合わせて用いることができる。 III.その他の添加成分 本発明にかかるスチレン系樹脂組成物においては、本発
明の目的を阻害しない限り、上記(A)〜(G)成分以
外に、粒状又は粉状の無機充填材、核剤、可塑剤、離型
剤、酸化防止剤、難燃剤、難燃助剤、導電材料及び顔
料、帯電防止剤等の添加剤を配合することができる。な
お、これらのそれぞれについてはその一種のみを単独
で、または、二種以上を組み合わせて用いることができ
る。
【0027】粒状又は粉状の無機充填材 該充填材としては、カーボンブラック、グラファイト、
二酸化チタン、シリカ、硫酸カルシウム、炭酸カルシウ
ム、炭酸バリウム、炭酸マグネシウム、硫酸マグネシウ
ム、硫酸バリウム、オキシサルフェーと、酸化スズ、ア
ルミナ、カオリン、炭化ケイ素、金属粉末、ガラスパウ
ダー、ガラスビーズ等が挙げられる。
【0028】上記のような各種充填材の中でも、例えば
ガラスパウダー、ガラスビーズが好ましく、これらの中
でも特にガラスビーズ が更に好ましい。また、上述の
充填材も表面処理したものが好ましい。表面処理に用い
られるカップリング剤は、充填材と樹脂との接着性を良
好にするために用いられるものであり、いわゆるシラン
系カップリング剤、チタン系カップリング剤等、従来公
知のものの中から任意のものを選択して用いることがで
きる。中でもγ−アミノプロピルトリメトキシシラン、
N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチ
ルトリメトキシシラン等のアミノシラン、エポキシシラ
ン、イソプロピルトリ(N−アミドエチル,アミノエチ
ル)チタネートが好ましい。
【0029】また、上記のカップリング剤とともにガラ
ス用フィルム形成性物質を併用することができる。この
フィルム形成性物質には、特に制限はなく、例えばポリ
エステル系、ポリエーテル系、ウレタン系、エポキシ
系、アクリル系、酢酸ビニル系等の重合体が挙げられ
る。なお、これらの無機充填材は一種のみを単独で、ま
たは、二種以上を組み合わせて用いることができる。
【0030】核剤 SPSの結晶化を促進し、より耐溶剤性を高めるために
核剤を添加することができる。核剤としてはアルミニウ
ムジ(p−t−ブチルベンゾエート)をはじめとするカ
ルボン酸の金属塩、メチレンビス(2,4−ジ−t−ブ
チルフェノール)アシッドホスフェートナトリウムをは
じめとするリン酸の金属塩、タルク、フタロシアニン誘
導体等、公知のものから任意に選択して用いることがで
きる。
【0031】可塑剤 可塑剤としてはポリエチレングリコ−ル、ポリアミドオ
リゴマ−、エチレンビスステアロアマイド、フタル酸エ
ステル、ポリスチレンオリゴマ−、ポリエチレンワック
ス、ミネラルオイル、シリコ−ンオイル等公知のものか
ら任意に選択して用いることができる。
【0032】離型剤 離型剤としてはポリエチレンワックス、シリコーンオイ
ル、長鎖カルボン酸、長鎖カルボン酸金属塩等公知のも
のから任意に選択して用いることができる。 酸化防止剤 酸化防止剤としてはリン系、フェノール系、イオウ系等
公知のものから任意に選択して用いることができる。
【0033】難燃剤、難燃助剤 難燃剤としては、臭素化ポリスチレン、臭素化シンジオ
タクチックポリスチレン、臭素化ポリフェニレンエーテ
ルをはじめとする臭素化ポリマー、臭素化ジフェニルア
ルカン、臭素化ジフェニルエーテルをはじめとする臭素
化芳香族化合物等公知のものから任意に選択して用いる
ことができる。また、難燃助剤としては三酸化アンチモ
ンをはじめとしたアンチモン化合物、その他公知のもの
から任意に選択して用いることができる。
【0034】 導電材料 導電材料としては、天然ガス、石油ガス、発生炉ガス等
のガス類、重油、ピッチオイル、クレオソート油等のオ
イル類、ナフタレン、アントラセン等からファーネス式
不完全燃焼法によって得られるファーネスブラック、ラ
ンプブラック、コンタクト式不完全燃焼法によって得ら
れるチャンネルブラック、ロールブラック、デイスクブ
ラック、熱分解法によって得られるサーマルブラック、
ケッチェンブラック等のカーボンブラック、ピッチ、セ
ルロース、ポリアクリロニトリル、フェノール樹脂等よ
り得られる炭素繊維、またグラファイト紛、グラファイ
トウィスカ、金属粉末、金属繊維等その他公知の導電性
材料より任意に選択して用いることができる。なお、こ
れらの導電材料は一種のみを単独で、または、二種以上
を組み合わせて用いることができる。 2.スチレン系樹脂組成物を構成する各成分の配合割合 I.樹脂部 (1)(A)成分及び(B)成分の2成分からなる場合 (A)SPS50〜99重量%及び(B)前記(A)成
分との親和性を有するゴム状弾性体50〜1重量%であ
る。(B)成分が1重量%未満の場合、靱性に劣るおそ
れがある。SPSが50重量%未満の場合、SPSの性
質が発揮されないおそれがある。 (2)(A)成分、(B)成分及び(E)成分の3成分
からなる場合 (A)SPS50〜95重量%、(B)前記(A)成分
との親和性を有するゴム状弾性体49.9〜1重量%及び
(E)前記(A)成分との相溶性又は親和性を有し、か
つ極性基を有する重合体0.1〜10重量%である。
(E)成分が0.1重量%未満の場合、相溶化剤としての
効果が発揮されず、10重量%を超える場合、組成物の
耐熱性が低下するおそれがある。 (3)(A)成分、(B)成分及び(F)成分の3成分
からなる場合 (A)SPS5〜94重量%、(B)前記(A)成分と
の親和性を有するゴム状弾性体50〜1重量%及び
(F)前記(A)以外の熱可塑性樹脂5〜94重量%で
ある。(F)成分が5重量%未満の場合、該熱可塑性樹
脂の効果が発揮されず、94重量%を超える場合、組成
物の耐熱性が低下するおそれがある。 (4)(A)成分、(B)成分、(E)成分及び(F)
成分の4成分からなる場合 (A)SPS5〜93.9重量%、(B)前記(A)成分
との親和性を有するゴム状弾性体50〜1重量%、
(E)前記(A)成分との相溶性又は親和性を有し、か
つ極性基を有する重合体0.1〜10重量%及び(F)前
記(A)以外の熱可塑性樹脂5〜93.9重量%である。
(E)成分が0.1重量%未満の場合、相溶化剤としての
効果が発揮されず、10重量%を超える場合、組成物の
耐熱性が低下するおそれがある。また、(F)成分が5
重量%未満の場合、該熱可塑性樹脂の効果が発揮され
ず、93.9重量%を超える場合、組成物の耐熱性が低下
するおそれがある。 (5)(A)成分及び(G)成分の2成分からなる場合 (A)SPS50〜99重量%及び(G)190℃,
2.16kgでのメルトインデックス(MI)が25(g
/10分)以下であるポリオレフィン50〜1重量%で
ある。(G)成分が1重量%未満の場合、靱性に劣るお
それがある。SPSが50重量%未満の場合、SPSの
性質が発揮されないおそれがある。 II. 無機充填材部 前記(1)〜(4)に示した樹脂部の構成の各々の場合
における樹脂部100重量部に対し、(C)繊維状充填
材10〜350重量部及び(D)平均粒径が4〜700
μmであり、平均アスペクト比が12〜120である板
状充填材10〜350重量部である。(C)繊維状充填
材が10重量部未満の場合、曲げ強度に劣ったものにな
るおそれがあり、350重量部を超えると分散性が低下
し成形が困難になるおそれがある。(D)板状充填材が
10重量部未満の場合、ソリが大きくなるおそれがあ
り、350重量部を超えると分散性が低下し成形が困難
になるおそれがある。
【0035】また、(C)繊維状充填材と(D)板状充
填材の配合比については、特に制限はないが、(C):
(D)=5:1〜1:10であることが望ましく、好ま
しくは3:1〜1:8、さらには1:1〜1:5であ
る。(C)繊維状充填材が少ない場合は強度が低下する
おそれがあり、(D)板状充填材が少ない場合はソリ低
減効果が低下するおそれがある。 3.本発明にかかるスチレン系樹脂組成物の調製方法 本発明にかかるスチレン系樹脂組成物の調製方法につい
ては特に制限はなく公知の方法により調製することがで
きる。例えば前記成分及び各種添加剤を、リボンブレン
ダー,ヘンシェルミキサー,バンバリーミキサー,ドラ
ムタンブラー,単軸スクリュー押出機,二軸スクリュー
押出機,コニーダ,多軸スクリュー押出機等を用いて溶
融混練することにより、本発明の樹脂組成物を得ること
ができる。
【0036】溶融混練時の樹脂温度としては、使用する
SPSの融点以上,270℃以下、好ましくはSPSの
融点以上,265℃以下、さらにはSPSの融点以上,
260℃以下であることが好ましい。SPSの融点以下
の場合、SPSの分散状態が悪化し耐溶剤性向上に対す
る効果の低下、耐衝撃性の低下を引き起こすことがあ
り、また、270℃を超えるとAPSの劣化による耐衝
撃性の低下を引き起こすことがある。 4.本発明にかかるスチレン系樹脂組成物を用いた成形
方法 成形方法についても特に制限はなく射出成形,押出成形
等公知の方法により成形することができる。
【0037】成形時の樹脂温度に特に制限はなく、融点
以上であればよい。280〜320℃が好ましい。ま
た、成形時の金型温度(実温)は50℃以上、好ましく
は80〜150℃が用いられる。 5.本発明にかかるスチレン系樹脂組成物の用途 本発明にかかるスチレン系樹脂組成物は様々な用途に供
することが可能で、特に制限されないが、ソリが改善さ
れていることから、電子部品用として好適である。特
に、例えば、表面抵抗が102 〜1012Ω、好ましくは
104 〜1010ΩであるICトレーのような半導体搬送
用治具としてより好ましく用いられる。該ICトレーは
アニーリングを行なうことにより、さらに寸法安定性を
高め、ガス発生を抑制することができる。
【0038】
〔評価方法〕
・曲げ強度 : JIS K 7203に準拠して求め
た。 ・アイゾット衝撃強さ : JIS K 7110に準
拠して求めた。
【0039】但し、ノッチ有りでの値である。 ・荷重たわみ温度 : JIS K 7207に準拠し
て求めた。 ・ソリ 射出成形により、厚み1mm、直径100mmの円盤を
金型温度150℃で成形し、10時間放冷後、該円盤の
ソリを求めた。ソリは、円盤内で最大のソリを示す直径
の端部10mmを固定し該端部の延長線と他の端部との
距離(単位:mm)を求め、その値をソリと定義した。 ・ソリ度合:ソリの値をもとに、次のようにソリ度合の
評価した。
【0040】A評価: ソリが1mm未満の場合 B評価: ソリが1mm以上、5mm未満の場合 C評価: ソリが5mm以上、10mm未満の場合 D評価: ソリが10mm以上 〔用いた原料〕 (A)成分(SPS) 以下において、重量平均分子量及び分子量分布は、1,
2,4−トリクロロベンゼンを溶媒として、150℃で
ゲルパーミエーション(GPC)にて測定した。なお、
SPSは特開昭62−104818号公報等に記載の公
知の方法にて製造したものである。
【0041】重量平均分子量 Mw=230,000
Mw/Mn=2.50 (B)成分((A)成分との親和性を有するゴム状弾性
体) ・SEBS1 : SEBSタイプエラストマー シェル社製 商品名クレイトンG1651 (C)成分(繊維状充填材) ・ガラスファイバー : 旭ファイバーグラス社製 商
品名FT712 ・炭化カルシウムウィスカ : 丸尾カルシウム社製
商品名ウィスカルA (D)成分(板状充填材) ・マイカ : Repco社製 商品名M―200 平均粒径 60μm,平均アスペクト比 35 ・ガラスフレーク: 日本硝子繊維社製マイクログラス
フレーク 商品名REFG ―101 平均粒径 600μm,平均アスペクト比 100 ・板状タルク: 富士タルク社製 商品名 NK48 平均粒径 11μm,平均アスペクト比 17 (E)成分((A)成分との相溶性又は親和性を有し、
かつ極性基を有する重合体) ・FAPPO:製造例1にて製造したフマル酸変性ポリ
フェニレンエーテル(F)成分((A)以外の熱可塑性
樹脂) 米国特許3306874号公報等に記載の公知の方法に
より製造したものである。
【0042】・PPO : ポリ(2,6−ジメチル−
1,4−フェニレンエーテル)(G)ポリオレフィン ・PE : エチレン−オクテン共重合体エラストマ
ー デュポン・ダウエラストマー社製、 商品名 ENGAGE8150, MI=0.5 (H)その他 無機充填材 ・ガラスビーズ: 東芝バロディーニ社製 商品名 E
GB731 ・炭酸カルシウム: 白石工業社製 商品名 Vigo
t−15 酸化防止剤 ・チバガイギー社製 商品名Irganox1010 ・旭デンカ社製 商品名PEP36 核剤 ・旭デンカ社製 商品名 NA11 導電付与剤 ケッチェンブラック ライオン社製 商品名 EC6
00JD 離型剤 ・東レダウコーニング社製 商品名 SH550 難燃剤および難燃助剤 ・アルベマール社製 商品名 SAYTEX8010 ・日本精鉱社製 商品名 PATOX−M ・協和化学工業社製 商品名 DHT4A ・ダイキン工業社製 商品名 F201L 〔製造例1〕(フマル酸変性ポリフェニレンエーテルの
製造方法) ポリフェニレンエーテル(固有粘度0.45dL/g、
クロロホルム中、25℃) 1kg、フマル酸30g、ラ
ジカル発生剤として2,3−ジメチル−2,3−ジフェ
ニルブタン( 日本油脂、ノフマーBC) 20gをドライ
ブレンドし、30mm二軸押出機を用いてスクリュー回
転数200rpm、設定温度300℃で溶融混練を行っ
た。この時樹脂温度は約331℃であった。ストランド
を冷却後ペレット化しフマル酸変性ポリフェニレンエー
テルを得た。変性率測定のため、得られた変性ポリフェ
ニレンエーテル1gをエチルベンゼンに溶解後、メタノ
ールに再沈し、回収したポリマーをメタノールでソック
スレー抽出し、乾燥後IRスペクトルのカルボニル吸収
の強度および滴定により変性率を求めた。この時、変性
率は1.45重量%であった。 〔実施例1〕(A)成分としてSPSを91.3重量%、
(B)成分としてSEBS1を8.7重量%、さらに
(A)成分及び(B)成分の合計量100重量部に対し
て、(C)成分としてガラスファイバーを43.5重量
部、(D)成分としてマイカ(M―200)を43.5重
量部配合した。さらにその他の添加剤については、
(A)成分及び(B)成分の合計量100重量部に対し
て、酸化防止剤としてIrganox1010を0.2重
量部、核剤としてNA―11を0.4重量部、離型剤とし
てSH550を0.4重量部、難燃剤および難燃助剤とし
てSAYTEX8010,PATOX−M,DHT4
A,F201Lをそれぞれ23.9重量部、4.3重量部、
0.9重量部、 0.2重量部の割合で、二軸押出機を用い溶
融混練を行い、ペレット化した。
【0043】得られたペレットを用い樹脂温度280〜
290℃,金型温度150℃で射出成形を行ない得られ
た試験片を用いて各評価を行なった。結果を第3表に示
す。 〔実施例2〜25〕(A),(B),(C),(D),
(E),(F)及び(G)成分については第1表に示し
た種類及び配合割合で、また、その他の成分については
樹脂部の合計量100重量部に対する重量部値で第1表
に示したよう配合し、実施例1と同じ方法で行なった。
表中、(A),(B),(E),(F)及び(G)成分
については、(A),(B),(E),(F)及び
(G)成分の合計を100重量%として、その中におけ
る各々の重量%値で示した。また、(C)及び(D)成
分については、(A),(B),(E),(F)及び
(G)成分の合計量を100重量部としたときの、重量
部値で示した。結果を第3表に示す。
【0044】さらに、実施例19の樹脂組成物を用い
て、成形温度290℃,金型温度150℃にて半導体搬
送用トレーを射出成形した。該トレーの表面抵抗は1.0
1×104 Ωであった。 〔実施例26〕実施例19の樹脂組成物において、ケッ
チェンブラックを7.5重量部にした以外は実施例19と
同じにした。該トレーの表面抵抗は2.10×1012Ωで
あった。 〔比較例1〜25(比較例17,18を除く)〕(C)
繊維状充填材及び/又は(D)板状充填材を用いず、第
2表中に示したその他の充填材を用いた以外は、
(A),(B),(E),(F)及び(G)成分につい
ては第2表に示した種類及び配合割合で、また、その他
の成分については樹脂部の合計量100重量部に対する
重量部値で第2表に示したよう配合し、実施例1と同じ
方法で行なった。表中、(A),(B),(E),
(F)及び(G)成分については、(A),(B),
(E),(F)及び(G)成分の合計を100重量%と
して、その中における各々の重量%値で示した。また、
(C)については、(A),(B),(E),(F)及
び(G)成分の合計量を100重量部としたときの、重
量部値で示した。結果を第4表に示す。 〔比較例17,18〕(C)繊維状充填材を用いなかっ
た以外は、(A),(B),(E),(F)及び(G)
成分については第1表に示した種類及び配合割合で、ま
た、その他の成分については樹脂部の合計量100重量
部に対する重量部値で第1表に示したよう配合し、実施
例1と同じ方法で行なった。表中、(A),(B),
(E),(F)及び(G)成分については、(A),
(B),(E),(F)及び(G)成分の合計を100
重量%として、その中における各々の重量%値で示し
た。また、(C)については、(A),(B),
(E),(F)及び(G)成分の合計量を100重量部
としたときの、重量部値で示した。結果を第3表に示
す。
【0045】
【表1】
【0046】
【表2】
【0047】
【表3】
【0048】
【発明の効果】本発明によれば、優れた耐熱性等の諸性
質を維持しつつ、さらに耐衝撃性及び低ソリ性を有する
シンジオタクチックポリスチレン系樹脂の成形品を得る
ことができた。本発明のスチレン系樹脂組成物は、例え
ば、射出成形による各種成形品、特にICトレーなどの
半導体搬送用治具等の製造に有効に用いられる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI //(C08L 25/04 21:00 23:00)

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 主としてシンジオタクチック構造を有す
    るスチレン系重合体を含有するスチレン系樹脂組成物1
    00重量部に対し、(C)繊維状充填材10〜350重
    量部及び(D)平均粒径が4〜700μmであり、平均
    アスペクト比が12〜120である板状充填材10〜3
    50重量部からなるスチレン系樹脂組成物。
  2. 【請求項2】 (A)主としてシンジオタクチック構造
    を有するスチレン系重合体50〜99重量%及び(B)
    前記(A)成分との親和性を有するゴム状弾性体50〜
    1重量%よりなるスチレン系樹脂組成物100重量部に
    対し、(C)繊維状充填材10〜350重量部及び
    (D)平均粒径が4〜700μmであり、平均アスペク
    ト比が12〜120である板状充填材10〜350重量
    部からなるスチレン系樹脂組成物。
  3. 【請求項3】 (A)主としてシンジオタクチック構造
    を有するスチレン系重合体50〜95重量%、(B)前
    記(A)成分との親和性を有するゴム状弾性体49.9〜
    1重量%及び(E)前記(A)成分との相溶性又は親和
    性を有し、かつ極性基を有する重合体0.1〜10重量%
    よりなるスチレン系樹脂組成物100重量部に対し、
    (C)繊維状充填材10〜350重量部及び(D)平均
    粒径が4〜700μmであり、平均アスペクト比が12
    〜120である板状充填材10〜350重量部からなる
    スチレン系樹脂組成物。
  4. 【請求項4】 (A)主としてシンジオタクチック構造
    を有するスチレン系重合体5〜94重量%、(B)前記
    (A)成分との親和性を有するゴム状弾性体50〜1重
    量%及び(F)前記(A)以外の熱可塑性樹脂5〜94
    重量%よりなるスチレン系樹脂組成物100重量部に対
    し、(C)繊維状充填材10〜350重量部及び(D)
    平均粒径が4〜700μmであり、平均アスペクト比が
    12〜120である板状充填材10〜350重量部から
    なるスチレン系樹脂組成物。
  5. 【請求項5】 (A)主としてシンジオタクチック構造
    を有するスチレン系重合体5〜93.9重量%、(B)前
    記(A)成分との親和性を有するゴム状弾性体50〜1
    重量%、(E)前記(A)成分との相溶性又は親和性を
    有し、かつ極性基を有する重合体0.1〜10重量%及び
    (F)前記(A)以外の熱可塑性樹脂5〜93.9重量%
    よりなるスチレン系樹脂組成物100重量部に対し、
    (C)繊維状充填材10〜350重量部及び(D)平均
    粒径が4〜700μmであり、平均アスペクト比が12
    〜120である板状充填材10〜350重量部からなる
    スチレン系樹脂組成物。
  6. 【請求項6】 (A)主としてシンジオタクチック構造
    を有するスチレン系重合体50〜99重量%及び(G)
    190℃,2.16kgでのメルトインデックス(MI)
    が25(g/10分)以下であるポリオレフィン50〜
    1重量%よりなるスチレン系樹脂組成物100重量部に
    対し、(C)繊維状充填材10〜350重量部及び
    (D)平均粒径が4〜700μmであり、平均アスペク
    ト比が12〜120である板状充填材10〜350重量
    部からなるスチレン系樹脂組成物。
  7. 【請求項7】 請求項1〜6に記載の(C)繊維状充填
    材がガラス繊維であり、(D)平均粒径が4〜700μ
    mであり、平均アスペクト比が12〜120である板状
    充填材がマイカ又はガラスフレークのいずれかである、
    請求項1〜6のいずれかに記載のスチレン系樹脂組成
    物。
  8. 【請求項8】 請求項1〜7に記載のスチレン系樹脂組
    成物を成形してなる表面抵抗が102 〜1012Ωである
    半導体搬送用治具。
JP10111248A 1998-04-22 1998-04-22 スチレン系樹脂組成物及び半導体搬送用治具 Pending JPH11302481A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10111248A JPH11302481A (ja) 1998-04-22 1998-04-22 スチレン系樹脂組成物及び半導体搬送用治具
US09/291,049 US6348540B1 (en) 1998-04-22 1999-04-14 Styrenic resin composition and semiconductor carrier device
DE19918243A DE19918243A1 (de) 1998-04-22 1999-04-22 Styrenharzzusammensetzungen und Halbleiterträgervorrichtung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10111248A JPH11302481A (ja) 1998-04-22 1998-04-22 スチレン系樹脂組成物及び半導体搬送用治具

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11302481A true JPH11302481A (ja) 1999-11-02

Family

ID=14556363

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10111248A Pending JPH11302481A (ja) 1998-04-22 1998-04-22 スチレン系樹脂組成物及び半導体搬送用治具

Country Status (3)

Country Link
US (1) US6348540B1 (ja)
JP (1) JPH11302481A (ja)
DE (1) DE19918243A1 (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100385635B1 (ko) * 2000-12-27 2003-05-27 학교법인 포항공과대학교 내충격성이 우수한 신디오택틱 폴리스티렌 열가소성수지조성물
JP2003528182A (ja) * 2000-03-23 2003-09-24 ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレーテッド 水素化モノビニリデン芳香族ポリマー組成物
JP2004059702A (ja) * 2002-07-26 2004-02-26 Matsushita Electric Works Ltd 高周波用熱可塑性樹脂組成物及び成形品
US6762218B2 (en) * 2000-04-03 2004-07-13 Basf Aktiengesellschaft Impact resistant thermoplastic molding materials comprised of syndiotactic polystyrene, glass fibers and thermoplastic elastomer (tpe) impact modifiers
JP2006028332A (ja) * 2004-07-15 2006-02-02 Asahi Kasei Chemicals Corp 導電性樹脂組成物
JP2009185150A (ja) * 2008-02-05 2009-08-20 Idemitsu Kosan Co Ltd 伝熱性樹脂組成物及びその樹脂成形体
JP2010254822A (ja) * 2009-04-24 2010-11-11 Ube Ind Ltd 熱可塑性樹脂組成物及びそれからなる成形品
JP2011021076A (ja) * 2009-07-14 2011-02-03 Idemitsu Kosan Co Ltd シンジオタクチックポリスチレン系樹脂組成物

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002148804A (ja) * 2000-11-08 2002-05-22 Nitto Denko Corp 感光性樹脂組成物および回路基板
US6894102B2 (en) * 2002-05-20 2005-05-17 General Electric Syndiotactic polystyrene blends
TWI291439B (en) * 2002-09-02 2007-12-21 Kureha Corp Charge controlling members
JP2004155928A (ja) * 2002-11-07 2004-06-03 Idemitsu Petrochem Co Ltd 熱可塑性樹脂組成物及びその成形体
JP2004161929A (ja) * 2002-11-14 2004-06-10 Ge Plastics Japan Ltd ワイヤ・ケーブル被覆材用樹脂組成物
EP1668112A4 (en) 2003-06-20 2009-04-29 Protein Sciences Corp SARS IMMUNOGENOUS EXPRESSING VECTORS, SUCH VECTORS OR EXPRESSION PRODUCTS COMPRISING THOSE COMPOSITIONS, PROCESSES AND TESTS FOR THE PREPARATION AND USE THEREOF
JP2006528713A (ja) * 2003-07-24 2006-12-21 ノバ・ケミカルズ・インコーポレイテツド スチレン系樹脂組成物およびそれから製造される物品
US20050277726A1 (en) * 2004-05-27 2005-12-15 Zuo Yi Conductive/dissipative plastic compositions for molding articles
US20070097651A1 (en) * 2005-11-01 2007-05-03 Techfilm, Llc Thermal interface material with multiple size distribution thermally conductive fillers
WO2008005537A2 (en) * 2006-07-07 2008-01-10 Tyco Healthcare Group Lp Mailbox style sharps container
DE202007003416U1 (de) * 2007-03-04 2007-05-31 Jonas & Redmann Automationstechnik Gmbh Automatisierungscarrier für Substrate, insbesondere für Wafer zur Herstellung siliziumbasierter Solarzellen

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5891951A (en) * 1987-09-14 1999-04-06 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Styrene-based resin composition
US6087435A (en) * 1987-09-14 2000-07-11 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Composition of styrene resin, thermoplastic resin and rubber particles

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003528182A (ja) * 2000-03-23 2003-09-24 ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレーテッド 水素化モノビニリデン芳香族ポリマー組成物
US6762218B2 (en) * 2000-04-03 2004-07-13 Basf Aktiengesellschaft Impact resistant thermoplastic molding materials comprised of syndiotactic polystyrene, glass fibers and thermoplastic elastomer (tpe) impact modifiers
KR100385635B1 (ko) * 2000-12-27 2003-05-27 학교법인 포항공과대학교 내충격성이 우수한 신디오택틱 폴리스티렌 열가소성수지조성물
JP2004059702A (ja) * 2002-07-26 2004-02-26 Matsushita Electric Works Ltd 高周波用熱可塑性樹脂組成物及び成形品
JP2006028332A (ja) * 2004-07-15 2006-02-02 Asahi Kasei Chemicals Corp 導電性樹脂組成物
JP2009185150A (ja) * 2008-02-05 2009-08-20 Idemitsu Kosan Co Ltd 伝熱性樹脂組成物及びその樹脂成形体
JP2010254822A (ja) * 2009-04-24 2010-11-11 Ube Ind Ltd 熱可塑性樹脂組成物及びそれからなる成形品
JP2011021076A (ja) * 2009-07-14 2011-02-03 Idemitsu Kosan Co Ltd シンジオタクチックポリスチレン系樹脂組成物

Also Published As

Publication number Publication date
US6348540B1 (en) 2002-02-19
DE19918243A1 (de) 2000-02-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100403071B1 (ko) 신디오탁틱폴리스티렌계수지조성물
JPH11302481A (ja) スチレン系樹脂組成物及び半導体搬送用治具
US6043307A (en) Styrene-based resin composition
JPH08104785A (ja) 耐衝撃性ポリスチレン系樹脂組成物
TW415956B (en) Flame retarded polystyrenic resin composition and molded article of a polystyrenic resin
JP3805105B2 (ja) スチレン系樹脂組成物及びその製造方法、スチレン系樹脂成形品の製造方法
US6087435A (en) Composition of styrene resin, thermoplastic resin and rubber particles
JP3591559B2 (ja) シンジオタクチックポリスチレン系樹脂組成物
JPH0762175A (ja) 熱可塑性樹脂組成物
JPH07138433A (ja) ポリスチレン系樹脂組成物
JP4598903B2 (ja) 電子部品
WO2004041929A1 (ja) 熱可塑性樹脂組成物及びその成形体
JPH11172061A (ja) スチレン系樹脂組成物
JP7249777B2 (ja) ポリスチレン系樹脂組成物
JP2000095907A (ja) プリント基板加工用押え板
JPH11302480A (ja) スチレン系樹脂組成物
JP3080752B2 (ja) 熱可塑性樹脂組成物
JPH11172062A (ja) スチレン系樹脂組成物
JPH09221573A (ja) メッキ成形体、メッキ成形体用樹脂組成物およびメッキ成形体の製造方法
JPH09100377A (ja) 耐衝撃性ポリスチレン系樹脂組成物
JPH0931276A (ja) 難燃性樹脂組成物
JPH111589A (ja) 樹脂の組成物およびic用耐熱トレー
JPH08151492A (ja) 耐衝撃性ポリスチレン系樹脂組成物
JP2000073992A (ja) ファン
JPH11279349A (ja) スチレン系樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20041124

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050127

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070627

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070814

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071011

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071120

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080111

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080219