JPH1129317A - 鱗片状の低結晶性シリカとその製造方法 - Google Patents
鱗片状の低結晶性シリカとその製造方法Info
- Publication number
- JPH1129317A JPH1129317A JP9179120A JP17912097A JPH1129317A JP H1129317 A JPH1129317 A JP H1129317A JP 9179120 A JP9179120 A JP 9179120A JP 17912097 A JP17912097 A JP 17912097A JP H1129317 A JPH1129317 A JP H1129317A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silica
- thickness
- scaly
- crystalline
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 人体に無害であり、表面の反応性に優
れる、化粧料、制汗剤、パック剤、塗料もしくは樹脂な
どのフィラーや各種担体等の用途に好適に使用できる、
鱗片状の低結晶性シリカ及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 厚さ０．００１〜１μｍ、厚さに対す
る鱗片状板の最長長さの比（アスペクト比）１０以上、
厚さに対する鱗片状板の最小長さの比３以上の鱗片状の
シリカで、結晶型遊離珪酸の測定値１０％未満、ＩＲス
ペクトルの３６００〜３７００、３４００〜３５００ｃ
ｍ-1にシラノール基の吸収を有する低結晶性の鱗片状シ
リカ及び珪酸アルカリ水溶液を脱アルカリして得られる
シリカゾルを水熱処理するその製造方法。
れる、化粧料、制汗剤、パック剤、塗料もしくは樹脂な
どのフィラーや各種担体等の用途に好適に使用できる、
鱗片状の低結晶性シリカ及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 厚さ０．００１〜１μｍ、厚さに対す
る鱗片状板の最長長さの比（アスペクト比）１０以上、
厚さに対する鱗片状板の最小長さの比３以上の鱗片状の
シリカで、結晶型遊離珪酸の測定値１０％未満、ＩＲス
ペクトルの３６００〜３７００、３４００〜３５００ｃ
ｍ-1にシラノール基の吸収を有する低結晶性の鱗片状シ
リカ及び珪酸アルカリ水溶液を脱アルカリして得られる
シリカゾルを水熱処理するその製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、人体に無害である
一方、表面の反応性に優れ、化粧料、制汗剤、パック
剤、塗料もしくは樹脂などのフィラーやクロマトグラフ
ィー担体および触媒担体等の用途に好適に使用できる、
鱗片状の低結晶性シリカ及びその製造方法に関するもの
である。
一方、表面の反応性に優れ、化粧料、制汗剤、パック
剤、塗料もしくは樹脂などのフィラーやクロマトグラフ
ィー担体および触媒担体等の用途に好適に使用できる、
鱗片状の低結晶性シリカ及びその製造方法に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】従来、所謂シリカＸとよばれる、Ｘ線回
折でピークがでるという意味においての結晶質シリカが
知られている( Beitr.Mineral.Petrogr.10,242-259( 19
64 ))。
折でピークがでるという意味においての結晶質シリカが
知られている( Beitr.Mineral.Petrogr.10,242-259( 19
64 ))。
【０００３】これらは、多数の鱗片状粒子が癒着したよ
うな形態になっているものの、無孔質でかつ反応性に乏
しく、これに特定の物質を担持させたりフィラーとして
使用することは実質上困難である。
うな形態になっているものの、無孔質でかつ反応性に乏
しく、これに特定の物質を担持させたりフィラーとして
使用することは実質上困難である。
【０００４】また、石英やクリストバライトなどの結晶
性シリカは、結晶型遊離珪酸に分類され、粉塵として長
期間、人肺に吸入された場合、肺臓およびその周囲組織
に沈着し治療が困難な疾病である珪肺( Silicosis ) を
引き起こす原因となることが病理学的にも確認されてお
り、労働安全衛生面上、じん肺法やじん肺法施行規則に
おいて規制されている。いっぽう、シリカゲル等の非晶
質シリカは非晶型遊離珪酸に分類されるが、非晶型は結
晶型に比較して珪肺を引き起こす可能性は著しく小さい
ことも知られている( 粉体と工業,10,25-40( 1980 ))。
性シリカは、結晶型遊離珪酸に分類され、粉塵として長
期間、人肺に吸入された場合、肺臓およびその周囲組織
に沈着し治療が困難な疾病である珪肺( Silicosis ) を
引き起こす原因となることが病理学的にも確認されてお
り、労働安全衛生面上、じん肺法やじん肺法施行規則に
おいて規制されている。いっぽう、シリカゲル等の非晶
質シリカは非晶型遊離珪酸に分類されるが、非晶型は結
晶型に比較して珪肺を引き起こす可能性は著しく小さい
ことも知られている( 粉体と工業,10,25-40( 1980 ))。
【０００５】遊離珪酸とは、珪酸塩を構成する結合珪酸
と区別した名称で、珪素が酸素とのみ三次元的に結合し
ており、その他の元素とは結合していない状態であり、
要するに二酸化珪素( Ｓi Ｏ2 ) を意味する。このよう
な遊離珪酸は、上述の非晶型や結晶型等に分類される
が、このうち、珪肺を引き起こす原因となる結晶型の遊
離珪酸は、Ｘ線回折分析法等により定量が可能である。
と区別した名称で、珪素が酸素とのみ三次元的に結合し
ており、その他の元素とは結合していない状態であり、
要するに二酸化珪素( Ｓi Ｏ2 ) を意味する。このよう
な遊離珪酸は、上述の非晶型や結晶型等に分類される
が、このうち、珪肺を引き起こす原因となる結晶型の遊
離珪酸は、Ｘ線回折分析法等により定量が可能である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、鱗片
状の形態をなすため展着性、配向性、隠蔽性などの特性
に優れ、また、労働安全衛生の面から有害な結晶型遊離
珪酸の量が充分少なく、さらに、表面に化学修飾が可能
な反応性の高い基を有する、新規な低結晶性の鱗片状シ
リカ及びその製造方法を提供することにある。
状の形態をなすため展着性、配向性、隠蔽性などの特性
に優れ、また、労働安全衛生の面から有害な結晶型遊離
珪酸の量が充分少なく、さらに、表面に化学修飾が可能
な反応性の高い基を有する、新規な低結晶性の鱗片状シ
リカ及びその製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
の重要性に鑑み鋭意検討した結果、シリカ源およびアル
カリ源を含有した出発原料を水熱処理することにより、
人体に有害な結晶型遊離珪酸の含有量の充分少ない、鱗
片状の低結晶性シリカが得られること、さらに好ましく
は、このようにして、鱗片状の低結晶性シリカであって
ＩＲスペクトルの特定領域に吸収帯のあるシラノール基
を有するものが得られることを見出し、本発明を完成す
るに到った。
の重要性に鑑み鋭意検討した結果、シリカ源およびアル
カリ源を含有した出発原料を水熱処理することにより、
人体に有害な結晶型遊離珪酸の含有量の充分少ない、鱗
片状の低結晶性シリカが得られること、さらに好ましく
は、このようにして、鱗片状の低結晶性シリカであって
ＩＲスペクトルの特定領域に吸収帯のあるシラノール基
を有するものが得られることを見出し、本発明を完成す
るに到った。
【０００８】すなわち、本発明の上記課題は、（１）厚
さが０．００１〜１μｍの鱗片状板からなり、該厚さに
対する該鱗片状板の最長長さの比（アスペクト比）が少
なくとも１０、該厚さに対する該鱗片状板の最小長さの
比が少なくとも３を有する鱗片状のシリカであって、か
つ、Ｘ線回折分析法による結晶型遊離珪酸の測定値が１
０％未満であることを特徴とする低結晶性の鱗片状シリ
カ、及び、（２）珪酸アルカリ水溶液を脱アルカリして
得られるシリカゾルを出発原料とし、該シリカゾルを水
熱処理せしめてなることを特徴とする（１）記載の低結
晶性の鱗片状シリカの製造方法、によって解決される。
さが０．００１〜１μｍの鱗片状板からなり、該厚さに
対する該鱗片状板の最長長さの比（アスペクト比）が少
なくとも１０、該厚さに対する該鱗片状板の最小長さの
比が少なくとも３を有する鱗片状のシリカであって、か
つ、Ｘ線回折分析法による結晶型遊離珪酸の測定値が１
０％未満であることを特徴とする低結晶性の鱗片状シリ
カ、及び、（２）珪酸アルカリ水溶液を脱アルカリして
得られるシリカゾルを出発原料とし、該シリカゾルを水
熱処理せしめてなることを特徴とする（１）記載の低結
晶性の鱗片状シリカの製造方法、によって解決される。
【０００９】すなわち、本発明に従えば、人体への安全
性の高い、鱗片状の低結晶性シリカ及びその製造方法が
提供されるのである。
性の高い、鱗片状の低結晶性シリカ及びその製造方法が
提供されるのである。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。
する。
【００１１】まず、本発明にいう鱗片状シリカは、その
一次粒子が鱗片状板の形状を有するもので、厚さが０．
００１〜１μｍ、好ましくは０．０１〜０．５μｍであ
り、厚さに対する鱗片状板の最長長さの比（アスペクト
比）が少なくとも１０、好ましくは３０以上、さらに好
ましくは５０以上、厚さに対する鱗片状板の最小長さの
比が少なくとも３、好ましくは１０以上、さらに好まし
くは２０以上を有するような鱗片状のシリカである。
一次粒子が鱗片状板の形状を有するもので、厚さが０．
００１〜１μｍ、好ましくは０．０１〜０．５μｍであ
り、厚さに対する鱗片状板の最長長さの比（アスペクト
比）が少なくとも１０、好ましくは３０以上、さらに好
ましくは５０以上、厚さに対する鱗片状板の最小長さの
比が少なくとも３、好ましくは１０以上、さらに好まし
くは２０以上を有するような鱗片状のシリカである。
【００１２】なお、厚さに対する最長長さの比および最
小長さの比の上限は特に規定するものではないが、前者
は３００以下、好ましくは２００以下が実際的であり、
後者は１５０以下、好ましくは１００以下が実際的であ
る。
小長さの比の上限は特に規定するものではないが、前者
は３００以下、好ましくは２００以下が実際的であり、
後者は１５０以下、好ましくは１００以下が実際的であ
る。
【００１３】ここで、鱗片状板とは、実質的に板状の形
をしていればよく、部分的または全体的に曲がったり、
ねじれたりしていてもよい。また、本発明の鱗片状板の
シリカの厚さ、長さは特に断らない限り、その一次粒子
についての平均値を意味する。
をしていればよく、部分的または全体的に曲がったり、
ねじれたりしていてもよい。また、本発明の鱗片状板の
シリカの厚さ、長さは特に断らない限り、その一次粒子
についての平均値を意味する。
【００１４】また、本発明のシリカは、後記したＸ線回
折分析法により測定した、結晶型遊離珪酸の測定値が１
０％未満、好ましくは５％未満、さらに好ましくは２％
( 検出限界以下 )と、きわめてわずかな低結晶性の鱗片
状シリカである。
折分析法により測定した、結晶型遊離珪酸の測定値が１
０％未満、好ましくは５％未満、さらに好ましくは２％
( 検出限界以下 )と、きわめてわずかな低結晶性の鱗片
状シリカである。
【００１５】なお、本発明のシリカは、Ｘ線回折分析法
による測定で、所謂アモルファス状態を示すテーリング
はほとんど観察されない。
による測定で、所謂アモルファス状態を示すテーリング
はほとんど観察されない。
【００１６】さらに本発明のシリカは、好ましくは、Ｉ
Ｒスペクトルの３６００〜３７００、３４００〜３５０
０ｃｍ-1にそれぞれ１つの吸収帯を持ったシラノール基
を有する低結晶性の鱗片状シリカである。
Ｒスペクトルの３６００〜３７００、３４００〜３５０
０ｃｍ-1にそれぞれ１つの吸収帯を持ったシラノール基
を有する低結晶性の鱗片状シリカである。
【００１７】本発明においては、基本的に、シリカ源及
びアルカリ源を特定量含むシリカゾルを出発原料とす
る。特に、シリカ／アルカリモル比( ＳｉＯ2 ／Ｍｅ2
Ｏ、ここでＭｅはＬｉ、ＮａまたはＫなどのアルカリ金
属を示す。以下、同じ。 )が、１．０〜３．４ｍｏｌ／
ｍｏｌの珪酸アルカリ水溶液を、イオン交換樹脂法ある
いは電気透析法などによって脱アルカリしたシリカゾル
が好適に使用される。なお、珪酸アルカリ水溶液として
は、たとえば水ガラスを適宜水で希釈したものなどが好
適に使用される。
びアルカリ源を特定量含むシリカゾルを出発原料とす
る。特に、シリカ／アルカリモル比( ＳｉＯ2 ／Ｍｅ2
Ｏ、ここでＭｅはＬｉ、ＮａまたはＫなどのアルカリ金
属を示す。以下、同じ。 )が、１．０〜３．４ｍｏｌ／
ｍｏｌの珪酸アルカリ水溶液を、イオン交換樹脂法ある
いは電気透析法などによって脱アルカリしたシリカゾル
が好適に使用される。なお、珪酸アルカリ水溶液として
は、たとえば水ガラスを適宜水で希釈したものなどが好
適に使用される。
【００１８】かくして本発明で出発原料として使用する
脱アルカリしたシリカゾルのシリカ／アルカリモル比(
ＳｉＯ2 ／Ｍｅ2 Ｏ )は、３．５〜２０ｍｏｌ／ｍｏｌ
の範囲が好ましく、４．５〜１８ｍｏｌ／ｍｏｌの範囲
がさらに好ましい。この範囲よりあまりモル比が低くな
ると、シリカの溶解度が上昇し、収率が悪化するので好
ましくない。一方、この範囲よりあまりモル比が高くな
ると、シリカゾルの安定性が低下するので好ましくな
い。
脱アルカリしたシリカゾルのシリカ／アルカリモル比(
ＳｉＯ2 ／Ｍｅ2 Ｏ )は、３．５〜２０ｍｏｌ／ｍｏｌ
の範囲が好ましく、４．５〜１８ｍｏｌ／ｍｏｌの範囲
がさらに好ましい。この範囲よりあまりモル比が低くな
ると、シリカの溶解度が上昇し、収率が悪化するので好
ましくない。一方、この範囲よりあまりモル比が高くな
ると、シリカゾルの安定性が低下するので好ましくな
い。
【００１９】シリカゾル中のシリカ濃度は２〜２０重量
％が好ましく、３〜１５重量％が特に好ましい。この範
囲より濃度があまり低いと生産性が低下するので好まし
くない。また、この範囲より濃度があまり高いとシリカ
ゾルの安定性が低下するので好ましくない。
％が好ましく、３〜１５重量％が特に好ましい。この範
囲より濃度があまり低いと生産性が低下するので好まし
くない。また、この範囲より濃度があまり高いとシリカ
ゾルの安定性が低下するので好ましくない。
【００２０】シリカゾル中のシリカ粒子径は、平均粒子
径を意味し、特に限定するものではないが１００ｎｍ以
下のものが好ましく、そのなかでも２０ｎｍ以下の所謂
活性珪酸が特に好ましい。また粒径の下限値は特に限定
するものではないが、０．５ｎｍ以上のものが好まし
い。粒径が１００ｎｍを超えてあまり大きくなると、シ
リカゾルの安定性が低下するので好ましくない。なお、
シリカ粒子径の測定法は、この範囲の粒度が測定可能な
ものであれば特に限定するものではないが、レーザー光
散乱粒度測定装置や、透過型電子顕微鏡により撮影した
粒子像サイズのスケール計測などで測定することができ
る。
径を意味し、特に限定するものではないが１００ｎｍ以
下のものが好ましく、そのなかでも２０ｎｍ以下の所謂
活性珪酸が特に好ましい。また粒径の下限値は特に限定
するものではないが、０．５ｎｍ以上のものが好まし
い。粒径が１００ｎｍを超えてあまり大きくなると、シ
リカゾルの安定性が低下するので好ましくない。なお、
シリカ粒子径の測定法は、この範囲の粒度が測定可能な
ものであれば特に限定するものではないが、レーザー光
散乱粒度測定装置や、透過型電子顕微鏡により撮影した
粒子像サイズのスケール計測などで測定することができ
る。
【００２１】本発明においては、以上のごときシリカゾ
ルを出発原料とし、これを例えばオートクレーブ等の加
熱圧力容器中で加熱して水熱処理を行い、目的とする鱗
片状の低結晶性シリカを生成せしめる。
ルを出発原料とし、これを例えばオートクレーブ等の加
熱圧力容器中で加熱して水熱処理を行い、目的とする鱗
片状の低結晶性シリカを生成せしめる。
【００２２】なお、シリカゾルを水熱処理するため、オ
ートクレーブに仕込むに先立って、さらに蒸留水やイオ
ン交換水のごとき精製水を加えることにより、シリカ濃
度を所望の範囲に調製することも可能である。
ートクレーブに仕込むに先立って、さらに蒸留水やイオ
ン交換水のごとき精製水を加えることにより、シリカ濃
度を所望の範囲に調製することも可能である。
【００２３】オートクレーブとしては特にその形式を限
定するものではないが、少なくとも加熱手段と攪拌手段
及び好ましくは温度測定手段を備えたものであればよ
い。
定するものではないが、少なくとも加熱手段と攪拌手段
及び好ましくは温度測定手段を備えたものであればよ
い。
【００２４】本発明において水熱処理は１５０〜２５０
℃の温度範囲で行われ、好ましくは１７０〜２２０℃で
ある。これよりあまり温度が低いと、目的とする鱗片状
の低結晶性シリカを得るのに長時間を必要とすることに
なるので好ましくない。一方、これよりあまり高温で
は、目標とする鱗片状の低結晶性シリカが単一相として
得られにくくなるので好ましくない。これは、本発明の
目的とする鱗片状の低結晶性シリカが準安定相と考えら
れ、水熱処理の進行とともに、逐次クリストバライト、
クオーツに相転移する傾向があるところ、高温、特に２
５０℃を超えるような場合は、結晶化効果が大きくな
り、クリストバライトやクオーツとの混合物が生成しや
すいためであると考えられる。
℃の温度範囲で行われ、好ましくは１７０〜２２０℃で
ある。これよりあまり温度が低いと、目的とする鱗片状
の低結晶性シリカを得るのに長時間を必要とすることに
なるので好ましくない。一方、これよりあまり高温で
は、目標とする鱗片状の低結晶性シリカが単一相として
得られにくくなるので好ましくない。これは、本発明の
目的とする鱗片状の低結晶性シリカが準安定相と考えら
れ、水熱処理の進行とともに、逐次クリストバライト、
クオーツに相転移する傾向があるところ、高温、特に２
５０℃を超えるような場合は、結晶化効果が大きくな
り、クリストバライトやクオーツとの混合物が生成しや
すいためであると考えられる。
【００２５】また、必要な水熱処理の時間は、水熱処理
の温度や種晶の添加の有無等により変わりうるが、通
常、５〜５０時間、好ましくは、５〜４０時間、より好
ましくは５〜２５時間程度である。
の温度や種晶の添加の有無等により変わりうるが、通
常、５〜５０時間、好ましくは、５〜４０時間、より好
ましくは５〜２５時間程度である。
【００２６】なお、本発明においては、水熱処理を効率
よく進め、処理時間を短くするためには、その添加は必
須ではないが、種晶を添加することがより好ましい。種
晶の添加量は、もちろん限定するものではないが、原料
のシリカゾルの仕込み量に対して０．００１〜１重量％
程度が好ましい。
よく進め、処理時間を短くするためには、その添加は必
須ではないが、種晶を添加することがより好ましい。種
晶の添加量は、もちろん限定するものではないが、原料
のシリカゾルの仕込み量に対して０．００１〜１重量％
程度が好ましい。
【００２７】水熱処理終了後、水熱処理生成物をオート
クレーブより取り出し、濾過、水洗する。水洗処理後の
粒子は、１０重量％の水スラリーとしたときのｐＨが５
〜９であることが好ましく、より好ましいｐＨは６〜８
である。
クレーブより取り出し、濾過、水洗する。水洗処理後の
粒子は、１０重量％の水スラリーとしたときのｐＨが５
〜９であることが好ましく、より好ましいｐＨは６〜８
である。
【００２８】基本的には、これを乾燥することにより、
本発明で使用する鱗片状の低結晶性シリカが最終的に得
られる。この水熱処理生成物のケーキを、濾過・水洗し
た状態において顕微鏡的に見ると、個々の鱗片状の一次
粒子同志が癒着したような凝集粒子( 二次粒子 )を形成
している部分が観察されるので、必要に応じ、乾燥前に
該凝集粒子をほぐし、一次粒子として分散させる操作、
すなわち、分散処理(解砕処理 )を行うこともできる。
ただし、化粧料、制汗剤、パック剤、塗料もしくは樹脂
等に添加する粉末としての用途のような場合は、これを
分散処理することなく、得られた粒子をそのまま化粧料
等に配合しても、十分優れた効果が得られるので、分散
処理は必ずしも必要ではない。
本発明で使用する鱗片状の低結晶性シリカが最終的に得
られる。この水熱処理生成物のケーキを、濾過・水洗し
た状態において顕微鏡的に見ると、個々の鱗片状の一次
粒子同志が癒着したような凝集粒子( 二次粒子 )を形成
している部分が観察されるので、必要に応じ、乾燥前に
該凝集粒子をほぐし、一次粒子として分散させる操作、
すなわち、分散処理(解砕処理 )を行うこともできる。
ただし、化粧料、制汗剤、パック剤、塗料もしくは樹脂
等に添加する粉末としての用途のような場合は、これを
分散処理することなく、得られた粒子をそのまま化粧料
等に配合しても、十分優れた効果が得られるので、分散
処理は必ずしも必要ではない。
【００２９】なお、分散処理を行う場合の方法として
は、特に限定するものではないが、超音波ホモジナイザ
ーや湿式ビーズミル等を用いた機械的分散方法の他に、
苛性ソーダや苛性カリ等のアルカリを用いた化学的分散
方法も有効である。この化学的分散方法におけるその効
果の発現のメカニズムは、各鱗片状粒子同士の癒着部に
存在する言わばバインダーとしての易溶解性シリカ分
が、該アルカリの添加により溶解するため、各一次粒子
が互いに分離し、分散するものと推定される。
は、特に限定するものではないが、超音波ホモジナイザ
ーや湿式ビーズミル等を用いた機械的分散方法の他に、
苛性ソーダや苛性カリ等のアルカリを用いた化学的分散
方法も有効である。この化学的分散方法におけるその効
果の発現のメカニズムは、各鱗片状粒子同士の癒着部に
存在する言わばバインダーとしての易溶解性シリカ分
が、該アルカリの添加により溶解するため、各一次粒子
が互いに分離し、分散するものと推定される。
【００３０】なお、分散処理後の乾燥操作はそのまま、
または、アセトンやメタノール等の低沸点有機溶媒で洗
浄して付着水を溶媒置換した後行われる。乾燥装置は特
に限定するものではないが、気流乾燥機、流動層乾燥
機、媒体流動層乾燥機、攪拌型乾燥機、円筒乾燥機、箱
型乾燥機、バンド乾燥機、熱風乾燥機、真空乾燥機、振
動乾燥機等任意の装置を採用できる。また、乾燥温度は
通常、５０〜３００℃程度で行うのが好ましい。
または、アセトンやメタノール等の低沸点有機溶媒で洗
浄して付着水を溶媒置換した後行われる。乾燥装置は特
に限定するものではないが、気流乾燥機、流動層乾燥
機、媒体流動層乾燥機、攪拌型乾燥機、円筒乾燥機、箱
型乾燥機、バンド乾燥機、熱風乾燥機、真空乾燥機、振
動乾燥機等任意の装置を採用できる。また、乾燥温度は
通常、５０〜３００℃程度で行うのが好ましい。
【００３１】以上のごとくして得られた鱗片状の低結晶
性シリカの物理化学的分析は以下のようにして行われ
る。
性シリカの物理化学的分析は以下のようにして行われ
る。
【００３２】すなわち、低結晶性シリカの表面に存在す
るシラノール基はＩＲスペクトルにより求められる。ま
た、アスペクト比は走査型電子顕微鏡により撮影された
充分多数の鱗片状の一次粒子像にスケール等をあてて、
厚さ、最長長さ、最小長さを測定することにより求めら
れる。
るシラノール基はＩＲスペクトルにより求められる。ま
た、アスペクト比は走査型電子顕微鏡により撮影された
充分多数の鱗片状の一次粒子像にスケール等をあてて、
厚さ、最長長さ、最小長さを測定することにより求めら
れる。
【００３３】また、結晶型遊離珪酸は、労働安全衛生法
に関する告示に示された作業環境測定基準に則る作業環
境測定ガイドブック( 鉱物性粉塵関係 労働省安全衛生
部環境改善室編 )に記載された、Ｘ線回折分析法により
測定される。
に関する告示に示された作業環境測定基準に則る作業環
境測定ガイドブック( 鉱物性粉塵関係 労働省安全衛生
部環境改善室編 )に記載された、Ｘ線回折分析法により
測定される。
【００３４】
【発明の効果】以上のごとくして得られた本発明の鱗片
状の低結晶性シリカは、その一次粒子が、厚さが０．０
０１〜１μｍの鱗片状板からなり、厚さに対する鱗片状
板の最長長さの比（アスペクト比）が少なくとも１０、
厚さに対する鱗片状板の最小長さの比が少なくとも３を
有する鱗片状の形態をなし、展着性、配向性、隠蔽性な
どの特性にすぐれる。
状の低結晶性シリカは、その一次粒子が、厚さが０．０
０１〜１μｍの鱗片状板からなり、厚さに対する鱗片状
板の最長長さの比（アスペクト比）が少なくとも１０、
厚さに対する鱗片状板の最小長さの比が少なくとも３を
有する鱗片状の形態をなし、展着性、配向性、隠蔽性な
どの特性にすぐれる。
【００３５】また、本発明の鱗片状の低結晶性シリカに
おいては、珪肺を引き起こす原因となる結晶型の遊離珪
酸は、労働安全衛生法に関する告示に示された作業環境
測定基準に則る作業環境測定ガイドブック( 鉱物性粉塵
関係 労働省安全衛生部環境改善室編 )に記載された、
Ｘ線回折分析法による測定値で表示され、この値が純ク
オーツを１００として、１０％未満、好ましくは５％未
満、さらに好ましくは２％( 検出限界以下 )と、きわめ
てわずかであり、きわめて人体に安全といいうるもので
ある。
おいては、珪肺を引き起こす原因となる結晶型の遊離珪
酸は、労働安全衛生法に関する告示に示された作業環境
測定基準に則る作業環境測定ガイドブック( 鉱物性粉塵
関係 労働省安全衛生部環境改善室編 )に記載された、
Ｘ線回折分析法による測定値で表示され、この値が純ク
オーツを１００として、１０％未満、好ましくは５％未
満、さらに好ましくは２％( 検出限界以下 )と、きわめ
てわずかであり、きわめて人体に安全といいうるもので
ある。
【００３６】さらに、本発明のシリカは、該鱗片状の形
態を有するとともに、好ましくは、ＩＲスペクトルの３
６００〜３７００、３４００〜３５００ｃｍ-1にそれぞ
れ１つの吸収帯を持ったシラノール基を有する。そのた
め、該シリカは、その表面に反応活性の高いシラノール
基が存在することから、所望の有機成分による化学修飾
も可能である。
態を有するとともに、好ましくは、ＩＲスペクトルの３
６００〜３７００、３４００〜３５００ｃｍ-1にそれぞ
れ１つの吸収帯を持ったシラノール基を有する。そのた
め、該シリカは、その表面に反応活性の高いシラノール
基が存在することから、所望の有機成分による化学修飾
も可能である。
【００３７】よって本発明の鱗片状の低結晶性シリカ
は、化粧料、制汗剤、パック剤、塗料、樹脂等のフィラ
ーやクロマトグラフィー担体および触媒担体等の種々の
用途に好適に利用できる極めて有用な材料である。
は、化粧料、制汗剤、パック剤、塗料、樹脂等のフィラ
ーやクロマトグラフィー担体および触媒担体等の種々の
用途に好適に利用できる極めて有用な材料である。
【００３８】以下、実施例により、本発明の具体的な実
施の態様を説明する。いうまでもないが、これらは本発
明の技術的意義をより明確にするためのものであり、本
発明の技術的範囲がこれらにより制限的に解釈されるも
のではない。
施の態様を説明する。いうまでもないが、これらは本発
明の技術的意義をより明確にするためのものであり、本
発明の技術的範囲がこれらにより制限的に解釈されるも
のではない。
【００３９】なお、以下の実施例における、シラノール
基、アスペクト比および結晶型遊離珪酸量は上記方法に
より求めたものである。また、以下単に「％」とあるの
は「重量％」を示す。
基、アスペクト比および結晶型遊離珪酸量は上記方法に
より求めたものである。また、以下単に「％」とあるの
は「重量％」を示す。
【００４０】
〔実施例１〕加熱手段および攪拌手段を備えた容積１０
００ｃｍ3 のオートクレーブ( 電気加熱式、アンカー型
攪拌羽根 )にシリカゾル( 組成：ＳｉＯ2 ８．５％、Ｎ
ａ2Ｏ０．７３％、ＳｉＯ2 ／Ｎａ2 Ｏモル比＝１２．
０ｍｏｌ／ｍｏｌ )４７０ｇとイオン交換水３３０ｇを
仕込み、種晶を０．１ｇ添加し、昇温して１０ｒｐｍで
攪拌しながら２００℃で１２時間水熱処理を行った。
００ｃｍ3 のオートクレーブ( 電気加熱式、アンカー型
攪拌羽根 )にシリカゾル( 組成：ＳｉＯ2 ８．５％、Ｎ
ａ2Ｏ０．７３％、ＳｉＯ2 ／Ｎａ2 Ｏモル比＝１２．
０ｍｏｌ／ｍｏｌ )４７０ｇとイオン交換水３３０ｇを
仕込み、種晶を０．１ｇ添加し、昇温して１０ｒｐｍで
攪拌しながら２００℃で１２時間水熱処理を行った。
【００４１】なお、出発原料のシリカゾルは、ＪＩＳ３
号水ガラスを水で希釈して電気透析して得たものであ
り、その中のコロイド状シリカの平均粒子径は、大塚電
子（株）製のレーザー光散乱粒度測定装置で測定したと
ころ、３ｎｍ以下であった。
号水ガラスを水で希釈して電気透析して得たものであ
り、その中のコロイド状シリカの平均粒子径は、大塚電
子（株）製のレーザー光散乱粒度測定装置で測定したと
ころ、３ｎｍ以下であった。
【００４２】水熱処理物を濾過、水洗後、超音波ホモジ
ナイザーで分散処理を行い、再度濾過後、付着水をアセ
トンで置換してから１８０℃で２時間乾燥し、３２．５
ｇの微粉末を得た。
ナイザーで分散処理を行い、再度濾過後、付着水をアセ
トンで置換してから１８０℃で２時間乾燥し、３２．５
ｇの微粉末を得た。
【００４３】この得られた微粉末を粉末Ｘ線回折スペク
トルにより生成相の同定を行ったところ、２θ＝４．９
°及び２６．０°のピークを特徴とするシリカＸの単一
相であることがわかった。
トルにより生成相の同定を行ったところ、２θ＝４．９
°及び２６．０°のピークを特徴とするシリカＸの単一
相であることがわかった。
【００４４】また、該微粉末の走査型電子顕微鏡観察で
も、その一次粒子の粒子形状は、鱗片状であることが確
認された。該鱗片状粒子の平均厚さ０．０５μｍに対
し、該厚さに対する板の平均最長長さは３μｍでそのア
スペクト比は６０、板の平均最小長さは１．２μｍでそ
のアスペクト比は２４であった。
も、その一次粒子の粒子形状は、鱗片状であることが確
認された。該鱗片状粒子の平均厚さ０．０５μｍに対
し、該厚さに対する板の平均最長長さは３μｍでそのア
スペクト比は６０、板の平均最小長さは１．２μｍでそ
のアスペクト比は２４であった。
【００４５】なお、そのＩＲスペクトルは、３６００〜
３７００ｃｍ-1に一つ、３４００〜３５００ｃｍ-1に一
つの吸収帯が存在した。添付図面の図１にこのＩＲチャ
ートを示した。
３７００ｃｍ-1に一つ、３４００〜３５００ｃｍ-1に一
つの吸収帯が存在した。添付図面の図１にこのＩＲチャ
ートを示した。
【００４６】さらに、該微粉末の結晶型遊離珪酸量を測
定したところ、検出限界以下( ２％未満 )であることが
わかった。
定したところ、検出限界以下( ２％未満 )であることが
わかった。
【００４７】〔実施例２〕実施例１と同一の加熱手段お
よび攪拌手段を備えた容積１０００ｃｍ3 のオートクレ
ーブ( 電気加熱式、アンカー型攪拌羽根 )にシリカゾル
( 組成：ＳｉＯ2８．５％、Ｎａ2 Ｏ０．７３％、Ｓｉ
Ｏ2 ／Ｎａ2 Ｏモル比＝１２．０ｍｏｌ／ｍｏｌ )４７
０ｇとイオン交換水３３０ｇを仕込み、種晶を０．１ｇ
添加し、昇温して１０ｒｐｍで攪拌しながら１８０℃で
２４時間水熱処理を行った。
よび攪拌手段を備えた容積１０００ｃｍ3 のオートクレ
ーブ( 電気加熱式、アンカー型攪拌羽根 )にシリカゾル
( 組成：ＳｉＯ2８．５％、Ｎａ2 Ｏ０．７３％、Ｓｉ
Ｏ2 ／Ｎａ2 Ｏモル比＝１２．０ｍｏｌ／ｍｏｌ )４７
０ｇとイオン交換水３３０ｇを仕込み、種晶を０．１ｇ
添加し、昇温して１０ｒｐｍで攪拌しながら１８０℃で
２４時間水熱処理を行った。
【００４８】出発原料のシリカゾルは実施例１と同様に
して調製したものであり、その中のコロイド状シリカの
平均粒子径は、透過型電子顕微鏡により測定したとこ
ろ、２〜５ｎｍ程度であった。
して調製したものであり、その中のコロイド状シリカの
平均粒子径は、透過型電子顕微鏡により測定したとこ
ろ、２〜５ｎｍ程度であった。
【００４９】水熱処理物を濾過、水洗後、超音波ホモジ
ナイザーで分散処理を行い、再度濾過後、付着水をアセ
トンで置換してから実施例１と同様にして乾燥し、３
２．３ｇの微粉末を得た。
ナイザーで分散処理を行い、再度濾過後、付着水をアセ
トンで置換してから実施例１と同様にして乾燥し、３
２．３ｇの微粉末を得た。
【００５０】この得られた微粉末を粉末Ｘ線回折スペク
トルにより生成相の同定を行ったところ、実施例１と同
様に、シリカＸの単一相であることがわかった。
トルにより生成相の同定を行ったところ、実施例１と同
様に、シリカＸの単一相であることがわかった。
【００５１】また、該微粉末の走査型電子顕微鏡観察で
も、その一次粒子の粒子形状は、鱗片状であることが確
認された。該鱗片状粒子の平均厚さ０．０４μｍに対
し、該厚さに対する板の平均最長長さは４μｍでそのア
スペクト比は１００、板の平均最小長さは１．５μｍで
そのアスペクト比は３８であった。
も、その一次粒子の粒子形状は、鱗片状であることが確
認された。該鱗片状粒子の平均厚さ０．０４μｍに対
し、該厚さに対する板の平均最長長さは４μｍでそのア
スペクト比は１００、板の平均最小長さは１．５μｍで
そのアスペクト比は３８であった。
【００５２】なお、そのＩＲスペクトルは、吸収帯の位
置、数ともに実施例１と同様であった。
置、数ともに実施例１と同様であった。
【００５３】さらに、該微粉末の結晶型遊離珪酸量を測
定したところ、検出限界以下( ２％未満 )であることが
わかった。
定したところ、検出限界以下( ２％未満 )であることが
わかった。
【００５４】〔実施例３〕実施例１と同一の加熱手段お
よび攪拌手段を備えた容積１０００ｃｍ3 のオートクレ
ーブ( 電気加熱式、アンカー型攪拌羽根 )にシリカゾル
( 組成：ＳｉＯ2１０．０％、Ｎａ2 Ｏ２．０８％、Ｓ
ｉＯ2 ／Ｎａ2 Ｏモル比＝５．０ｍｏｌ／ｍｏｌ )４０
０ｇとイオン交換水４００ｇを仕込み、種晶を０．１ｇ
添加し、昇温して１０ｒｐｍで攪拌しながら２００℃で
１０時間水熱処理を行った。
よび攪拌手段を備えた容積１０００ｃｍ3 のオートクレ
ーブ( 電気加熱式、アンカー型攪拌羽根 )にシリカゾル
( 組成：ＳｉＯ2１０．０％、Ｎａ2 Ｏ２．０８％、Ｓ
ｉＯ2 ／Ｎａ2 Ｏモル比＝５．０ｍｏｌ／ｍｏｌ )４０
０ｇとイオン交換水４００ｇを仕込み、種晶を０．１ｇ
添加し、昇温して１０ｒｐｍで攪拌しながら２００℃で
１０時間水熱処理を行った。
【００５５】出発原料のシリカゾルは実施例１と同様に
して調製しその中のコロイド状シリカの平均粒子径は、
実施例１と同じく大塚電子（株）製のレーザー光散乱粒
度測定装置で測定したところ、３ｎｍ以下であった。
して調製しその中のコロイド状シリカの平均粒子径は、
実施例１と同じく大塚電子（株）製のレーザー光散乱粒
度測定装置で測定したところ、３ｎｍ以下であった。
【００５６】水熱処理物を濾過、水洗後、超音波ホモジ
ナイザーで分散処理を行い、再度濾過後、付着水をアセ
トンで置換してから実施例１と同様にして乾燥し、２
８．５ｇの微粉末を得た。
ナイザーで分散処理を行い、再度濾過後、付着水をアセ
トンで置換してから実施例１と同様にして乾燥し、２
８．５ｇの微粉末を得た。
【００５７】この得られた微粉末を粉末Ｘ線回折スペク
トルにより生成相の同定を行ったところ、実施例１と同
様に、シリカＸの単一相であることがわかった。
トルにより生成相の同定を行ったところ、実施例１と同
様に、シリカＸの単一相であることがわかった。
【００５８】また、該微粉末の走査型電子顕微鏡観察で
も、その一次粒子の粒子形状は、鱗片状であることが確
認された。該鱗片状粒子の平均厚さ０．０５μｍに対
し、該厚さに対する板の平均最長長さは４μｍでそのア
スペクト比は８０、板の平均最小長さは１．２μｍでそ
のアスペクト比は２４であった。
も、その一次粒子の粒子形状は、鱗片状であることが確
認された。該鱗片状粒子の平均厚さ０．０５μｍに対
し、該厚さに対する板の平均最長長さは４μｍでそのア
スペクト比は８０、板の平均最小長さは１．２μｍでそ
のアスペクト比は２４であった。
【００５９】なお、そのＩＲスペクトルは、吸収帯の位
置、数ともに実施例１と同様であった。
置、数ともに実施例１と同様であった。
【００６０】さらに、該微粉末の結晶型遊離珪酸量を測
定したところ、検出限界以下( ２％未満 )であることが
わかった。
定したところ、検出限界以下( ２％未満 )であることが
わかった。
【００６１】〔実施例４〕実施例１と同一の加熱手段お
よび攪拌手段を備えた容積１０００ｃｍ3 のオートクレ
ーブ( 電気加熱式、アンカー型攪拌羽根 )にシリカゾル
( 組成：ＳｉＯ2１３．５％、Ｎａ2 Ｏ３．９８％、Ｓ
ｉＯ2 ／Ｎａ2 Ｏモル比＝３．５ｍｏｌ／ｍｏｌ )２９
６ｇとイオン交換水５０４ｇを仕込み、種晶を０．１ｇ
添加し、昇温して１０ｒｐｍで攪拌しながら２００℃で
８時間水熱処理を行った。
よび攪拌手段を備えた容積１０００ｃｍ3 のオートクレ
ーブ( 電気加熱式、アンカー型攪拌羽根 )にシリカゾル
( 組成：ＳｉＯ2１３．５％、Ｎａ2 Ｏ３．９８％、Ｓ
ｉＯ2 ／Ｎａ2 Ｏモル比＝３．５ｍｏｌ／ｍｏｌ )２９
６ｇとイオン交換水５０４ｇを仕込み、種晶を０．１ｇ
添加し、昇温して１０ｒｐｍで攪拌しながら２００℃で
８時間水熱処理を行った。
【００６２】出発原料のシリカゾルは実施例１と同様に
して調製し、その中のコロイド状シリカの平均粒子径
は、実施例１と同じく大塚電子（株）製のレーザー光散
乱粒度測定装置で測定したところ、３ｎｍ以下であっ
た。
して調製し、その中のコロイド状シリカの平均粒子径
は、実施例１と同じく大塚電子（株）製のレーザー光散
乱粒度測定装置で測定したところ、３ｎｍ以下であっ
た。
【００６３】水熱処理物を濾過、水洗後、超音波ホモジ
ナイザーで分散処理を行い、再度濾過後、付着水をアセ
トンで置換してから実施例１と同様にして乾燥し、１
５．６ｇの微粉末を得た。
ナイザーで分散処理を行い、再度濾過後、付着水をアセ
トンで置換してから実施例１と同様にして乾燥し、１
５．６ｇの微粉末を得た。
【００６４】この得られた微粉末を粉末Ｘ線回折スペク
トルにより生成相の同定を行ったところ、実施例１と同
様に、シリカＸの単一相であることがわかった。
トルにより生成相の同定を行ったところ、実施例１と同
様に、シリカＸの単一相であることがわかった。
【００６５】また、該微粉末の走査型電子顕微鏡観察で
も、その一次粒子の粒子形状は、鱗片状であることが確
認された。該鱗片状粒子の平均厚さ０．０５μｍに対
し、該厚さに対する板の平均最長長さは５μｍでそのア
スペクト比は１００、板の平均最小長さは０．５μｍで
そのアスペクト比は１０であった。
も、その一次粒子の粒子形状は、鱗片状であることが確
認された。該鱗片状粒子の平均厚さ０．０５μｍに対
し、該厚さに対する板の平均最長長さは５μｍでそのア
スペクト比は１００、板の平均最小長さは０．５μｍで
そのアスペクト比は１０であった。
【００６６】なお、そのＩＲスペクトルは、吸収帯の位
置、数ともに実施例１と同様であった。
置、数ともに実施例１と同様であった。
【００６７】さらに、該微粉末の結晶型遊離珪酸量を測
定したところ、検出限界以下( ２％未満 )であることが
わかった。
定したところ、検出限界以下( ２％未満 )であることが
わかった。
【００６８】〔実施例５〕実施例１と同一の加熱手段お
よび攪拌手段を備えた容積１０００ｃｍ3 のオートクレ
ーブ( 電気加熱式、アンカー型攪拌羽根 )にシリカゾル
( 組成：ＳｉＯ2８．５％、Ｎａ2 Ｏ０．７３％、Ｓｉ
Ｏ2 ／Ｎａ2 Ｏモル比＝１２．０ｍｏｌ／ｍｏｌ )４７
０ｇとイオン交換水３３０ｇを仕込み、種晶は添加せず
に、昇温して１０ｒｐｍで攪拌しながら２００℃で３６
時間水熱処理を行った。
よび攪拌手段を備えた容積１０００ｃｍ3 のオートクレ
ーブ( 電気加熱式、アンカー型攪拌羽根 )にシリカゾル
( 組成：ＳｉＯ2８．５％、Ｎａ2 Ｏ０．７３％、Ｓｉ
Ｏ2 ／Ｎａ2 Ｏモル比＝１２．０ｍｏｌ／ｍｏｌ )４７
０ｇとイオン交換水３３０ｇを仕込み、種晶は添加せず
に、昇温して１０ｒｐｍで攪拌しながら２００℃で３６
時間水熱処理を行った。
【００６９】出発原料のシリカゾルは実施例１と同様に
して調製し、その中のコロイド状シリカの平均粒子径
は、実施例１と同じく大塚電子（株）製のレーザー光散
乱粒度測定装置で測定したところ、３ｎｍ以下であっ
た。
して調製し、その中のコロイド状シリカの平均粒子径
は、実施例１と同じく大塚電子（株）製のレーザー光散
乱粒度測定装置で測定したところ、３ｎｍ以下であっ
た。
【００７０】水熱処理物を濾過、水洗後、超音波ホモジ
ナイザーで分散処理を行い、再度濾過後、付着水をアセ
トンで置換してから実施例１と同様にして乾燥し、３
２．０ｇの微粉末を得た。
ナイザーで分散処理を行い、再度濾過後、付着水をアセ
トンで置換してから実施例１と同様にして乾燥し、３
２．０ｇの微粉末を得た。
【００７１】この得られた微粉末を粉末Ｘ線回折スペク
トルにより生成相の同定を行ったところ、実施例１と同
様に、シリカＸの単一相であることがわかった。
トルにより生成相の同定を行ったところ、実施例１と同
様に、シリカＸの単一相であることがわかった。
【００７２】また、該微粉末の走査型電子顕微鏡観察で
も、その一次粒子の粒子形状は、鱗片状であることが確
認された。該鱗片状粒子の平均厚さ０．０６μｍに対
し、該厚さに対する板の平均最長長さは５μｍでそのア
スペクト比は８３、板の平均最小長さは１．５μｍでそ
のアスペクト比は２５であった。
も、その一次粒子の粒子形状は、鱗片状であることが確
認された。該鱗片状粒子の平均厚さ０．０６μｍに対
し、該厚さに対する板の平均最長長さは５μｍでそのア
スペクト比は８３、板の平均最小長さは１．５μｍでそ
のアスペクト比は２５であった。
【００７３】なお、そのＩＲスペクトルは、吸収帯の位
置、数ともに実施例１と同様であった。
置、数ともに実施例１と同様であった。
【００７４】さらに、該微粉末の結晶型遊離珪酸量を測
定したところ、検出限界以下( ２％未満 )であることが
わかった。
定したところ、検出限界以下( ２％未満 )であることが
わかった。
【００７５】〔実施例６〕実施例１と同様の条件で水熱
処理を行い、得られた水熱処理物を濾過、水洗後、分散
処理( 解砕処理 )を行うことなく、付着水をアセトンで
置換してから実施例１と同様に乾燥し、３２．８ｇの微
粉末を得た。
処理を行い、得られた水熱処理物を濾過、水洗後、分散
処理( 解砕処理 )を行うことなく、付着水をアセトンで
置換してから実施例１と同様に乾燥し、３２．８ｇの微
粉末を得た。
【００７６】この得られた微粉末を粉末Ｘ線回折スペク
トルにより生成相の同定を行ったところ、実施例１と同
様にシリカＸの単一相であることがわかった。
トルにより生成相の同定を行ったところ、実施例１と同
様にシリカＸの単一相であることがわかった。
【００７７】また、該微粉末の走査型電子顕微鏡観察で
は、鱗片状の一次粒子同志が癒着したような凝集粒子を
形成している部分がかなり認められた。該鱗片状の一次
粒子の平均厚さ０．０６μｍに対し、該厚さに対する板
の平均最長長さは３μｍでそのアスペクト比は５０、板
の平均最小長さは１．５μｍでそのアスペクト比は２５
であった。
は、鱗片状の一次粒子同志が癒着したような凝集粒子を
形成している部分がかなり認められた。該鱗片状の一次
粒子の平均厚さ０．０６μｍに対し、該厚さに対する板
の平均最長長さは３μｍでそのアスペクト比は５０、板
の平均最小長さは１．５μｍでそのアスペクト比は２５
であった。
【００７８】また、ＩＲスペクトルは、３６００〜３７
００ｃｍ-1に一つ、３４００〜３５００ｃｍ-1に一つの
吸収帯が存在した。
００ｃｍ-1に一つ、３４００〜３５００ｃｍ-1に一つの
吸収帯が存在した。
【００７９】さらに、該微粉末の結晶型遊離珪酸量を測
定したところ、検出限界以下( ２％未満 )であることが
わかった。
定したところ、検出限界以下( ２％未満 )であることが
わかった。
【００８０】〔実施例７〕実施例２と同様の条件で水熱
処理を行い、得られた水熱処理物を濾過、水洗後、分散
処理( 解砕処理 )を行うことなく、付着水をアセトンで
置換してから実施例２と同様にして乾燥し、３２．５ｇ
の微粉末を得た。
処理を行い、得られた水熱処理物を濾過、水洗後、分散
処理( 解砕処理 )を行うことなく、付着水をアセトンで
置換してから実施例２と同様にして乾燥し、３２．５ｇ
の微粉末を得た。
【００８１】この得られた微粉末を粉末Ｘ線回折スペク
トルにより生成相の同定を行ったところ、実施例２と同
様にシリカＸの単一相であることがわかった。
トルにより生成相の同定を行ったところ、実施例２と同
様にシリカＸの単一相であることがわかった。
【００８２】また、該微粉末の走査型電子顕微鏡観察で
は、鱗片状の一次粒子同志が癒着したような凝集粒子を
形成している部分がかなり認められた。該鱗片状の一次
粒子の平均厚さ０．０５μｍに対し、該厚さに対する板
の平均最長長さは４μｍでそのアスペクト比は８０、板
の平均最小長さは１．５μｍでそのアスペクト比は３０
であった。
は、鱗片状の一次粒子同志が癒着したような凝集粒子を
形成している部分がかなり認められた。該鱗片状の一次
粒子の平均厚さ０．０５μｍに対し、該厚さに対する板
の平均最長長さは４μｍでそのアスペクト比は８０、板
の平均最小長さは１．５μｍでそのアスペクト比は３０
であった。
【００８３】なお、そのＩＲスペクトルは、吸収帯の位
置、数ともに実施例２と同様であった。
置、数ともに実施例２と同様であった。
【００８４】さらに、該微粉末の結晶型遊離珪酸量を測
定したところ、検出限界以下( ２％未満 )であることが
わかった。
定したところ、検出限界以下( ２％未満 )であることが
わかった。
【００８５】〔実施例８〕実施例３と同様の条件で水熱
処理を行い、得られた水熱処理物を濾過、水洗後、分散
処理( 解砕処理 )を行うことなく、付着水をアセトンで
置換してから実施例３と同様に乾燥し、２８．６ｇの微
粉末を得た。
処理を行い、得られた水熱処理物を濾過、水洗後、分散
処理( 解砕処理 )を行うことなく、付着水をアセトンで
置換してから実施例３と同様に乾燥し、２８．６ｇの微
粉末を得た。
【００８６】この得られた微粉末を粉末Ｘ線回折スペク
トルにより生成相の同定を行ったところ、実施例３と同
様にシリカＸの単一相であることがわかった。
トルにより生成相の同定を行ったところ、実施例３と同
様にシリカＸの単一相であることがわかった。
【００８７】また、該微粉末の走査型電子顕微鏡観察で
は、鱗片状の一次粒子同志が癒着したような凝集粒子を
形成している部分がかなり認められた。該鱗片状の一次
粒子の平均厚さ０．０５μｍに対し、該厚さに対する板
の平均最長長さは４μｍでそのアスペクト比は８０、板
の平均最小長さは１．３μｍでそのアスペクト比は２６
であった。
は、鱗片状の一次粒子同志が癒着したような凝集粒子を
形成している部分がかなり認められた。該鱗片状の一次
粒子の平均厚さ０．０５μｍに対し、該厚さに対する板
の平均最長長さは４μｍでそのアスペクト比は８０、板
の平均最小長さは１．３μｍでそのアスペクト比は２６
であった。
【００８８】なお、そのＩＲスペクトルは、吸収帯の位
置、数ともに実施例１と同様であった。
置、数ともに実施例１と同様であった。
【００８９】さらに、該微粉末の結晶型遊離珪酸量を測
定したところ、検出限界以下( ２％未満 )であることが
わかった。
定したところ、検出限界以下( ２％未満 )であることが
わかった。
【００９０】〔実施例９〕実施例４と同様の条件で水熱
処理を行い、得られた水熱処理物を濾過、水洗後、分散
処理( 解砕処理 )を行うことなく、付着水をアセトンで
置換してから実施例４と同様に乾燥し、１５．５ｇの微
粉末を得た。
処理を行い、得られた水熱処理物を濾過、水洗後、分散
処理( 解砕処理 )を行うことなく、付着水をアセトンで
置換してから実施例４と同様に乾燥し、１５．５ｇの微
粉末を得た。
【００９１】この得られた微粉末を粉末Ｘ線回折スペク
トルにより生成相の同定を行ったところ、実施例４と同
様にシリカＸの単一相であることがわかった。
トルにより生成相の同定を行ったところ、実施例４と同
様にシリカＸの単一相であることがわかった。
【００９２】また、該微粉末の走査型電子顕微鏡観察で
は、鱗片状の一次粒子同志が癒着したような凝集粒子を
形成している部分がかなり認められた。該鱗片状の一次
粒子の平均厚さ０．０５μｍに対し、該厚さに対する板
の平均最長長さは５μｍでそのアスペクト比は１００、
板の平均最小長さは０．５μｍでそのアスペクト比は１
０であった。
は、鱗片状の一次粒子同志が癒着したような凝集粒子を
形成している部分がかなり認められた。該鱗片状の一次
粒子の平均厚さ０．０５μｍに対し、該厚さに対する板
の平均最長長さは５μｍでそのアスペクト比は１００、
板の平均最小長さは０．５μｍでそのアスペクト比は１
０であった。
【００９３】なお、そのＩＲスペクトルは、吸収帯の位
置、数ともに実施例１と同様であった。
置、数ともに実施例１と同様であった。
【００９４】さらに、該微粉末の結晶型遊離珪酸量を測
定したところ、検出限界以下( ２％未満 )であることが
わかった。
定したところ、検出限界以下( ２％未満 )であることが
わかった。
【００９５】〔実施例１０〕実施例５と同様の条件で水
熱処理を行い、得られた水熱処理物を濾過、水洗後、分
散処理( 解砕処理 )を行うことなく、付着水をアセトン
で置換してから実施例５と同様に乾燥し、３２．２ｇの
微粉末を得た。
熱処理を行い、得られた水熱処理物を濾過、水洗後、分
散処理( 解砕処理 )を行うことなく、付着水をアセトン
で置換してから実施例５と同様に乾燥し、３２．２ｇの
微粉末を得た。
【００９６】この得られた微粉末を粉末Ｘ線回折スペク
トルにより生成相の同定を行ったところ、実施例５と同
様にシリカＸの単一相であることがわかった。
トルにより生成相の同定を行ったところ、実施例５と同
様にシリカＸの単一相であることがわかった。
【００９７】また、該微粉末の走査型電子顕微鏡観察で
は、鱗片状の一次粒子同志が癒着したような凝集粒子を
形成している部分がかなり認められた。該鱗片状の一次
粒子の平均厚さ０．０６μｍに対し、該厚さに対する板
の平均最長長さは５μｍでそのアスペクト比は８３、板
の平均最小長さは１．２μｍでそのアスペクト比は２０
であった。
は、鱗片状の一次粒子同志が癒着したような凝集粒子を
形成している部分がかなり認められた。該鱗片状の一次
粒子の平均厚さ０．０６μｍに対し、該厚さに対する板
の平均最長長さは５μｍでそのアスペクト比は８３、板
の平均最小長さは１．２μｍでそのアスペクト比は２０
であった。
【００９８】なお、そのＩＲスペクトルは、吸収帯の位
置、数ともに実施例１と同様であった。
置、数ともに実施例１と同様であった。
【００９９】さらに、該微粉末の結晶型遊離珪酸量を測
定したところ、検出限界以下( ２％未満 )であることが
わかった。
定したところ、検出限界以下( ２％未満 )であることが
わかった。
【０１００】以上、実施例から明らかなごとく、シリカ
ゾルを出発原料とし水熱処理を行うことにより、本発明
の目的物である、結晶型遊離珪酸の含有量の充分少な
い、ＩＲスペクトルの特定領域にシラノール基を有す
る、鱗片状の低結晶性シリカが生成されることが確認さ
れた。
ゾルを出発原料とし水熱処理を行うことにより、本発明
の目的物である、結晶型遊離珪酸の含有量の充分少な
い、ＩＲスペクトルの特定領域にシラノール基を有す
る、鱗片状の低結晶性シリカが生成されることが確認さ
れた。
【図１】実施例１で得られたシリカのＩＲスペクトルチ
ャートである。
ャートである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小野 英一 福岡県北九州市若松区北湊町13番１号 洞 海化学工業株式会社内
Claims (6)
- 【請求項１】 厚さが０．００１〜１μｍの鱗片状板か
らなり、該厚さに対する該鱗片状板の最長長さの比（ア
スペクト比）が少なくとも１０、該厚さに対する該鱗片
状板の最小長さの比が少なくとも３を有する鱗片状のシ
リカであって、かつ、Ｘ線回折分析法による結晶型遊離
珪酸の測定値が１０％未満であることを特徴とする低結
晶性の鱗片状シリカ。 - 【請求項２】 ＩＲスペクトルの３６００〜３７００、
３４００〜３５００ｃｍ-1にそれぞれ１つの吸収帯を持
ったシラノール基を有することを特徴とする請求項１記
載の低結晶性の鱗片状シリカ。 - 【請求項３】 珪酸アルカリ水溶液を脱アルカリして得
られるシリカゾルを出発原料とし、該シリカゾルを水熱
処理せしめてなることを特徴とする請求項１または２記
載の低結晶性の鱗片状シリカの製造方法。 - 【請求項４】 シリカゾルのシリカ／アルカリモル比(
ＳｉＯ2 ／Ｍｅ2 Ｏ、ここでＭｅはアルカリ金属を示す
)が、３．５ｍｏｌ／ｍｏｌ〜２０ｍｏｌ／ｍｏｌであ
ることを特徴とする請求項３記載の鱗片状シリカの製造
方法。 - 【請求項５】 シリカゾルのシリカ粒子径が１００ｎｍ
以下であることを特徴とする請求項３または４記載の鱗
片状シリカの製造方法。 - 【請求項６】 水熱処理の際に、種晶を添加することを
特徴とする請求項３〜５のいずれかに記載の鱗片状シリ
カの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17912097A JP3894518B2 (ja) | 1997-05-14 | 1997-06-20 | 鱗片状の低結晶性シリカとその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13795997 | 1997-05-14 | ||
| JP9-137959 | 1997-05-14 | ||
| JP17912097A JP3894518B2 (ja) | 1997-05-14 | 1997-06-20 | 鱗片状の低結晶性シリカとその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1129317A true JPH1129317A (ja) | 1999-02-02 |
| JP3894518B2 JP3894518B2 (ja) | 2007-03-22 |
Family
ID=26471118
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17912097A Expired - Lifetime JP3894518B2 (ja) | 1997-05-14 | 1997-06-20 | 鱗片状の低結晶性シリカとその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3894518B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1106574A1 (en) * | 1999-12-10 | 2001-06-13 | Asahi Glass Company Ltd. | Scaly silica particles and hardenable composition containing them |
| EP1243554A1 (en) * | 2001-03-19 | 2002-09-25 | Asahi Glass Co., Ltd. | Hardenable composition with high storage stability containing scaly silica particles and process for its production |
| JP2005281395A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Sakura Color Prod Corp | 固形描画材 |
| JP2006206404A (ja) * | 2005-01-31 | 2006-08-10 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 吹付け材料及びそれを用いた吹付け工法 |
| CN115521502A (zh) * | 2021-06-25 | 2022-12-27 | 济南优纳泰克新材料科技有限公司 | 一种改性白炭黑微米聚集体及其制备方法和应用 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5015756B1 (ja) * | 1970-12-21 | 1975-06-07 | ||
| JPH01294515A (ja) * | 1988-05-20 | 1989-11-28 | Nissan Chem Ind Ltd | 結合剤 |
| JPH02258615A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-19 | Asahi Glass Co Ltd | 結晶質シリカ |
| JPH04145011A (ja) * | 1990-10-02 | 1992-05-19 | Asahi Glass Co Ltd | シリカ配合化粧品 |
| JPH0971417A (ja) * | 1995-09-07 | 1997-03-18 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | フレーク状粉体及びそれを配合した化粧料 |
-
1997
- 1997-06-20 JP JP17912097A patent/JP3894518B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5015756B1 (ja) * | 1970-12-21 | 1975-06-07 | ||
| JPH01294515A (ja) * | 1988-05-20 | 1989-11-28 | Nissan Chem Ind Ltd | 結合剤 |
| JPH02258615A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-19 | Asahi Glass Co Ltd | 結晶質シリカ |
| JPH04145011A (ja) * | 1990-10-02 | 1992-05-19 | Asahi Glass Co Ltd | シリカ配合化粧品 |
| JPH0971417A (ja) * | 1995-09-07 | 1997-03-18 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | フレーク状粉体及びそれを配合した化粧料 |
Non-Patent Citations (3)
| Title |
|---|
| 小菅勝典他: "マガディアイトとケニヤアイトの水熱合成", JOURNAL OF THE CERAMIC SOCIETY OF JAPAN, vol. 100, no. 3, JPN4006012561, 1992, pages 326 - 331, ISSN: 0000757545 * |
| 小菅勝典他: "マガディアイトとケニヤアイトの水熱合成", JOURNAL OF THE CERAMIC SOCIETY OF JAPAN, vol. 100, no. 3, JPNX006050942, 1992, pages 326 - 331, ISSN: 0000786178 * |
| 小菅勝典他: "マガディアイトとケニヤアイトの水熱合成", JOURNAL OF THE CERAMIC SOCIETY OF JAPAN, vol. 100, no. 3, JPNX006058231, 1992, pages 326 - 331, ISSN: 0000795508 * |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1106574A1 (en) * | 1999-12-10 | 2001-06-13 | Asahi Glass Company Ltd. | Scaly silica particles and hardenable composition containing them |
| EP1243554A1 (en) * | 2001-03-19 | 2002-09-25 | Asahi Glass Co., Ltd. | Hardenable composition with high storage stability containing scaly silica particles and process for its production |
| US6764539B2 (en) * | 2001-03-19 | 2004-07-20 | Asahi Glass Company, Limited | Hardenable composition with high storage stability containing scaly silica particles and process for its production |
| JP2005281395A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Sakura Color Prod Corp | 固形描画材 |
| JP2006206404A (ja) * | 2005-01-31 | 2006-08-10 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 吹付け材料及びそれを用いた吹付け工法 |
| CN115521502A (zh) * | 2021-06-25 | 2022-12-27 | 济南优纳泰克新材料科技有限公司 | 一种改性白炭黑微米聚集体及其制备方法和应用 |
| CN115521502B (zh) * | 2021-06-25 | 2024-01-26 | 济南优纳泰克新材料科技有限公司 | 一种改性白炭黑微米聚集体及其制备方法和应用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3894518B2 (ja) | 2007-03-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5128040B2 (ja) | バイオマス灰溶液からの沈着炭素を含む又は含まない沈降シリカ及びシリカ・ゲル、及びプロセス | |
| US7622097B2 (en) | Process for hydrothermal production of sodium silicate solutions and precipitated silicas | |
| JP3090455B2 (ja) | ゼオライト及びその製造方法 | |
| JPH01500186A (ja) | 層状珪酸塩およびその製法 | |
| GB1592875A (en) | Silica polymorph and process for preparing same | |
| JP5267758B2 (ja) | 疎水性シリカ粉末の製造法 | |
| JPH10510236A (ja) | アルミノ−シリケート誘導体の製造方法 | |
| EP0306238B1 (en) | Zsm-5 and its synthesis | |
| CN1318300C (zh) | 无机氧化物 | |
| JPS63190705A (ja) | 合成スチブンサイト及びその製法 | |
| JPH0435402B2 (ja) | ||
| JPH1129317A (ja) | 鱗片状の低結晶性シリカとその製造方法 | |
| JP2002201382A (ja) | 紫外線遮蔽用酸化亜鉛微粒子 | |
| JPH0355410B2 (ja) | ||
| JPH02184515A (ja) | 小細孔の結晶性チタンモレキユラーシーブゼオライト | |
| US4226636A (en) | Production of calcium silicate having high specific bulk volume and calcium silicate-gypsum composite | |
| US4606901A (en) | Deagglomeration of porous siliceous crystalline materials | |
| CN117440929A (zh) | 层状硅酸盐的制造方法以及其在二氧化硅纳米片的制造等中的应用 | |
| JP6166440B2 (ja) | エアロゲル及び該エアロゲルからなる艶消し剤 | |
| JP2002201024A (ja) | 酸化亜鉛を主成分とする複合微粒子の製造方法 | |
| US20130284974A1 (en) | Sodium silicate solutions | |
| JP2003231755A (ja) | 有機基含有シリカゲル | |
| JPH11236515A (ja) | 紫外線遮蔽性微粉体組成物とその用途 | |
| JP2003221223A (ja) | シリカ | |
| JP5678648B2 (ja) | Ｚｓｍ−５微粒子及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040419 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060615 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060802 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060922 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061027 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061114 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20061206 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20061211 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091222 Year of fee payment: 3 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091222 Year of fee payment: 3 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091222 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121222 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121222 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151222 Year of fee payment: 9 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |