JPH11288095A - 酸素遮断膜形成材料及び酸素遮断膜 - Google Patents
酸素遮断膜形成材料及び酸素遮断膜Info
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- JPH11288095A JPH11288095A JP10391498A JP10391498A JPH11288095A JP H11288095 A JPH11288095 A JP H11288095A JP 10391498 A JP10391498 A JP 10391498A JP 10391498 A JP10391498 A JP 10391498A JP H11288095 A JPH11288095 A JP H11288095A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光重合性感光層上に設けることにより、露光
後、現像処理を行っても感光層と支持体との密着性を損
なうことなく解像度に優れたパターン画像を与える酸素
遮断膜を提供する。 【解決手段】 酸素遮断性を有する水溶性高分子と可塑
剤を含有する酸素遮断膜形成材料からなり、かつ該可塑
剤が酸素遮断膜形成材料の固形分中１〜２５重量％含有
されることを特徴とする。
後、現像処理を行っても感光層と支持体との密着性を損
なうことなく解像度に優れたパターン画像を与える酸素
遮断膜を提供する。 【解決手段】 酸素遮断性を有する水溶性高分子と可塑
剤を含有する酸素遮断膜形成材料からなり、かつ該可塑
剤が酸素遮断膜形成材料の固形分中１〜２５重量％含有
されることを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、支持体上の光重合
性感光層をパターン露光する際に、光重合性感光層上に
設ける酸素遮断膜及びその形成材料に関するものであ
る。
性感光層をパターン露光する際に、光重合性感光層上に
設ける酸素遮断膜及びその形成材料に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示体用カラーフィルター、プリン
ト配線基板、印刷校正の作製方法として、光重合性感光
層にパターンを有するマスクを介して露光を行い、その
後任意の現像液により未露光部を溶出し、任意のパター
ンを形成する画像形成方法が広く用いられている。
ト配線基板、印刷校正の作製方法として、光重合性感光
層にパターンを有するマスクを介して露光を行い、その
後任意の現像液により未露光部を溶出し、任意のパター
ンを形成する画像形成方法が広く用いられている。
【０００３】露光により、光重合性感光層中のモノマー
や光開始剤からラジカルが発生し、感光層において重合
反応が進行するため、露光部は現像液に不溶となり支持
体上にパターン画像が形成される。このとき、感光層表
面と接する雰囲気中に酸素が存在すると、発生したラジ
カルは酸素とも反応し消費されるため、感光層の重合が
不十分となりやすい。このため、一般に、感光層上に酸
素遮断膜を設け、ラジカルと感光層表面雰囲気中の酸素
の反応を防止する方法が用いられている。
や光開始剤からラジカルが発生し、感光層において重合
反応が進行するため、露光部は現像液に不溶となり支持
体上にパターン画像が形成される。このとき、感光層表
面と接する雰囲気中に酸素が存在すると、発生したラジ
カルは酸素とも反応し消費されるため、感光層の重合が
不十分となりやすい。このため、一般に、感光層上に酸
素遮断膜を設け、ラジカルと感光層表面雰囲気中の酸素
の反応を防止する方法が用いられている。
【０００４】しかし、感光層上に酸素遮断膜を設けた場
合、現像中に微細なパターン画像が支持体上から剥が
れ、解像度が落ちるという問題があった。
合、現像中に微細なパターン画像が支持体上から剥が
れ、解像度が落ちるという問題があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、露光後、現
像処理を行っても感光層と支持体の密着性を損なうこと
なく、充分な解像度をもつパターン画像を得ることがで
きる酸素遮断膜および、その製造方法を提供することが
目的である。
像処理を行っても感光層と支持体の密着性を損なうこと
なく、充分な解像度をもつパターン画像を得ることがで
きる酸素遮断膜および、その製造方法を提供することが
目的である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、光
重合型感光層を露光する工程で用いる酸素遮断膜組成物
において、酸素遮断性を有する水溶性高分子と可塑剤を
含有することを特徴とする酸素遮断膜形成材料により達
成された。
重合型感光層を露光する工程で用いる酸素遮断膜組成物
において、酸素遮断性を有する水溶性高分子と可塑剤を
含有することを特徴とする酸素遮断膜形成材料により達
成された。
【０００７】酸素遮断膜を設けた場合に生ずる感光層の
密着性低下は、酸素遮断膜が光重合に伴う感光層の収縮
変形を妨げることが原因であると考えられる。光重合型
樹脂は露光後、重合することにより露光前の体積より収
縮するが、酸素遮断膜は露光前後で収縮しない。このた
め酸素遮断膜が設けられた露光後の感光層には、酸素遮
断膜が設けられていない場合と比べ、潜在収縮力が大き
くなる。このため、現像時に酸素遮断膜が除去される
と、感光層が収縮を始め支持体より剥がれやすくなる。
密着性低下は、酸素遮断膜が光重合に伴う感光層の収縮
変形を妨げることが原因であると考えられる。光重合型
樹脂は露光後、重合することにより露光前の体積より収
縮するが、酸素遮断膜は露光前後で収縮しない。このた
め酸素遮断膜が設けられた露光後の感光層には、酸素遮
断膜が設けられていない場合と比べ、潜在収縮力が大き
くなる。このため、現像時に酸素遮断膜が除去される
と、感光層が収縮を始め支持体より剥がれやすくなる。
【０００８】本発明者らは、露光後の感光層の収縮を妨
げない酸素遮断膜を開発するために鋭意検討した結果、
酸素遮断膜を水溶性高分子とその可塑剤から構成するこ
とで、酸素遮断膜が変形可能となり、支持体と露光後の
感光層との密着性が向上し、パターンの解像度は著しく
向上することを見いだした。特に、本発明は液晶表示体
用カラーフィルター等の着色顔料を含有する光重合型感
光層に有効である。以下詳細に説明する。
げない酸素遮断膜を開発するために鋭意検討した結果、
酸素遮断膜を水溶性高分子とその可塑剤から構成するこ
とで、酸素遮断膜が変形可能となり、支持体と露光後の
感光層との密着性が向上し、パターンの解像度は著しく
向上することを見いだした。特に、本発明は液晶表示体
用カラーフィルター等の着色顔料を含有する光重合型感
光層に有効である。以下詳細に説明する。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明において用いられる酸素遮
断膜形成材料は、水溶性高分子と可塑剤、その他必要に
応じた添加剤により構成される。酸素遮断膜形成材料と
感光層組成物とが化学的に結合すると、感光層表面に酸
素遮断膜不溶物が残る。酸素遮断膜不溶物は、露光後の
処理工程で不具合を生じさせるため、酸素遮断膜形成材
料は感光層組成物と化学的に結合しないものを選択する
ことが望ましい。
断膜形成材料は、水溶性高分子と可塑剤、その他必要に
応じた添加剤により構成される。酸素遮断膜形成材料と
感光層組成物とが化学的に結合すると、感光層表面に酸
素遮断膜不溶物が残る。酸素遮断膜不溶物は、露光後の
処理工程で不具合を生じさせるため、酸素遮断膜形成材
料は感光層組成物と化学的に結合しないものを選択する
ことが望ましい。
【００１０】上記水溶性高分子としては酸素透過性が低
く、露光光線を透過し、水又は水溶液に可溶なものが使
用できる。例えば、アルギン酸塩、メチルセルロース、
ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチ
ルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、カ
ルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコール、ア
クリル酸塩、ポリエチレンオキシド、ポリビニルエーテ
ル、澱粉、ポリビニルピロリドンが挙げられる。さらに
これらの水溶性高分子のうち２種類以上を混合して使用
することもできる。特に好ましくは、ポリビニルアルコ
ールを単独、又は混合して使用するのがよい。ポリビニ
ルアルコールの重合度は、酸素遮断膜塗工方法に応じ
て、適宜選択すればよいが、重合度３０００〜５００が
好ましく、重合度２０００〜８００が特に好ましい。
く、露光光線を透過し、水又は水溶液に可溶なものが使
用できる。例えば、アルギン酸塩、メチルセルロース、
ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチ
ルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、カ
ルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコール、ア
クリル酸塩、ポリエチレンオキシド、ポリビニルエーテ
ル、澱粉、ポリビニルピロリドンが挙げられる。さらに
これらの水溶性高分子のうち２種類以上を混合して使用
することもできる。特に好ましくは、ポリビニルアルコ
ールを単独、又は混合して使用するのがよい。ポリビニ
ルアルコールの重合度は、酸素遮断膜塗工方法に応じ
て、適宜選択すればよいが、重合度３０００〜５００が
好ましく、重合度２０００〜８００が特に好ましい。
【００１１】上記可塑剤としては、酸素遮断膜を可塑化
し、酸素遮断膜が感光層の硬化収縮に追従し変形可能に
なるものが使用できる。そのうちで水溶性高分子との相
溶性がよく、酸素遮断性、光透過性を低下させないもの
が好ましく、例えばエチレングリコール、プロピレング
リコール、トリメチレングリコール、１，４−ブタンジ
オール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサン
ジオールが挙げられる。さらにこれらを２種類以上混合
して使用することもできる。特に好ましくは、エチレン
グリコールを単独、または混合して使用するのがよい。
し、酸素遮断膜が感光層の硬化収縮に追従し変形可能に
なるものが使用できる。そのうちで水溶性高分子との相
溶性がよく、酸素遮断性、光透過性を低下させないもの
が好ましく、例えばエチレングリコール、プロピレング
リコール、トリメチレングリコール、１，４−ブタンジ
オール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサン
ジオールが挙げられる。さらにこれらを２種類以上混合
して使用することもできる。特に好ましくは、エチレン
グリコールを単独、または混合して使用するのがよい。
【００１２】本発明の酸素遮断膜は、酸素遮断膜形成材
料を塗布乾燥することにより形成される。露光の際、光
は酸素遮断膜を通って感光層に達するので、酸素遮断膜
には光透過性が必要とされるため、酸素遮断膜は無色透
明となることが望ましい。とくに、感光層が感光する波
長域の光は、９０％以上透過することが望ましい。ま
た、酸素遮断膜は露光処理でのみ必要であり、露光後に
除去される。除去方法としては水洗除去が一般的である
ため、水への溶解性のあることが必要とされる。本発明
の酸素遮断膜は、感光層を露光するときに感光層上に設
けられていれば、いかなる方法によって設けられてもか
まわない。
料を塗布乾燥することにより形成される。露光の際、光
は酸素遮断膜を通って感光層に達するので、酸素遮断膜
には光透過性が必要とされるため、酸素遮断膜は無色透
明となることが望ましい。とくに、感光層が感光する波
長域の光は、９０％以上透過することが望ましい。ま
た、酸素遮断膜は露光処理でのみ必要であり、露光後に
除去される。除去方法としては水洗除去が一般的である
ため、水への溶解性のあることが必要とされる。本発明
の酸素遮断膜は、感光層を露光するときに感光層上に設
けられていれば、いかなる方法によって設けられてもか
まわない。
【００１３】酸素遮断膜組成物を含む塗工液を、スピン
コート、バーコート、ロールコート、グラビアコート
等、公知の塗工方法で感光層上に直接塗布し設けてもよ
いし、仮支持体上に、公知の塗工方法で酸素遮断膜を塗
設した転写体を作製し、熱ラミネーション方等の転写方
法によって感光層上に酸素遮断膜を転写してもよい。ま
た、仮支持体上に酸素遮断膜、感光層の順に塗設した転
写体を作製し、酸素遮断膜及び感光層を支持体上に転写
することにより形成してもかまわない。
コート、バーコート、ロールコート、グラビアコート
等、公知の塗工方法で感光層上に直接塗布し設けてもよ
いし、仮支持体上に、公知の塗工方法で酸素遮断膜を塗
設した転写体を作製し、熱ラミネーション方等の転写方
法によって感光層上に酸素遮断膜を転写してもよい。ま
た、仮支持体上に酸素遮断膜、感光層の順に塗設した転
写体を作製し、酸素遮断膜及び感光層を支持体上に転写
することにより形成してもかまわない。
【００１４】仮支持体上に酸素遮断膜、感光層の順に塗
設した転写体を作成する場合は、光重合型感光層形成用
塗工液に有機溶剤が含まれることが多いため、酸素遮断
膜に耐溶剤性を付与する必要がある。ポリビニルアルコ
ールの鹸化度が８０ mol％未満の場合、耐溶剤性に劣る
ので、鹸化度は８０ mol％以上が好ましい。
設した転写体を作成する場合は、光重合型感光層形成用
塗工液に有機溶剤が含まれることが多いため、酸素遮断
膜に耐溶剤性を付与する必要がある。ポリビニルアルコ
ールの鹸化度が８０ mol％未満の場合、耐溶剤性に劣る
ので、鹸化度は８０ mol％以上が好ましい。
【００１５】可塑剤の必要添加量は感光層の硬化収縮量
によって選択され、硬化収縮による変形に応じて酸素遮
断膜が充分に伸縮できればよい。可塑剤の添加量は酸素
遮断膜の固形分重量中１〜２５重量％が好ましく、２５
％を越える添加は、酸素遮断性を低下させる。酸素遮断
膜は厚いほど酸素ガス透過率が低いが、厚い場合には酸
素遮断膜中で露光光線のハレーションが発生し感光層の
硬化パターンの解像力が低下するので、０．２〜３μｍ
が好ましく、０．５〜１．５μｍが特に好ましい。酸素
遮断膜は感光層と適度に密着し、界面にはエアーなどが
混入していてはならない。
によって選択され、硬化収縮による変形に応じて酸素遮
断膜が充分に伸縮できればよい。可塑剤の添加量は酸素
遮断膜の固形分重量中１〜２５重量％が好ましく、２５
％を越える添加は、酸素遮断性を低下させる。酸素遮断
膜は厚いほど酸素ガス透過率が低いが、厚い場合には酸
素遮断膜中で露光光線のハレーションが発生し感光層の
硬化パターンの解像力が低下するので、０．２〜３μｍ
が好ましく、０．５〜１．５μｍが特に好ましい。酸素
遮断膜は感光層と適度に密着し、界面にはエアーなどが
混入していてはならない。
【００１６】本発明の感光層が設けられる支持体には金
属板、紙、プラスチック基板、プラスチックフィルム、
ガラス、もしくはこれらの複合体が挙げられる。この支
持体上には必要に応じて易接着処理がされている場合や
必要に応じた機能層が既に設けられていてもよい。
属板、紙、プラスチック基板、プラスチックフィルム、
ガラス、もしくはこれらの複合体が挙げられる。この支
持体上には必要に応じて易接着処理がされている場合や
必要に応じた機能層が既に設けられていてもよい。
【００１７】転写によって酸素遮断膜、または酸素遮断
膜と感光層を設ける場合には、仮支持体が必要となる。
代表的な支持体の基材としてはポリエチレンテレフタレ
ート、ポリプロピレン、ポリカーボネイトなどが挙げら
れる。厚みは５〜２００μｍが適当である。転写によっ
て酸素遮断膜、または酸素遮断膜と感光層を設ける際、
支持体に凹凸がある場合は、仮支持体と酸素遮断膜の間
にクッション層がある方が好ましい。クッション層には
熱可塑性樹脂が好ましく、転写する際に仮支持体に熱を
加えることにより軟化し、支持体上の凹凸に追従して変
形し、空隙を発生することなく支持体上に酸素遮断膜ま
たは酸素遮断膜と感光層とを転写することが可能とな
る。クッション層の厚みや熱軟化特性は、凹凸の段差、
凹凸パターンの配列形状、ラミネート温度、ラミネート
速度、ラミネート圧力に応じて選択すればよい。転写す
る場合には露光前に仮支持体側を剥離し、酸素遮断膜を
露光光源側に露出させる。その場合必要に応じて、クッ
ション層と酸素遮断膜間に離型層を設けることも可能で
ある。
膜と感光層を設ける場合には、仮支持体が必要となる。
代表的な支持体の基材としてはポリエチレンテレフタレ
ート、ポリプロピレン、ポリカーボネイトなどが挙げら
れる。厚みは５〜２００μｍが適当である。転写によっ
て酸素遮断膜、または酸素遮断膜と感光層を設ける際、
支持体に凹凸がある場合は、仮支持体と酸素遮断膜の間
にクッション層がある方が好ましい。クッション層には
熱可塑性樹脂が好ましく、転写する際に仮支持体に熱を
加えることにより軟化し、支持体上の凹凸に追従して変
形し、空隙を発生することなく支持体上に酸素遮断膜ま
たは酸素遮断膜と感光層とを転写することが可能とな
る。クッション層の厚みや熱軟化特性は、凹凸の段差、
凹凸パターンの配列形状、ラミネート温度、ラミネート
速度、ラミネート圧力に応じて選択すればよい。転写す
る場合には露光前に仮支持体側を剥離し、酸素遮断膜を
露光光源側に露出させる。その場合必要に応じて、クッ
ション層と酸素遮断膜間に離型層を設けることも可能で
ある。
【００１８】本発明で使用される光重合性感光層は、光
重合開始剤、光重合性モノマーとバインダーからなり、
用途や必要に応じて、着色顔料、顔料分散剤、重合禁止
剤、熱硬化性バインダーなどが含まれる。
重合開始剤、光重合性モノマーとバインダーからなり、
用途や必要に応じて、着色顔料、顔料分散剤、重合禁止
剤、熱硬化性バインダーなどが含まれる。
【００１９】転写によって支持体上に感光層、酸素遮断
膜を設ける場合には、仮支持体上に塗設された感光層表
面に、その汚染防止などを目的に保護フィルムを付与す
ることも可能である。保護フィルムは、転写する前に剥
がすので、感光層から剥離することが可能な程度に擬似
接着している必要がある。使用可能な基材としては感光
層の種類とそれとの接着性によるが、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリプロピレンなどが挙げられる。厚みは
３〜５０μｍが適当である。仮支持体から、酸素遮断膜
や酸素遮断膜と感光層を転写する場合には一般的な熱圧
ラミネーターを使用することができる。
膜を設ける場合には、仮支持体上に塗設された感光層表
面に、その汚染防止などを目的に保護フィルムを付与す
ることも可能である。保護フィルムは、転写する前に剥
がすので、感光層から剥離することが可能な程度に擬似
接着している必要がある。使用可能な基材としては感光
層の種類とそれとの接着性によるが、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリプロピレンなどが挙げられる。厚みは
３〜５０μｍが適当である。仮支持体から、酸素遮断膜
や酸素遮断膜と感光層を転写する場合には一般的な熱圧
ラミネーターを使用することができる。
【００２０】
【発明の効果】本発明による酸素遮断膜形成材料により
形成される酸素遮断膜を、光重合性感光層上に設けるこ
とにより、露光後、現像処理を行っても感光層と支持体
の密着性を損なうことなく、充分な解像度をもつパター
ン画像を得ることができる。
形成される酸素遮断膜を、光重合性感光層上に設けるこ
とにより、露光後、現像処理を行っても感光層と支持体
の密着性を損なうことなく、充分な解像度をもつパター
ン画像を得ることができる。
【００２１】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に
説明するが、本発明はこれらによって何ら限定されるも
のではない。各酸素遮断膜の作成及び評価結果は表１及
び表２に示した通りである。
説明するが、本発明はこれらによって何ら限定されるも
のではない。各酸素遮断膜の作成及び評価結果は表１及
び表２に示した通りである。
【００２２】実施例１ １．１mmのガラス上に富士フィルムオーリン（株）製の
着色顔料を含む光重合型感光液：ＣＲ−７００１をスピ
ンコーターにより塗布し乾燥させ、乾燥膜厚が２μｍの
感光層を設けた。次に感光層上に下記の処方１の酸素遮
断膜形成用塗液をスピンコーターにより塗布し乾燥さ
せ、乾燥膜厚が１μｍの酸素遮断膜を設けた。
着色顔料を含む光重合型感光液：ＣＲ−７００１をスピ
ンコーターにより塗布し乾燥させ、乾燥膜厚が２μｍの
感光層を設けた。次に感光層上に下記の処方１の酸素遮
断膜形成用塗液をスピンコーターにより塗布し乾燥さ
せ、乾燥膜厚が１μｍの酸素遮断膜を設けた。
【００２３】（処方１） ポリビニルアルコール（重合度 600、鹸化度 88mol
％）：２７重量部 ポリエチレングリコール（重合度 200）：３重量部 蒸留水：５８２重量部 メタノール：３７２重量部
％）：２７重量部 ポリエチレングリコール（重合度 200）：３重量部 蒸留水：５８２重量部 メタノール：３７２重量部
【００２４】次にこの酸素遮断膜側から、解像力評価用
フォトマスクを介して露光し、水で酸素遮断膜を水洗除
去し、炭酸ナトリウムを主とする弱アルカリ水溶液で現
像し、その後純水で洗浄し露光されていない感光層部分
を溶解除去した。得られた評価パターンの最小部はマス
ク側の開口幅で１５×１５μｍの部分であり、実測した
値も１５×１５μｍであった。
フォトマスクを介して露光し、水で酸素遮断膜を水洗除
去し、炭酸ナトリウムを主とする弱アルカリ水溶液で現
像し、その後純水で洗浄し露光されていない感光層部分
を溶解除去した。得られた評価パターンの最小部はマス
ク側の開口幅で１５×１５μｍの部分であり、実測した
値も１５×１５μｍであった。
【００２５】比較例１ 感光層上に下記の処方２の酸素遮断膜形成用塗布液を用
いる以外は、実施例１と全く同様にして乾燥膜厚が１μ
ｍの酸素遮断膜を感光層上に設けた。
いる以外は、実施例１と全く同様にして乾燥膜厚が１μ
ｍの酸素遮断膜を感光層上に設けた。
【００２６】（処方２） ポリビニルアルコール（重合度 600、鹸化度 88mol
％）：３０重量部 蒸留水：５８２重量部 メタノール：３７２重量部
％）：３０重量部 蒸留水：５８２重量部 メタノール：３７２重量部
【００２７】これを、実施例１と同じ条件で露光、現像
処理し、得られたパターンを実施例１と同様に評価する
と最小部はマスク側の開口幅で６０×６０μｍの部分で
あった。これよりも小さいマスク開口幅部のドットパタ
ーンは現像中にはがれたり、パターン周辺が欠落してし
まった。
処理し、得られたパターンを実施例１と同様に評価する
と最小部はマスク側の開口幅で６０×６０μｍの部分で
あった。これよりも小さいマスク開口幅部のドットパタ
ーンは現像中にはがれたり、パターン周辺が欠落してし
まった。
【００２８】実施例２ 仮支持体として厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレ
ート上にクッション層として低密度ポリエチレンを４０
μｍ設けた。離型層として熱硬化性アクリルメラミン共
重合体樹脂を２μｍ設けた。この上に酸素遮断膜形成用
塗液として処方１の塗液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が
１μｍの酸素遮断膜を設けた。この上に実施例１で用い
た着色感光液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が２μｍの感
光層を設けた。こうして得られた仮支持体上の複数層を
感光層がガラス基板と接するように、熱圧ラミネーター
（大成ラミネーター（株）製ＶＡ―７００）を用い、加
圧（シリンダー空気圧力４kg／cm2 ）、加熱（１２０
℃）して貼り合わせた。ガラス基板は転写直前まで１２
０℃で予熱した。続いて、酸素遮断膜と離型層との界面
で剥離し、ガラス基板上に感光層と酸素遮断膜を得た。
これを、実施例１と同条件で露光、酸素遮断膜除去、現
像処理したところ、得られた評価パターンの最小部はマ
スク側の開口幅で１５×１５μｍの部分であり、実測し
た値も１５×１５μｍであった。
ート上にクッション層として低密度ポリエチレンを４０
μｍ設けた。離型層として熱硬化性アクリルメラミン共
重合体樹脂を２μｍ設けた。この上に酸素遮断膜形成用
塗液として処方１の塗液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が
１μｍの酸素遮断膜を設けた。この上に実施例１で用い
た着色感光液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が２μｍの感
光層を設けた。こうして得られた仮支持体上の複数層を
感光層がガラス基板と接するように、熱圧ラミネーター
（大成ラミネーター（株）製ＶＡ―７００）を用い、加
圧（シリンダー空気圧力４kg／cm2 ）、加熱（１２０
℃）して貼り合わせた。ガラス基板は転写直前まで１２
０℃で予熱した。続いて、酸素遮断膜と離型層との界面
で剥離し、ガラス基板上に感光層と酸素遮断膜を得た。
これを、実施例１と同条件で露光、酸素遮断膜除去、現
像処理したところ、得られた評価パターンの最小部はマ
スク側の開口幅で１５×１５μｍの部分であり、実測し
た値も１５×１５μｍであった。
【００２９】比較例２ 酸素遮断膜形成用塗液として、処方２塗液を用いる以外
は実施例２と全く同様にして、ガラス基板上に感光層、
酸素遮断膜を得た。これを実施例１と同条件で露光、酸
素遮断膜除去、現像処理したところ、得られたパターン
の最小部マスク開口幅６０×６０μｍの部分であり、こ
れよりも小さいマスク開口幅部のドットパターンは現像
中にはがれたり、パターン周辺が欠落してしまった。
は実施例２と全く同様にして、ガラス基板上に感光層、
酸素遮断膜を得た。これを実施例１と同条件で露光、酸
素遮断膜除去、現像処理したところ、得られたパターン
の最小部マスク開口幅６０×６０μｍの部分であり、こ
れよりも小さいマスク開口幅部のドットパターンは現像
中にはがれたり、パターン周辺が欠落してしまった。
【００３０】実施例３ 酸素遮断膜形成用塗液として、下記処方３を用いる以外
は実施例２と全く同様にしてガラス基板上に感光層、酸
素遮断膜を得た。
は実施例２と全く同様にしてガラス基板上に感光層、酸
素遮断膜を得た。
【００３１】（処方３） ポリビニルアルコール（重合度2400、鹸化度 88mol
％）：２７重量部 ポリエチレングリコール（重合度 200）：３重量部 蒸留水：５８２重量部 メタノール：３７２重量部
％）：２７重量部 ポリエチレングリコール（重合度 200）：３重量部 蒸留水：５８２重量部 メタノール：３７２重量部
【００３２】これを実施例１と同条件で露光、酸素遮断
膜除去、現像処理したところ、得られた評価パターンの
最小部はマスク側の開口幅で１５×１５μｍの部分であ
り、実測した値も１５×１５μｍであった。
膜除去、現像処理したところ、得られた評価パターンの
最小部はマスク側の開口幅で１５×１５μｍの部分であ
り、実測した値も１５×１５μｍであった。
【００３３】実施例４ 酸素遮断膜形成用塗液として、下記処方４を用いる以外
は実施例２と全く同様にしてガラス基板上に感光層、酸
素遮断膜を得た。
は実施例２と全く同様にしてガラス基板上に感光層、酸
素遮断膜を得た。
【００３４】（処方４） ポリビニルアルコール（重合度 600、鹸化度 60mol
％）：２７重量部 ポリエチレングリコール（重合度 200）：３重量部 蒸留水：５８２重量部 メタノール：３７２重量部
％）：２７重量部 ポリエチレングリコール（重合度 200）：３重量部 蒸留水：５８２重量部 メタノール：３７２重量部
【００３５】これを実施例１と同条件で露光、酸素遮断
膜除去、現像処理したところ、基板全体においてパター
ンの直線性がわるく、パターン表面の平滑性が悪いとこ
ろが多かった。仮支持体上に感光層を設けた時点で酸素
遮断膜と感光層の界面を調べたところ、感光層形成用の
塗液に含まれる有機溶剤によって一部浸食されているこ
とがわかった。しかしながら、得られた評価パターンの
最小部はマスク側の開口幅で１５×１５μｍの部分であ
り、実測した値も１５×１５μｍであった。
膜除去、現像処理したところ、基板全体においてパター
ンの直線性がわるく、パターン表面の平滑性が悪いとこ
ろが多かった。仮支持体上に感光層を設けた時点で酸素
遮断膜と感光層の界面を調べたところ、感光層形成用の
塗液に含まれる有機溶剤によって一部浸食されているこ
とがわかった。しかしながら、得られた評価パターンの
最小部はマスク側の開口幅で１５×１５μｍの部分であ
り、実測した値も１５×１５μｍであった。
【００３６】比較例３ 酸素遮断膜形成用塗液として、下記処方５を用いる以外
は実施例２と全く同様にしてガラス基板上に感光層、酸
素遮断膜を得た。
は実施例２と全く同様にしてガラス基板上に感光層、酸
素遮断膜を得た。
【００３７】（処方５） ポリビニルアルコール（重合度 600、鹸化度 88mol
％）：２１重量部 ポリエチレングリコール（重合度 200）：９重量部 蒸留水：５８２重量部 メタノール：３７２重量部
％）：２１重量部 ポリエチレングリコール（重合度 200）：９重量部 蒸留水：５８２重量部 メタノール：３７２重量部
【００３８】これを実施例１と同条件で露光、酸素遮断
膜除去、現像処理したところ、得られたパターンの最小
部はマスク側の開口幅で、４０×４０μｍの部分であ
り、これよりも小さいドットは現像中にはがれたり、パ
ターン周辺が欠落してしまった。酸素遮断膜の感度を調
べたところ処方１と比較して低下していることがわかっ
た。また基板全体においてパターンの直線性が悪く、パ
ターン表面の平滑性が悪いところが多かった。仮支持体
上に感光層を設けた時点で酸素遮断膜と感光層の界面を
調べたところ、感光層形成用の塗液に含まれる有機溶剤
によって一部浸食されていることがわかった。
膜除去、現像処理したところ、得られたパターンの最小
部はマスク側の開口幅で、４０×４０μｍの部分であ
り、これよりも小さいドットは現像中にはがれたり、パ
ターン周辺が欠落してしまった。酸素遮断膜の感度を調
べたところ処方１と比較して低下していることがわかっ
た。また基板全体においてパターンの直線性が悪く、パ
ターン表面の平滑性が悪いところが多かった。仮支持体
上に感光層を設けた時点で酸素遮断膜と感光層の界面を
調べたところ、感光層形成用の塗液に含まれる有機溶剤
によって一部浸食されていることがわかった。
【００３９】比較例４ 酸素遮断膜の膜厚が５μｍとなる以外は実施例２と全く
同様にしてガラス基板上に感光層、及び酸素遮断膜を設
けた。これを実施例１と同条件で露光、酸素遮断膜除
去、現像処理したところ、得られたパターンの最小幅
は、１５×１５μｍであったが、実際の寸法サイズを測
定すると、マスクサイズよりも６μｍほど増加してい
た。これは酸素遮断膜が必要以上に厚いために起きた現
象である。
同様にしてガラス基板上に感光層、及び酸素遮断膜を設
けた。これを実施例１と同条件で露光、酸素遮断膜除
去、現像処理したところ、得られたパターンの最小幅
は、１５×１５μｍであったが、実際の寸法サイズを測
定すると、マスクサイズよりも６μｍほど増加してい
た。これは酸素遮断膜が必要以上に厚いために起きた現
象である。
【００４０】
【表１】
【００４１】
【表２】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 矢部 紀雄 埼玉県東松山市東平1551 日本製紙株式会 社画像工学センター内
Claims (7)
- 【請求項１】 光重合型感光層を露光する工程で用いる
酸素遮断膜形成材料において、酸素遮断性を有する水溶
性高分子と可塑剤を含有し、該酸素遮断膜形成材料の固
形分重量中、該可塑剤が１〜２５重量％含有されること
を特徴とする酸素遮断膜形成材料。 - 【請求項２】 水溶性高分子が、ポリビニルアルコール
である請求項１記載の酸素遮断膜形成材料。 - 【請求項３】 可塑剤がエチレングリコールである請求
項１又は２記載の酸素遮断膜形成材料。 - 【請求項４】 請求項１から３までのいずれか１項に記
載の酸素遮断膜形成材料を塗工、乾燥して形成される酸
素遮断膜であって、厚さが０．２μｍ〜３μｍであるこ
とを特徴とする酸素遮断膜。 - 【請求項５】 支持体上に転写可能な転写膜を有する転
写体であって、該転写膜が請求項４記載の酸素遮断膜で
あることを特徴とする転写体。 - 【請求項６】 酸素遮断膜上に光重合型感光層を設けた
請求項５記載の転写体。 - 【請求項７】 光重合型感光層がカラーフィルターを形
成するための着色顔料を含有した光重合型感光層である
請求項６記載の転写体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10391498A JPH11288095A (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | 酸素遮断膜形成材料及び酸素遮断膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10391498A JPH11288095A (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | 酸素遮断膜形成材料及び酸素遮断膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11288095A true JPH11288095A (ja) | 1999-10-19 |
Family
ID=14366704
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10391498A Pending JPH11288095A (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | 酸素遮断膜形成材料及び酸素遮断膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11288095A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007073916A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-22 | Sumitomo Chemical Co Ltd | パターン形成方法及びパターン形成システム |
| WO2007125992A1 (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-08 | Asahi Kasei Emd Corporation | 感光性樹脂積層体 |
| WO2017018299A1 (ja) * | 2015-07-30 | 2017-02-02 | 日立化成株式会社 | 感光性エレメント、バリア層形成用樹脂組成物、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
| KR20190124201A (ko) * | 2017-03-06 | 2019-11-04 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 광학기능층 부착 광학부재 |
-
1998
- 1998-03-31 JP JP10391498A patent/JPH11288095A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007073916A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-22 | Sumitomo Chemical Co Ltd | パターン形成方法及びパターン形成システム |
| WO2007125992A1 (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-08 | Asahi Kasei Emd Corporation | 感光性樹脂積層体 |
| KR101017550B1 (ko) | 2006-04-28 | 2011-02-28 | 아사히 가세이 일렉트로닉스 가부시끼가이샤 | 감광성 수지 적층체 |
| JP5155853B2 (ja) * | 2006-04-28 | 2013-03-06 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | 感光性樹脂積層体 |
| WO2017018299A1 (ja) * | 2015-07-30 | 2017-02-02 | 日立化成株式会社 | 感光性エレメント、バリア層形成用樹脂組成物、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
| KR20180035827A (ko) * | 2015-07-30 | 2018-04-06 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 감광성 엘리먼트, 배리어층 형성용 수지 조성물, 레지스터 패턴의 형성 방법 및 프린트 배선판의 제조 방법 |
| CN110225665A (zh) * | 2015-07-30 | 2019-09-10 | 日立化成株式会社 | 感光性元件、阻挡层形成用树脂组合物、抗蚀剂图案的形成方法以及印刷配线板的制造方法 |
| CN110225665B (zh) * | 2015-07-30 | 2021-04-06 | 昭和电工材料株式会社 | 感光性元件 |
| KR20190124201A (ko) * | 2017-03-06 | 2019-11-04 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 광학기능층 부착 광학부재 |
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