JPH11285663A - 回転式塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】ケース上部の開口を閉じる部材がケースに、回
転台と結合する上部板が回転台に、それぞれ確実に結合
でき、基板の処理品質の低下が生じることがない回転式
塗布装置を提供する。 【解決手段】固定支持部材１６と、上部支持板４及び上
部回転板３とを上下方向に相対移動可能とすることによ
り、上部支持板４及び上部回転板３が最も下方の位置に
至り回転台２と結合した後も、固定支持部材１６は下降
を続けることができて、上部支持板４及び上部回転板３
が回転台２に対して、固定支持部材１６が筒状カバー１
５に対して、それぞれ確実に結合装着される。これによ
り、結合の不完全さに起因する問題は発生しない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示パネル用
のガラス基板、半導体ウエハ、半導体製造装置用のマス
ク基板などの基板の表面に、遠心力を利用してフォトレ
ジスト液などの塗布液を薄膜状に塗布するために、基板
を水平支持した状態で回転させる回転台と、この回転台
上に支持された基板の上面に塗布液を供給する塗布液供
給手段とを備えた回転式塗布装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種の回転式塗布装置としては、従
来、特開平３−２９３０５６号公報に開示されているも
のが知られている。

【０００３】この従来例によれば、基板を水平に支持し
て回転させる回転台と、この回転台を閉じる蓋と、回転
台の周囲を囲むケースと、ケースの上面を閉じる蓋とを
備え、ケースを閉じる蓋を回転しないように固定支持す
るとともに、回転台を閉じる蓋をベアリングにより回転
可能に支持している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上述の従来例の場合に
は、ケースを閉じる蓋は、回転台を閉じる蓋に対して、
上下方向に移動しないようにベアリングにより支持され
ている。しかしながら、回転台とケースとの上下位置関
係は固定されており、このような上下位置の固定された
２つの蓋で回転台とケースとを閉じようとすれば、２つ
の蓋の位置関係も回転台とケースとの位置関係に厳密に
一致させる必要がある。そして、それらの部材の寸法精
度や組み立て精度、温度変化や経時変化など各種要因に
よる寸法ずれが生じた場合には、回転台とケースのどち
らかの閉じ状態が不完全となってしまい、不完全な結合
による遊びなどに起因する基板処理品質の低下など種々
の問題が生じる。

【０００５】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
ものであつて、ケース上部の開口を閉じる部材がケース
に、回転台と結合する上部板が回転台に、それぞれ確実
に結合でき、基板の処理品質の低下などの問題がない回
転式塗布装置を提供するものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の回転式塗布装置
は、基板を水平支持した状態で回転させる回転台と、こ
の回転台上に支持された基板の上面に塗布液を供給する
塗布液供給手段とを備えた回転式塗布装置において、上
部が開口し、前記回転台の周辺を囲むケースと、前記ケ
ースに着脱可能に設けられ、前記ケースへの装着時に前
記ケースの前記開口を閉じる部材と、前記部材に上下方
向への相対移動可能に結合され、前記部材の前記ケース
への装着時に前記回転台と結合して前記回転台とで塗布
処理空間を形成する上部板と、を備えたことを特徴とす
る。

【０００７】

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を図面
を用いて詳細に説明する。

【０００８】図１は本発明に係る回転式塗布装置の第１
実施形態の全体の概略構成を示す縦断正面図であり、角
型基板１を載置する回転台２が鉛直方向の軸心Ｐ周りに
水平回転可能に設けられ、その回転台２の上方に、回転
台２と平行に上部回転板３が設けられるとともに、その
上部回転板３が回転台２に上部支持板４を介して一体的
に回転可能に取り付けられ、これら回転部材の下方及び
周辺部を外から囲むように廃液回収ケース５が設けら
れ、前記回転台２に、縦向き回転軸としての出力軸６を
介して駆動源である電動モータ７が連結されている。

【０００９】回転台２は、角型基板１の外形形状より充
分大きい外形円板として構成されていて、その上面に立
設した多数の基板支持ピン８・・・上に角型基板１が水
平に載置支持されるようになっている。また、図示しな
いが、回転台２上には角型基板１の四隅それぞれに一対
づつの位置決めピンが設けられていて、これら位置決め
ピンによつて角型基板１が回転台２と一体に水平回転さ
れるようになっている。

【００１０】また、回転台２の外周上面には、回転台２
と同外径のスペーサリング９およびリングプレート１０
が同心円線上の場所に複数箇所で連結されるとともに、
このリングプレート１０に上部支持板４がノブボルト１
１を介して着脱自在に取り付けられ、上部支持板４を取
り外すことで、リングプレート１０の中央開口から基板
１を出し入れすることができるようになっている。

【００１１】前記上部回転板３は基板１の外形形状より
大径の円板に構成され、上部支持板４の下面にカラー１
２を介してボルト連結されている。廃液回収ケース５の
底部は絞り込まれ、その下端に廃液排出口１３が形成さ
れるとともに、周方向の複数箇所には塗布液から蒸発し
た溶剤ガスや塗布液ミストを排出する排気口１４が形成
されている。

【００１２】前記廃液回収ケース５の上部に筒状カバー
１５が取り付けられ、その筒状カバー１５に固定支持部
材１６が着脱可能に取り付けられている．

【００１３】図２の要部の一部切欠拡大正面図、図３お
よび図４の要部の平面図、図５の要部の側面図に示すよ
うに、上部回転板３の中央には開口１９が形成され、こ
の開口１９の鉛直方向上方位置において、固定支持部材
１６の上方側支持プレート１６ａに駆動開閉機構として
の第１のエアシリンダ２０が取り付けられ、その第１の
エアシリンダ２０のシリンダロツド２０ａの先端にブロ
ック２１が取り付けられるとともに、ブロック２１に相
対昇降および相対回転可能に有底筒状の蓋１７が吊り下
げ保持されている。

【００１４】また、ブロック２１の下面に第１の磁石２
２が付設され、一方、蓋１７の底面に、前記第１の磁石
２２と同極の第２の磁石２３が付設され、蓋１７を閉じ
位置に変位した状態で、ブロック２１を蓋１７と非接触
状態にしたときに、反発力によって蓋１７を閉じ位置に
維持できるようになっている。

【００１５】したがって、第１のエアシリンダ２０の短
縮により、蓋１７を開口１９の上方の開き位置に上昇変
位させ、一方、第１のエアシリンダ２０の伸長により、
蓋１７を下降して開口１９に嵌入する閉じ位置に変位
し、開口１９を閉じながら蓋１７のみを上部回転板３と
一体回転できるようになっている。

【００１６】上方側支持プレート１６ａの第１のエアシ
リンダ２０の横側方に、鉛直方向の軸芯周りで９０゜の
範囲で回転可能な第２のエアシリンダ２４が設けられる
とともに、その第２のエアシリンダ２４のシリンダロツ
ド２４ａにスプライン軸２５が連結されている。スプラ
イン軸２５に昇降のみ可能にスプライン筒２６が取り付
けられるとともに、スプライン筒２６に回転のみ可能に
回転筒２７が取り付けられている。回転筒２７に洗浄ノ
ズル１８が一体的に取り付けられるとともに、上方側支
持プレート１６ａの第２のエアシリンダ２４の横側方下
側に設けられた第３のエアシリンダ２８のシリンダロツ
ド２８ａに回転筒２７が連結されている。図示しない
が、洗浄ノズル１８には、洗浄液圧送機構に接続された
配管が接続されている。上述の構成により、回転台２の
上面に向けて洗浄液を噴出する回転台洗浄手段が構成さ
れている。

【００１７】上記構成により、蓋１７が閉じ位置にある
非洗浄状態では、洗浄ノズル１８を開口１９の上方より
も外れた非洗浄位置に位置きせておき、そして、蓋１７
が開き位置にある洗浄状態では、第２のエアシリンダ２
４により回転して洗浄ノズル１８を開口１９の上方箇所
に位置させた後に、第３のエアシリンダ２８を伸長して
洗浄ノズル１８を下降させ、その吹き出し口１８ａから
回転台２の上面に向けて洗浄液を噴出する洗浄位置に変
位できるようになっている。上記洗浄ノズル１８を洗浄
位置と非洗浄位置とに駆動変位させるための第２および
第３のエアシリンダ２４、２８から成る構成をして駆動
機構と総称する。

【００１８】固定支持部材１６の下方側支持プレート１
６ｂは環状に形成され、その内周面側に寄った上面の周
方向所定の４箇所それぞれに、山形状の係合突起２９が
設けられ、一方、下方側支持プレート１８ｂよりも上方
に位置するように、上部支持板４に取付部材３０・・・
を介して環状プレート３１が取り付けられるとともに、
その環状プレート３１の周方向所定の４箇所それぞれ
に、係合突起２９を嵌入する筒体３２が設けられ、前記
上部回転板３を着脱する際に、係合突起２９・・・を筒
体３２・・・に嵌入することにより、固定支持部材１６
で吊り下げることができるように構成されている。

【００１９】以上の構成により、先ず、塗布処理に際し
ては、固定支持部材１６を筒状カバー１５から取り外す
とともに上部支持板４を回転台２から取り外し、固定支
持部材１６で吊り下げて上部回転板３を上方に外して角
型基板１を回転台２の基板支持ピン８・・・上に所定の
姿勢で載置する。

【００２０】次に、図示しない塗布液供給手段としての
塗布液供給ノズルを角型基板１の中央上方に移動させ、
所定量の塗布液を滴下供給する。その後、固定支持部材
１６で吊り下げて上部支持板４を搬入し、上部支持板４
をリングプレート１０上に、そして、固定支持部材１６
を筒状カバー１５上にそれぞれ取り付け、図６の要部の
正面図に示すように、第１のエアシリンダ２０を伸長し
て蓋１７を駆動変位し、上部回転板ａの開口１９を閉じ
ておくとともに洗浄ノズル１８を非洗浄位置に変位して
おく。

【００２１】その後、電動モータ７を起動して回転台
２、上部支持板４、上部回転板３および角型基板１を一
体に水平回転させる。この回転によって角型基板１上の
塗布液は遠心力によって外方に拡散流動して角型基板１
上面に薄く塗布される。この場合、回転台２と上部回転
板３との間に形成された偏平な塗布処理空間Ｓの空気層
も一体に回転し、角型基板１上に気流が発生しない状態
で塗布液の拡散流動が行われる。

【００２２】角型基板１上を流動して外周に到達した余
剰塗布液は角型基板１の周縁から流出し、塗布処理空間
Ｓの外周全域から飛散してゆく。そして、飛散した塗布
液はスペーサリング９の上下に形成されている間隙を通
って廃液回収ケース５内に流出して回収される。

【００２３】所定回数の回転塗布処理が行われると、固
定支持部材１６を筒状カバー１５から取り外すとともに
上部支持板４を回転台２から取り外し、固定支持部材１
６で吊り下げて上部回転板３を上方に外して角型基板１
を取り出してから、上部支持板４をリングプレート１０
上に、そして、固定支持部材１６を筒状カバー１５上に
それぞれ取り付け、その後に、第１のエアシリンダ２０
を短縮して蓋１７を開き位置に駆動変位する。

【００２４】しかる後、第２のエアシリンダ２４を作動
して洗浄ノズル１８を開口１９の上方位置まで回転変位
し、その状態から第３のエアシリンダ２８を伸長して洗
浄ノズル１８を下降させ、開ロ１９を通じて、図５に示
すように、上部回転板３の下方の洗浄位置まで変位す
る。その状態で、電動モータ７を起動して回転台２、上
部支持板４、上部回転板３を一体に水平回転させなが
ら、洗浄ノズル１８から回転台２の上面に洗浄液を噴出
供給し、遠心力を利用して、回転台２の上面に付着した
塗布液のミストを洗浄除去する。

【００２５】図７は、本発明に係る回転式塗布装置の第
２実施形態を示す全体概略正面図であり、第１実施例と
異なるところは次の通りである。

【００２６】回転台２の回転軸２ａの下端と電動モータ
３３の駆動軸３３ａの上端とがベルト式伝動機構３４を
介して連動連結されるとともに、回転台２の回転軸２ａ
に、その回転軸芯を通る貫通孔３５が形成され、その貫
通孔３５内に、上端に洗浄ノズル３６を取り付けた洗浄
液パイプ３７が挿入されるとともに、洗浄ノズル３６が
回転台２の上方に位置されて固定状態で設けられ、回転
台２の上面に向けて洗浄液を噴出するように回転台洗浄
手段が構成されている。他の構成は第１実施形態と同様
であり、同一図番を付すことにより、その説明を省略す
る。

【００２７】図８は、本発明に係る回転式塗布装置の第
３実施形態を示す全体概略正面図であり、第１実施形態
と異なるところは次の通りである。

【００２８】回転台２の周囲の固定フレーム１５ａ上の
所定箇所に、支持ブラケット３８を介して洗浄ノズル３
９が取り付けられ、上部回転板３を取り外した状態で回
転台２の上面に向けて洗浄液を噴出するように回転台洗
浄手段が構成されている。他の構成は第１実施形態と同
様であり、同一図番を付すことにより、その説明を省略
する。

【００２９】本発明としては、角型基板１に限らず円形
基板の回転式塗布装置にも適用できる。

【００３０】以上の実施形態に記載のように、塗布処理
に際しては、電動モータ７を起動して回転台２、上部支
持板４、上部回転板３および角型基板１を一体に水平回
転させる。このとき、図５、図６等の図面から明らかな
ように、回転台２、上部支持板４、上部回転板３、取付
部材３０、環状プレート３１は、固定支持部材１６とは
非接触状態となっており、回転台２、上部支持板４、上
部回転板３は固定支持部材１６にかかわらず自由に回転
できる。このため、角形基板１よりも大きな上部支持板
４、上部回転板３などをベアリングを用いて回転自在に
支持する場合と比べ、摺動部分が少なくなるため装置の
寿命やパーティクル発生量において有利であり、また大
型かつ高精度なベアリングが不要となりコストにおいて
有利である。また、ベアリングにより回転自在に支持す
る場合では、それら上部支持板４と上部回転板３を支持
するベアリングの回転中心を回転台２の回転軸心Ｐに対
して厳密に一致させなければ円滑な回転は得られなかっ
たが、本構成ではそのような厳密さは不要であり、回転
台２等の円滑な回転による回転塗布を低コストで実現で
きる。

【００３１】また、角型基板１を回転台２へ載置する際
には、固定支持部材１６で吊り下げて上部回転板３を上
方に外す。図３、図５、図６等の図面から明らかなよう
に、上部回転板３が連結されている上部支持板４は、そ
の上部支持板４から上方に延びるように結合された取付
部材３０を介して水平方向に延在する環状プレート３１
に結合されている。環状プレート３１には筒体３２が設
けられる。一方、固定支持部材１６には、環状プレート
３１の下方に位置するように下方側支持プレート１６ｂ
が設けられ、下方側支持プレート１６ｂの内周面側部１
６ｃの上面には、係合突起２９が設けられている。係合
突起２９は筒体３２と係合可能になっている。これら、
取付部材３０、環状プレート３１、筒体３２、下方側支
持プレート１６ｂ、内周面側部１６ｃ、係合突起２９に
より係合部が構成される。

【００３２】上部回転板３を上方に外す際には、固定支
持部材１６が上昇することにより下方側支持プレート１
６ｂの内周面側部１６ｃによって環状プレート３１が下
方から支持される。またこのとき、環状プレート３１に
設けられた筒体３２に固定支持部材１６の下方側支持プ
レート１６ｂの内周面側部１６ｃに設けられた係合突起
２９が嵌入することにより両者が結合して環状プレート
３１は下方から支持される。これにより、上部回転板３
および上部支持板４は固定支持部材１６に対して回転し
ないように周方向に所定位置に位置決めされて回転不能
に吊り下げ支持されて上昇する。

【００３３】公知技術のように、上部支持板４や上部回
転板３などをベアリングを用いて回転自在に支持するだ
けでは、角型基板１を回転台２に対して出し入れするた
めに上部回転板３などを上昇させて回転台２との結合を
解除した際に、上部支持板４などが不所望に回転してし
まい、次に上部支持板４などを回転台２に対して結合し
ようとする際に、一定の位置に結合させることができ
ず、確実に結合することができないおそれがある。しか
し本構成では、上部回転板３および上部支持板４は上昇
されて回転台２との結合が解かれた際には、周方向に位
置決めされて回転不能に支持されるので、回転台２に対
して常に一定位置関係を保つことができ、常に一定の位
置に結合させることができ、確実に結合させることがで
きる。これにより本構成では、回転台２のリングプレー
ト１０と上部支持板４との着脱自在な取り付けを常に一
定位置関係で確実に行うことができる。

【００３４】また、固定支持部材１６の下方側支持プレ
ート１６ｂは、取付部材３０で互いに結合されていると
ころの上部支持板４と環状プレート３１との間の高さに
位置し、かつ取付部材３０に対して接触しない状態とな
っている、そして、廃液回収ケース５の上部に取り付け
られた筒状カバー１５上部の基板出し入れ用の開口を閉
じる固定支持部材１６と、上部支持板４とは、非接触で
上下方向に相対移動可能な状態で結合されている。これ
により、固定支持部材１６で上部支持板４、上部回転板
３を吊り下げて上方に外す際には、固定支持部材１６が
上昇をはじめてから固定支持部材１６の下方側支持プレ
ート１６ｂが上部支持板４の環状プレート３１の下面を
持ち上げるまで、上部支持板４及び上部回転板３は回転
台２と結合した状態である。そして、下方側支持プレー
ト１６ｂが上部支持板４の環状プレート３１の下面に当
接して持ち上げることで、上部支持板４及び上部回転板
３は回転台２から取り外される。逆に、固定支持部材１
６で筒状カバー１５を閉じ、上部支持板４、上部回転板
３を回転台２に結合するためにそれらを下降させる際に
は、上部支持板４及び上部回転板３を吊り下げた状態の
固定支持部材１６が下降することで、まず、上部支持板
４及び上部回転板３がその自重により回転台２と結合す
る。そしてその後も固定支持部材１６は下降を続け、最
終的に下方側支持プレート１６ｂが上部支持板４にぶつ
かる手前で図１に示す状態となり、固定支持部材１６が
筒状カバー１５の上面に乗ってその開口を閉じ、固定支
持部材１６は停止する。そしてこのとき、上部支持板４
や取付部材３０、環状プレート３１は、下方側支持プレ
ート１６ｂとは非接触状態で回転可能となる。

【００３５】このように、固定支持部材１６と、上部支
持板４及び上部回転板３とを上下方向に相対移動可能と
することにより、一方（以上の実施形態では上部支持板
４及び上部回転板３）が最も下方の位置（すなわち回転
台２と結合した状態）に至った後も他方（以上の実施形
態では固定支持部材１６）は下降を続けることができ
て、上部支持板４及び上部回転板３が回転台２に対し
て、固定支持部材１６が筒状カバー１５に対して、それ
ぞれ確実に結合装着される。

【００３６】公知技術のように、上部支持板４及び上部
回転板と固定支持部材１６との上下位置が固定されてし
まっていれば、それら上部支持板４及び上部回転板と固
定支持部材１６の距離や回転台２、廃液回収ケース５、
筒状カバー１５などの部材の寸法精度や組み立て精度を
きわめて高くする必要があり、コストが非常に高くなっ
てしまい、かつ、温度変化や経時変化など各種要因によ
って寸法が少しでもずれてしまった場合には、回転台２
と廃液回収ケース５の筒状カバー１５とのどちらかの閉
じ状態が不完全となってしまい、不完全な結合による遊
びなどに起因する気密性の低下、振動やパーティクルの
発生などの問題が生じる。本構成では、上部支持板４及
び上部回転板と固定支持部材１６の距離や回転台２、廃
液回収ケース５、筒状カバー１５などの寸法精度をさほ
ど高くしなくても、回転台２と廃液回収ケース５の筒状
カバー１５との両方を確実に閉塞でき、しかも簡単な構
造であるからコストも安く、しかも温度変化や経時変化
など各種要因による多少の寸法変化が起きても回転台２
と廃液回収ケース５の筒状カバー１５との閉塞状態には
全く悪影響が生じない。

【００３７】このことは、上述したように、上部支持板
４が回転台２に結合した状態では上部支持板４、上部回
転板３、取付部材３０、環状プレート３１が固定支持部
材１６と非接触状態になることと相俟って、装置の円滑
でかつ確実な作動を低コストで実現する。

【００３８】なお、この種の回転式塗布装置としては、
従来、特開平２−２１９２１３号公報および特開平４−
６１９５５号公報に開示されているものが知られてい
る。

【００３９】これらの従来例によれば、基板を水平に支
持して回転させる回転台と、この回転台に支持された基
板の上面と小間隔をもつて平行に配置されて回転台と一
体に回転する上部回転板とを有し、基板を回転台および
上部回転板とともに回転させながら基板の上面の中央部
に塗布液を供給し、基板の回転による遠心力を利用して
塗布液を基板全面に拡散させて薄膜を形成するように構
成されている。

【００４０】しかしながら、このような従来例の場合
に、その回転塗布時に、回転台の上面に塗布液の一部が
飛散し、それがミストとなって付着し、多数枚の基板に
対して回転塗布動作を繰り返すうちに、回転台の上面に
付着した塗布液がパーティクル発生の原因となってしま
う。このような回転台の上面への塗布液付着に起因する
パーティクル発生についての対策は、従来何等講じられ
ていず、品質の低下を招く欠点があつた。更に、回転台
の上面に付着した塗布液のミストが固化しないうちに次
の基板に対する回転塗布が行われた際に、付着したミス
トが再び飛散して基板を汚染する欠点があった。

【００４１】上記各実施例は、回転式塗布装置における
このような事情に鑑みて、まず第１の特徴として、回転
台の上面への塗布液付着に起因するパーティクルの発生
を防止できるようにすることを目的として、基板を水平
支持した状態で回転させる回転台と、この回転台上に支
持された基板の上面に塗布液を供給する塗布液供給手段
とを備えた回転式塗布装置において、回転台の上面に向
けて洗浄液を噴射する回転台洗浄手段を備えて構成する
ことにより、基板に対する所定の回転塗布を行った後、
基板の無い状態にしてから洗浄液を回転台の上面に向け
て噴射し、回転台の上面に飛散して付着した塗布液を洗
浄除去することができるようにすることで、基板に対す
る所定の回転塗布に起因して回転台の上面に付着した塗
布液を洗浄除去するから、回転台の上面への塗布液付着
に起因するパーティクルの発生、ならびに、付着ミスト
の再飛散による基板の汚染を防止でき、基板の処理品質
の低下を回避できる。

【００４２】また、第２の特徴として、回転台の上面の
洗浄を行うに際して、上部回転板を取り外しての洗浄を
せずに短時間で簡単容易に行えるようにするとともに、
その洗浄のための構成に起因する慣性増加を回避できる
ようにすることを目的として、第１の特徴に加えて、回
転台洗浄手段を、中央に開口を有し、かつ、回転台上に
支持された基板の上面と所定の間隔をもって平行に設け
られるとともに前記回転台と一体に回転される上部回転
板と、開口を開閉する蓋と、その蓋を開き位置に変位し
た状態の開口を通じて上部回転板の下方に変位し、回転
台の上面に向けて洗浄液を噴射するように固定支持部材
に設けた洗浄ノズルとから構成することにより、通常
の、基板を回転しながら行う塗布液の塗布は、蓋を閉じ
位置に変位させて、従来同様に基板上部での空気層の乱
れを生じさせることなく行うことができ、そして、所定
の回転塗布を行った後には、蓋を開き位置に変位し、開
口を通じて洗浄ノズルを上部回転板の下方に変位させ、
洗浄ノズルに洗浄液を噴出しながら上部回転板を回転台
と共に回転駆動することにより、洗浄ノズルから回転台
の上面に噴出した洗浄液を回転台の上面に沿つて遠心流
動させ、先の回転塗布処理中に回転台の上面に付着した
塗布液を洗浄し、その後の回転塗布処理を均一に、かつ
汚染のない状態で行うことができるようにすることで、
上部回転板に設けた開口を通じて洗浄ノズルを上部回転
板の下方に変位させ、洗浄ノズルから回転台の上面に洗
浄液を噴出することにより、回転台の上面に付着した塗
布液を洗浄するから、回転台の上面に対する洗浄を、上
部回転板を取り外しての洗浄をせずに短時間で簡単容易
に行うことができ、基板に対して、均一な膜厚で、かつ
汚染のない塗布処理を効率的に行うことができ、しか
も、洗浄ノズルを固定支持部材に設け、基板に対して塗
布液を塗布するときに洗浄ノズルを上部回転板と一体回
転させないから、回転台の上面に対する洗浄構成に起因
して重量が大になって回転慣性を増加してしまうといっ
たことを回避でき、基板に対して塗布液を塗布するとき
に早期に高速回転状態に立ち上げることができ、塗布処
理に支障をきたすことが無い。

【００４３】また、第３の特徴として、回転台の上面の
洗浄をより一層簡単容易に行えるようにすることを目的
とし、第２の特徴に加えて、蓋を、固定支持部材に取り
付けた駆動開閉機構によって閉じ位置と開き位置とに変
位可能に設け、かつ、洗浄ノズルを、固定支持部材に取
り付けた駆動機構によつて洗浄位置と非洗浄位置とに変
位可能に設けて構成することにより、蓋を駆動開閉機構
により、そして、洗浄ノズルを駆動機構によってそれぞ
れ駆動変位させ、回転台の上面に対する洗浄を行うこと
ができるようにすることで、蓋および洗浄ノズルのいず
れをも駆動変位させて回転台の上面に対する洗浄を行う
から、人為的な操作でもって蓋や洗浄ノズルを変位させ
る場合に比べ、回転台の洗浄をより一層簡単容易に行う
ことができる。

【００４４】更に、第４の特徴として、回転台の上面の
洗浄を簡単な構成で行うことができるようにすることを
目的として、第１の特徴に加えて、回転台洗浄手段を、
回転台の回転軸を貫通して前記回転台の上方に位置する
ように固定状態で洗浄ノズルを設け、その洗浄ノズルに
より前記回転台の上面に向けて洗浄液を噴出するように
構成することにより、回転台の下方側から延ばして固定
状態で設けた洗浄ノズルにより、回転状態の回転台の上
面に洗浄液を噴出し、洗浄液を回転台の上面に沿って遠
心流動させ、回転台の上面を洗浄することができるよう
にすることで、回転台の回転軸を貫通させて回転台の下
方側から延ばして設けた洗浄ノズルにより、回転台の上
面に洗浄液を噴出して洗浄するから、上部回転板の上方
に設ける場合に比べ、洗浄液の漏れによる基板の汚染な
どを考慮せずに済み、構成的に簡単にできる利点があ
る。

【００４５】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に係る発明の回転式塗布装置によれば、ケース上部の開
口を閉じる部材がケースに、回転台と結合する上部板が
回転台に、それぞれ確実に結合でき、基板の処理品質の
低下などの問題が生じることがない。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る回転式塗布装置の第１実施形態の
全体の概略構成を示す縦断正面図である。

【図２】要部の拡大正面図である。

【図３】要部の平面図である。

【図４】要部の平面図である。

【図５】要部の側面図である。

【図６】回転塗布状態を示す要部の正面図である。

【図７】本発明に係る回転式塗布装置の第２実施形態を
示す全体概略正面図である。

【図８】本発明に係る回転式塗布装置の第３実施形態を
示す全体概略正面図である。

【符号の税明】

１・・・角型基板 ２・・・回転台 ３・・・上部回転板 ４・・・上部支持板 ５・・・廃液回収ケース １５・・・筒状カバー １６・・・固定支持部材

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を水平支持した状態で回転させる回
   転台と、この回転台上に支持された基板の上面に塗布液
   を供給する塗布液供給手段とを備えた回転式塗布装置に
   おいて、上部が開口し、前記回転台の周辺を囲むケース
   と、前記ケースに着脱可能に設けられ、前記ケースへの
   装着時に前記ケースの前記開口を閉じる部材と、前記部
   材に上下方向への相対移動可能に結合され、前記部材の
   前記ケースへの装着時に前記回転台と結合して前記回転
   台とで塗布処理空間を形成する上部板と、を備えたこと
   を特徴とする回転式塗布装置。