JP3103358B1 - 回転式塗布装置および回転式塗布方法 - Google Patents

Abstract

【要約】 【課題】回転台と離れた状態にある上部板の不所望な回
転を防止し、回転台と上部板の結合状態を常に一定に保
つことができて安定した基板処理が可能で、かつ簡単な
構成の回転式塗布装置および回転式塗布方法を提供す
る。 【解決手段】上部回転板３を上方に外す際には、上部回
転板３と上部支持板４と固定支持部材１６との相対昇降
により、環状プレート３１に設けられた筒体３２に固定
支持部材１６の係合突起２９が嵌入することにより、上
部回転板３および上部支持板４は固定支持部材１６に対
して回転しないように周方向に所定位置に位置決めされ
て回転不能に吊り下げ支持されて上昇する。回転台２に
上部回転板３、上部支持板４を結合する際には、固定支
持部材１６が下降し、回転台２に上部回転板３、上部支
持板４が自重により載置結合され、さらに固定支持部材
１６が下降することで、上部回転板３と上部支持板４と
固定支持部材１６との相対昇降がおこり、係合突起２９
が筒体３２から外れ、上部回転板３、上部支持板４は回
転台２と一体で回転自在となる。これにより、回転台２
のリングプレート１０と上部支持板４との着脱自在な取
り付けを常に一定位置関係で確実に行うことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示パネル用
のガラス基板、半導体ウエハ、半導体製造装置用のマス
ク基板などの基板の表面に、遠心力を利用してフォトレ
ジスト液などの塗布液を薄膜状に塗布するための回転式
塗布装置および回転式塗布方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種の回転式塗布装置では、基板を水
平に支持して回転させる回転台と、この回転台を閉じる
蓋と、回転台の周囲を囲むケースと、ケースの上面を閉
じる蓋とを備え、ケースを閉じる蓋を回転しないように
固定支持するとともに、回転台を閉じる蓋をベアリング
により回転可能に支持している。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上述の従来例の場合に
は、回転台を閉じる蓋は、ベアリングにより常時回転自
在となるように支持されている。そのため、この蓋は、
回転台を閉塞していない状態、すなわち、蓋が上昇した
状態でも回転可能であり、たとえば装置のオペレータが
誤って蓋に触れると不所望に回転してしまう。このよう
に蓋が回転台に対して不所望に回転すると、次回の回転
台と蓋との結合場所が周方向で変化してしまい、一定の
結合状態を保つことが困難になる。また、回転台と蓋と
の結合は、一定の結合状態を保つとともに回転中の回転
台と蓋とのスリップを防ぐなどの目的で、相互の周方向
の結合位置をピンなどの位置決め機構により決定してい
る場合もある。このような場合に、上昇した状態の蓋が
不所望に回転すると、次に蓋を下降させて回転台と結合
させようとしても、結合することができなくなるおそれ
がある。

【０００４】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
ものであつて、回転台と離れた状態にある上部板の不所
望な回転を防止し、回転台と上部板の結合状態を常に一
定に保つことができて安定した基板処理が可能な回転式
塗布装置および回転式塗布方法を提供するものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の構成と効果を、
後に詳述する実施形態に基づき図面の符号を参照して説
明する。

【０００６】［非接触構造］

【０００７】実施形態に記載のように、塗布処理に際し
ては、電動モータ７を起動して回転台２、上部支持板
４、上部回転板３および角型基板１を一体に水平回転さ
せる。このとき、図５、図６等の図面から明らかなよう
に、回転台２、上部支持板４、上部回転板３、取付部材
３０、環状プレート３１は、固定支持部材１６とは非接
触状態となっており、回転台２、上部支持板４、上部回
転板３は固定支持部材１６にかかわらず自由に回転でき
る。

【０００８】［非接触構造による効果］

【０００９】角形基板１よりも大きな上部支持板４、上
部回転板３などをベアリングを用いて回転自在に支持す
る場合と比べ、摺動部分が少なくなるため装置の寿命や
パーティクル発生量において有利であり、また大型かつ
高精度なベアリングが不要となりコストにおいて有利で
ある。また、ベアリングにより回転自在に支持する場合
では、それら上部支持板４と上部回転板３を支持するベ
アリングの回転中心を回転台２の回転軸心Ｐに対して厳
密に一致させなければ円滑な回転は得られなかったが、
本構成ではそのような厳密さは不要であり、回転台２等
の円滑な回転による回転塗布を低コストで実現できる。

【００１０】［相対昇降構造］

【００１１】固定支持部材１６の下方側支持プレート１
６ｂは、取付部材３０で互いに結合されているところの
上部支持板４と環状プレート３１との間の高さに位置
し、かつ取付部材３０に対して接触しない状態となって
いる。そして、廃液回収ケース５の上部に取り付けられ
た筒状カバー１５上部の基板出し入れ用の開口を閉じる
固定支持部材１６と、上部支持板４とは、非接触で上下
方向に相対移動可能な状態で結合されている。これによ
り、固定支持部材１６で上部支持板４、上部回転板３を
吊り下げて上方に外す際には、固定支持部材１６が上昇
をはじめてから固定支持部材１６の下方側支持プレート
１６ｂが上部支持板４の環状プレート３１の下面を持ち
上げるまで、上部支持板４及び上部回転板３は回転台２
と結合した状態である。そして、下方側支持プレート１
６ｂが上部支持板４の環状プレート３１の下面に当接し
て持ち上げることで、上部支持板４及び上部回転板３は
回転台２から取り外される。逆に、固定支持部材１６で
筒状カバー１５を閉じ、上部支持板４、上部回転板３を
回転台２に結合するためにそれらを下降させる際には、
上部支持板４及び上部回転板３を吊り下げた状態の固定
支持部材１６が下降することで、まず、上部支持板４及
び上部回転板３がその自重により回転台２と結合する。
そしてその後も固定支持部材１６は下降を続け、最終的
に下方側支持プレート１６ｂが上部支持板４にぶつかる
手前で図１に示す状態となり、固定支持部材１６が筒状
カバー１５の上面に乗ってその開口を閉じ、固定支持部
材１６は停止する。そしてこのとき、上部支持板４や取
付部材３０、環状プレート３１は、下方側支持プレート
１６ｂとは非接触状態で回転可能となる。

【００１２】［相対昇降構造による効果］

【００１３】固定支持部材１６と、上部支持板４及び上
部回転板３とを上下方向に相対移動可能とすることによ
り、一方（以上の実施形態では上部支持板４及び上部回
転板３）が最も下方の位置（すなわち回転台２と結合し
た状態）に至った後も他方（以上の実施形態では固定支
持部材１６）は下降を続けることができて、上部支持板
４及び上部回転板３が回転台２に対して、固定支持部材
１６が筒状カバー１５に対して、それぞれ確実に結合装
着される。

【００１４】公知技術のように、上部支持板４及び上部
回転板３と固定支持部材１６との上下位置が固定されて
しまっていれば、それら上部支持板４及び上部回転板３
と固定支持部材１６の距離や回転台２、廃液回収ケース
５、筒状カバー１５などの部材の寸法精度や組み立て精
度をきわめて高くする必要があり、コストが非常に高く
なってしまい、かつ、温度変化や経時変化など各種要因
によって寸法が少しでもずれてしまった場合には、回転
台２と廃液回収ケース５の筒状カバー１５とのどちらか
の閉じ状態が不完全となってしまい、不完全な結合によ
る遊びなどに起因する気密性の低下、振動やパーティク
ルの発生などの問題が生じる。本構成では、上部支持板
４及び上部回転板３と固定支持部材１６の距離や回転台
２、廃液回収ケース５、筒状カバー１５などの寸法精度
をさほど高くしなくても、回転台２と廃液回収ケース５
の筒状カバー１５との両方を確実に閉塞でき、しかも簡
単な構造であるからコストも安く、しかも温度変化や経
時変化など各種要因による多少の寸法変化が起きても回
転台２と廃液回収ケース５の筒状カバー１５との閉塞状
態には全く悪影響が生じない。

【００１５】このことは、上述したように、上部支持板
４が回転台２に結合した状態では上部支持板４、上部回
転板３、取付部材３０、環状プレート３１が固定支持部
材１６と非接触状態になることと相俟って、装置の円滑
でかつ確実な作動を低コストで実現する。

【００１６】［回転方向位置決め構造］

【００１７】また、角型基板１を基板支持部材である回
転台２へ載置する際には、固定支持部材１６で吊り下げ
て上部回転板３を上方に外す。図３、図５、図６等の図
面から明らかなように、上部回転板３が連結されている
上部支持板４は、その上部支持板４から上方に延びるよ
うに結合された取付部材３０を介して水平方向に延在す
る環状プレート３１に結合されている。環状プレート３
１には筒体３２が設けられる。一方、昇降することによ
り回転台２に対して進退する進退部材である固定支持部
材１６には、環状プレート３１の下方に位置するように
下方側支持プレート１６ｂが設けられ、下方側支持プレ
ート１６ｂの内周面側部１６ｃの上面には、係合突起２
９が設けられている。係合突起２９は筒体３２と係合可
能になっている。これら、取付部材３０、環状プレート
３１、筒体３２、下方側支持プレート１６ｂ、内周面側
部１６ｃ、係合突起２９により係合部が構成され、筒体
３２と係合突起２９により凹凸結合による位置決め機構
が構成される。

【００１８】上部回転板３を上方に外す際には、固定支
持部材１６が上昇することにより下方側支持プレート１
６ｂの内周面側部１６ｃによって環状プレート３１が下
方から支持される。またこのとき、環状プレート３１に
設けられた筒体３２に固定支持部材１６の下方側支持プ
レート１６ｂの内周面側部１６ｃに設けられた係合突起
２９が嵌入することにより両者が結合して環状プレート
３１は下方から支持される。これにより、上部回転板３
および上部支持板４は固定支持部材１６に対して回転し
ないように周方向に所定位置に位置決めされて相対回転
不能に吊り下げ支持され、回転台２から離脱して上昇す
る。回転台２に上部回転板３、上部支持板４を結合する
際には、固定支持部材１６が下降し、回転台２に上部回
転板３、上部支持板４が自重により載置結合される。そ
してさらに固定支持部材１６が下降することで、下方側
支持プレート１６ｂによる環状プレート３１の支持が解
除され、また係合突起２９が筒体３２から外れてそれら
による凹凸結合が解除されて、環状プレート３１の下方
からの支持が解除される。かくして、上部回転板３、上
部支持板４は回転台２と一体で回転自在となる。

【００１９】［回転方向位置決め構造による効果］

【００２０】公知技術のように、塗布処理空間を形成す
るための塗布処理空間形成部材をベアリングを用いて回
転自在に支持するだけでは、角型基板１を回転台２に対
して出し入れするために塗布処理空間形成部材を上昇さ
せて回転台２との結合を解除した際に、塗布処理空間形
成部材が不所望に回転してしまい、次に塗布処理空間形
成部材を回転台２に対して結合しようとする際に、一定
の位置に結合させることができず、確実に結合すること
ができないおそれがある。しかし本構成では、上部回転
板３と上部支持板４とからなる塗布処理空間形成部材
は、上昇されて回転台２との結合が解かれた際には、周
方向に位置決めされて回転不能に支持されるので、回転
台２に対して常に一定位置関係を保つことができ、常に
一定の位置に結合させることができ、確実に結合させる
ことができる。これにより本構成では、回転台２のリン
グプレート１０と上部支持板４との着脱自在な取り付け
を常に一定位置関係で確実に行うことができる。

【００２１】［回転台洗浄構造］

【００２２】各実施形態では、基板を水平支持した状態
で回転させる回転台と、この回転台上に支持された基板
の上面に塗布液を供給する塗布液供給手段とを備えた回
転式塗布装置において、回転台の上面に向けて洗浄液を
噴射する回転台洗浄手段を備えて構成した。

【００２３】［回転台洗浄構造による効果］

【００２４】基板に対する所定の回転塗布を行った後、
基板の無い状態にしてから洗浄液を回転台の上面に向け
て噴射し、回転台の上面に飛散して付着した塗布液を洗
浄除去することができるようにすることで、基板に対す
る所定の回転塗布に起因して回転台の上面に付着した塗
布液を洗浄除去するから、回転台の上面への塗布液付着
に起因するパーティクルの発生、ならびに、付着ミスト
の再飛散による基板の汚染を防止でき、基板の処理品質
の低下を回避できる。

【００２５】［塗布処理空間形成部材の位置決め機構の
動作タイミングと効果］

【００２６】塗布処理空間形成部材を基板支持部材から
離脱させる際には、上部回転板３と上部支持板４とから
なる塗布処理空間形成部材が回転台２と結合している状
態で、まず、環状プレート３１に設けられた筒体３２に
固定支持部材１６の係合突起２９が嵌入することにより
両者が結合して、塗布処理空間形成部材は固定支持部材
１６に対して回転しないように周方向に所定位置に位置
決めされる。そしてその後に塗布処理空間形成部材が上
昇する。

【００２７】このように、上部回転板３と上部支持板４
が回転台２から取り外される前に位置決め固定が行われ
るので、それらを回転台２から取り外した後に位置決め
固定する場合と比べて確実に位置決め固定が行われ、取
り外しや取り付けの状態の再現性がよく、処理品質の低
下がない均一な処理が可能である。

【００２８】［塗布処理空間形成部材の位置決め機構の
作動構造と効果］

【００２９】塗布処理空間形成部材が上昇して回転台２
と離れる際には、まず固定支持部材１６が上昇すること
で塗布処理空間形成部材との相対昇降が生じ、かかる相
対昇降動作に応じて環状プレート３１に設けられた筒体
３２に固定支持部材１６の係合突起２９が嵌入すること
により両者が結合して、塗布処理空間形成部材は固定支
持部材１６に対して回転しないように周方向に所定位置
に位置決めされる。そしてその後に塗布処理空間形成部
材が上昇する。逆に、塗布処理空間形成部材が下降して
回転台２と結合する際には、塗布処理空間形成部材が回
転台２と結合した後にも固定支持部材１６が下降するこ
とで塗布処理空間形成部材との相対昇降が生じ、かかる
相対昇降動作に応じて環状プレート３１の筒体３２に嵌
入していた固定支持部材１６の係合突起２９が筒体３２
から離脱し、塗布処理空間形成部材の固定支持部材１６
に対する位置決めが解除される。このように、塗布処理
空間形成部材と固定支持部材との相対昇降動作に応動し
て塗布処理空間形成部材の位置決めと解除の動作を行う
ことで、位置決め機構を駆動するための駆動源等を設け
る必要がなく、処理品質の低下がない均一な処理が可能
な装置を安価にできる。

【００３０】

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を図面
を用いて詳細に説明する。

【００３１】図１は本発明に係る回転式塗布装置の第１
実施形態の全体の概略構成を示す縦断正面図であり、角
型基板１を載置する回転台２が鉛直方向の軸心Ｐ周りに
水平回転可能に設けられ、その回転台２の上方に、回転
台２と平行に上部回転板３が設けられるとともに、その
上部回転板３が回転台２に上部支持板４を介して一体的
に回転可能に取り付けられ、これら回転部材の下方及び
周辺部を外から囲むように廃液回収ケース５が設けら
れ、前記回転台２に、縦向き回転軸としての出力軸６を
介して駆動源である電動モータ７が連結されている。

【００３２】回転台２は、角型基板１の外形形状より充
分大きい外形円板として構成されていて、その上面に立
設した多数の基板支持ピン８・・・上に角型基板１が水
平に載置支持されるようになっている。また、図示しな
いが、回転台２上には角型基板１の四隅それぞれに一対
づつの位置決めピンが設けられていて、これら位置決め
ピンによつて角型基板１が回転台２と一体に水平回転さ
れるようになっている。

【００３３】また、回転台２の外周上面には、回転台２
と同外径のスペーサリング９およびリングプレート１０
が同心円線上の場所に複数箇所で連結されるとともに、
このリングプレート１０に上部支持板４がノブボルト１
１を介して着脱自在に取り付けられ、上部支持板４を取
り外すことで、リングプレート１０の中央開口から基板
１を出し入れすることができるようになっている。

【００３４】前記上部回転板３は基板１の外形形状より
大径の円板に構成され、上部支持板４の下面にカラー１
２を介してボルト連結されている。廃液回収ケース５の
底部は絞り込まれ、その下端に廃液排出口１３が形成さ
れるとともに、周方向の複数箇所には塗布液から蒸発し
た溶剤ガスや塗布液ミストを排出する排気口１４が形成
されている。

【００３５】前記廃液回収ケース５の上部に筒状カバー
１５が取り付けられ、その筒状カバー１５に固定支持部
材１６が着脱可能に取り付けられている．

【００３６】図２の要部の一部切欠拡大正面図、図３お
よび図４の要部の平面図、図５の要部の側面図に示すよ
うに、上部回転板３の中央には開口１９が形成され、こ
の開口１９の鉛直方向上方位置において、固定支持部材
１６の上方側支持プレート１６ａに駆動開閉機構として
の第１のエアシリンダ２０が取り付けられ、その第１の
エアシリンダ２０のシリンダロツド２０ａの先端にブロ
ック２１が取り付けられるとともに、ブロック２１に相
対昇降および相対回転可能に有底筒状の蓋１７が吊り下
げ保持されている。

【００３７】また、ブロック２１の下面に第１の磁石２
２が付設され、一方、蓋１７の底面に、前記第１の磁石
２２と同極の第２の磁石２３が付設され、蓋１７を閉じ
位置に変位した状態で、ブロック２１を蓋１７と非接触
状態にしたときに、反発力によって蓋１７を閉じ位置に
維持できるようになっている。

【００３８】したがって、第１のエアシリンダ２０の短
縮により、蓋１７を開口１９の上方の開き位置に上昇変
位させ、一方、第１のエアシリンダ２０の伸長により、
蓋１７を下降して開口１９に嵌入する閉じ位置に変位
し、開口１９を閉じながら蓋１７のみを上部回転板３と
一体回転できるようになっている。

【００３９】上方側支持プレート１６ａの第１のエアシ
リンダ２０の横側方に、鉛直方向の軸芯周りで９０゜の
範囲で回転可能な第２のエアシリンダ２４が設けられる
とともに、その第２のエアシリンダ２４のシリンダロツ
ド２４ａにスプライン軸２５が連結されている。スプラ
イン軸２５に昇降のみ可能にスプライン筒２６が取り付
けられるとともに、スプライン筒２６に回転のみ可能に
回転筒２７が取り付けられている。スプライン筒２６に
洗浄ノズル１８が一体的に取り付けられるとともに、上
方側支持プレート１６ａの第２のエアシリンダ２４の横
側方下側に設けられた第３のエアシリンダ２８のシリン
ダロツド２８ａに回転筒２７が連結されている。図示し
ないが、洗浄ノズル１８には、洗浄液圧送機構に接続さ
れた配管が接続されている。上述の構成により、回転台
２の上面に向けて洗浄液を噴出する回転台洗浄手段が構
成されている。

【００４０】上記構成により、蓋１７が閉じ位置にある
非洗浄状態では、洗浄ノズル１８を開口１９の上方より
も外れた非洗浄位置に位置きせておき、そして、蓋１７
が開き位置にある洗浄状態では、第２のエアシリンダ２
４により回転して洗浄ノズル１８を開口１９の上方箇所
に位置させた後に、第３のエアシリンダ２８を伸長して
洗浄ノズル１８を下降させ、その吹き出し口１８ａから
回転台２の上面に向けて洗浄液を噴出する洗浄位置に変
位できるようになっている。上記洗浄ノズル１８を洗浄
位置と非洗浄位置とに駆動変位させるための第２および
第３のエアシリンダ２４、２８から成る構成をして駆動
機構と総称する。

【００４１】固定支持部材１６の下方側支持プレート１
６ｂは環状に形成され、その内周面側に寄った上面の周
方向所定の４箇所それぞれに、山形状の係合突起２９が
設けられ、一方、下方側支持プレート１８ｂよりも上方
に位置するように、上部支持板４に取付部材３０・・・
を介して環状プレート３１が取り付けられるとともに、
その環状プレート３１の周方向所定の４箇所それぞれ
に、係合突起２９を嵌入する筒体３２が設けられ、前記
上部回転板３を着脱する際に、係合突起２９・・・を筒
体３２・・・に嵌入することにより、固定支持部材１６
で吊り下げることができるように構成されている。

【００４２】以上の構成により、先ず、塗布処理に際し
ては、固定支持部材１６を筒状カバー１５から取り外す
とともに上部支持板４を回転台２から取り外し、固定支
持部材１６で吊り下げて上部回転板３を上方に外して角
型基板１を回転台２の基板支持ピン８・・・上に所定の
姿勢で載置する。

【００４３】次に、図示しない塗布液供給手段としての
塗布液供給ノズルを角型基板１の中央上方に移動させ、
所定量の塗布液を滴下供給する。その後、固定支持部材
１６で吊り下げて上部支持板４を搬入し、上部支持板４
をリングプレート１０上に、そして、固定支持部材１６
を筒状カバー１５上にそれぞれ取り付け、図６の要部の
正面図に示すように、第１のエアシリンダ２０を伸長し
て蓋１７を駆動変位し、上部回転板ａの開口１９を閉じ
ておくとともに洗浄ノズル１８を非洗浄位置に変位して
おく。

【００４４】その後、電動モータ７を起動して回転台
２、上部支持板４、上部回転板３および角型基板１を一
体に水平回転させる。この回転によって角型基板１上の
塗布液は遠心力によって外方に拡散流動して角型基板１
上面に薄く塗布される。この場合、回転台２と上部回転
板３との間に形成された偏平な塗布処理空間Ｓの空気層
も一体に回転し、角型基板１上に気流が発生しない状態
で塗布液の拡散流動が行われる。

【００４５】角型基板１上を流動して外周に到達した余
剰塗布液は角型基板１の周縁から流出し、塗布処理空間
Ｓの外周全域から飛散してゆく。そして、飛散した塗布
液はスペーサリング９の上下に形成されている間隙を通
って廃液回収ケース５内に流出して回収される。

【００４６】所定回数の回転塗布処理が行われると、固
定支持部材１６を筒状カバー１５から取り外すとともに
上部支持板４を回転台２から取り外し、固定支持部材１
６で吊り下げて上部回転板３を上方に外して角型基板１
を取り出してから、上部支持板４をリングプレート１０
上に、そして、固定支持部材１６を筒状カバー１５上に
それぞれ取り付け、その後に、第１のエアシリンダ２０
を短縮して蓋１７を開き位置に駆動変位する。

【００４７】しかる後、第２のエアシリンダ２４を作動
して洗浄ノズル１８を開口１９の上方位置まで回転変位
し、その状態から第３のエアシリンダ２８を伸長して洗
浄ノズル１８を下降させ、開ロ１９を通じて、図５に示
すように、上部回転板３の下方の洗浄位置まで変位す
る。その状態で、電動モータ７を起動して回転台２、上
部支持板４、上部回転板３を一体に水平回転させなが
ら、洗浄ノズル１８から回転台２の上面に洗浄液を噴出
供給し、遠心力を利用して、回転台２の上面に付着した
塗布液のミストを洗浄除去する。

【００４８】図７は、本発明に係る回転式塗布装置の第
２実施形態を示す全体概略正面図であり、第１実施例と
異なるところは次の通りである。

【００４９】回転台２の回転軸２ａの下端と電動モータ
３３の駆動軸３３ａの上端とがベルト式伝動機構３４を
介して連動連結されるとともに、回転台２の回転軸２ａ
に、その回転軸芯を通る貫通孔３５が形成され、その貫
通孔３５内に、上端に洗浄ノズル３６を取り付けた洗浄
液パイプ３７が挿入されるとともに、洗浄ノズル３６が
回転台２の上方に位置されて固定状態で設けられ、回転
台２の上面に向けて洗浄液を噴出するように回転台洗浄
手段が構成されている。他の構成は第１実施形態と同様
であり、同一図番を付すことにより、その説明を省略す
る。

【００５０】図８は、本発明に係る回転式塗布装置の第
３実施形態を示す全体概略正面図であり、第１実施形態
と異なるところは次の通りである。

【００５１】回転台２の周囲の固定フレーム１５ａ上の
所定箇所に、支持ブラケット３８を介して洗浄ノズル３
９が取り付けられ、上部回転板３を取り外した状態で回
転台２の上面に向けて洗浄液を噴出するように回転台洗
浄手段が構成されている。他の構成は第１実施形態と同
様であり、同一図番を付すことにより、その説明を省略
する。

【００５２】本発明としては、角型基板１に限らず円形
基板の回転式塗布装置にも適用できる。

【００５３】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、回転台と離れた状態にある上部板の不所望な
回転を防止し、回転台と上部板の結合状態を常に一定に
保つことができて安定した基板処理が可能である。

【００５４】また、上部板と固定支持部材との相対昇降
動作に応動して塗布処理空間形成部材の位置決めと解除
の動作を行うので、位置決めや解除動作用の駆動源等を
設ける必要がない。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る回転式塗布装置の第１実施形態の
全体の概略構成を示す縦断正面図である。

【図２】要部の拡大正面図である。

【図３】要部の平面図である。

【図４】要部の平面図である。

【図５】要部の側面図である。

【図６】回転塗布状態を示す要部の正面図である。

【図７】本発明に係る回転式塗布装置の第２実施形態を
示す全体概略正面図である。

【図８】本発明に係る回転式塗布装置の第３実施形態を
示す全体概略正面図である。

【符号の税明】

１・・・角型基板 ２・・・回転台 ３・・・上部回転板 ４・・・上部支持板 ５・・・廃液回収ケース １５・・・筒状カバー １６・・・固定支持部材

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/027 B05C 11/08 G03F 7/16

Claims (9)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を回転させることにより当該基板の
   表面に塗布液を塗布する回転式塗布装置において、 基板を回転可能に支持する基板支持部材と、 塗布処理空間を形成すべく前記基板支持部材と結合可能
   な塗布処理空間形成部材と、 上部が開口し、前記基板支持部材の周辺を囲むケース
   と、 前記ケースに着脱可能に設けられて前記ケースへの装着
   時に前記ケースの前記開口を閉じる部材と、 前記塗布処理空間形成部材を支持して前記基板支持部材
   に対して進退させる進退部材と、 前記進退部材が前記塗布処理空間形成部材を吊持するた
   めの吊持機構と、 前記塗布処理空間形成部材を前記進退部材に対して周方
   向に位置決めする位置決め機構とを備え、 前記位置決め機構は、前記進退部材が上昇して前記塗布
   処理空間形成部材を前記基板支持部材から離脱させる際
   に、前記塗布処理空間形成部材が基板支持部材と結合し
   た状態で塗布処理空間形成部材を周方向で位置決め状態
   とするよう構成され、 当該位置決め機構による位置決め状態で前記塗布処理空
   間形成部材を上昇させて基板支持部材から離脱させるよ
   う構成されていることを特徴とする回転式塗布装置。
2. 【請求項２】 基板を回転させることにより当該基板の
   表面に塗布液を塗布する回転式塗布装置において、 基板を回転可能に支持する基板支持部材と、 塗布処理空間を形成すべく前記基板支持部材と結合可能
   な塗布処理空間形成部材と、 前記塗布処理空間形成部材を支持して前記基板支持部材
   に対して進退させる進退部材と、 前記進退部材が前記塗布処理空間形成部材を支持するた
   めの吊持機構と、 前記基板支持部材との非結合時に前記塗布処理空間形成
   部材を前記進退部材に対して周方向に位置決めする位置
   決め機構とを備え、 前記塗布処理空間形成部材と前記基板支持部材との結合
   時には、前記吊持機構は、前記塗布処理空間形成部材の
   支持を解除して前記塗布処理空間形成部材と前記進退部
   材とを互いに非接触状態とし、 前記位置決め機構は、前記進退部材が上昇して前記塗布
   処理空間形成部材を前記基板支持部材から離脱させる際
   に、前記塗布処理空間形成部材が基板支持部材と結合し
   た状態で塗布処理空間形成部材を周方向で位置決め状態
   とするよう構成され、 当該位置決め機構による位置決め状態で前記塗布処理空
   間形成部材を上昇させて基板支持部材から離脱させるよ
   う構成されていることを特徴とする回転式塗布装置。
3. 【請求項３】 基板支持用の回転台と、 前記回転台を回転させる駆動源と、 前記回転台との結合によって内部に塗布処理空間を作る
   上部板と、 前記上部板を吊持して昇降させる支持部材と、 前記上部板と支持部材との間に介在されて上部板を吊持
   し、上部板が上昇された状態で上部板と支持部材とを結
   合するとともに、上部板が回転台に結合された状態で前
   記上部板と支持部材との結合状態が解除されて上部板と
   支持部材とが互いに非接触状態となる係合部とが設けら
   れ、 前記係合部は、上部板を回転台から離脱させる際に、上
   部板が回転台に結合した状態で上部板を周方向で位置決
   め状態とし、かかる位置決め状態で前記上部板を回転台
   から離脱させるように構成されていることを特徴とする
   回転式塗布装置。
4. 【請求項４】 基板を回転させることにより当該基板の
   表面に塗布液を塗布する回転式塗布方法において、 上部が開口したケース内に回転可能に設けられた基板支
   持部材にて基板を支持する工程と、 基板支持部材に支持した基板に塗布液を供給する工程
   と、 前記ケースの開口を閉じ部材により閉じるとともに、塗
   布処理空間形成部材を前記基板支持部材と結合させて塗
   布処理空間を形成し、前記塗布処理空間形成部材と基板
   支持部材とを前記ケースに対して回転可能状態とする工
   程と、 前記基板支持部材と塗布処理空間形成部材とを回転させ
   て基板上の塗布液を拡散流動させる工程と、 前記基板支持部材と塗布処理空間形成部材の回転を停止
   させる工程と、 前記基板支持部材と結合したままの前記塗布処理空間形
   成部材を周方向で位置決め状態とする工程と、 位置決め状態とされている前記塗布処理空間形成部材を
   上昇させて前記基板支持部材から離脱させる工程と、 を備えたことを特徴とする回転式塗布方法。
5. 【請求項５】 基板を回転させることにより当該基板の
   表面に塗布液を塗布する回転式塗布装置において、 基板を回転可能に支持する基板支持部材と、 塗布処理空間を形成すべく前記基板支持部材と結合可能
   な塗布処理空間形成部材と、 上部が開口し、前記基板支持部材の周辺を囲むケース
   と、 前記ケースに着脱可能に設けられて前記ケースへの装着
   時に前記ケースの前記開口を閉じる部材と、 前記塗布処理空間形成部材を支持して前記基板支持部材
   に対して進退させる進退部材と、 前記進退部材が前記塗布処理空間形成部材を相対昇降可
   能に支持するための吊持機構と、 前記塗布処理空間形成部材を前記進退部材に対して周方
   向に位置決めする位置決め機構とを備え、 前記吊持機構は、 前記塗布処理空間形成部材の上側中央部に立設された取
   付部材と、 前記取付部材の上部から水平方向に延在する第１の部材
   と、 前記進退部材に設けられ、前記第１の部材の下方で前記
   取付部材に沿って相対昇降可能な第２の部材とを備え
   て、 前記塗布処理空間形成部材と前記基板支持部材との結合
   時には、前記第２の部材に対して前記取付部材および前
   記第１の部材が相対回転自在となるように設けられてお
   り、 前記位置決め機構は、 前記進退部材の上昇時に、前記塗布処理空間形成部材と
   前記進退部材の相対昇降動作に応動して前記塗布処理空
   間形成部材を位置決め状態とすることを特徴とする回転
   式塗布装置。
6. 【請求項６】 基板を回転させることにより当該基板の
   表面に塗布液を塗布する回転式塗布装置において、 基板を回転可能に支持する基板支持部材と、 塗布処理空間を形成すべく前記基板支持部材と結合可能
   な塗布処理空間形成部材と、 前記塗布処理空間形成部材を支持して前記基板支持部材
   に対して進退させる進退部材と、 前記進退部材が前記塗布処理空間形成部材を相対昇降可
   能に支持するための吊持機構と、 前記塗布処理空間形成部材を前記進退部材に対して周方
   向に位置決めする位置決め機構とを備え、 前記吊持機構は、前記塗布処理空間形成部材と前記基板
   支持部材との結合時には、前記吊持機構による前記塗布
   処理空間形成部材の支持を解除して前記塗布処理空間形
   成部材と前記進退部材とを互いに非接触状態とし、 前記進退部材が上昇して前記塗布処理空間形成部材を前
   記基板支持部材から離脱させる際には、前記塗布処理空
   間形成部材と前記進退部材が相対昇降して、前記位置決
   め機構は当該相対昇降に応動して前記塗布処理空間形成
   部材を位置決め状態とすることを特徴とする回転式塗布
   装置。
7. 【請求項７】 請求項５または６に記載の回転式塗布装
   置において、 前記位置決め機構は、前記塗布処理空間形成部材の前記
   基板支持部材からの離脱時には当該塗布処理空間形成部
   材と進退部材とを相対回転不能に結合する凹凸結合より
   なることを特徴とする回転式塗布装置。
8. 【請求項８】 基板支持用の回転台と、 前記回転台を回転させる駆動源と、 前記回転台との結合によって内部に塗布処理空間を作る
   上部板と、 前記上部板を吊持して昇降させる支持部材と、 前記上部板と支持部材との間に介在され、支持部材に対
   して相対昇降可能になるように上部板を吊持し、上部板
   が上昇された状態で上部板と支持部材とを結合するとと
   もに、上部板が回転台に結合された状態で前記上部板と
   支持部材との結合状態が解除されて上部板と支持部材と
   が互いに非接触状態となる係合部とが設けられ、 前記係合部は、上部板の上昇時には上部板を周方向に位
   置決めした状態とし、上部板が回転台に結合された状態
   では上記位置決めを解除した状態とする切り替え動作
   を、上記支持部材の昇降に応じて生じる上部板と支持部
   材との相対昇降によって行うように構成されていること
   を特徴とする回転式塗布装置。
9. 【請求項９】 請求項５に記載の回転式塗布装置におい
   て、 前記ケースに着脱可能に設けられて前記ケースへの装着
   時に前記ケースの前記開口を閉じる部材と、 前記塗布処理空間形成部材を支持して前記基板支持部材
   に対して進退させる進退部材とは、 前記ケースに着脱可能に設けられ、前記ケースへの装着
   時に前記ケースの前記開口を閉じるとともに、前記塗布
   処理空間形成部材を支持して前記基板支持部材に対して
   進退させる部材により構成されることを特徴とする回転
   式塗布装置。