JPH11272834A - Icカードとその製造法 - Google Patents

Icカードとその製造法

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JPH11272834A
JPH11272834A JP7395698A JP7395698A JPH11272834A JP H11272834 A JPH11272834 A JP H11272834A JP 7395698 A JP7395698 A JP 7395698A JP 7395698 A JP7395698 A JP 7395698A JP H11272834 A JPH11272834 A JP H11272834A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
card
circuit board
embossed
polyethylene terephthalate
melt adhesive
Prior art date
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Pending
Application number
JP7395698A
Other languages
English (en)
Inventor
Junji Shirogane
淳司 白金
Rei Yamamoto
礼 山本
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Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】エンボス加工が可能な、ポリエチレンテレフタ
レートフィルムを用いたICカードとその製造法を提供
する。 【解決手段】カードのエンボス加工する領域1を切り欠
いた、ポリエチレンテレフタレートフィルム製の回路基
板2と、ホットメルト接着剤3と、表皮層4とからなる
ICカードと、ポリエチレンテレフタレートフィルム製
の回路基板の、カードのエンボス加工する領域を切り欠
き、ホットメルト接着剤を塗布した表皮層を回路基板の
両面に、ホットメルト接着剤が内側となるように重ね、
加圧・加熱して積層接着する製造法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ICカードとその
製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】非接触式ICカ一ドは、一般に、アンテ
ナ回路、無線通信機能と演算・記憶機能を有するICと
ケーシングから構成されている。このような構成とする
には、通常、アンテナ回路とICチップを接続するイン
ナーリード部を含む回路を形成した回路層部材に、直接
ICチップを接続・実装し、その上に、表層材を重ねて
積層接着する。
【0003】回路基板には、コスト低減のために、導電
性ペーストを用いてシルクスクリーン印刷法で回路を形
成し、乾燥・硬化する方法が有利であるが、乾燥・硬化
温度に耐える基材としては、従来のように、塩化ビニル
製のICカードでは困難であり、二軸延伸ポリエチレン
テレフタレートフィルムを用いるようになってきてい
る。
【0004】このように、ICカードには、優れた機械
的特性を有している、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムが、表皮層や回路基板に使用されており、焼却時の
発生ガスの主成分が炭酸ガスと水であり、環境の保護に
も適していることから、これからも多く使用されること
が予想される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、ICカード
には、その表面に、クレジットカードなどにも見られる
ような数字や記号をエンボス加工するものが多いが、従
来のような塩化ビニル製のICカードでは容易に行えた
が、ポリエチレンテレフタレートフィルム、特に二軸延
伸のものでは、優れた機械的特性を有しているがため
に、逆に、エンボス加工することが困難であるという課
題がある。加熱温度や加圧力を上げればエンボス加工が
可能にはなるが、加工機の仕様変更や条件変更が必要に
なり、困難である。
【0006】本発明は、エンボス加工が可能な、ポリエ
チレンテレフタレートフィルムを用いたICカードとそ
の製造法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明のICカードは、
図1に示すように、カードのエンボス加工する領域1を
切り欠いた、ポリエチレンテレフタレートフィルム製の
回路基板2と、ホットメルト接着剤3と、表皮層4とか
らなることを特徴とする。
【0008】このようなICカードは、ポリエチレンテ
レフタレートフィルム製の回路基板の、カードのエンボ
ス加工する領域を切り欠き、ホットメルト接着剤を塗布
した表皮層を回路基板の両面に、ホットメルト接着剤が
内側となるように重ね、加圧・加熱して積層接着するこ
とによって製造することができる。
【0009】
【発明の実施の形態】また、エンボス加工する領域に
は、エンボス加工を行うことが好ましい。
【0010】
【実施例】ポリエチレンテレフタレート製の厚さが20
0μmのフィルムに、ポリエステル系ホットメルト接着
剤を150μmの厚さに塗布した表皮層を2枚準備し
た。厚さ50μmの二軸延伸ポリエチレンテレフタレー
トフィルムに、銀ペーストで描画・乾燥・硬化した回路
導体を形成し、エンボス加工領域を打ち抜いた回路基板
を作製した。この回路基板の両面に、ホットメルト接着
剤が内側になるように、表皮層を重ね、熱プレスにより
積層し、不要な周辺部分を除去するために打ち抜き、I
Cカードを作製した。このICカードの回路基板に設け
たエンボス加工領域を打ち抜いた部分に、エンボス加工
機によりエンボス加工して、エンボス加工されたICカ
ードを作製した。
【0011】比較例1 塩化ビニル製ICカードを、上記と同様にエンボス加工
して試料を作製した。
【0012】比較例2 回路基板のエンボス加工領域の打ち抜きをしない以外
は、実施例と同様にして試料を作製した。
【0013】エンボス加工性比較として、文字高さを測
定した結果、表1に示すデータを得た。実施例は、比較
例1と同様な結果であるが、比較例2は文字高さが不足
している。
【0014】
【表1】
【0015】
【発明の効果】以上に説明したとおり、本発明によっ
て、エンボス加工が可能な、ポリエチレンテレフタレー
トフィルムを用いたICカードとその製造法を提供する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は本発明の一実施例を示す回路基板の上
面図であり、(b)は本発明の一実施例を示す断面図で
ある。
【符号の説明】
1.エンボス加工する領域 2.回路基板 3.ホットメルト接着剤 4.表皮層

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】カードのエンボス加工する領域を切り欠い
    た、ポリエチレンテレフタレートフィルム製の回路基板
    と、ホットメルト接着剤と、表皮層とからなることを特
    徴とするICカード。
  2. 【請求項2】エンボス加工する領域に、エンボス加工の
    あることを特徴とする請求項1に記載のICカード。
  3. 【請求項3】ポリエチレンテレフタレートフィルム製の
    回路基板の、カードのエンボス加工する領域を切り欠
    き、ホットメルト接着剤を塗布した表皮層を回路基板の
    両面に、ホットメルト接着剤が内側となるように重ね、
    加圧・加熱して積層接着することを特徴とするICカー
    ドの製造法。
  4. 【請求項4】エンボス加工する領域に、エンボス加工を
    行うことを特徴とする請求項3に記載のICカードの製
    造法。
JP7395698A 1998-03-23 1998-03-23 Icカードとその製造法 Pending JPH11272834A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003058849A (ja) * 2001-08-10 2003-02-28 Hitachi Chem Co Ltd Icカード
WO2003022574A1 (en) 2001-09-05 2003-03-20 Sony Corporation Plastic card

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