JP2002197433A - Icカード及びその製造方法 - Google Patents

Icカード及びその製造方法

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JP2002197433A JP2000395211A JP2000395211A JP2002197433A JP 2002197433 A JP2002197433 A JP 2002197433A JP 2000395211 A JP2000395211 A JP 2000395211A JP 2000395211 A JP2000395211 A JP 2000395211A JP 2002197433 A JP2002197433 A JP 2002197433A
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chip
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vinyl chloride
antenna
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Shiko Honda
志行 本多
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 エンボス加工が容易に行え、多用途に用いる
ことができ、付加機能も簡単に設けることができるIC
カードをより低価格に提供する。 【解決手段】 ICチップ,リードフレーム等を有する
ICモジュールとアンテナ12とを、孔14aを有した
厚さ250±10μmの塩化ビニル製のセンターコアシ
ート14に仮貼りし、これを厚さ250±10μmの塩
化ビニル製の印刷付きコアシート15,16及び厚さ5
0±10μmの透明な塩化ビニル製の透明オーバーシー
ト17,18によって挟み、1回の熱ラミネートによっ
て、カード化を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ICチップを内蔵
し、少なくとも非接触で外部と情報の授受を行うICカ
ード及びその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、非接触機能を有する非接触ICカ
ードは、基材としてPET(ポリエチレンテレフタレー
ト)を用いる場合が多かった。図4は、従来の非接触I
Cカードの層構成を説明する図である。従来の非接触I
Cカード100は、ICチップ101,アンテナ付きP
ET基材102,ポリエステル系接着剤104,10
6,107,スペーサーPET105,印刷付きPET
基材108,109を有している。
【0003】アンテナ付きPET基材102には、アン
テナがエッチング、導電印刷等によって形成されてお
り、更に、ベアチップ101aがACFを用いたフリッ
プチップ実装等によってアンテナと接続されるように実
装されている。ベアチップ101aの回りには、封止樹
脂103が充填され、ベアチップ101aを保護してい
る。例えば、ベアチップ101aの厚さが190μmで
ある場合、ベアチップ101aと封止樹脂103が合わ
さり、250μm程度の厚みとなる。
【0004】この厚みではPET基材と接着剤とを単純
に積層すると、ベアチップ101aを内蔵した部位のカ
ード表面に凹凸が生じる傾向があった。そこで、カード
中央のポリエステル系接着剤104及びスペーサーPE
Tに孔を開け、ベアチップ101aに対応した部分にす
き間を設け、表面凹凸の発生を緩和していた。PETに
自己融着性がないので、アンテナ付きPET基材10
2,スペーサーPET105,印刷付きPET基材10
8,109は、ポリエステル系接着剤104,106,
107を介して積層されて、1枚のカードとされてい
た。
【0005】一方、PETを基材とするほかに、塩化ビ
ニルをコアシートとして用いた非接触ICカードが特開
平9−277766号公報に開示されている。図5は、
特開平9−277766号公報に開示されている従来の
非接触ICカードの層構成を説明する断面図である。
【0006】この従来技術における非接触ICカード2
00は、通信用回路・通信用コイル201,コアシート
202,203,印刷付きコアシート204,205及
び透明オーバーシート206,207を有している。通
信用回路・通信用コイル201は、塩化ビニル製のコア
シート202,203によって挟まれ、この状態でま
ず、1回目のラミネートを行う。更に、1回目のラミネ
ートを終えたものを、印刷付きコアシート204,20
5及び透明オーバーシート206,207によって挟
み、2回目のラミネートを行って、カード化する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前述した従来
のPETを基材とした非接触ICカードでは、PET基
材自体が硬いため、エンボス加工を行うことが困難であ
り、エンボス高さやカードのカール量がJIS及びIS
O規格を満たすことができなくなる。我が国において
は、キャッシュカードやクレジットカードには、エンボ
ス加工を付することが必要であるので、ICチップの機
能としては、キャッシュカードやクレジットカードとい
った用途にも使用することができるにも関わらず、これ
らの用途に使用することができなかった。
【0008】一方、特開平9−277766号公報に開
示されている塩化ビニルをコアとした非接触ICカード
では、エンボス加工についての問題点は解決されている
が、ラミネート加工を2回行う必要があり、製造コスト
が高いという問題があった。また、コアシートが4枚必
要であり、ラミネート前のシートの厚さ管理が煩雑であ
るとともに、ラミネート後の厚さを所定範囲に収めるこ
とが非常に困難であるという問題があった。
【0009】更に、アンテナの形成方法によっては、ア
ンテナを内蔵した部分のカード表面に凹凸が残り、ホロ
グラムや個別情報印字等の付加機能を設けることが困難
となるという問題があった。
【0010】本発明の課題は、エンボス加工が容易に行
え、多用途に用いることができ、付加機能も簡単に設け
ることができるICカードをより低価格に提供すること
である。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は、以下のような
解決手段により、前記課題を解決する。なお、理解を容
易にするために、本発明の実施形態に対応する符号を付
して説明するが、これに限定されるものではない。すな
わち、請求項1の発明は、ICチップ(11a)と、前
記ICチップと接続されたアンテナ(12)と、を有
し、少なくとも非接触で外部と通信を行うICカードで
あって、塩化ビニル製のセンターコアシート層(14)
と、前記センターコアシート層と厚さが略同一であり、
塩化ビニル製の第1のコアシート層(15)及び第2の
コアシート層(16)を有し、前記第1のコアシート層
と前記第2のコアシート層とが、前記ICチップ、前記
アンテナ及び前記センターコアシート層を挟んでいるこ
と、を特徴とするICカードである。
【0012】請求項2の発明は、請求項1に記載のIC
カードにおいて、前記センターコアシート層(14)
は、前記ICチップ(11a)に対応した位置に、前記
ICチップが配置されるICチップ配置部(14a)を
有していること、を特徴とするICカードである。
【0013】請求項3の発明は、請求項2に記載のIC
カードにおいて、前記ICチップ配置部(14a)は、
孔であること、を特徴とするICカードである。
【0014】請求項4の発明は、請求項1から請求項3
までのいずれか1項に記載のICカードにおいて、前記
第1及び前記第2のコアシート層(15,16)は、目
視情報を設けた表示面ではない面が向かい合うように配
置され、前記第1及び前記第2のコアシート層の表示面
上に、塩化ビニル製の第1及び第2の透明オーバーシー
ト層(17,18)を有すること、を特徴とするICカ
ードである。
【0015】請求項5の発明は、請求項1から請求項4
までのいずれか1項に記載のICカードにおいて、前記
ICチップ(11a)及び前記アンテナ(12)を実装
したリードフレーム層(11d)を有すること、を特徴
とするICカードである。
【0016】請求項6の発明は、ICチップ(11
a)、前記ICチップと接続されたアンテナ(12)及
び塩化ビニル製のセンターコアシート(14)を、厚さ
が前記センターコアシートの厚さと略同一である塩化ビ
ニル製の第1及び第2のコアシート(15,16)で挟
み込むように積層配置する積層工程と、前記積層工程の
後に、塩化ビニルの融着温度まで加熱して一回で全ての
シートを圧着するラミネート工程と、を有するICカー
ドの製造方法である。
【0017】請求項7の発明は、請求項6に記載のIC
カードの製造方法において、前記積層工程を行う前に、
前記センターコアシート(14)の前記ICチップ(1
1a)に対応した位置に、前記ICチップが配置される
ICチップ配置部(14a)を形成するICチップ配置
部形成工程を有すること、を特徴とするICカードの製
造方法である。
【0018】請求項8の発明は、請求項6又は請求項7
に記載のICカードの製造方法において、前記積層工程
は、前記第1及び第2のコアシート(15,16)の外
側に、塩化ビニル製の透明オーバーシート(17,1
8)を追加して積層配置すること、を特徴とするICカ
ードの製造方法である。
【0019】請求項9の発明は、請求項6から請求項8
までのいずれか1項に記載のICカードの製造方法にお
いて、前記積層工程を行う前に、前記ICチップ(11
a)及び前記アンテナ(12)をリードフレーム(11
d)に実装する実装工程を有すること、を特徴とするI
Cカードの製造方法である。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、図面等を参照しながら、本
発明の実施の形態について、更に詳しく説明する。 (実施形態)図1は、本発明によるICカード10の実
施形態の層構成を説明する図である。本実施形態におけ
るICカード10は、ICモジュール11,アンテナ1
2,センターコアシート14,印刷付きコアシート1
5,16,透明オーバーシート17,18を有してい
る。
【0021】図2は、ICモジュール11及びアンテナ
12の断面図である。ICモジュール11は、ベアチッ
プ11aと、ワイヤ11bと、封止樹脂11cと、リー
ドフレーム11dとを有している。ベアチップ11a
は、リードフレーム11dにワイヤ11bを用いて実装
されている厚さ190μmの裸のチップであり、リード
フレーム11dを介してアンテナ12と接続されてい
る。また、ベアチップ11a及びワイヤ11bは、封止
樹脂11cによって封止されて保護されている。リード
フレーム11dは、ICチップ11a及びアンテナ12
を搭載する土台であると共に電極板の役割も果たしてい
る。
【0022】アンテナ12は、非接触で通信を行うため
のアンテナであり、リードフレーム11dに結線されて
いる。
【0023】センターコアシート14は、厚さ250±
10μmの塩化ビニル製シートであり、ICモジュール
11の封止樹脂11cを挿入する孔14aが、ICチッ
プ配置部として設けられている。
【0024】印刷付きコアシート15,16は、センタ
ーコアシート14と同様な厚さ250±10μmの塩化
ビニル製の第1及び第2のコアシートであり、外側にな
る面(印刷面)に、目視情報を印刷されている。
【0025】透明オーバーシート17,18は、印刷付
きコアシート15,16の印刷面を保護するために設け
られる保護層となる第1及び第2の透明オーバーシート
であり、厚さ50±10μmの透明な塩化ビニル製シー
トである。
【0026】(製造方法)次に、本実施形態における非
接触ICカード10の製造方法を説明する。あらかじ
め、厚さ250±10μmの塩化ビニル製のシート(セ
ンターコアシート14,印刷付きコアシート15,16
用)3枚と、厚さ50±10μmの透明な塩化ビニル製
シート(透明オーバーシート17,18用)2枚を大判
サイズ(例えば、600×350mm)の外形寸法に切
り揃えておく。
【0027】センターコアシート14,印刷付きコアシ
ート15,16用のシートに印刷を多面(例えば30面
付け)で行っておく。印刷付きコアシート15,16に
は、絵柄印刷を行い、センターコアシート14には、印
刷付きコアシート15,16と見当を合せるためのトン
ボ印刷を行っておく。
【0028】(実装工程)シートの作製と別に、ICモ
ジュール11にアンテナ12の形成を行う。尚、ICモ
ジュール11は、既にICチップ11aがリードフレー
ム11dに対してワイヤ11bによってボンディングさ
れ、封止樹脂11cが充填されているフィリップス社製
のMifare(登録商標)を用いた。アンテナ12の
形成方法としては、銅エッチング、銀粒子を含有した導
電インキでの印刷、被覆導線を用いた巻線方法等がある
が、本実施形態における、アンテナ12は、被覆導線に
よる巻線方式を用い、アンテナ12の形状は、略長方形
で巻数は、6巻きとした。このアンテナ12をリードフ
レーム11dと結線する。リードフレーム11dに対す
るアンテナ12の結線は、半田付け、熱圧着、超音波に
よる接合等によって行うことができる。
【0029】次に、アンテナ12を形成したICモジュ
ール11をセンターコアシート14に対して実装する。
ICモジュール11をセンターコアシート14に実装す
る方法としては、熱圧着、超音波による接合、接着剤に
よる接合等がある。本実施形態においては、ICモジュ
ール11のセンターコアシート14への実装は、熱圧着
又は超音波による接合を用いた。図3は、カード内のア
ンテナ12の配置を示す図である。本実施形態におい
て、A=85.6mm,B=54.0mm,C=13.
0mm,D=26.5mm,E=F=2.5mm,G=
H=2.0mmとなるように配置した結果、共振周波数
は18.0MHzとなった。
【0030】ICモジュール11を実装する前にセンタ
ーコアシート11に対して、ICモジュール11の封止
樹脂11cの大きさ+200〜+300μm(天地左右
全て)となるように孔14aを開けた(ICチップ配置
部形成工程)。この孔14aにICモジュール11の封
止樹脂11cを嵌め込み、センターコアシート14と封
止樹脂11cとの間に200〜300μmのすき間が存
在するようにする。尚、このすき間が300μmより大
きいと、後の熱ラミネート後にモジュール形状に筋が入
り、外観上好ましくない。逆に200μmより小さい
と、孔14aにモジュールを嵌め込む際に時間が掛かる
とともに、カードを曲げたときICチップ11aに負荷
が掛かり、ICチップ11aが破壊する場合がある。ま
た、センターコアシート11に孔14aを開けることに
よって、ICチップ11aにかかる圧力を軽減すること
ができ、後述するラミネート工程において、ICチップ
11aが破壊するのを防止することができる。尚、従来
は、ICチップの破壊を防止するために、1度目に弱い
圧力で熱ラミネートを行っていた。
【0031】上記方法によりセンターコアシート14に
対し、30面付けでICモジュール11とアンテナ12
とを実装し、インレット形状とした。
【0032】(積層工程)印刷付きコアシート15,1
6の見当とセンターコアシート14(インレット)の見
当を合わせて超音波により仮貼りを行い、印刷付きコア
シート15,16の表面に、透明オーバーシート17,
18を仮貼りした。尚、透明オーバーシート17,18
の一方には、磁気テープを予め転写してある。
【0033】(ラミネート工程)仮貼りをしたシートに
対して、熱ラミネートを150℃,1.96MPa(2
0kg/cm2 ),20minの条件で実施した。この
条件は、素材とする塩化ビニルの特性によって異なる
が、今回利用した耐熱塩化ビニル(太平化学製品製)で
は、この条件が最適であった。温度は±5℃,圧力は±
0.49MPa(±5kg/cm2 ),時間は±3mi
nが許容可能な範囲である。
【0034】熱ラミネート後の厚みを測定したところ、
各シートの厚さの公差範囲内で最も薄い層構成(40μ
mの透明オーバーシート17,18と、240μmのセ
ンターコアシート14及び印刷付きコアシート15,1
6を用いた場合)では、760μmとなり、最も厚い層
構成(60μmの透明オーバーシート17,18と、2
60μmのセンターコアシート14及び印刷付きコアシ
ート15,16を用いた場合)では、820μmとなっ
た。
【0035】最後に、熱ラミネート後のシートを見当に
合わせてカード形状に打ち抜き、ICカードとしての動
作検査を行ったところ、全数問題無く動作することがで
きた。また、アンテナ形状が変化すると、L値(コイル
のインダクタンス)が変化したり、コンデンサ容量が変
化したりして共振周波数がずれる可能性があるので、軟
X線でカードの中を観察したところ、アンテナ形状の変
形もなく、熱ラミネート前と同じ電気特性(共振周波数
は、18.0MHz)を示した。
【0036】完成したカードについて、表面状態及びエ
ンボス加工適性を確認した。 (表面状態)カード化した後に、ICチップ11aを内
蔵した部分におけるカード表面の凹凸を測定したところ
20μm以下であり、個別情報(名前などの文字による
ID情報)をプリンタ(データカード社製 DC900
0)を用いて印字することができた。また、アンテナ1
2に110μmの被覆導線を用いているが、その厚みも
熱ラミネート後には、塩化ビニルが変形することにより
吸収され、表面の凹凸は、10μm以下となった。よっ
て、アンテナ12が内蔵されている部分の表面であって
も、個別情報(名前等の文字情報だけでなく、顔写真等
の画像データ含む)の印字を問題なく行うことができ、
ホログラムの転写も問題なく行うことができた。
【0037】(エンボス加工適性評価)出来上がったカ
ードにエンボス加工(データカード社製 DC9000
を使用)を行ったところ、エンボス高さも問題無く、カ
ードの反りも1.2mm以下(JIS規格では、2.5
mm以下)に収まった。
【0038】(接触ICチップの実装適性の評価)先に
述べた通り、ラミネート工程後のカードの厚さは、76
0〜820μmとなった。この厚さは、JIS及びIS
O規格を満たしていることはもちろん、接触ICモジュ
ールを実装する場合に最適な厚みでもある。接触ICモ
ジュールは図2に示したICモジュール11と同様な形
状であり、その厚みは、リードフレームを含むと550
〜600μmである。接触ICカードの製造方法は、カ
ードを作製した後、このモジュールを埋め込む穴をザグ
リ、そこにモジュールを嵌め込んで接着する方法が一般
的である。この場合、カードの総厚が760μmより薄
いとザグリ加工を行った後のカード残厚が少なくなり、
カードが破れて接触ICモジュールがはずれたり、IC
チップ及びワイヤを保護する封止樹脂が透けてみえたり
する。
【0039】確認として、出来上がったカードにザグリ
加工を行い、接触ICモジュールを実装し、信頼性評価
(ISO規格のベンディング試験、モジュールの剥離試
験等)を行ったところ、問題は、生じなかった。したが
って、本実施形態に示す方法は、非接触ICカードのみ
ならず、接触ICカード及び接触/非接触共用ICカー
ドについても、適用することができるということを実証
できた。
【0040】本実施形態によれば、1回のラミネート工
程で、カード化を行えるので、製造工程を簡略化するこ
とができ、カードをより低価格に製造することができ
る。
【0041】また、厚さ250±10μmの塩化ビニル
製のシート(センターコアシート14,印刷付きコアシ
ート15,16用)3枚と、厚さ50±10μmの透明
な塩化ビニル製シート(透明オーバーシート17,18
用)2枚とを用いることによって、カードの厚みを最適
な値(760〜820μm)とすることができる。
【0042】更に、カード表面を平滑化することができ
るので、文字、画像、ホログラム等の個別情報を設ける
こともできる。
【0043】更にまた、塩化ビニルを素材として使用す
ることによって、エンボス加工を行うことができ、個別
情報と併せて設けることによって、キャッシュカード及
びクレジットカードにも使用することができる。
【0044】
【発明の効果】以上詳しく説明したように、本発明によ
れば、ICチップ、アンテナ及び塩化ビニル製のセンタ
ーコアシート層を、塩化ビニル製の第1及び第2のコア
シート層で挟んでいるので、1回のラミネート工程で、
カード化を行うことができる。したがって、製造工程を
簡略化することができ、カードをより低価格に製造する
ことができる。
【0045】また、センターコアシート層は、ICチッ
プに対応した位置に、ICチップが配置されるICチッ
プ配置部である孔を有しているので、カード化後のカー
ド表面が平滑になり、文字、画像、ホログラム等の個別
情報を設けることができる。
【0046】更に、塩化ビニルを素材として使用するこ
とによって、エンボス加工を行うことができ、個別情報
と併せて設けることによって、キャッシュカード及びク
レジットカードにも使用することができる。
【0047】更にまた、塩化ビニル製の透明オーバーシ
ートを有するので、上記効果を損なうことなく、目視情
報を保護することができると共に、磁気情報も容易に追
加することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるICカード10の実施形態の層構
成を説明する図である。
【図2】ICモジュール11及びアンテナ12の断面図
である。
【図3】カード内のアンテナ12の配置を示す図であ
る。
【図4】従来の非接触ICカードの層構成を説明する図
である。
【図5】特開平9−277766号公報に開示されてい
る従来の非接触ICカードの層構成を説明する断面図で
ある。
【符号の説明】
10 非接触ICカード 11 ICモジュール 11a ICチップ 11b ワイヤ 11c 封止樹脂 11d リードフレーム 12 アンテナ 14 センターコアシート 15,16 印刷付きコアシート 17,18 透明オーバーシート

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ICチップと、 前記ICチップと接続されたアンテナと、 を有し、少なくとも非接触で外部と通信を行うICカー
    ドであって、 塩化ビニル製のセンターコアシート層と、 前記センターコアシート層と厚さが略同一であり、塩化
    ビニル製の第1のコアシート層及び第2のコアシート層
    を有し、 前記第1のコアシート層と前記第2のコアシート層と
    が、前記ICチップ、前記アンテナ及び前記センターコ
    アシート層を挟んでいること、 を特徴とするICカード。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のICカードにおいて、 前記センターコアシート層は、前記ICチップに対応し
    た位置に、前記ICチップが配置されるICチップ配置
    部を有していること、 を特徴とするICカード。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載のICカードにおいて、 前記ICチップ配置部は、孔であること、 を特徴とするICカード。
  4. 【請求項4】 請求項1から請求項3までのいずれか1
    項に記載のICカードにおいて、 前記第1及び前記第2のコアシート層は、目視情報を設
    けた表示面ではない面が向かい合うように配置され、 前記第1及び前記第2のコアシート層の表示面上に、塩
    化ビニル製の第1及び第2の透明オーバーシート層を有
    すること、 を特徴とするICカード。
  5. 【請求項5】 請求項1から請求項4までのいずれか1
    項に記載のICカードにおいて、 前記ICチップ及び前記アンテナを実装したリードフレ
    ーム層を有すること、 を特徴とするICカード。
  6. 【請求項6】 ICチップ、前記ICチップと接続され
    たアンテナ及び塩化ビニル製のセンターコアシートを、
    厚さが前記センターコアシートの厚さと略同一である塩
    化ビニル製の第1及び第2のコアシートで挟み込むよう
    に積層配置する積層工程と、 前記積層工程の後に、塩化ビニルの融着温度まで加熱し
    て一回で全てのシートを圧着するラミネート工程と、 を有するICカードの製造方法。
  7. 【請求項7】 請求項6に記載のICカードの製造方法
    において、 前記積層工程を行う前に、前記センターコアシートの前
    記ICチップに対応した位置に、前記ICチップが配置
    されるICチップ配置部を形成するICチップ配置部形
    成工程を有すること、 を特徴とするICカードの製造方法。
  8. 【請求項8】 請求項6又は請求項7に記載のICカー
    ドの製造方法において、 前記積層工程は、前記第1及び第2のコアシートの外側
    に、塩化ビニル製の透明オーバーシートを追加して積層
    配置すること、 を特徴とするICカードの製造方法。
  9. 【請求項9】 請求項6から請求項8までのいずれか1
    項に記載のICカードの製造方法において、 前記積層工程を行う前に、前記ICチップ及び前記アン
    テナをリードフレームに実装する実装工程を有するこ
    と、 を特徴とするICカードの製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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