JPH11263070A - 薄い金属層に基づくヒートモード記録材料 - Google Patents
薄い金属層に基づくヒートモード記録材料Info
- Publication number
- JPH11263070A JPH11263070A JP10348944A JP34894498A JPH11263070A JP H11263070 A JPH11263070 A JP H11263070A JP 10348944 A JP10348944 A JP 10348944A JP 34894498 A JP34894498 A JP 34894498A JP H11263070 A JPH11263070 A JP H11263070A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- heat mode
- recording material
- bismuth
- coated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/243—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising inorganic materials only, e.g. ablative layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/254—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of protective topcoat layers
- G11B7/2542—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of protective topcoat layers consisting essentially of organic resins
- G11B7/2545—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of protective topcoat layers consisting essentially of organic resins containing inorganic fillers, e.g. particles or fibres
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/243—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising inorganic materials only, e.g. ablative layers
- G11B2007/24302—Metals or metalloids
- G11B2007/24314—Metals or metalloids group 15 elements (e.g. Sb, Bi)
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/254—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of protective topcoat layers
- G11B2007/25408—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of protective topcoat layers consisting essentially of inorganic materials
- G11B2007/25417—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of protective topcoat layers consisting essentially of inorganic materials containing Group 14 elements (C, Si, Ge, Sn)
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/254—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of protective topcoat layers
- G11B7/2542—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of protective topcoat layers consisting essentially of organic resins
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 水性媒体からコーティングされ、レーザー露
出された時の画像の劣化が少ないＤＲＡＷ型のヒートモ
ード記録材料を提供すること。 【解決手段】 （１）透明支持体、（２）水溶液からコ
ーティングされる薄い金属層、（３）好ましくは放射線
により硬膜されるコーティングされる最上単層又は二重
層集合体を含むＤＲＡＷ型のヒートモード材料であっ
て、該最上単層又は該二重層集合体の少なくとも１層、
好ましくは両方が０．５〜２０μｍの平均粒度及び０．
１〜５ｍｌ／ｇの比細孔容積を有する多孔質粒子、好ま
しくはシリカ粒子を含有するヒートモード材料を開示す
る。好ましくは金属層はビスマス層である。
出された時の画像の劣化が少ないＤＲＡＷ型のヒートモ
ード記録材料を提供すること。 【解決手段】 （１）透明支持体、（２）水溶液からコ
ーティングされる薄い金属層、（３）好ましくは放射線
により硬膜されるコーティングされる最上単層又は二重
層集合体を含むＤＲＡＷ型のヒートモード材料であっ
て、該最上単層又は該二重層集合体の少なくとも１層、
好ましくは両方が０．５〜２０μｍの平均粒度及び０．
１〜５ｍｌ／ｇの比細孔容積を有する多孔質粒子、好ま
しくはシリカ粒子を含有するヒートモード材料を開示す
る。好ましくは金属層はビスマス層である。
Description
【０００１】
【発明の分野】本発明はコーティングされる薄い金属層
に基づくＤＲＡＷ（Ｄｉｒｅｃｔ Ｒｅａｄ Ａｆｔｅ
ｒ Ｗｒｉｔｅ）型のヒートモード記録材料に関する。
に基づくＤＲＡＷ（Ｄｉｒｅｃｔ Ｒｅａｄ Ａｆｔｅ
ｒ Ｗｒｉｔｅ）型のヒートモード記録材料に関する。
【０００２】
【発明の背景】ハロゲン化銀に基づく通常の写真材料は
多様な用途に用いられる。一般に既知の通り、ハロゲン
化銀材料は高い固有の感度の可能性及び優れた画質とい
う利点を有する。他方、それは生態学的観点から懸念さ
れる化学的成分を用いる数段階の湿式処理を必要とする
という欠点を示す。
多様な用途に用いられる。一般に既知の通り、ハロゲン
化銀材料は高い固有の感度の可能性及び優れた画質とい
う利点を有する。他方、それは生態学的観点から懸念さ
れる化学的成分を用いる数段階の湿式処理を必要とする
という欠点を示す。
【０００３】過去において、ハロゲン化銀写真材料を用
いる場合のような処理液を必要としないで乾式現像段階
のみを用いて現像することができる画像形成要素を得る
ためのいくつかの提案が成されてきた。
いる場合のような処理液を必要としないで乾式現像段階
のみを用いて現像することができる画像形成要素を得る
ためのいくつかの提案が成されてきた。
【０００４】かなり長い前から既知の乾式画像形成シス
テムは３Ｍのドライシルバー法である。他の型は光重合
に基づいている。
テムは３Ｍのドライシルバー法である。他の型は光重合
に基づいている。
【０００５】ハロゲン化銀の化学のためのさらに別の代
替として、画像通りの熱の配分を用いて画像通りに露出
することができる乾式画像形成要素が既知である。サー
マルヘッドを用いてこの熱パターンが直接適用される場
合、そのような要素はサーモグラフィ材料と呼ばれる。
熱パターンが強いレーザー光の熱への変換により適用さ
れる場合、これらの要素はヒートモード材料又は熱的画
像形成媒体と呼ばれる。
替として、画像通りの熱の配分を用いて画像通りに露出
することができる乾式画像形成要素が既知である。サー
マルヘッドを用いてこの熱パターンが直接適用される場
合、そのような要素はサーモグラフィ材料と呼ばれる。
熱パターンが強いレーザー光の熱への変換により適用さ
れる場合、これらの要素はヒートモード材料又は熱的画
像形成媒体と呼ばれる。
【０００６】特殊な型のヒートモード材料は有機銀塩の
化学的還元に基づいている。別の部類は接着性の変化に
基づいている。
化学的還元に基づいている。別の部類は接着性の変化に
基づいている。
【０００７】さらに、別の特殊な型のヒートモード記録
では、記録層上における反射性及び／又は透過性におけ
る差を生むことにより情報が記録される。記録層は高い
光学濃度を有し、その上に衝突する放射線ビームを吸収
する。放射線の熱への変換は局部的温度上昇をもたら
し、蒸発又は融蝕などの熱的変化を記録層において起こ
させる。結果として記録層の照射された部分は全体的に
か又は部分的に除去され、照射された部分と照射されな
い部分の間に光学濃度における差が形成される（米国特
許第４，２１６，５０１、４，２３３，６２６、４，１
８８，２１４及び４，２９１，１１９号ならびに英国特
許第２，０２６，３４６号を参照されたい）。
では、記録層上における反射性及び／又は透過性におけ
る差を生むことにより情報が記録される。記録層は高い
光学濃度を有し、その上に衝突する放射線ビームを吸収
する。放射線の熱への変換は局部的温度上昇をもたら
し、蒸発又は融蝕などの熱的変化を記録層において起こ
させる。結果として記録層の照射された部分は全体的に
か又は部分的に除去され、照射された部分と照射されな
い部分の間に光学濃度における差が形成される（米国特
許第４，２１６，５０１、４，２３３，６２６、４，１
８８，２１４及び４，２９１，１１９号ならびに英国特
許第２，０２６，３４６号を参照されたい）。
【０００８】そのようなヒートモード記録材料の記録層
は、通常、金属、色素又はポリマーから作られている。
このような記録材料は”Ｅｌｅｃｔｒｏｎ，Ｉｏｎ ａ
ｎｄＬａｓｅｒ Ｂｅａｍ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ”，
ｂｙ Ｍ．Ｌ．Ｌｅｖｅｎｅ ｅｔ ａｌ．；Ｔｈｅ
Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ ｔｈｅ Ｅｌｅｖｅｎ
ｔｈ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ（１９６９）；“Ｅｌｅｃｔ
ｒｏｎｉｃｓ”（Ｍａｒ．１８，１９６８），ｐ．５
０；“Ｔｈｅ Ｂｅｌｌ Ｓｙｓｔｅｍ Ｔｅｃｈｎｉ
ｃａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ”，ｂｙ Ｄ．Ｍａｙｄａｎ，
Ｖｏｌ．５０（１９７１），ｐ．１７６１；及び“Ｓｃ
ｉｅｎｃｅ”，ｂｙ Ｃ．Ｏ．Ｃａｒｌｓｏｎ，Ｖｏ
ｌ．１５４（１９６６），ｐ．１５５０に記載されてい
る。
は、通常、金属、色素又はポリマーから作られている。
このような記録材料は”Ｅｌｅｃｔｒｏｎ，Ｉｏｎ ａ
ｎｄＬａｓｅｒ Ｂｅａｍ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ”，
ｂｙ Ｍ．Ｌ．Ｌｅｖｅｎｅ ｅｔ ａｌ．；Ｔｈｅ
Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ ｔｈｅ Ｅｌｅｖｅｎ
ｔｈ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ（１９６９）；“Ｅｌｅｃｔ
ｒｏｎｉｃｓ”（Ｍａｒ．１８，１９６８），ｐ．５
０；“Ｔｈｅ Ｂｅｌｌ Ｓｙｓｔｅｍ Ｔｅｃｈｎｉ
ｃａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ”，ｂｙ Ｄ．Ｍａｙｄａｎ，
Ｖｏｌ．５０（１９７１），ｐ．１７６１；及び“Ｓｃ
ｉｅｎｃｅ”，ｂｙ Ｃ．Ｏ．Ｃａｒｌｓｏｎ，Ｖｏ
ｌ．１５４（１９６６），ｐ．１５５０に記載されてい
る。
【０００９】そのような熱的記録材料上の記録は、通
常、記録されるべき情報を電気的時系列シグナルに変換
し、シグナルに従って変調されるレーザービームを用い
て記録材料を走査することにより行われる。この方法
は、記録画像を実時間で（すなわち即時に）得ることが
できるという点で有利である。この型の記録材料は“ｄ
ｉｒｅｃｔ ｒｅａｄ ａｆｔｅｒ ｗｒｉｔｅ”（Ｄ
ＲＡＷ）材料と呼ばれる。ＤＲＡＷ記録材料は、画像通
りに変調されるレーザービームを記録して人間が読み出
すことができるか又は機械が読み出すことができる記録
を作るための媒体として用いることができる。
常、記録されるべき情報を電気的時系列シグナルに変換
し、シグナルに従って変調されるレーザービームを用い
て記録材料を走査することにより行われる。この方法
は、記録画像を実時間で（すなわち即時に）得ることが
できるという点で有利である。この型の記録材料は“ｄ
ｉｒｅｃｔ ｒｅａｄ ａｆｔｅｒ ｗｒｉｔｅ”（Ｄ
ＲＡＷ）材料と呼ばれる。ＤＲＡＷ記録材料は、画像通
りに変調されるレーザービームを記録して人間が読み出
すことができるか又は機械が読み出すことができる記録
を作るための媒体として用いることができる。
【００１０】ＥＰ ０ ３８４ ０４１に従うと、ウェ
ブ支持体にヒートモード記録性の薄い金属層、好ましく
はビスマス層が設けられているＤＲＡＷ能力を有するヒ
ートモード記録材料の製造のための方法が示されてお
り、それは同じ真空環境下でウェブの形態の保護有機樹
脂層が接着層を用いて該支持された記録層に積層される
ことを特徴としている。
ブ支持体にヒートモード記録性の薄い金属層、好ましく
はビスマス層が設けられているＤＲＡＷ能力を有するヒ
ートモード記録材料の製造のための方法が示されてお
り、それは同じ真空環境下でウェブの形態の保護有機樹
脂層が接着層を用いて該支持された記録層に積層される
ことを特徴としている。
【００１１】引用されたＥＰ ０ ３８４ ０４１の原
理に従って製造される商業的に入手可能な材料は、Ａｇ
ｆａ−Ｇｅｖａｅｒｔ Ｎ．Ｖ．により販売されている
登録商品名ＭＡＳＴＥＲＴＯＯＬ ＭＴ８である。記録
後にそれはほとんどミクロ電子回路及び印刷回路板の製
造におけるマスターとして用いられる。Ｃｉｒｃｕｉｔ
Ｗｏｒｌｄ，Ｖｏｌ．２２，Ｎｏ．３，Ａｐｒｉｌ
１９９６における記載が引用される。
理に従って製造される商業的に入手可能な材料は、Ａｇ
ｆａ−Ｇｅｖａｅｒｔ Ｎ．Ｖ．により販売されている
登録商品名ＭＡＳＴＥＲＴＯＯＬ ＭＴ８である。記録
後にそれはほとんどミクロ電子回路及び印刷回路板の製
造におけるマスターとして用いられる。Ｃｉｒｃｕｉｔ
Ｗｏｒｌｄ，Ｖｏｌ．２２，Ｎｏ．３，Ａｐｒｉｌ
１９９６における記載が引用される。
【００１２】ＥＰ ０ ６８７ ５６９にＥＰ ０ ３
８４ ０４１の記述の他の変法が開示されている。この
実施態様では、接着層及び有機樹脂ウェブが１つの接着
層によってかあるいは多層集合体によって置き換えら
れ、それは真空室における積層によって適用され、該単
一の接着層又は該集合体の最外層は熱及び／又は紫外線
あるいは電子ビーム放射により硬膜される。
８４ ０４１の記述の他の変法が開示されている。この
実施態様では、接着層及び有機樹脂ウェブが１つの接着
層によってかあるいは多層集合体によって置き換えら
れ、それは真空室における積層によって適用され、該単
一の接着層又は該集合体の最外層は熱及び／又は紫外線
あるいは電子ビーム放射により硬膜される。
【００１３】真空蒸着による薄いビスマス記録層の製造
の方法の欠点は、これが複雑でやっかいで高価な方法で
あるということである。
の方法の欠点は、これが複雑でやっかいで高価な方法で
あるということである。
【００１４】従って、ヨーロッパ特許出願出願番号９７
２０１８２においては、真空蒸着が水性媒体からの金属
層のコーティングで置き換えられている。この開示に従
うと、薄い金属層は以下の段階： （１）金属のイオンを含有する水性媒体を調製し、
（２）還元剤により該金属イオンを還元し、かくして金
属粒子を生成させ、（３）該金属粒子を含有する該水性
媒体を透明支持体上にコーティングすることにより形成
される。
２０１８２においては、真空蒸着が水性媒体からの金属
層のコーティングで置き換えられている。この開示に従
うと、薄い金属層は以下の段階： （１）金属のイオンを含有する水性媒体を調製し、
（２）還元剤により該金属イオンを還元し、かくして金
属粒子を生成させ、（３）該金属粒子を含有する該水性
媒体を透明支持体上にコーティングすることにより形成
される。
【００１５】引用した出願の最も好ましい実施態様で
は、金属はビスマスである。ＥＰ ０６８７ ５６９で
開示された積層される保護要素は単に、金属層に優れた
接着性を有する第１の軟質層及び最上保護硬質層とい
う、コーティングされる二重層パックにより置き換える
ことができる。そのような二重層パックの例は引用され
た出願の実施例４に開示されている。しかしそのような
材料設計は以下の欠点を示す。水性媒体からコーティン
グされる金属層は高出力のレーザー露出の影響下で分解
し易い有機物質を含有する。結果として二酸化炭素、一
酸化炭素、二酸化窒素及び一酸化窒素などの数種の気体
が生成され得る。保護層がこれらの気体を透過させない
か又は透過性が悪いと、気体はこれらの層の下に蓄積さ
れ、泡を形成する。結局保護層は泡が形成される露出さ
れた領域において金属層から容易に離れる傾向があるで
あろう。欠点として、露出された領域において多くの場
合に干渉パターンが現れるであろう。
は、金属はビスマスである。ＥＰ ０６８７ ５６９で
開示された積層される保護要素は単に、金属層に優れた
接着性を有する第１の軟質層及び最上保護硬質層とい
う、コーティングされる二重層パックにより置き換える
ことができる。そのような二重層パックの例は引用され
た出願の実施例４に開示されている。しかしそのような
材料設計は以下の欠点を示す。水性媒体からコーティン
グされる金属層は高出力のレーザー露出の影響下で分解
し易い有機物質を含有する。結果として二酸化炭素、一
酸化炭素、二酸化窒素及び一酸化窒素などの数種の気体
が生成され得る。保護層がこれらの気体を透過させない
か又は透過性が悪いと、気体はこれらの層の下に蓄積さ
れ、泡を形成する。結局保護層は泡が形成される露出さ
れた領域において金属層から容易に離れる傾向があるで
あろう。欠点として、露出された領域において多くの場
合に干渉パターンが現れるであろう。
【００１６】本発明は水性媒体からコーティングされる
薄い金属記録層に基づくヒートモード材料についての記
載を拡張するものである。
薄い金属記録層に基づくヒートモード材料についての記
載を拡張するものである。
【００１７】
【発明の目的】本発明の目的は、レーザー記録された時
の画像の劣化が減少している、水性媒体からコーティン
グされるＤＲＡＷ型のヒートモード記録材料を提供する
ことである。
の画像の劣化が減少している、水性媒体からコーティン
グされるＤＲＡＷ型のヒートモード記録材料を提供する
ことである。
【００１８】本発明のさらなる目的はレーザー記録され
た時に干渉パターンを示さないヒートモード記録材料を
提供することである。
た時に干渉パターンを示さないヒートモード記録材料を
提供することである。
【００１９】
【発明の概略】本発明の目的は、（１）透明支持体、
（２）金属粒子を含有する水溶液からコーティングされ
る薄い金属層、（３）コーティングされる最上単層又は
二重層集合体を含むヒートモード記録材料であって、該
最上単層又は二重層集合体の場合は少なくとも１層そし
て好ましくは両方が０．５〜２０μｍの平均寸法及び
０．１〜５ｍｌ／ｇの比細孔容積を有する多孔質粒子を
含有することを特徴とするヒートモード記録材料を提供
することにより実現される。
（２）金属粒子を含有する水溶液からコーティングされ
る薄い金属層、（３）コーティングされる最上単層又は
二重層集合体を含むヒートモード記録材料であって、該
最上単層又は二重層集合体の場合は少なくとも１層そし
て好ましくは両方が０．５〜２０μｍの平均寸法及び
０．１〜５ｍｌ／ｇの比細孔容積を有する多孔質粒子を
含有することを特徴とするヒートモード記録材料を提供
することにより実現される。
【００２０】本発明の１つの好ましい態様の場合、
（３）は例えばＵＶにより、好ましくは硬膜勾配が得ら
れ、より硬い部分が表面に向き、より軟い部分が金属層
に隣接するようなやり方で放射線硬膜される単層であ
る。
（３）は例えばＵＶにより、好ましくは硬膜勾配が得ら
れ、より硬い部分が表面に向き、より軟い部分が金属層
に隣接するようなやり方で放射線硬膜される単層であ
る。
【００２１】本発明の他の好ましい態様の場合、（３）
は４０℃より高いＴgを有する硬質ポリマー性上層（３
ａ）及び２５℃より低いＴgを有する軟質ポリマー性下
層（３ｂ）から成る二重層パックである。
は４０℃より高いＴgを有する硬質ポリマー性上層（３
ａ）及び２５℃より低いＴgを有する軟質ポリマー性下
層（３ｂ）から成る二重層パックである。
【００２２】最も好ましい態様の場合、薄い金属層はビ
スマス層であり、（３）中に存在する多孔質粒子はシリ
カ粒子である。
スマス層であり、（３）中に存在する多孔質粒子はシリ
カ粒子である。
【００２３】
【発明の詳細な記述】ここで本発明の方法により得られ
るヒートモード記録材料を構成する種々の要素をさらに
詳細に説明する。
るヒートモード記録材料を構成する種々の要素をさらに
詳細に説明する。
【００２４】有用な透明有機樹脂支持体には、例えば、
硝酸セルロースフィルム、酢酸セルロースフィルム、ポ
リビニルアセタールフィルム、ポリスチレンフィルム、
ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリカーボネー
トフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム又はポリ−アルフ
ァ−オレフィンフィルム、例えばポリエチレンもしくは
ポリプロピレンフィルムが含まれる。そのような有機樹
脂フィルムの厚さは好ましくは０．０５〜０．３５ｍｍ
に含まれる。本発明の最も好ましい態様の場合、支持体
は下塗り層が設けられたポリエチレンテレフタレート層
である。この下塗り層はポリエステルフィルム支持体の
延伸の前又は後に適用することができる。好ましくはポ
リエステルフィルム支持体を例えば７０〜１２０℃とい
う高められた温度で２軸的に延伸し、その厚さを約１／
２〜１／９又はそれ以下に減少させ、その面積を２〜９
倍に増加させる。延伸はいずれかの順序で横及び縦の２
段階でかあるいは同時に行うことができる。下塗り層は
好ましくは縦及び横の延伸の間に水性コーティングによ
り、０．１〜５μｍの厚さで適用される。ビスマス記録
層の場合、下塗り層は好ましくはヨーロッパ特許出願Ｅ
Ｐ０ ４６４ ９０６に記載の通り、共有結合した塩素
を含むモノマーのホモポリマー又はコポリマーを含有す
る。下塗り層において用いるのに適した該ホモポリマー
又はコポリマーの例は、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、塩化ビニリデン、アクリル酸エステル及
びイタコン酸のコポリマー、塩化ビニル及び塩化ビニリ
デンのコポリマー、塩化ビニル及び酢酸ビニルのコポリ
マー、アクリル酸ブチル、酢酸ビニル及び塩化ビニルも
しくは塩化ビニリデンのコポリマー、塩化ビニル、塩化
ビニリデン及びイタコン酸のコポリマー、塩化ビニル、
酢酸ビニル及びビニルアルコールのコポリマーなどであ
る。水分散性のポリマーが好ましく、それはそれが生態
学的に有利な下塗り層の水性コーティングを可能にする
からである。
硝酸セルロースフィルム、酢酸セルロースフィルム、ポ
リビニルアセタールフィルム、ポリスチレンフィルム、
ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリカーボネー
トフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム又はポリ−アルフ
ァ−オレフィンフィルム、例えばポリエチレンもしくは
ポリプロピレンフィルムが含まれる。そのような有機樹
脂フィルムの厚さは好ましくは０．０５〜０．３５ｍｍ
に含まれる。本発明の最も好ましい態様の場合、支持体
は下塗り層が設けられたポリエチレンテレフタレート層
である。この下塗り層はポリエステルフィルム支持体の
延伸の前又は後に適用することができる。好ましくはポ
リエステルフィルム支持体を例えば７０〜１２０℃とい
う高められた温度で２軸的に延伸し、その厚さを約１／
２〜１／９又はそれ以下に減少させ、その面積を２〜９
倍に増加させる。延伸はいずれかの順序で横及び縦の２
段階でかあるいは同時に行うことができる。下塗り層は
好ましくは縦及び横の延伸の間に水性コーティングによ
り、０．１〜５μｍの厚さで適用される。ビスマス記録
層の場合、下塗り層は好ましくはヨーロッパ特許出願Ｅ
Ｐ０ ４６４ ９０６に記載の通り、共有結合した塩素
を含むモノマーのホモポリマー又はコポリマーを含有す
る。下塗り層において用いるのに適した該ホモポリマー
又はコポリマーの例は、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、塩化ビニリデン、アクリル酸エステル及
びイタコン酸のコポリマー、塩化ビニル及び塩化ビニリ
デンのコポリマー、塩化ビニル及び酢酸ビニルのコポリ
マー、アクリル酸ブチル、酢酸ビニル及び塩化ビニルも
しくは塩化ビニリデンのコポリマー、塩化ビニル、塩化
ビニリデン及びイタコン酸のコポリマー、塩化ビニル、
酢酸ビニル及びビニルアルコールのコポリマーなどであ
る。水分散性のポリマーが好ましく、それはそれが生態
学的に有利な下塗り層の水性コーティングを可能にする
からである。
【００２５】他の好ましい下塗り層はゼラチン、マレイ
ン酸及びホルムアルデヒドの水溶液からコーティングさ
れる。
ン酸及びホルムアルデヒドの水溶液からコーティングさ
れる。
【００２６】ここで金属がビスマスである好ましい態様
を用いて透明支持体上の薄い金属層の形成法を説明す
る。
を用いて透明支持体上の薄い金属層の形成法を説明す
る。
【００２７】第１段階（１）において、ビスマスイオン
の水溶液を調製する。最も適したビスマス塩として硝酸
ビスマスが選ばれる。ほとんどすべてのビスマス塩は水
溶性が低い。溶液中で十分な量のビスマスイオンを維持
するために、錯体化剤を加えることが必要である。好ま
しい錯体化剤は単に周知のエチレンジアミン四酢酸（Ｅ
ＤＴＡ）又は同族体化合物（ｈｏｍｏｌｏｇｏｕｓ ｃ
ｏｍｐｏｕｎｄ）又はその塩である。他の好ましいもの
はクエン酸塩、例えばクエン酸三アンモニウムである。
他の適した錯体化剤にはジエチレントリアミン−五酢酸
（ＤＴＰＡ）、トランス−１，２−ジアミノシクロヘキ
サン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸（ＣＤＴＡ）、エチ
レングリコール−Ｏ，Ｏ’−ビス（２−アミノエチル）
−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸（ＥＧＴＡ）、Ｎ−（２
−ヒドロキシエチル）エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’
−三酢酸（ＨＥＤＴＡ）などが含まれる。次の段階の還
元により生成するであろう金属ビスマスを分散状態に保
持するために、好ましくは保護コロイド結合剤を水性媒
体に加える。特に好ましい保護コロイド結合剤は、好ま
しくは高粘度型のカルボキシメチルセルロース（ＣＭ
Ｃ）である。他の可能な結合剤にはゼラチン、アラビア
ゴム、ポリ（アクリル酸）、セルロース誘導体及び他の
多糖類が含まれる。溶液はさらにいわゆる分散助剤（共
−分散剤とも呼ばれる）を含有することができる。ビス
マスの場合に適した分散助剤はピロリン酸塩、さらに特
定的にはヘキサメタリン酸塩、例えばヘキサメタリン酸
ナトリウムである。おそらくヘキサメタリン酸塩はビス
マス粒子の表面に吸着し、それらが負に帯電するように
なる。静電的反発によりそれらは分散状態に保たれる。
の水溶液を調製する。最も適したビスマス塩として硝酸
ビスマスが選ばれる。ほとんどすべてのビスマス塩は水
溶性が低い。溶液中で十分な量のビスマスイオンを維持
するために、錯体化剤を加えることが必要である。好ま
しい錯体化剤は単に周知のエチレンジアミン四酢酸（Ｅ
ＤＴＡ）又は同族体化合物（ｈｏｍｏｌｏｇｏｕｓ ｃ
ｏｍｐｏｕｎｄ）又はその塩である。他の好ましいもの
はクエン酸塩、例えばクエン酸三アンモニウムである。
他の適した錯体化剤にはジエチレントリアミン−五酢酸
（ＤＴＰＡ）、トランス−１，２−ジアミノシクロヘキ
サン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸（ＣＤＴＡ）、エチ
レングリコール−Ｏ，Ｏ’−ビス（２−アミノエチル）
−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸（ＥＧＴＡ）、Ｎ−（２
−ヒドロキシエチル）エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’
−三酢酸（ＨＥＤＴＡ）などが含まれる。次の段階の還
元により生成するであろう金属ビスマスを分散状態に保
持するために、好ましくは保護コロイド結合剤を水性媒
体に加える。特に好ましい保護コロイド結合剤は、好ま
しくは高粘度型のカルボキシメチルセルロース（ＣＭ
Ｃ）である。他の可能な結合剤にはゼラチン、アラビア
ゴム、ポリ（アクリル酸）、セルロース誘導体及び他の
多糖類が含まれる。溶液はさらにいわゆる分散助剤（共
−分散剤とも呼ばれる）を含有することができる。ビス
マスの場合に適した分散助剤はピロリン酸塩、さらに特
定的にはヘキサメタリン酸塩、例えばヘキサメタリン酸
ナトリウムである。おそらくヘキサメタリン酸塩はビス
マス粒子の表面に吸着し、それらが負に帯電するように
なる。静電的反発によりそれらは分散状態に保たれる。
【００２８】続く段階（２）において、溶液中のビスマ
スイオンを還元剤の添加を用いて金属ビスマス粒子に還
元する。金属粒子は上記の通り結合剤及び分散助剤の存
在により分散状態に保たれる。好ましい還元剤は亜硫酸
水素ナトリウムである。他の適した還元剤はＫＢＨ4で
ある。他にはグルコース、ホルムアルデヒド、塩化錫
（ＩＩ）が含まれる。還元剤は最初のビスマス塩溶液に
固体粉末として加えることができる。他方、還元剤を別
に溶解し、シングルジェット又はダブルジェット法に従
ってビスマス塩溶液に加えることができる。還元が実質
的に完了したら、水性媒体を段階（３）に従って直接コ
ーティングすることができるが、より好ましくは段階２
ビス（２ｂｉｓ）において超遠心及び続く再分散、凝集
及び洗浄ならびに続く再分散あるいは限外濾過などの周
知の方法により、余分な塩（ｓｕｐｅｒｆｌｕｏｕｓ
ｓａｌｔｓ）を最初に水性媒体から除去する。超遠心そ
して結合剤としてＣＭＣを用いる場合、ビスマス−ＣＭ
Ｃ付着物が分離される。超遠心段階を新しい水で洗浄し
た後に繰り返すことができる。最終的付着物を好ましく
は最初の溶液と同じか又は異なる結合剤及び／又は分散
助剤を含有する水性媒体中に再分散させる。ビスマス−
ＣＭＣ付着物の場合、再分散水性媒体は好ましくは最初
の溶液と同じ分散助剤、例えばヘキサメタリン酸ナトリ
ウムを含有する。最終的水性媒体中には、好ましくは製
造のいずれかの段階で加えられる酸化防止剤、例えばア
スコルビン酸又はその誘導体が存在し、コーティングの
後の乾燥の間又は非保護ビスマス層の保存の間の許容さ
れ得ない濃度の損失に導く酸化ビスマスへの酸化を避け
る。最後に、１種又はそれ以上のコーティング助剤を加
えた後、得られる水性媒体を通常のコーティング法を用
いて透明支持体上にコーティングする。
スイオンを還元剤の添加を用いて金属ビスマス粒子に還
元する。金属粒子は上記の通り結合剤及び分散助剤の存
在により分散状態に保たれる。好ましい還元剤は亜硫酸
水素ナトリウムである。他の適した還元剤はＫＢＨ4で
ある。他にはグルコース、ホルムアルデヒド、塩化錫
（ＩＩ）が含まれる。還元剤は最初のビスマス塩溶液に
固体粉末として加えることができる。他方、還元剤を別
に溶解し、シングルジェット又はダブルジェット法に従
ってビスマス塩溶液に加えることができる。還元が実質
的に完了したら、水性媒体を段階（３）に従って直接コ
ーティングすることができるが、より好ましくは段階２
ビス（２ｂｉｓ）において超遠心及び続く再分散、凝集
及び洗浄ならびに続く再分散あるいは限外濾過などの周
知の方法により、余分な塩（ｓｕｐｅｒｆｌｕｏｕｓ
ｓａｌｔｓ）を最初に水性媒体から除去する。超遠心そ
して結合剤としてＣＭＣを用いる場合、ビスマス−ＣＭ
Ｃ付着物が分離される。超遠心段階を新しい水で洗浄し
た後に繰り返すことができる。最終的付着物を好ましく
は最初の溶液と同じか又は異なる結合剤及び／又は分散
助剤を含有する水性媒体中に再分散させる。ビスマス−
ＣＭＣ付着物の場合、再分散水性媒体は好ましくは最初
の溶液と同じ分散助剤、例えばヘキサメタリン酸ナトリ
ウムを含有する。最終的水性媒体中には、好ましくは製
造のいずれかの段階で加えられる酸化防止剤、例えばア
スコルビン酸又はその誘導体が存在し、コーティングの
後の乾燥の間又は非保護ビスマス層の保存の間の許容さ
れ得ない濃度の損失に導く酸化ビスマスへの酸化を避け
る。最後に、１種又はそれ以上のコーティング助剤を加
えた後、得られる水性媒体を通常のコーティング法を用
いて透明支持体上にコーティングする。
【００２９】還元された金属ビスマスの粒度は好ましく
は５〜３００ｎｍ、最も好ましくは１０〜２００ｎｍに
含まれる。このＢｉ層の厚さは好ましくは０．１〜１．
５μｍに含まれる。この厚さが低すぎると記録される画
像は十分な濃度を持たない。他方、厚さが厚すぎると、
感度が低下する傾向があり、最小濃度、すなわち露出さ
れた領域上のレーザー記録後の濃度が高い傾向がある。
は５〜３００ｎｍ、最も好ましくは１０〜２００ｎｍに
含まれる。このＢｉ層の厚さは好ましくは０．１〜１．
５μｍに含まれる。この厚さが低すぎると記録される画
像は十分な濃度を持たない。他方、厚さが厚すぎると、
感度が低下する傾向があり、最小濃度、すなわち露出さ
れた領域上のレーザー記録後の濃度が高い傾向がある。
【００３０】薄い金属記録層の形成を金属がビスマスで
ある好ましい実施態様を用いて記載してきた。しかし、
本発明の範囲はビスマスに限られず、類似の方法により
薄い金属記録層を形成することができる他の金属に拡張
される。本発明における記録層のために可能な他の金属
には、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａ
ｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｓｅ、Ｔ
ｅ、Ｓｒ、Ｃｕ、Ｌａ、Ｐｂ、Ｎｄ、Ｂａ、Ｂｅ、Ｃａ
及びＣｅが含まれる。これらの金属を単独であるいはそ
れらの少なくとも２種の金属の混合物又は合金として用
いることができる。
ある好ましい実施態様を用いて記載してきた。しかし、
本発明の範囲はビスマスに限られず、類似の方法により
薄い金属記録層を形成することができる他の金属に拡張
される。本発明における記録層のために可能な他の金属
には、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａ
ｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｓｅ、Ｔ
ｅ、Ｓｒ、Ｃｕ、Ｌａ、Ｐｂ、Ｎｄ、Ｂａ、Ｂｅ、Ｃａ
及びＣｅが含まれる。これらの金属を単独であるいはそ
れらの少なくとも２種の金属の混合物又は合金として用
いることができる。
【００３１】それぞれの特定の金属に関し、金属イオ
ン、もしあれば錯体化剤、結合剤及び分散助剤、還元剤
などの選択は最適化されねばならず、ほとんどの場合、
好ましい実施態様は金属がビスマスである好ましい実施
態様から変動するであろうことが容易に理解されるであ
ろう。
ン、もしあれば錯体化剤、結合剤及び分散助剤、還元剤
などの選択は最適化されねばならず、ほとんどの場合、
好ましい実施態様は金属がビスマスである好ましい実施
態様から変動するであろうことが容易に理解されるであ
ろう。
【００３２】本発明の第１の実施態様の場合、保護最上
層（３）は好ましくはＵＶにより放射線硬膜される単層
である。
層（３）は好ましくはＵＶにより放射線硬膜される単層
である。
【００３３】コーティングされるＵＶ−硬膜可能な層は
広く２つの部類：ラジカル重合可能な層及びカチオン重
合可能な層に分類することができる。
広く２つの部類：ラジカル重合可能な層及びカチオン重
合可能な層に分類することができる。
【００３４】第１の型の組成物中には、ＵＶ露出される
とラジカルを生成する光開始剤が存在する。そのような
組成物の場合、反応性（プレ）ポリマー又はオリゴマー
は１つ又はそれ以上のエチレン性不飽和基を含有する化
合物である。
とラジカルを生成する光開始剤が存在する。そのような
組成物の場合、反応性（プレ）ポリマー又はオリゴマー
は１つ又はそれ以上のエチレン性不飽和基を含有する化
合物である。
【００３５】層（３）の形成のための放射線−硬膜可能
な組成物において用いるために適したプレポリマーの例
は以下のとおりである：不飽和ポリエステル、例えばポ
リエステルアクリレート；ウレタン改質不飽和ポリエス
テル、例えばウレタン−ポリエステルアクリレート。末
端基としてアクリル基を有する液体ポリエステル、例え
ばアクリル型末端基が設けられた飽和コポリエステルは
公開ＥＰ−Ａ ０ ２０７ ２５７及びＲａｄｉａｔ．
Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．，Ｖｏｌ．３３，Ｎｏ．５，４４
３−４５０（１９８９）に記載されている。
な組成物において用いるために適したプレポリマーの例
は以下のとおりである：不飽和ポリエステル、例えばポ
リエステルアクリレート；ウレタン改質不飽和ポリエス
テル、例えばウレタン−ポリエステルアクリレート。末
端基としてアクリル基を有する液体ポリエステル、例え
ばアクリル型末端基が設けられた飽和コポリエステルは
公開ＥＰ−Ａ ０ ２０７ ２５７及びＲａｄｉａｔ．
Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．，Ｖｏｌ．３３，Ｎｏ．５，４４
３−４５０（１９８９）に記載されている。
【００３６】低分子量の不飽和モノマー及び他の揮発性
物質を実質的に含まないコポリエステルは非常に毒性の
低いものである（参照文献、定期刊行Ａｄｈａｅｓｉｏ
ｎ１９９０ Ｈｅｆｔ １２，ｐａｇｅ １２）。多様
な放射線−硬化可能なアクリルポリエステルの製造がＧ
ｅｒｍａｎ Ｏｆｆｅｎｌｅｇｕｎｇｓｓｃｈｒｉｆｔ
Ｎｏ．２８３８６９１に示されている。該プレポリマ
ーの２種又はそれ以上の混合物を用いることができる。
物質を実質的に含まないコポリエステルは非常に毒性の
低いものである（参照文献、定期刊行Ａｄｈａｅｓｉｏ
ｎ１９９０ Ｈｅｆｔ １２，ｐａｇｅ １２）。多様
な放射線−硬化可能なアクリルポリエステルの製造がＧ
ｅｒｍａｎ Ｏｆｆｅｎｌｅｇｕｎｇｓｓｃｈｒｉｆｔ
Ｎｏ．２８３８６９１に示されている。該プレポリマ
ーの２種又はそれ以上の混合物を用いることができる。
【００３７】放射線（ＵＶ又はＥＢ）硬膜可能な組成物
において用いるために適したさらに別のプレポリマー
は、例えば“Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌ
ｏｇｙｏｆ ＵＶ ａｎｄ ＥＢ ｆｏｒｍｕｌａｔｉ
ｏｎ ｆｏｒ ｃｏａｔｉｎｇｓ，ｉｎｋｄ ａｎｄ
Ｐａｉｎｔｓ”Ｖｏｌ．２：Ｐｒｅｐｏｌｙｍｅｒｓａ
ｎｄ Ｒｅａｃｔｉｖｅ ｄｉｌｕｅｎｔｓ ｆｏｒ
ＵＶ ａｎｄ ＥＢｃｕｒａｂｌｅ ｆｏｒｍｕｌａｔ
ｉｏｎｓ．”Ｅｄ．Ｐ．Ｋ．Ｔ．ＯＬＤＲＩＮＧ−ＳＩ
ＴＡ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ−Ｌｏｎｄｏｎ（１９９
１）に記載されている通り、不飽和ウレタン（メタ）ア
クリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエー
テル（メタ）アクリレート及びポリエステル（メタ）ア
クリレートから成る群より選ばれる。
において用いるために適したさらに別のプレポリマー
は、例えば“Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌ
ｏｇｙｏｆ ＵＶ ａｎｄ ＥＢ ｆｏｒｍｕｌａｔｉ
ｏｎ ｆｏｒ ｃｏａｔｉｎｇｓ，ｉｎｋｄ ａｎｄ
Ｐａｉｎｔｓ”Ｖｏｌ．２：Ｐｒｅｐｏｌｙｍｅｒｓａ
ｎｄ Ｒｅａｃｔｉｖｅ ｄｉｌｕｅｎｔｓ ｆｏｒ
ＵＶ ａｎｄ ＥＢｃｕｒａｂｌｅ ｆｏｒｍｕｌａｔ
ｉｏｎｓ．”Ｅｄ．Ｐ．Ｋ．Ｔ．ＯＬＤＲＩＮＧ−ＳＩ
ＴＡ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ−Ｌｏｎｄｏｎ（１９９
１）に記載されている通り、不飽和ウレタン（メタ）ア
クリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエー
テル（メタ）アクリレート及びポリエステル（メタ）ア
クリレートから成る群より選ばれる。
【００３８】ＵＶ−硬膜可能なコーティング組成物の概
覧は、例えば定期刊行の“Ｃｏａｔｉｎｇ”９／８８，
ｐ．３４８−３５３に示されている。
覧は、例えば定期刊行の“Ｃｏａｔｉｎｇ”９／８８，
ｐ．３４８−３５３に示されている。
【００３９】オリゴマーとも呼ばれる他の有用なプレポ
リマーは脂肪族及び芳香族ポリエステル−ウレタンアク
リレートの種類に属する。ポリエステル−ウレタンアク
リレートの構造は“Ｒａｄｉａｔｉｏｎ Ｃｕｒｅｄ
Ｃｏａｔｉｎｇｓ” ｂｙＪｏｈｎ Ｒ．Ｃｏｎｓｔａ
ｎｚａ，Ａ．Ｐ．Ｓｉｌｖｅｒｉ ａｎｄ Ｊｏｓｅｐ
ｈ Ａ．Ｖｏｎａ，ｐｕｌｉｓｈｅｄ ｂｙ Ｆｅｄｅ
ｒａｔｉｏｎ ｏｆＳｏｃｉｅｔｉｅｓ ｆｏｒ Ｃｏ
ａｔｉｎｇｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，１３１５ Ｗａ
ｌｎｕｔ Ｓｔ．Ｐｈｉｌａｄｅｌｐｈｉａ，ＰＡ １
９１０７ＵＳＡ（Ｊｕｎｅ １９８６）ｐ．９の本に示
されている。
リマーは脂肪族及び芳香族ポリエステル−ウレタンアク
リレートの種類に属する。ポリエステル−ウレタンアク
リレートの構造は“Ｒａｄｉａｔｉｏｎ Ｃｕｒｅｄ
Ｃｏａｔｉｎｇｓ” ｂｙＪｏｈｎ Ｒ．Ｃｏｎｓｔａ
ｎｚａ，Ａ．Ｐ．Ｓｉｌｖｅｒｉ ａｎｄ Ｊｏｓｅｐ
ｈ Ａ．Ｖｏｎａ，ｐｕｌｉｓｈｅｄ ｂｙ Ｆｅｄｅ
ｒａｔｉｏｎ ｏｆＳｏｃｉｅｔｉｅｓ ｆｏｒ Ｃｏ
ａｔｉｎｇｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，１３１５ Ｗａ
ｌｎｕｔ Ｓｔ．Ｐｈｉｌａｄｅｌｐｈｉａ，ＰＡ １
９１０７ＵＳＡ（Ｊｕｎｅ １９８６）ｐ．９の本に示
されている。
【００４０】付加重合可能なモノマーを用いる場合、こ
れらは１官能基性又は多官能基性であることができ、そ
れはそれらが１つ又はそれ以上のオレフィン性不飽和基
を含有していることができることを意味する。上記のポ
リマー（ｉ）及び（ｉｉ）のための溶媒として働くこと
ができる１官能基性の付加重合可能な液体モノマーの例
は以下のとおりである：（メタ）アクリル酸メチル、ア
クリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタアクリル酸２
−エチルヘキシル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、
メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸グリ
シジル、アクリル酸ｎ−ヘキシル、アクリル酸ラウリル
及びメタクリル酸テトラヒドロフルフリル。
れらは１官能基性又は多官能基性であることができ、そ
れはそれらが１つ又はそれ以上のオレフィン性不飽和基
を含有していることができることを意味する。上記のポ
リマー（ｉ）及び（ｉｉ）のための溶媒として働くこと
ができる１官能基性の付加重合可能な液体モノマーの例
は以下のとおりである：（メタ）アクリル酸メチル、ア
クリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタアクリル酸２
−エチルヘキシル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、
メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸グリ
シジル、アクリル酸ｎ−ヘキシル、アクリル酸ラウリル
及びメタクリル酸テトラヒドロフルフリル。
【００４１】適した２官能基性モノマーの例は：１，６
−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサン
ジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジ
アクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレー
ト、エチレングリコールジアクリレート、ポリエチレン
グリコールジアクリレート、ペンタエリトリトールジア
クリレート、ジビニルベンゼンである。
−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサン
ジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジ
アクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレー
ト、エチレングリコールジアクリレート、ポリエチレン
グリコールジアクリレート、ペンタエリトリトールジア
クリレート、ジビニルベンゼンである。
【００４２】適した３−又はそれ以上の官能基性のモノ
マーの例は：トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペン
タエリトリトールトリアクリレート、ジペンタエリトリ
トールヘキサアクリレート、エチレンジアミンのアクリ
レート、脂肪族及び芳香族ウレタンアクリレート及び１
９９１年３月５日出願の非公開ヨーロッパ特許出願９１
２００４６８．６に記載されている一般式（Ｉ）に従う
モノマーであり、ここで該モノマーの製造に関し、公開
ドイツ特許出願番号３，５２２，００５、３，７０３，
０８０、３，６４３，２１６、３，７０３，１３０、
３，７０３，０８０、３，９１７，３２０及び３，７４
３，７２８を引用する。
マーの例は：トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペン
タエリトリトールトリアクリレート、ジペンタエリトリ
トールヘキサアクリレート、エチレンジアミンのアクリ
レート、脂肪族及び芳香族ウレタンアクリレート及び１
９９１年３月５日出願の非公開ヨーロッパ特許出願９１
２００４６８．６に記載されている一般式（Ｉ）に従う
モノマーであり、ここで該モノマーの製造に関し、公開
ドイツ特許出願番号３，５２２，００５、３，７０３，
０８０、３，６４３，２１６、３，７０３，１３０、
３，７０３，０８０、３，９１７，３２０及び３，７４
３，７２８を引用する。
【００４３】本発明の好ましい態様の場合、ＵＶ−硬化
可能な物質は多官能基性アクリレートモノマー、最も好
ましくはエポキシ−アクリレートモノマーである。
可能な物質は多官能基性アクリレートモノマー、最も好
ましくはエポキシ−アクリレートモノマーである。
【００４４】光−ラジカル生成において用いるのに適し
た光開始剤は有機カルボニル化合物、例えばベンゾイン
エーテル系列化合物、例えばベンゾインイソプロピル、
イソブチルエーテル；ベンジルケタール系列化合物；ケ
トキシムエステル；ベンゾフェノン系列化合物、例えば
ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイルメチルベンゾエート；
アセトフェノン系列化合物、例えばアセトフェノン、ト
リクロロアセトフェノン、１，１−ジクロロアセトフェ
ノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジ
メトキシ−２−フェニルアセトフェノン；チオキサント
ン系列化合物、例えば２−クロロチオキサントン、２−
エチルチオキサントン；ならびに２−ヒドロキシ−２−
メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−４’−イソ
プロピル−２−メチルプロピオフェノン、１−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトンなどの化合物の種類に
属する。
た光開始剤は有機カルボニル化合物、例えばベンゾイン
エーテル系列化合物、例えばベンゾインイソプロピル、
イソブチルエーテル；ベンジルケタール系列化合物；ケ
トキシムエステル；ベンゾフェノン系列化合物、例えば
ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイルメチルベンゾエート；
アセトフェノン系列化合物、例えばアセトフェノン、ト
リクロロアセトフェノン、１，１−ジクロロアセトフェ
ノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジ
メトキシ−２−フェニルアセトフェノン；チオキサント
ン系列化合物、例えば２−クロロチオキサントン、２−
エチルチオキサントン；ならびに２−ヒドロキシ−２−
メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−４’−イソ
プロピル−２−メチルプロピオフェノン、１−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトンなどの化合物の種類に
属する。
【００４５】カチオン重合可能な型のＵＶ硬膜可能コー
ティングの場合、光開始剤は露出されるとプロトン又は
カチオンを生成する。典型的な態様ではこのカチオンが
環状脂肪族エポキシド分子を互いに、ヒドロキシル化合
物と及び／又はビニルエーテル化合物と迅速に架橋させ
る。カチオン的に硬膜されるＵＶ系は通常これらの種類
のメンバーの化合物と配合される。
ティングの場合、光開始剤は露出されるとプロトン又は
カチオンを生成する。典型的な態様ではこのカチオンが
環状脂肪族エポキシド分子を互いに、ヒドロキシル化合
物と及び／又はビニルエーテル化合物と迅速に架橋させ
る。カチオン的に硬膜されるＵＶ系は通常これらの種類
のメンバーの化合物と配合される。
【００４６】ＵＶ硬膜のための代替として電子ビーム硬
膜を用いることができる。電子の高いエネルギーの故
に、光開始剤の存在は必要でない。
膜を用いることができる。電子の高いエネルギーの故
に、光開始剤の存在は必要でない。
【００４７】記載される本発明の第１の実施態様の場
合、ＵＶ露出の層（３）に向かう出力距離（ｐｏｗｅｒ
ｄｉｓｔａｎｃｅ）及び露出時間は、好ましくは垂直
な硬膜勾配が得られ、より硬い部分が層（３）の表面に
位置し、より軟かい部分が薄い金属層に隣接するような
やり方で最適化される。層の内部は、それが比較的軟か
く、弾性であるために、露出された部分において約１〜
１．５μｍの直径を有する比較的大きなビスマス球の形
成を促進するであろう。そのような比較的大きな微小球
は、比較的小さい比表面積に対応して、低いＤｍｉｎを
得るために好ましいということが容易に理解されるであ
ろう。層の最上に位置する硬膜勾配の硬い外部は優れた
物理的保護を保証する。
合、ＵＶ露出の層（３）に向かう出力距離（ｐｏｗｅｒ
ｄｉｓｔａｎｃｅ）及び露出時間は、好ましくは垂直
な硬膜勾配が得られ、より硬い部分が層（３）の表面に
位置し、より軟かい部分が薄い金属層に隣接するような
やり方で最適化される。層の内部は、それが比較的軟か
く、弾性であるために、露出された部分において約１〜
１．５μｍの直径を有する比較的大きなビスマス球の形
成を促進するであろう。そのような比較的大きな微小球
は、比較的小さい比表面積に対応して、低いＤｍｉｎを
得るために好ましいということが容易に理解されるであ
ろう。層の最上に位置する硬膜勾配の硬い外部は優れた
物理的保護を保証する。
【００４８】本発明の第２の好ましい態様の場合、
（３）は４０℃より高いＴgを有する硬質ポリマー性上
層（３ａ）及び２５℃より低いＴgを有する軟質ポリマ
ー性下層（３ｂ）から成る二重層集合体である。そのよ
うな層配置により、硬膜勾配を示す単層を用いる態様の
場合と同じ好ましい物理的条件が得られる：軟質の媒体
はビスマス層に接触して所望の型のビスマス球の形成を
可能にし、硬質の表面は優れた物理的保護を保証する。
（３）は４０℃より高いＴgを有する硬質ポリマー性上
層（３ａ）及び２５℃より低いＴgを有する軟質ポリマ
ー性下層（３ｂ）から成る二重層集合体である。そのよ
うな層配置により、硬膜勾配を示す単層を用いる態様の
場合と同じ好ましい物理的条件が得られる：軟質の媒体
はビスマス層に接触して所望の型のビスマス球の形成を
可能にし、硬質の表面は優れた物理的保護を保証する。
【００４９】２５℃未満のガラス転移温度（Ｔｇ）を有
するポリマーは当該技術分野における熟練者に既知であ
り、それらのいくつかはＪｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｈｅ
ｍｉｃａｌ Ｅｄｕｃａｔｉｏｎ，Ｖｏｌ．６１，Ｎｕ
ｍｂｅｒ ８，Ａｕｇｕｓｔ１９８４，ｐ．６６８にお
いて“Ａｎ Ｏｖｅｒｖｉｅｗ ｏｆ ｔｈｅ Ｇｌａ
ｓｓ Ｔｒａｎｓｉｔｉｏｎ Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ
ｏｆ Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｐｏｌｙｍｅｒｓ”とい
う文献に記載されている。そのようなポリマーの例はポ
リオレフィン、例えばポリエチレン又はポリ（１−ブテ
ン）、エチレン−酢酸ビニルコポリマー、エチレン−ア
クリル酸（エステル）コポリマー、スチレン−ブタジエ
ンコポリマー、脂肪族炭素鎖を有するポリアミド又はポ
リエステル、例えばポリ（エチレンアジペート）から成
る群より選ばれる。
するポリマーは当該技術分野における熟練者に既知であ
り、それらのいくつかはＪｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｈｅ
ｍｉｃａｌ Ｅｄｕｃａｔｉｏｎ，Ｖｏｌ．６１，Ｎｕ
ｍｂｅｒ ８，Ａｕｇｕｓｔ１９８４，ｐ．６６８にお
いて“Ａｎ Ｏｖｅｒｖｉｅｗ ｏｆ ｔｈｅ Ｇｌａ
ｓｓ Ｔｒａｎｓｉｔｉｏｎ Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ
ｏｆ Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｐｏｌｙｍｅｒｓ”とい
う文献に記載されている。そのようなポリマーの例はポ
リオレフィン、例えばポリエチレン又はポリ（１−ブテ
ン）、エチレン−酢酸ビニルコポリマー、エチレン−ア
クリル酸（エステル）コポリマー、スチレン−ブタジエ
ンコポリマー、脂肪族炭素鎖を有するポリアミド又はポ
リエステル、例えばポリ（エチレンアジペート）から成
る群より選ばれる。
【００５０】好ましい態様の場合、ポリマー性軟質層
（３ｂ）はポリアクリレート、アクリレートのコポリマ
ー、ポリ（酢酸ビニル）及び酢酸ビニルのコポリマーか
ら選ばれるポリマーを含む。
（３ｂ）はポリアクリレート、アクリレートのコポリマ
ー、ポリ（酢酸ビニル）及び酢酸ビニルのコポリマーか
ら選ばれるポリマーを含む。
【００５１】好ましい態様では、硬質最上ポリマー層
（３ａ）の主成分を構成するポリマーはポリビニルピロ
リドン、ポリエチレン（例えばＰｏｌｙ−ＥＭ−４０、
Ｃｏｓｄｅｎ Ｐｅｔｒｏｌ Ｃｏ．）、コポリ（アク
リル酸エチル−メタクリル酸）、ポリビニルアルコー
ル、硬化ポリビニルアルコール、ゼラチン、硬化ゼラチ
ン、自己架橋性アクリル／ポリウレタン混成分散液（例
えばＵＣＢから入手可能なＵＣＥＣＯＡＴＥＳ ＤＷ
５０００シリーズ）から選ばれる。これらのポリマーは
水溶液又は水性分散液からコーティングされる。
（３ａ）の主成分を構成するポリマーはポリビニルピロ
リドン、ポリエチレン（例えばＰｏｌｙ−ＥＭ−４０、
Ｃｏｓｄｅｎ Ｐｅｔｒｏｌ Ｃｏ．）、コポリ（アク
リル酸エチル−メタクリル酸）、ポリビニルアルコー
ル、硬化ポリビニルアルコール、ゼラチン、硬化ゼラチ
ン、自己架橋性アクリル／ポリウレタン混成分散液（例
えばＵＣＢから入手可能なＵＣＥＣＯＡＴＥＳ ＤＷ
５０００シリーズ）から選ばれる。これらのポリマーは
水溶液又は水性分散液からコーティングされる。
【００５２】最上層のための他の適した硬質ポリマー性
結合剤にはポリメチルメタクリレート、ニトロセルロー
ス及びポリビニルブチラールが含まれ、それらは有機溶
媒からコーティングされる。
結合剤にはポリメチルメタクリレート、ニトロセルロー
ス及びポリビニルブチラールが含まれ、それらは有機溶
媒からコーティングされる。
【００５３】本発明の基礎は、層（３）あるいは層（３
ａ）及び（３ｂ）の少なくとも１つ、好ましくは両方の
中に０．５〜２０μｍの平均粒度及び０．１〜５ｍｌ／
ｇの比細孔容積を有する多孔質粒子が存在することであ
る。最も好ましい態様の場合、平均粒度は３〜７μｍに
含まれ、比細孔容積は１．０〜４．０ｍｌ／ｇに含まれ
る。
ａ）及び（３ｂ）の少なくとも１つ、好ましくは両方の
中に０．５〜２０μｍの平均粒度及び０．１〜５ｍｌ／
ｇの比細孔容積を有する多孔質粒子が存在することであ
る。最も好ましい態様の場合、平均粒度は３〜７μｍに
含まれ、比細孔容積は１．０〜４．０ｍｌ／ｇに含まれ
る。
【００５４】最も多孔質の粒子が最も有効である。多孔
質粒子は強いレーザー露出の間に金属層における有機物
質の熱的分解のために生成する気体の除去のための１種
の煙突又は緩衝溜として働くと思われる。
質粒子は強いレーザー露出の間に金属層における有機物
質の熱的分解のために生成する気体の除去のための１種
の煙突又は緩衝溜として働くと思われる。
【００５５】好ましい結晶性多孔質粒子はシリカ粒子で
ある。好ましい型のシリカ粒子はＧＲＡＣＥ Ｃｏ．に
より製造されるＳＹＬＯＩＤ １６１及び２４４ならび
にＣｒｏｓｆｉｅｌｄ Ｃｈｅｍｉｅ ＢＶからのＧＡ
ＳＩＬ及びＣＲＯＳＦＩＥＬＤ ＨＰ２００型である。
ある。好ましい型のシリカ粒子はＧＲＡＣＥ Ｃｏ．に
より製造されるＳＹＬＯＩＤ １６１及び２４４ならび
にＣｒｏｓｆｉｅｌｄ Ｃｈｅｍｉｅ ＢＶからのＧＡ
ＳＩＬ及びＣＲＯＳＦＩＥＬＤ ＨＰ２００型である。
【００５６】他の好ましい型の多孔質粒子は、架橋され
たシリコンビーズであるＴＯＳＰＥＡＲＬ １０３（Ｔ
ｏｓｈｉｂａ Ｓｉｌｉｃｏｎｅ Ｃｏ．）である。
たシリコンビーズであるＴＯＳＰＥＡＲＬ １０３（Ｔ
ｏｓｈｉｂａ Ｓｉｌｉｃｏｎｅ Ｃｏ．）である。
【００５７】本発明の材料を用いるヒートモード画像の
形成のために、この特定の画像形成法のために十分な熱
を生むのに必要な十分なエネルギーを与えるいずれのレ
ーザーも用いることができる。好ましい実施態様では強
力赤外レーザー、最も好ましくはＮｄ−ＹＬＦレーザー
又はダイオードレーザーが用いられる。
形成のために、この特定の画像形成法のために十分な熱
を生むのに必要な十分なエネルギーを与えるいずれのレ
ーザーも用いることができる。好ましい実施態様では強
力赤外レーザー、最も好ましくはＮｄ−ＹＬＦレーザー
又はダイオードレーザーが用いられる。
【００５８】ここで以下の実施例により本発明を例示す
るが、本発明はそれに制限されるものではない。
るが、本発明はそれに制限されるものではない。
【００５９】
【実施例】実施例１ この実施例は（３）が軟質及び硬質ポリマー層から成る
二重層パックである実施態様を例示する。コーティングされるビスマス分散液の調製 以下の溶液を調製した：
二重層パックである実施態様を例示する。コーティングされるビスマス分散液の調製 以下の溶液を調製した：
【００６０】
【表１】
【００６１】
【表２】
【００６２】
【表３】 ４０℃に保たれ、４５０ｒｐｍで撹拌されている溶液３
に溶液１を２００ｍｌ／分の流量で、１１２．５ｍｌ／
分における溶液２と同時に加えた。還元の後、ビスマス
分散液をＦｒｅｓｅｎｉｕｓ Ｆ６０カートリッジを介
して限外濾過し、水／エタノール（９８．５／１．５）
中のヘキサメタリン酸ナトリウムの０．２％溶液を用い
て透析した。
に溶液１を２００ｍｌ／分の流量で、１１２．５ｍｌ／
分における溶液２と同時に加えた。還元の後、ビスマス
分散液をＦｒｅｓｅｎｉｕｓ Ｆ６０カートリッジを介
して限外濾過し、水／エタノール（９８．５／１．５）
中のヘキサメタリン酸ナトリウムの０．２％溶液を用い
て透析した。
【００６３】分散液を撹拌し、４ｇのアスコルビン酸、
水／エタノール（８０／２０）中のＳａｐｏｎｉｎｅ
Ｑｕｉｌｌａｙａ（Ｓｃｈｍｉｔｔｍａｎｎ）の１２．
５％溶液の１０ｍｌを加えた。
水／エタノール（８０／２０）中のＳａｐｏｎｉｎｅ
Ｑｕｉｌｌａｙａ（Ｓｃｈｍｉｔｔｍａｎｎ）の１２．
５％溶液の１０ｍｌを加えた。
【００６４】続いてこの分散液を支持体化されたＰＥＴ
箔上にコーティングし、３．５の濃度（Ｍａｃｂｅｔｈ
光学的デンシトメーター）を得た。コーティングされた試料の製造 ビスマス層上に２つの保護層をコーティングした：レー
ザー照射されると所望のビスマスビーズが生成すること
を可能にするための低いＴgを有する層（３ｂ）ならび
に材料に十分な物理的保護を与えるための高いＴgを有
する最上層（３ａ）。
箔上にコーティングし、３．５の濃度（Ｍａｃｂｅｔｈ
光学的デンシトメーター）を得た。コーティングされた試料の製造 ビスマス層上に２つの保護層をコーティングした：レー
ザー照射されると所望のビスマスビーズが生成すること
を可能にするための低いＴgを有する層（３ｂ）ならび
に材料に十分な物理的保護を与えるための高いＴgを有
する最上層（３ａ）。
【００６５】第１の保護層（３ｂ）は商業的に入手可能
な１℃のＴgを有するフィルム形成性ラテックスＮｅｏ
ｃｒｙｌ ＢＴ９（Ｚｅｎｉｃａ Ｒｅｓｉｎｓ−Ｗａ
ａｌｗｉｊｋ，Ｔｈｅ Ｎｅｔｈｅｒｌａｎｄから）で
あり、最上層（３ａ）はコポリ（アクリル酸エチル−メ
タクリル酸）（２０／８０）であった。各保護層の厚さ
は３μｍであった。
な１℃のＴgを有するフィルム形成性ラテックスＮｅｏ
ｃｒｙｌ ＢＴ９（Ｚｅｎｉｃａ Ｒｅｓｉｎｓ−Ｗａ
ａｌｗｉｊｋ，Ｔｈｅ Ｎｅｔｈｅｒｌａｎｄから）で
あり、最上層（３ａ）はコポリ（アクリル酸エチル−メ
タクリル酸）（２０／８０）であった。各保護層の厚さ
は３μｍであった。
【００６６】数種の商業的に入手可能なシリカ粒子を層
に加えた。これらの粒子の規格を以下の表に示す：
に加えた。これらの粒子の規格を以下の表に示す：
【００６７】
【表４】 それぞれの実験において、シリカ粒子の合計量は０．３
ｇ／ｍ2であった。得られる材料を１０６４ｎｍで発光
するＮｄＹＬＦレーザーにより露出した。画像面の出力
は３５０ｍＷに設定した。４．４ｍ／秒の走査速度にお
いて１６μｍのスポットサイズを８μｍのピッチと一緒
に用いた。結果を下記の表に示す。
ｇ／ｍ2であった。得られる材料を１０６４ｎｍで発光
するＮｄＹＬＦレーザーにより露出した。画像面の出力
は３５０ｍＷに設定した。４．４ｍ／秒の走査速度にお
いて１６μｍのスポットサイズを８μｍのピッチと一緒
に用いた。結果を下記の表に示す。
【００６８】
【表５】 （＊）このテストはＴＴ４１２２ ＴＥＳＡテープを用
いて行った。
いて行った。
【００６９】表は、保護ポリマー層のビスマス層への接
着の促進及び気体の泡の形成の減少においてシリカ粒子
が有効であることを示している。表はさらに粒子は、そ
れが両方の層（３ａ）及び（３ｂ）中に存在する場合に
最も有効であることを示している。
着の促進及び気体の泡の形成の減少においてシリカ粒子
が有効であることを示している。表はさらに粒子は、そ
れが両方の層（３ａ）及び（３ｂ）中に存在する場合に
最も有効であることを示している。
【００７０】実施例２この実施例は、（３）が放射線に
より硬膜される単層である実施態様を例示する。コーティングされるビスマス分散液の調製 実施例１を参照されたい。コーティングされた試料の製造 ビスマス層上に環状脂肪族エポキシドに基づくＵＶ−硬
膜可能なカチオン性系の保護層をコーティングした。こ
れらのコーティングの組成は以下の通りであった：
より硬膜される単層である実施態様を例示する。コーティングされるビスマス分散液の調製 実施例１を参照されたい。コーティングされた試料の製造 ビスマス層上に環状脂肪族エポキシドに基づくＵＶ−硬
膜可能なカチオン性系の保護層をコーティングした。こ
れらのコーティングの組成は以下の通りであった：
【００７１】
【表６】 コーティングされた層をＴＥＣＨＮＩＧＲＡＰＨ ＵＶ
−２８／１ Ｌｉｇｈｔ Ｓｙｓｔｅｍ型において、４
０Ｗ／ｃｍ2の出力及び３ｍ／分の速度でＵＶ−装置下
で硬膜した。実施例２．１及び２．２の場合、ＴＯＳＰ
ＥＡＲＬの合計量は０．３ｇ／ｍ2であった。
−２８／１ Ｌｉｇｈｔ Ｓｙｓｔｅｍ型において、４
０Ｗ／ｃｍ2の出力及び３ｍ／分の速度でＵＶ−装置下
で硬膜した。実施例２．１及び２．２の場合、ＴＯＳＰ
ＥＡＲＬの合計量は０．３ｇ／ｍ2であった。
【００７２】得られる材料を１０６４ｎｍで発光するＮ
ｄＹＬＦレーザーにより露出した。画像面の出力は３５
０ｍＷに設定した。４．４ｍ／秒の走査速度において１
６μｍのスポットサイズを８μｍのピッチと一緒に用い
た。結果を下記の表に示す。
ｄＹＬＦレーザーにより露出した。画像面の出力は３５
０ｍＷに設定した。４．４ｍ／秒の走査速度において１
６μｍのスポットサイズを８μｍのピッチと一緒に用い
た。結果を下記の表に示す。
【００７３】
【表７】 （＊）このテストはＴＥＳＡ ４１２２テープを用いて
行った。
行った。
【００７４】表は、架橋されたシリコンビーズが気体の
泡の形成の減少に有効であることを示している。本発明
の主たる特徴及び態様は以下の通りである。
泡の形成の減少に有効であることを示している。本発明
の主たる特徴及び態様は以下の通りである。
【００７５】１．（１）場合により下塗りされているこ
とができる透明支持体、（２）金属粒子を含有する水溶
液からコーティングされる薄い金属層、（３）コーティ
ングされる最上単層又は二重層集合体をこの順序で含む
ヒートモード記録材料であって、該最上単層又は該二重
層集合体の少なくとも１層が０．５〜２０μｍの平均寸
法及び０．１〜５ｍｌ／ｇの比細孔容積を有する多孔質
粒子を含有することを特徴とするヒートモード記録材
料。
とができる透明支持体、（２）金属粒子を含有する水溶
液からコーティングされる薄い金属層、（３）コーティ
ングされる最上単層又は二重層集合体をこの順序で含む
ヒートモード記録材料であって、該最上単層又は該二重
層集合体の少なくとも１層が０．５〜２０μｍの平均寸
法及び０．１〜５ｍｌ／ｇの比細孔容積を有する多孔質
粒子を含有することを特徴とするヒートモード記録材
料。
【００７６】２．（３）が照射により硬膜される単層で
ある上記１項に記載のヒートモード記録材料。
ある上記１項に記載のヒートモード記録材料。
【００７７】３．該硬膜される層（３）が垂直硬膜勾配
を示し、より硬い部分が該層（３）の表面に位置し、よ
り軟かい部分が薄い金属層（２）に隣接する上記２項に
記載のヒートモード記録材料。
を示し、より硬い部分が該層（３）の表面に位置し、よ
り軟かい部分が薄い金属層（２）に隣接する上記２項に
記載のヒートモード記録材料。
【００７８】４．該放射線が紫外線である上記２又は３
項に記載のヒートモード記録材料。
項に記載のヒートモード記録材料。
【００７９】５．（３）が二重層集合体であり、上層
（３ａ）が４０℃より高いガラス転移温度Ｔgを有する
硬質ポリマー層であり、下層（３ｂ）が２５℃より低い
ガラス転移温度Ｔgを有する軟質ポリマー層である上記
１項に記載のヒートモード記録材料。
（３ａ）が４０℃より高いガラス転移温度Ｔgを有する
硬質ポリマー層であり、下層（３ｂ）が２５℃より低い
ガラス転移温度Ｔgを有する軟質ポリマー層である上記
１項に記載のヒートモード記録材料。
【００８０】６．該硬質上層（３ａ）がコポリ（アクリ
ル酸エチル−メタクリル酸）、ポリビニルアルコール、
硬化ポリビニルアルコール、ゼラチン及び硬化ゼラチン
から成る群より選ばれるポリマーを含む上記５項に記載
のヒートモード記録材料。
ル酸エチル−メタクリル酸）、ポリビニルアルコール、
硬化ポリビニルアルコール、ゼラチン及び硬化ゼラチン
から成る群より選ばれるポリマーを含む上記５項に記載
のヒートモード記録材料。
【００８１】７．該軟質下層（３ｂ）がポリアクリレー
ト、アクリレートのコポリマー、ポリ（酢酸ビニル）及
び酢酸ビニルのコポリマーから成る群より選ばれるポリ
マーを含む上記５項に記載のヒートモード記録材料。
ト、アクリレートのコポリマー、ポリ（酢酸ビニル）及
び酢酸ビニルのコポリマーから成る群より選ばれるポリ
マーを含む上記５項に記載のヒートモード記録材料。
【００８２】８．該結晶性多孔質粒子が層（３ａ）及び
（３ｂ）の両方に存在する上記５〜７項のいずれかに記
載のヒートモード記録材料。
（３ｂ）の両方に存在する上記５〜７項のいずれかに記
載のヒートモード記録材料。
【００８３】９．該多孔質粒子がシリカ粒子である上記
１〜８項のいずれかに記載のヒートモード記録材料。
１〜８項のいずれかに記載のヒートモード記録材料。
【００８４】１０．金属粒子を含む該水溶液を以下の段
階： （ａ）該金属のイオンを含有する水溶液を調製し、
（ｂ）該金属イオンを還元剤により還元し、かくして金
属粒子を生成させることにより調製する上記１〜９項の
いずれかに記載のヒートモード記録材料。
階： （ａ）該金属のイオンを含有する水溶液を調製し、
（ｂ）該金属イオンを還元剤により還元し、かくして金
属粒子を生成させることにより調製する上記１〜９項の
いずれかに記載のヒートモード記録材料。
【００８５】１１．該金属層がビスマス層であり、該金
属粒子がビスマス粒子である上記１〜１０項のいずれか
に記載のヒートモード記録要素。
属粒子がビスマス粒子である上記１〜１０項のいずれか
に記載のヒートモード記録要素。
【００８６】１２．該ビスマス粒子の平均粒度が１０〜
２００ｎｍに含まれる上記１１項に記載のヒートモード
記録材料。
２００ｎｍに含まれる上記１１項に記載のヒートモード
記録材料。
【００８７】１３．上記１〜１２項のいずれかに定義さ
れているヒートモード記録材料を情報通りにレーザー線
に露出することを含むヒートモード画像の形成方法。
れているヒートモード記録材料を情報通りにレーザー線
に露出することを含むヒートモード画像の形成方法。
【００８８】１４．該レーザーが赤外レーザーである上
記１３項に記載の方法。
記１３項に記載の方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ニコラース・ド・イエガー ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内 (72)発明者 エデイー・デムス ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内 (72)発明者 ヒーロニムス・アンドリーセン ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内
Claims (2)
- 【請求項１】 （１）場合により下塗りされていること
ができる透明支持体、 （２）金属粒子を含有する水溶液からコーティングされ
る薄い金属層、 （３）コーティングされる最上単層又は二重層集合体を
この順序で含むヒートモード記録材料であって、該最上
単層又は該二重層集合体の少なくとも１層が０．５〜２
０μｍの平均寸法及び０．１〜５ｍｌ／ｇの比細孔容積
を有する多孔質粒子を含有することを特徴とするヒート
モード記録材料。 - 【請求項２】 請求項１に定義されているヒートモード
記録材料を情報通りにレーザー線に露出することを特徴
とするヒートモード画像の形成方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE97203858.2 | 1997-12-09 | ||
| EP19970203858 EP0923072B1 (en) | 1997-12-09 | 1997-12-09 | Heat mode recording material based on a thin metal layer |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11263070A true JPH11263070A (ja) | 1999-09-28 |
Family
ID=8229032
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10348944A Pending JPH11263070A (ja) | 1997-12-09 | 1998-12-08 | 薄い金属層に基づくヒートモード記録材料 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0923072B1 (ja) |
| JP (1) | JPH11263070A (ja) |
| DE (1) | DE69713342D1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006064932A1 (en) * | 2004-12-15 | 2006-06-22 | Ricoh Company, Ltd. | Write-once-read-many optical recording medium |
| JP2008201050A (ja) * | 2007-02-21 | 2008-09-04 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | レーザー光線発色シート |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4590758B2 (ja) | 2000-04-10 | 2010-12-01 | Ｔｄｋ株式会社 | 光情報媒体 |
| US6944114B2 (en) * | 2002-12-17 | 2005-09-13 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Contact probe storage device including conductive readout medium |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0619852B2 (ja) * | 1985-12-13 | 1994-03-16 | ダイセル化学工業株式会社 | 高密度記録媒体 |
| GB8821181D0 (en) * | 1988-09-09 | 1988-10-12 | Ici America Inc | Improved reaction injection moulding compositions |
| JPH01287841A (ja) * | 1988-05-14 | 1989-11-20 | Hitachi Maxell Ltd | 光情報記録媒体 |
| JP3004328B2 (ja) * | 1990-08-22 | 2000-01-31 | 帝人株式会社 | 書換え可能な有機光記録媒体 |
| US5599649A (en) * | 1994-03-31 | 1997-02-04 | Tdk Corporation | Optical recording medium |
-
1997
- 1997-12-09 DE DE69713342T patent/DE69713342D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-12-09 EP EP19970203858 patent/EP0923072B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-12-08 JP JP10348944A patent/JPH11263070A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006064932A1 (en) * | 2004-12-15 | 2006-06-22 | Ricoh Company, Ltd. | Write-once-read-many optical recording medium |
| US8163366B2 (en) | 2004-12-15 | 2012-04-24 | Ricoh Company, Ltd. | Write-once-read-many optical recording medium |
| JP2008201050A (ja) * | 2007-02-21 | 2008-09-04 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | レーザー光線発色シート |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0923072B1 (en) | 2002-06-12 |
| EP0923072A1 (en) | 1999-06-16 |
| DE69713342D1 (de) | 2002-07-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0472712B2 (ja) | ||
| JPH11263070A (ja) | 薄い金属層に基づくヒートモード記録材料 | |
| EP1039457B1 (en) | Optical information recording medium | |
| JPH07329425A (ja) | 保護されたヒートモード記録材料の製造方法 | |
| US5962181A (en) | Process for the preparation of a metal heat mode recording element | |
| JPH11268418A (ja) | ヒートモード記録要素の製造法 | |
| TWI254303B (en) | Information medium | |
| US6187508B1 (en) | Heat mode recording element based on a thin metal layer | |
| JP2000084397A (ja) | 高度に分散された金属合金の製造法 | |
| US6162493A (en) | Process for the preparation of a heat mode recording element | |
| EP0980764B1 (en) | Heat mode recording element based on a thin metal layer | |
| JP2879142B2 (ja) | 金属ヒートモード記録材料の製造方法 | |
| EP0803376B1 (en) | Process for the preparation of a metal heat mode recording element | |
| JP4154137B2 (ja) | 光情報記録媒体および情報の記録方法 | |
| JP2002524324A (ja) | 蛍光ｗｏｒｍディスク用の有機記録媒体 | |
| JP2003001096A (ja) | 超音波を用いる金属カルコゲナイドコロイド粒子の合成法および該粒子含有光記録媒体 | |
| JPH0336409B2 (ja) | ||
| JPH0442224A (ja) | 光および熱記録材料 | |
| JPS62249794A (ja) | 光記録媒体 | |
| JP2004030769A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JPS62246785A (ja) | 光記録方法及び光記録媒体 | |
| JPS5883345A (ja) | 光学的情報記録媒体 | |
| JP2003178488A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPH10324060A (ja) | 水性媒体からコーテイングされた薄い金属記録層 | |
| JP2002245670A (ja) | 光記録媒体および光記録方法 |