JPH11255997A - アクリル系エラストマー組成物 - Google Patents
アクリル系エラストマー組成物Info
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- JPH11255997A JPH11255997A JP10082593A JP8259398A JPH11255997A JP H11255997 A JPH11255997 A JP H11255997A JP 10082593 A JP10082593 A JP 10082593A JP 8259398 A JP8259398 A JP 8259398A JP H11255997 A JPH11255997 A JP H11255997A
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Abstract
系エラストマーの組成物であって、加硫速度を低下させ
ることなく、耐スコーチ性、特に高温における耐スコー
チ性を改善せしめたものを提供する。 【解決手段】 カルボキシル基含有アクリル系エラスト
マーに、ブロック化イソシアネートおよび好ましくは更
に加硫促進剤としてのグアニジン類、4級オニウム塩
類、3級アミン類または3級ホスフィン類を配合したアク
リル系エラストマー組成物。
Description
トマー組成物に関する。更に詳しくは、耐スコーチ性を
改善させたカルボキシル基含有アクリル系エラストマー
組成物に関する。
油性などにすぐれているため、シール材、ホース、電気
部品等の加硫成形材料として広く用いられている。こう
した用途に用いられるアクリル系エラストマーにあって
は、そこに共重合されている架橋性モノマーの種類や架
橋剤の種類によって、加硫物の物性が大きく変化する。
マーを有するアクリル系エラストマーをイオウ(供与体)
で加硫した場合、加硫速度は速いが、分子中に不飽和結
合を有するため耐熱性や耐候性に劣り、また加硫時に生
成する硫化物によって金型の腐食がみられる。また、エ
ポキシ基を架橋サイトとするアクリル系エラストマー
は、加硫速度が遅いばかりではなく、二次加硫前後での
常態物性の変化が大きく、耐熱性や圧縮永久歪特性の点
でも劣っている。
ル系エラストマーについては、一般にアミン加硫が行わ
れており、加硫物は常態物性や圧縮永久歪特性などの点
ですぐれてはいるが、スコーチタイムが短かいという欠
点を有している。近年、生産性の向上を目的として、成
形法としてインジェクション成形法が用いられることが
多くなっており、かかる成形法においては、耐スコーチ
性が非常に重要な材料特性の一つとなってきており、ス
コーチタイムの延長要求が大きくなっている。また、加
工安定性についても、改善が求められている。
ボキシル基を架橋サイトとするアクリル系エラストマー
の組成物であって、常態物性、耐熱性、圧縮永久歪特性
などを低下させることなく、耐スコーチ性を改善せしめ
たものとして、カルボキシル基含有アクリル系エラスト
マーに、多官能性イソシアネート化合物および加硫促進
剤としてのグアニジン類、4級オニウム塩類、3級アミン
類または3級ホスフィン類を配合したアクリル系エラス
トマー組成物を提案している(特願平9-279958号)。
温での加硫速度が遅く、加硫速度を向上させるために高
温成形を行うことを考えた場合、耐スコーチ性について
は未だ十分とはいえない。
スコーチタイムが短く、スコーチタイムが長い加硫系で
は加硫速度が遅く、耐スコーチ性と加硫速度とを同時に
満足させることは困難とされており、これらを両立させ
ることがゴムの加硫成形における加工安定性にとって重
要な問題となっている。
となく、耐スコーチ性、特に高温における耐スコーチ性
を改善せしめた、カルボキシル基を架橋サイトとするア
クリル系エラストマーの組成物を提供することにある。
カルボキシル基含有アクリル系エラストマーに、ブロッ
ク化イソシアネートおよび好ましくは更に加硫促進剤と
してのグアニジン類、4級オニウム塩類、3級アミン類ま
たは3級ホスフィン類を配合したアクリル系エラストマ
ー組成物によって達成される。
るアクリル系エラストマーは、アルキルアクリレートお
よびアルコキシアルキルアクリレートの少くとも一種を
主成分とし、これにカルボキシル基含有不飽和化合物を
共重合させたものである。
〜8のアルキル基を有するアルキルアクリレート、例え
ばメチルアクリレート、エチルアクリレート、n-または
イソプロピルアクリレート、n-またはイソブチルアクリ
レート、n-アミルアクリレート、n-ヘキシルアクリレー
ト、2-エチルヘキシルアクリレート、n-オクチルアクリ
レート、2-シアノエチルアクリレート等が用いられ、好
ましくはエチルアクリレート、n-ブチルアクリレートが
用いられる。
2〜8のアルコキシアルキル基を有するアルコキシアルキ
ルアクリレート、例えばメトキシメチルアクリレート、
エトキシメチルアクリレート、2-メトキシエチルアクリ
レート、2-エトキシエチルアクリレート、2-ブトキシエ
チルアクリレート等が用いられ、好ましくは2-メトキシ
エチルアクリレート、2-エトキシエチルアクリレートが
用いられる。
コキシアルキルアクリレートは、モノマー混合物中約20
〜99.9重量%、好ましくは約40〜99重量%の割合で共重合
反応に用いられ、共重合反応の重合率が約90%以上であ
るので、モノマー混合割合がほぼ共重合割合となる。
は、例えばアクリル酸、メタクリル酸等のモノカルボン
酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸
等のジカルボン酸またはモノメチルマレエート、モノエ
チルマレエート、モノブチルマレエート、モノメチルフ
マレート、モノエチルフマレート、モノブチルフマレー
ト等のジカルボン酸モノエステルが用いられ、好ましく
はモノエチルマレエート、モノエチルフマレートが用い
られる。これらのカルボキシル基含有不飽和化合物は、
モノマー混合物中約0.1〜15重量%、好ましくは約1〜10
重量%の割合で用い、共重合せしめる。
ましくは約40重量%以下の割合で用いられた共重合可能
な不飽和化合物、例えば塩化ビニル、塩化ビニリデン、
アクリロニトリル、スチレン、酢酸ビニル、エチルビニ
ルエーテル、ブチルビニルエーテル、フェニル(メタ)ア
クリレート等のビニル化合物、エチレン、プロピレン等
のモノオレフィン、ブタジエン、イソプレン、クロロプ
レン等のジオレフィンを共重合させたものであってもよ
い。
系エラストマーには、ブロック化イソシアネートが添加
されて用いられる。
(NCO)n [ここで、Rはアルキル基、アルコキシル基、ア
リール基、アルキルアリール基またはアラルキル基であ
り、nは2以上の整数である]で表わされる多官能性イソ
シアネート化合物とブロック化剤とを反応させて得られ
た化合物である。
は、例えばo-トルイレンジイソシアネート、ナフチレン
-1,5-ジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシア
ネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、キシ
リレンジイソシアネート、トリス(p-イソシアネートフ
ェニル)チオホスファイト、ポリメチレンポリフェニル
ジイソシアネート、クロロフェニルジイソシアネート、
ジメトキシジフェニルジイソシアネート、ジメチルジフ
ェニレンジイソシアネート、テトラメチルジフェニレン
ジイソシアネート、ジフェニルジフェニレンジイソシア
ネート、ジクロロジフェニレンジイソシアネート、ジメ
トキシジフェニレンジイソシアネート、フェニレンジイ
ソシアネート、トルエンジイソシアネート、トランスビ
ニレンジイソシアネート、N,N′-(4,4′-ジメチル-3,
3′-ジフェニルジイソシアネート)ウレジオン、4,4′,
4″-トリメチル-3,3′,3″-トリイソシアネート-2,4,6-
トリフェニルシアヌレート、ヘキサメチレンジイソシア
ネート、イソホロンジイソシアネート、トリメチルヘキ
サメチレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン
ジイソシアネート、アダクト型ヘキサメチレンジイソシ
アネート、ビュレット型ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、イソシアヌレート型ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、アダクト型トリレンジイソシアネート、ビュレット
型トリレンジイソシアネート、イソシアヌレート型トリ
レンジイソシアネート等が挙げられる。
るブロック化剤としては、例えばジフェニルアミン、ビ
ス(ジメチルベンジル)ジフェニルアミン、メチルフェニ
ルアミン、エチルフェニルアミン、フェニルイソプロピ
ルアミン、フェニルナフチルアミン、ナフチルフェニレ
ンジアミン、ジフェニルフェニレンジアミン、ジナフチ
ルフェニレンジアミン、N-フェニル-N′-メチルフェニ
レンジアミン、N-フェニル-N′-エチルフェニレンジア
ミン、N-フェニル-N′-イソプロピルフェニレンジアミ
ン、アニリン、カルバゾール等のアミン類、フェノー
ル、クレゾール、キシレノール、p-エチルフェノール、
o-イソプロピルフェノール、p-第3ブチルフェノール、p
-第3オクチルフェノール、2,6-ジ第3ブチル-4-メチルフ
ェノール、2,6-ジ第3ブチル-4-エチルフェノール、メチ
レンビス(エチル-第3ブチルフェノール)、2,5-ジ第3ブ
チルハイドロキノン、チモール、ナフトール、ニトロフ
ェノール、クロロフェノール等のフェノール類、メタノ
ール、エタノール、ブロパノール、ブタノール、エチレ
ングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、
メチルカルビトール、ベンジルアルコール、フェニルセ
ロソルブ、シクロヘキサノール等のアルコール類、マロ
ン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、アセト酢酸エチル等
の活性メチレン類、ブチルメルカプタン、ラウリルメル
カプタン、チオフェノール等のメルカプタン類、アセト
アニリド、アセトアニシジド、酢酸アミド、ベンズアミ
ド、スルフェンアミド等のアミド類、コハク酸イミド、
マレイン酸イミド等のイミド類、イミダゾール、エチル
イミダゾール、メルカプトベンツイミダゾール等のイミ
ダゾール類、尿素、エチレン尿素、チオ尿素等の尿素
類、フェニルカルバミン酸フェニル、オキサゾリドン等
のカルバミン酸塩類、エチレンイミン等のイミン類、ホ
ルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、メチルエ
チルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシム等のオキ
シム類、ジフェニルグアニジン、ジトリルグアニジン、
トリルビグアニド等のグアニジン類、亜硫酸水酸化ナト
リウム、亜硫酸水素カリウム等の亜硫酸塩類、ε-カプ
ロラクタム等のラクタム類などが挙げられる。これらの
ブロック化剤は、多官能性イソシアネート化合物の場合
と同様に、分解温度などを考慮して選択される。
の少なくとも一種がアクリル系エラストマー100重量部
当り約0.1〜15重量部、好ましくは約0.2〜8重量部の割
合で用いられる。使用割合がこれ以下では、加硫トル
ク、常態物性および圧縮永久歪特性が低下し、一方これ
より多い割合で用いられると、スコーチ改善効果が小さ
くなる。
硫促進剤と併用されることが好ましく、かかる加硫促進
剤としては、グアニジン類、4級オニウム塩類、3級アミ
ン類または3級ホスフィン類の少くとも一種が用いられ
る。
その置換体、例えばアミノグアニジン、1,1,3,3-テトラ
メチルグアニジン、n-ドデシルグアニジン、メチロール
グアニジン、ジメチロールグアニジン、1-フェニルグア
ニジン、1,3-ジフェニルグアニジン、1,3-ジ-o-トリル
グアニジン、トリフェニルグアニジン、1-ベンジル-2,3
-ジメチルグアニジン、シアノグアニジン等が用いら
れ、この他1,6-グアニジノヘキサン、グアニル尿素、ビ
グアニド、1-o-トリルビグアニド等も用いられる。
わされる。 (R1R2R3R4N)+X- または (R1R2R3R4P)+X- R1〜R4:炭素数1〜25のアルキル基、アルコキシル基、ア
リール基、アルキルアリール基、アラルキル基またはポ
リオキシアルキレン基であり、あるいはこれらの内2〜3
個がNまたはPと共に複素環構造を形成することもでき
る。 X-:Cl-、Br-、I-、HSO4 -、H2PO4 -、RCOO-、ROSO2 -、CO3
-- 等のアニオン
ロマイド、テトラブチルアンモニウムクロライド、テト
ラブチルアンモニウムアイオダイド、テトラエチルアン
モニウムブロマイド、テトラエチルクロライド、テトラ
エチルアイオダイド、n-ドデシルトリメチルアンモニウ
ムブロマイド、オクタデシルトリメチルアンモニウムブ
ロマイド、トリメチルベンジルアンモニウムブロマイ
ド、セチルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、
セチルピリジウムブロマイド、セチルピリジウムサルフ
ェート、テトラエチルアンモニウムアセテート、トリメ
チルベンジルアンモニウムベンゾエート、トリメチルベ
ンジルアンモニウムボレート、5-ベンジル-1,5-ジアザ
ビシクロ[4,3,0]-5-ノネニウムクロライド、5-ベンジル
-1,5-ジアザビシクロ[4,3,0]-5-ノネニウムテトラフル
オロボレート等の4級アンモニウム塩類、またはテトラ
フェニルホスホニウムクロライド、ベンジルトリフェニ
ルホスホニウムブロマイド、ベンジルトリフェニルホス
ホニウムクロライド、トリフェニルメトキシメチルホス
ホニウムクロライド、トリフェニルメチルカルボニルメ
チルホスホニウムクロライド、トリフェニルエトキシカ
ルボニルメチルホスホニウムクロライド、トリオクチル
ベンジルホスホニウムクロライド、トリオクチルメチル
ホスホニウムクロライド、トリオクチルエチルホスホニ
ウムアセテート、テトラオクチルホスホニウムクロライ
ド、トリオクチルエチルホスホニウムジメチルホスフェ
ート等の4級ホスホニウム塩類が用いられる。
アミン、トリブチルアミン、ジエチルシクロヘキシルア
ミン、ジメチルラウリルアミン、テトラメチルエチレン
ジアミン、テトラメチルプロピレンジアミン、テトラメ
チルヘキサメチレンジアミン、N,N-ジメチルベンジルア
ミン、トリフェニルアミン、トリエチレンジアミン、ヘ
キサメチレンテトラミン、ペンタメチルジエチレントリ
アミン、ヘキサメチルトリエチレンテトラミン、1,8-ジ
アザ-ビシクロ[5,4,0]ウンデセン-7、N,N-ジメチルアニ
リン、N,N-ジエチルアニリン、ピリジンおよびその置換
体、ピロールおよびその置換体、メチルモルホリン、エ
チルモルホリン、ジメチルピペラジン、ジエチルピペラ
ジン等が用いられる。
リフェニルホスフィン、トリ(メチルフェニル)ホスフ
ィン等が用いられる。
有アクリル系エラストマー100重量部当り約15重量部以
下、好ましくは約1〜10重量部の割合で用いられる。加
硫促進剤を併用した方が、耐スコーチ性の改善効果はよ
り顕著となる。
マー組成物の調製は、そこに老化防止剤、軟化剤、分散
剤、加工助剤、滑剤等を必要に応じて添加し、バンバリ
ーミキサ、オープンロール等が混練することによって行
われる。混練物の加硫は、約160〜220℃で約0.5〜15分
間加熱することによって行われ、必要に応じて約150〜2
00℃で約1〜20時間のオーブン加硫(二次加硫)が行われ
る。
成物は、先に提案された組成物において、多官能性イソ
シアネート化合物の代りに、それのブロック化物を用い
ることにより、加硫速度をかえって高めながら耐スコー
チ性、特に高温での耐スコーチ性を改善せしめており、
また100%モジュラス値の改善も行われている。このよう
な改善効果は、ブロック化イソシアネートと共に加硫促
進剤を併用した場合に顕著にみられる。また、加工安定
性の点も良好である。
重量%、2-メトキシエチルアクリレート20重量%およびモ
ノエチルマレエート4重量%よりなるモノマー混合物を共
重合させて得られたアクリル系エラストマーA100部(重
量、以下同じ)に、 FEFカーボンブラック 65部 ステアリン酸 1部 4,4′-ビス(α,α-ジメチルベンジル)ジフェニルアミン 2部 (大内新興化学製品ノクラックCD) 加工助剤(東邦化学製品ホスファノールRL-210) 0.5部 ブロック化イソシアネート(住友バイエルウレタン製品 3部 デスモジュールTPLS-2957) ジ-o-トリルグアニジン 2部 を添加し、オープンロールで混練した。混練物につい
て、180℃、8分間のプレス加硫を行った後、175℃、15
時間のオーブン加硫を行った。
の測定および評価が行われた。 スコーチタイムt5:混練物のムーニースコーチ 加硫速度Tc90:最大トルクの90%に達する迄の時間をキュ
ラストメ−タで測定 常態物性:JIS K-6301に準拠 圧縮永久歪:JIS K-6301に準拠 加工性:200℃、1分間のプレス加硫シート(厚さ2mm)につ
いて測定し、平面が平滑で荒れのないものを○、発泡や
荒れのあるものを×と評価した
変更した。
住友バイエルウレタン製品クラレンVPLS-2256が2.5重量
部用いられた。
ブロック化ヘキサメチレンジイソシアネート(ジ-o-トリ
ルグアニジンとヘキサメチレンジイソシアネートとから
合成されたブロック化イソシアネート)4重量部ガ用いら
れ、ジ-o-トリルグアニジンが用いられなかった。
ヘキサメチレンジイソシアネート1重量部が用いられ、o
-トリルグアニジン量が4重量部に変更された。
ジアミノジフェニルエーテルが0.7重量部用いられ、o-
トリルグアニジン量が0.7重量部に変更された。
エチルアクリレート48重量%、n-ブチルアクリレート30
重量%、2-メトキシエチルアクリレート20重量%およびグ
リシジルメタクリレート2重量%よりなるモノマー混合物
から共重合されたアクリル系エラストマーBが用いら
れ、またブロック化イソシアネートおよびジ-o-トリル
グアニジンの代りに、ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛
(大内新興化学製品ノクセラーPZ)2重量部およびジメチ
ルジチオカルバミン酸第2鉄(同社製品ノクセラーTTFE)1
重量部が用いられた。なお、二次加硫時間は4時間に変
更された。
エチルアクリレート47重量%、n-ブチルアクリレート30
重量%、2-メトキシエチルアクリレート20重量%およびビ
ニルクロロアセテート3重量%よりなるモノマー混合物か
ら共重合されたアクリル系エラストマーCが用いられ、
またブロック化イソシアネートおよびジ-o-トリルグア
ニジンの代りに2,4,6-トリメルカプト-s-トリアジン(大
内新興化学製品ノクセラーTCA)0.5部およびジブチルジ
チオカルバミン酸亜鉛(同社製品ノクセラーBZ)1.5部が
用いられた。なお、二次加硫時間は4時間に変更され
た。
結果は、次の表に示される。 表 実施例 比較例 測定、評価項目 1 2 3 4 1 2 3 4 [耐スコーチ性t5] 125℃ (分) >30 >30 >30 17.5 12.7 6.5 9.2 5.6 135℃ (分) >30 >30 >30 16.2 10.8 4.2 5.5 3.8 140℃ (分) >30 >30 >30 15.5 9.2 3.6 3.9 3.1 [加硫速度Tc90] 180℃ (分) 8.6 8.5 8.6 7.9 7.5 8.7 7.0 6.2 200℃ (分) 5.4 4.3 5.4 5.1 4.7 8.0 5.1 4.1 [加硫物性] 硬さ (JIS A) 77 80 78 74 74 76 67 68 100%モジュラス (MPa) 7.8 9.8 7.9 4.8 5.0 6.1 5.7 5.9 引張強さ (MPa) 12.8 13.3 12.5 12.5 12.3 12.0 13.1 13.8 伸び (%) 170 120 170 230 210 170 240 230 [圧縮永久歪] JIS-ブロック (%) 14 14 20 15 15 7 15 18 [加工性] ○ ○ ○ ○ ○ × ○ ○
は、炭素数2〜8のアルコキシアルキル基を有するアルコ
キシアルキルアクリレート、例えばメトキシメチルアク
リレート、エトキシメチルアクリレート、2-メトキシエ
チルアクリレート、2-エトキシエチルアクリレート、2-
ブトキシエチルアクリレート等が用いられ、好ましくは
2-メトキシエチルアクリレート、2-エトキシエチルアク
リレートが用いられる。
(NCO)n [ここで、Rはアルキル基、アルコキシル基、ア
リール基、アルキルアリール基またはアラルキル基であ
り、nは2以上の整数である]で表わされる多官能性イソ
シアネート化合物とブロック化剤とを反応させて得られ
た化合物である。
するブロック化剤としては、例えばジフェニルアミン、
ビス(ジメチルベンジル)ジフェニルアミン、メチルフェ
ニルアミン、エチルフェニルアミン、フェニルイソプロ
ピルアミン、フェニルナフチルアミン、ナフチルフェニ
レンジアミン、ジフェニルフェニレンジアミン、ジナフ
チルフェニレンジアミン、N-フェニル-N′-メチルフェ
ニレンジアミン、N-フェニル-N′-エチルフェニレンジ
アミン、N-フェニル-N′-イソプロピルフェニレンジア
ミン、アニリン、カルバゾール等のアミン類、フェノー
ル、クレゾール、キシレノール、p-エチルフェノール、
o-イソプロピルフェノール、p-第3ブチルフェノール、p
-第3オクチルフェノール、2,6-ジ第3ブチル-4-メチルフ
ェノール、2,6-ジ第3ブチル-4-エチルフェノール、メチ
レンビス(エチル-第3ブチルフェノール)、2,5-ジ第3ブ
チルハイドロキノン、チモール、ナフトール、ニトロフ
ェノール、クロロフェノール等のフェノール類、メタノ
ール、エタノール、ブロパノール、ブタノール、エチレ
ングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、
メチルカルビトール、ベンジルアルコール、フェニルセ
ロソルブ、シクロヘキサノール等のアルコール類、マロ
ン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、アセト酢酸エチル等
の活性メチレン類、ブチルメルカプタン、ラウリルメル
カプタン、チオフェノール等のメルカプタン類、アセト
アニリド、アセトアニシジド、酢酸アミド、ベンズアミ
ド、スルフェンアミド等のアミド類、コハク酸イミド、
マレイン酸イミド等のイミド類、イミダゾール、エチル
イミダゾール、メルカプトベンツイミダゾール等のイミ
ダゾール類、尿素、エチレン尿素、チオ尿素等の尿素
類、フェニルカルバミン酸フェニル、オキサゾリドン等
のカルバミン酸塩類、エチレンイミン等のイミン類、ホ
ルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、メチルエ
チルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシム等のオキ
シム類、ジフェニルグアニジン、ジトリルグアニジン、
トリルビグアニド等のグアニジン類、亜硫酸水素ナトリ
ウム、亜硫酸水素カリウム等の亜硫酸塩類、ε-カプロ
ラクタム等のラクタム類などが挙げられる。これらのブ
ロック化剤は、多官能性イソシアネート化合物の場合と
同様に、分解温度などを考慮して選択される。
ブロマイド、テトラブチルアンモニウムクロライド、テ
トラブチルアンモニウムアイオダイド、テトラエチルア
ンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムクロ
ライド、テトラエチルアンモニウムアイオダイド、n-ド
デシルトリメチルアンモニウムブロマイド、オクタデシ
ルトリメチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベン
ジルアンモニウムブロマイド、セチルジメチルベンジル
アンモニウムクロライド、セチルピリジウムブロマイ
ド、セチルピリジウムサルフェート、テトラエチルアン
モニウムアセテート、トリメチルベンジルアンモニウム
ベンゾエート、トリメチルベンジルアンモニウムボレー
ト、5-ベンジル-1,5-ジアザビシクロ[4,3,0]-5-ノネニ
ウムクロライド、5-ベンジル-1,5-ジアザビシクロ[4,3,
0]-5-ノネニウムテトラフルオロボレート等の4級アンモ
ニウム塩類、またはテトラフェニルホスホニウムクロラ
イド、ベンジルトリフェニルホスホニウムブロマイド、
ベンジルトリフェニルホスホニウムクロライド、トリフ
ェニルメトキシメチルホスホニウムクロライド、トリフ
ェニルメチルカルボニルメチルホスホニウムクロライ
ド、トリフェニルエトキシカルボニルメチルホスホニウ
ムクロライド、トリオクチルベンジルホスホニウムクロ
ライド、トリオクチルメチルホスホニウムクロライド、
トリオクチルエチルホスホニウムアセテート、テトラオ
クチルホスホニウムクロライド、トリオクチルエチルホ
スホニウムジメチルホスフェート等の4級ホスホニウム
塩類が用いられる。
ヘキサメチレンジイソシアネート1重量部が用いられ、
ジ-o-トリルグアニジン量が4重量部に変更された。
ジアミノジフェニルエーテルが0.7重量部用いられ、ジ-
o-トリルグアニジン量が0.7重量部に変更された。
Claims (2)
- 【請求項1】 カルボキシル基含有アクリル系エラスト
マーにブロック化イソシアネートを配合してなるアクリ
ル系エラストマー組成物。 - 【請求項2】 カルボキシル基含有アクリル系エラスト
マーに、ブロック化イソシアネートおよび加硫促進剤と
してのグアニジン類、4級オニウム塩類、3級アミン類ま
たは3級ホスフィン類を配合してなるアクリル系エラス
トマー組成物。
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- 1998-03-13 JP JP08259398A patent/JP3837900B2/ja not_active Expired - Fee Related
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