JPH11243112A - ワイヤボンディング装置及びワイヤボンディング方法 - Google Patents
ワイヤボンディング装置及びワイヤボンディング方法Info
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Abstract
ることがないように、フレキシブル基板をステージ上に
確実に吸着固定した状態でワイヤボンディングする。 【解決手段】 ステージ12とICチップ15が搭載さ
れたフレキシブル基板13との間に、振動吸収材16を
介してフレキシブル基板13を真空吸着した状態で超音
波ボンディングによりワイヤボンディングを行う場合
に、振動吸収材16の真空吸着用の吸引孔16aに繋が
る吸引溝17を、フレキシブル基板13の周縁部に合わ
せた外枠溝17aとして形成すると共に、フレキシブル
基板13においてウエッジ19によりワイヤボンディン
グが行われる部位の直下及びその周辺部分に比較的高密
度に横溝17cとして形成する。
Description
上に搭載されるチップなどをワイヤボンディングするた
めのワイヤボンディング装置及びワイヤボンディング方
法に関する。
の基板は、薄さや量産性などが考慮されることにより、
PETなどの材質からなるフレキシブル基板が用いられ
ている。このフレキシブル基板上に、制御用のマイクロ
コンピュータなどがICとして形成されたSiチップ
(ICチップ)が搭載された後に、Siチップ上のボン
ディングパッドとフレキシブル基板上の配線パターンと
を電気的に接続する必要がある。
行う場合もあるが、フリップチップ接続では、ICの仕
様が変更された場合などの対応を十分に行うことができ
ない場合がある。そこで、この様な仕様変更にも柔軟に
対応できるように、Siチップとフレキシブル基板との
電気的接続を、超音波を用いたワイヤボンディングによ
り対応することが行われている。
ば、図8に示すように、ステージ1上に載せた基板2の
端部を押さえ治具3により押さえ付けた状態で行うが、
基板2が軟質なフレキシブル基板の場合は、端部を押さ
え付けても、ボンディング時には、ボンディング点にお
けるボンディングウエッジ及びワイヤの振動によって端
部以外の部分が動くため、ワイヤが剥がれたり、基板2
上に搭載されたSiチップ4が割れるなどの不良が発生
する場合がある。
1との間に多孔質焼結体の治具を介挿してステージ1側
から真空吸着することにより、フレキシブル基板2を吸
着固定するものもあるが、この方式では、硬質な焼結体
と軟質なフレキシブル基板2との間が十分密着せず、ボ
ンディングウエッジの振動がステージ1に伝播して、や
はりチップ割れなどの不良が発生するという問題があっ
た。
がステージ1に伝わるのを遮断するため、図9に示すよ
うに、フレキシブル基板2とステージ1との間に振動吸
収材5を介挿して、ステージ1側からフレキシブル基板
2を真空吸着することにより、超音波エネルギーによる
振動を吸収するものがある。
式でも、吸引孔の直上に位置するフレキシブル基板2の
部分は比較的良好に吸着固定できるが、やはり、軟質な
フレキシブル基板2の他の部分は吸着固定が不十分にな
りがちであり、上記課題を十分に解決し得るものとは言
い難かった。
あり、その目的は、フレキシブル基板を、超音波ボンデ
ィングによる振動の影響を受けることがないように、ス
テージ上に確実に吸着固定した状態でワイヤボンディン
グを行うことができるワイヤボンディング装置及びワイ
ヤボンディング方法を提供することにある。
ンディング装置または請求項5記載のワイヤボンディン
グ方法によれば、ICチップが搭載されたフレキシブル
基板を、真空吸着用の吸引孔に繋がる吸引溝がフレキシ
ブル基板に接する面側で且つ少なくとも前記フレキシブ
ル基板においてICチップが搭載されている部分の直下
に形成された振動吸収材を介してステージ上に真空吸着
した状態で、超音波ボンディングによりワイヤボンディ
ングする。
チップが搭載されている部分が、振動吸収材に設けられ
た吸引溝によってステージ上に吸着固定されるので、超
音波ボンディングによる振動がフレキシブル基板に加わ
っても、その振動は振動吸収材により十分に吸収され
る。従って、フレキシブル基板上の配線パターンとIC
チップ上のボンディングパッドとを安定した状態で確実
にワイヤボンディングすることができる。
たは請求項6記載のワイヤボンディング方法によれば、
吸引溝を、フレキシブル基板の周縁部に対応する部位に
も合わせて形成するので、フレキシブル基板の全体を良
好に吸着固定することができる。
グ装置並びに請求項7または8記載のワイヤボンディン
グ方法によれば、吸引溝を、フレキシブル基板におい
て、ボンディング手段によりワイヤボンディングが行わ
れる部位の直下及びその周辺部分に比較的高密度に形成
し(請求項3,7)、具体的には、吸引溝を格子状に形
成する(請求項4,8)ので、超音波ボンディングによ
る振動が直接加わる部位に対する真空吸着をより確実に
行うことによって、フレキシブル基板の吸着固定の効果
を高めることができる。
1実施例について図1乃至図6を参照して説明する。図
1は、ワイヤボンディング装置11の要部の構成を示す
斜視図である。部分的に示すステージ12は、上面がフ
レキシブル基板13の外形寸法よりもやや大となる矩形
をなしており、その中央部には、真空ポンプなどからな
る真空吸引装置(吸引手段)14によってフレキシブル
基板13を吸引するための吸引孔12aが設けられてい
る。
トレスICカードの内部に収納されるものであり、板厚
が50〜500μm程度のPETやガラスエポキシなど
の軟質な樹脂材料で構成されている。その表面側には、
配線パターン13a(図3参照)が銅箔などによって形
成されていると共に、ICカードとしての機能をなすた
めのマイクロコンピュータなどがワンチップICとして
形成された例えば2つのICチップ15が、接着されて
搭載されている。
12との間には、振動吸収材16が介挿されている。振
動吸収材16は、例えば、厚さ1.3mm程度のクロロ
プレンなどの柔軟性を有する材料で構成されており、そ
の外形寸法は、ステージ12と同様に、フレキシブル基
板13の外形寸法よりもやや大となる矩形をなしてい
る。振動吸収材16の中央部には、真空吸引用の吸引孔
16aがステージ12の吸引孔12aと一致するように
形成されている。
接する側の面には、吸引孔16aに繋がるようにして吸
引溝17が形成されている。吸引溝17は、図2に示す
ように、フレキシブル基板13の周縁部に合わせて形成
された矩形の外枠溝17aと、その外枠溝17aの上辺
及び下辺と吸引孔16aとを接続する縦溝17bとを有
している。
吸収材16における図2中右下方は、フレキシブル基板
13上においてICチップ15に対してワイヤボンディ
ングが行われる部位であり、その部位に対応するように
して、外枠溝17aの右辺と縦溝17bとを接続する多
数の横溝17cが形成されている。その横溝17cの
内、図2中最上部に形成されているものと外枠溝17a
の上辺とを接続するように、縦溝17dが形成されてい
る。縦溝17dの途中部位には、横溝17cにおける吸
着効果を高めるために、円形の凹部17eが形成されて
いる。
Cチップ15の一辺が2.5mm以上である場合、横溝
17cを0.2〜0.5mm程度、その他の溝は0.5
〜1.0mm程度とし、溝深さは何れも0.5mm程度
である。また、横溝17cのピッチ間隔は、0.8〜
1.2mm程度である。尚、凹部17eの深さは、1m
m程度である。また、図1におけるフレキシブル基板1
3や振動吸収材16の厚さ寸法は、図示の関係上、実際
の比率とは異なっている。
6をも参照して説明する。以上のように、フレキシブル
基板13とステージ12との間に振動吸収材16を介挿
した状態で、真空吸引装置14によってフレキシブル基
板13を真空吸引してステージ12上に固定する。
に、ボンディング装置の一部であるワイヤクランプ(ボ
ンディング手段)18及びボンディングウエッジ(ボン
ディング手段,以下、ウエッジと称す)19によって、
フレキシブル基板13上に搭載されているICチップ1
5上のボンディングパッド15aと、フレキシブル基板
13上に形成されている配線パターン13aとの間を例
えばアルミニュウムからなり径が40μm程度のワイヤ
20によってボンディングする。尚、ウエッジ19の振
動数は、100KHz程度である。
真空状態となることにより、フレキシブル基板13は、
ステージ12上に確実に吸着固定され、また、ワイヤボ
ンディング時に生ずる振動は、柔軟性を有する振動吸収
材16によって吸収される。
よる振動吸収効果の違いを、振動吸収材16と比較する
ために形成した振動吸収材21の平面図である。振動吸
収材21の吸引溝22は、溝幅が2〜3mmであり、I
Cチップに対してワイヤボンディングが行われる部分
(ボンディング部)2か所の内、一方はボンディング部
の周囲に(A)形成し、他方はボンディング部の周囲及
びボンディング部の直下に(B)形成したものである。
動吸収材16と21とを用いて実際にワイヤボンディン
グを行った場合において、ボンディングツールであるウ
エッジ19に発生する振動を計測したものである。横軸
は時間であり、発振時間とは、1回のワイヤボンディン
グに要する時間であって30〜50ms程度である。縦
軸は、この時ウエッジ19に発生する振動振幅を、ウエ
ッジ19を駆動する圧電素子に流れる電流値を計測する
ことにより求めたものである。尚、振動吸収材21につ
いては、ボンディング部の周囲にのみ溝を形成した
(A)の部分について測定を行った。
た場合におけるウエッジ19の振動振幅は、ボンディン
グの開始から時間の経過と共にスムーズに低下して、ワ
イヤ20と例えば配線パターン13aとの接合が良好に
進行している。これに対して、図6に示すように、振動
吸収材21を用いた場合は、振動が殆ど収束することな
く上記接合が良好に行われているとは言い難い。この両
者の比較結果から、振動吸収材16に形成した吸引溝1
7cによって、フレキシブル基板13の吸着効果が確実
に向上していることが明らかである。
12とICチップ15が搭載されたフレキシブル基板1
3との間に、真空吸着用の吸引孔16a及びその吸引孔
16aに繋がる吸引溝17を形成した振動吸収材16を
介し、フレキシブル基板13を真空吸着した状態で超音
波ボンディングによりワイヤボンディングを行うので、
フレキシブル基板13を、振動吸収材16に設けられた
吸引溝17によってステージ12上に吸着固定すること
ができる。
フレキシブル基板に加わっても、その振動は振動吸収材
16により十分に吸収されるので、ワイヤ剥がれやチッ
プ割れなどを生ずることなく、フレキシブル基板13上
の配線パターン13aとICチップ15上のボンディン
グパッド15aとを安定した状態で確実にワイヤボンデ
ィングすることができる。
3の周縁部に合わせた外枠溝17aとして形成すると共
に、フレキシブル基板13においてウエッジ19により
ワイヤボンディングが行われる部位の直下及びその周辺
部分に比較的高密度に横溝17cとして形成したので、
フレキシブル基板13全体を良好に吸着固定することが
でき、また、超音波ボンディングによる振動が直接加わ
る部位に対する真空吸着をより確実に行うことによっ
て、フレキシブル基板13の吸着固定効果を高めること
ができる。
例を示す振動吸収材23の平面図である。第2実施例の
振動吸収材23は、第1実施例の振動吸収材16に横溝
17cを形成した部分に、それらの横溝17cと垂直に
交わる縦溝17fを形成することにより、当該部分を格
子状にしたものである。斯様に構成した場合でも、第1
実施例と同様に、超音波ボンディングによる振動が直接
加わる部位に対する真空吸着をより確実に行うことによ
り、フレキシブル基板13の吸着固定効果を高めること
ができる。
にのみ限定されるものではなく、次のような変形または
拡張が可能である。ボンディング用のワイヤの材質はア
ルミニュウムに限らず、金などでも良い。フレキシブル
基板13においてウエッジ19によりワイヤボンディン
グが行われる部位の直下及びその周辺部分に形成する吸
収溝は、横溝17cや縦溝17dを多数形成するものに
限ることなく、当該部分に1本の溝を一筆書きのように
して比較的高密度に形成しても良い。吸収溝は、ワイヤ
ボンディングが行われる部位の直下及びその周辺部分に
比較的高密度に形成するものに限らず、例えば、第1実
施例の外枠溝17a内の領域全体に均等な密度で、且
つ、少なくともフレキシブル基板13上でICチップ1
5が搭載されている部分の直下にかかるようにして横溝
を形成しても良い。
溝17cのみを設けて外枠溝17aは設けずに、振動吸
収材16の周辺部は、例えば図8に示す押さえ治具3に
より固定しても良い。フレキシブル基板に搭載されるI
Cチップの数は、1個でも、或いは3個以上であっても
良い。ワイヤボンディング装置は、フレキシブル基板を
1枚ずつワイヤボンディングするものに限ることなく、
複数のフレキシブル基板を多数枚取りするようにした基
板について、1回の吸着固定において複数のフレキシブ
ル基板をワイヤボンディングするものでも良い。その場
合、振動吸収材には、それら複数のフレキシブル基板に
対応する位置に合わせて吸収溝を形成すれば良い。そし
て、例えば6枚取りの場合には、1回の吸着固定でフレ
キシブル基板を2枚ずつボンディングし、て、基板を送
りながら連続的にボンディングするものでも良い。
グ装置の要部の構成を示す斜視図
断面図
いを比較するために形成した振動吸収材の平面図
ングを行った場合の、ボンディングウエッジに発生する
振動を計測した結果を示す図
ングを行った場合の図5相当図
はフレキシブル基板、13aは配線パターン、14は真
空吸引装置(吸引手段)、15はICチップ、15aは
ボンディングパッド、16は振動吸収材、16aは吸引
孔、17は吸収溝、17aは外枠溝、17cは横溝、1
7fは縦溝、18はワイヤクランプ(ボンディング手
段)、19はボンディングウエッジ(ボンディング手
段)、20はワイヤ、23は振動吸収材を示す。
Claims (8)
- 【請求項1】 ICチップが搭載されたフレキシブル基
板を載置するためのステージと、 このステージと前記フレキシブル基板との間に介挿さ
れ、真空吸着用の吸引孔を具備した振動吸収材と、 前記ステージ上に載置された前記フレキシブル基板を、
前記振動吸収材の吸引孔を介して真空吸引することによ
り固定させる吸引手段と、 この吸引手段によって固定された前記フレキシブル基板
上の配線パターンと前記ICチップ上のボンディングパ
ッドとを超音波ボンディングによってワイヤボンディン
グするボンディング手段とを備え、 前記振動吸収材の前記フレキシブル基板に接する面側で
且つ少なくとも前記フレキシブル基板においてICチッ
プが搭載されている部分の直下に、前記吸引孔に繋がる
吸引溝を形成したことを特徴とするワイヤボンディング
装置。 - 【請求項2】 前記吸引溝は、前記フレキシブル基板の
周縁部に対応する部位にも形成されていることを特徴と
する請求項1記載のワイヤボンディング装置。 - 【請求項3】 前記吸引溝は、前記フレキシブル基板に
おいて、前記ボンディング手段によりワイヤボンディン
グが行われる部位の直下及びその周辺部分に比較的高密
度に形成されていることを特徴とする請求項1または2
記載のワイヤボンディング装置。 - 【請求項4】 前記吸引溝は、前記フレキシブル基板に
おいて、前記ボンディング手段によりワイヤボンディン
グが行われる部位の直下及びその周辺部分に格子状に形
成されていることを特徴とする請求項3記載のワイヤボ
ンディング装置。 - 【請求項5】 ICチップが搭載されたフレキシブル基
板をステージ上に真空吸着させた状態で、前記フレキシ
ブル基板上の配線パターンと前記ICチップ上のボンデ
ィングパッドとを超音波ボンディングによってワイヤボ
ンディングするワイヤボンディング方法において、 前記ステージと前記フレキシブル基板との間に、前記フ
レキシブル基板に接する面側で且つ少なくとも前記フレ
キシブル基板においてICチップが搭載されている部分
の直下に、真空吸着用の吸引孔及びその吸引孔に繋がる
吸引溝が形成された振動吸収材を介して、前記フレキシ
ブル基板を真空吸着した状態でワイヤボンディングを行
うことを特徴とするワイヤボンディング方法。 - 【請求項6】 前記吸引溝は、前記フレキシブル基板の
周縁部に対応する部位にも形成されていることを特徴と
する請求項5記載のワイヤボンディング方法。 - 【請求項7】 前記吸引溝は、前記フレキシブル基板に
おいて、前記ボンディング手段によりワイヤボンディン
グが行われる部位の直下及びその周辺部分に比較的高密
度に形成されていることを特徴とする請求項5または6
記載のワイヤボンディング方法。 - 【請求項8】 前記吸引溝は、前記フレキシブル基板に
おいて、前記ボンディング手段によりワイヤボンディン
グが行われる部位の直下及びその周辺部分に格子状に形
成されていることを特徴とする請求項7記載のワイヤボ
ンディング方法。
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---|---|---|---|
JP04344698A JP3796943B2 (ja) | 1998-02-25 | 1998-02-25 | ワイヤボンディング装置及びワイヤボンディング方法 |
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---|---|---|---|
JP04344698A JP3796943B2 (ja) | 1998-02-25 | 1998-02-25 | ワイヤボンディング装置及びワイヤボンディング方法 |
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