JPH11214598A - 大規模集積回路(lsi)チップの冷却方法 - Google Patents

大規模集積回路(lsi)チップの冷却方法

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JPH11214598A
JPH11214598A JP10048522A JP4852298A JPH11214598A JP H11214598 A JPH11214598 A JP H11214598A JP 10048522 A JP10048522 A JP 10048522A JP 4852298 A JP4852298 A JP 4852298A JP H11214598 A JPH11214598 A JP H11214598A
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JP
Japan
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lsi chip
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peltier element
peltier
cooling
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Takeshi Aoki
武 青木
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、LSIチップにペルチェ素子を直
接設けて冷却効率を高めることを目的とする。 【構成】 LSIチップ4において、ペルチェ素子(P
型)7、金属1、ペルチェ素子(N型)2を設けて、L
SIチップ4を直接冷却する方法である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、LSIチップの冷却
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来のLSIチップの冷却方法は、LS
Iのパッケージに放熱器を取り付けて、自然空冷する方
法や、ファンを取り付けて、強制空冷をする方法があり
ました。
【0003】また、ペルチェ効果によるペルチェ素子を
もちいて電子冷却を行う方法がありました。しかし、い
づれもパッケージの外部において冷却を行う方法でし
た。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】LSIチップは、動作
することにより発熱をともなうものである。発熱によ
り、LSIチップの温度が上昇すると、LSIチップ内
の電流の伝達速度が低下する。また、場合によっては、
誤動作をともなうこともある。したがって、LSIチッ
プの熱を外部に放出しなければならない。
【0005】LSIチップから発生した熱は、パッケー
ジを伝わって外部に放出されるが、パッケージがプラス
チックやセラミックであるため熱の伝導が悪く、パッケ
ージ表面になかなか伝わらない。したがって、熱がパッ
ケージの内にこもるので、パッケージの外部で冷却を行
う方法は、冷却効率が低かった。
【0006】また、電子冷却の場合は、冷却時に結露す
ることがあるため結露をしないように温度制御をするた
めの制御回路を設けなければならなかった。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の問題を解決するた
めに、ペルチェ効果による電子冷却素子をLSIチップ
に直接設けて、パッケージの内部を冷却する。
【0008】ペルチェ効果によって起こる熱の吸収をう
まく利用するには、ペルチェ係数の大きいほうが有利で
ある。ペルチェ係数は、半導体のほうが金属よりも一般
に大きいから、半導体を使用したほうが有利である。半
導体素子を使用する場合は、ソース電極3にペルチェ素
子(N型)2を、そして、ドレイン電極6にペルチェ素
子(P型)7の半導体を形成して、図1のように金属1
でつなぐ。
【0009】ペルチェ素子の半導体材料としては、例え
ば、テルル化ビスマス(BiTe)等を用いる。こ
れは、一般にP型であるが、Bi:Teの成分比を変え
てBiを過剰に含むようにするとN型になる。
【0010】
【作用】図1において、LSIチップ4に電圧を与える
と、ドレイン電極6からペルチェ素子(P型)7、金属
1、ペルチェ素子(N型)2、そしてソース電極3と電
流が流れる。すると、ペルチェ素子(N型とP型)のL
SIチップ側で、熱の吸収が生じ、金属側で、熱の放出
が生じる。よって、LSIチップ4で発生した熱を吸収
し、外部に放出することとなる。これは、パッケージの
外で冷却する方法のいずれに比べても、LSIチップ4
の温度上昇を低く抑えることができる。
【0011】
【実施例】図2と図3および図4は、この発明の実施例
である。
【0012】図2は、絶縁体8によってLSIチップ4
の表面からペルチェ素子の層9を分離し、電源もLSI
チップとペルチェ素子とで別にした実施図である。ペル
チェ素子のN型とP型の配置は、LSIチップの電極の
配置と別に設計することができるので、ペルチェ素子の
数を多くしたり少なくしたりすることができるため、設
計の自由度が増加する。
【0013】図3は、ペルチェ素子の層を積み重ねて、
より冷却効率を増加させるための実施図である。下のペ
ルチェ素子の層10と上のペルチェ素子の層9とは、絶
縁体8によって分離する。下のペルチェ素子の層10の
放熱を上のペルチェ素子の層9で吸熱する。その熱を上
部に放熱することにより、下のペルチェ素子の層10の
吸熱効率が高まる。このように、ペルチェ素子の層と層
を絶縁体で分離し、上に何段もペルチェ素子の層を積み
重ねることにより、冷却効率をより高めることができ
る。
【0014】図4は、バイポーラ・トランジスタ型のL
SIチップの冷却を行うための実施図である。コレクタ
電極14に、ペルチェ素子(P型)7、エミッタ電極1
1に、ペルチェ素子(N型)2を設けて図4のように金
属1でつなぐ。LSIチップ12に電圧を与えると、電
流は、コレクタ電極14からペルチェ素子(P型)7、
金属1、ペルチェ素子(N型)2、エミッタ電極11と
流れる。すると、ペルチェ素子(N型とP型)のLSI
チップ側で熱の吸収が生じ、金属側で熱の放出が生じ
る。
【0015】
【発明の効果】LSIをパッケージの外部で冷却するこ
とに比べて、パッケージの内部で、しかも、LSIチッ
プを直接冷却することにより、冷却効率が高まった。
【0016】また、LSIパッケージは、熱の放出のた
め温度が低くなることがないため結露が発生しない。し
たがって、温度制御をするなめの制御回路を設ける必要
がなくなった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の断面図である。
【図2】本発明の第1実施例の断面図である。
【図3】本発明の第2実施例の断面図である。
【図4】本発明の第3実施例の断面図である。
【符号の説明】
1・・・金属 2・・・ペルチェ素子(N型) 3・・・ソース電極 4・・・LSIチップ 5・・・ゲート電極 6・・・ドレイン電極 7・・・ペルチェ素子(P型) 8・・・絶縁体 9・・・ペルチェ素子の層 10・・・ペルチェ素子の層 11・・・エミッタ電極 12・・・LSIチップ 13・・・ベース電極 14・・・コレクタ電極

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】LSIチップ4において、ペルチェ素子
    (P型)7、金属1、ペルチェ素子(N型)2を設け
    て、LSIチップ4を直接冷却する方法。
JP10048522A 1998-01-23 1998-01-23 大規模集積回路(lsi)チップの冷却方法 Pending JPH11214598A (ja)

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