JPH11214480A - ウエハカセット昇降装置 - Google Patents
ウエハカセット昇降装置Info
- Publication number
- JPH11214480A JPH11214480A JP2670498A JP2670498A JPH11214480A JP H11214480 A JPH11214480 A JP H11214480A JP 2670498 A JP2670498 A JP 2670498A JP 2670498 A JP2670498 A JP 2670498A JP H11214480 A JPH11214480 A JP H11214480A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- cassette
- loading chamber
- roller
- stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 発塵が少なく、信頼性の高いウエハカセット
昇降装置を提供する。 【解決手段】 カセットローディング室２の下面を貫通
して昇降する昇降ロッド４１と、昇降ロッド４１の上部
に設けられた受台４２と、受台４２上に設けられた軸受
４３と、直交する支持板５１、５２を備えたステージ５
と、二つの支持板５１、５２の接合部分の長手方向に沿
って固定され、かつ軸受４３に回転自在に支持された回
転軸５３とを備え、回転軸５３に固定したローラ支持部
材６と、ローラ支持部材６の先端に回転自在に支持した
ガイドローラと６１、カセットローディング室２の下面
に固定したカム部材７と、カム部材７に設け、ステージ
５が回転軸５３の回りに回転したときにガイドローラ６
１が移動する軌跡に沿って形成され、かつガイドローラ
６１が係合し得るカム溝７１とを備えたものである。し
たがって、微細な塵の発生を防止することができる。
昇降装置を提供する。 【解決手段】 カセットローディング室２の下面を貫通
して昇降する昇降ロッド４１と、昇降ロッド４１の上部
に設けられた受台４２と、受台４２上に設けられた軸受
４３と、直交する支持板５１、５２を備えたステージ５
と、二つの支持板５１、５２の接合部分の長手方向に沿
って固定され、かつ軸受４３に回転自在に支持された回
転軸５３とを備え、回転軸５３に固定したローラ支持部
材６と、ローラ支持部材６の先端に回転自在に支持した
ガイドローラと６１、カセットローディング室２の下面
に固定したカム部材７と、カム部材７に設け、ステージ
５が回転軸５３の回りに回転したときにガイドローラ６
１が移動する軌跡に沿って形成され、かつガイドローラ
６１が係合し得るカム溝７１とを備えたものである。し
たがって、微細な塵の発生を防止することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置の
中でウエハカセットを受渡するカセットローディング室
のウエハカセット昇降装置に関する。
中でウエハカセットを受渡するカセットローディング室
のウエハカセット昇降装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、カセットローディング室のウエハ
カセット昇降装置は、例えば図３（ａ）に示すように構
成されている。すなわち、１はウエハＷを処理する処理
室、１１は処理室１に設けられたウエハ搬入出口、１２
はウエハＷを搬送するマニプレータである。２はカセッ
トローディング室、２１はカセットローディング室２に
設けられたウエハ搬入出口で、処理室１のウエハ搬入出
口１１と連通している。２２はカセットローディング室
２に設けられたカセット搬入出口で、ウエハ搬入出口２
１の反対側に開口している。３は複数枚のウエハＷを収
納し得るウエハカセットである。４はカセットローディ
ング室２に設けられたウエハカセット昇降装置、４１は
カセットローディング室２の下面２３を貫通して昇降す
る昇降ロッド、４２は昇降ロッド４１の上部に設けられ
た平面状の受台、５は直交する二つの平面状の支持板５
１，５２を備えたステージで、支持板５１と５２の間で
ウエハカセット３を把持するようにしてある。５３は支
持板５１と５２の接合部分の長手方向に沿って固定され
た回転軸で、受台４２上に設けられた軸受４３によって
回転自在に支持されている。５４は回転軸５３に固定さ
れたピニオン、５５はカセットローディング室２の下面
２３に固定されたラックで、ピニオン５４と噛み合うよ
うにしてある。
カセット昇降装置は、例えば図３（ａ）に示すように構
成されている。すなわち、１はウエハＷを処理する処理
室、１１は処理室１に設けられたウエハ搬入出口、１２
はウエハＷを搬送するマニプレータである。２はカセッ
トローディング室、２１はカセットローディング室２に
設けられたウエハ搬入出口で、処理室１のウエハ搬入出
口１１と連通している。２２はカセットローディング室
２に設けられたカセット搬入出口で、ウエハ搬入出口２
１の反対側に開口している。３は複数枚のウエハＷを収
納し得るウエハカセットである。４はカセットローディ
ング室２に設けられたウエハカセット昇降装置、４１は
カセットローディング室２の下面２３を貫通して昇降す
る昇降ロッド、４２は昇降ロッド４１の上部に設けられ
た平面状の受台、５は直交する二つの平面状の支持板５
１，５２を備えたステージで、支持板５１と５２の間で
ウエハカセット３を把持するようにしてある。５３は支
持板５１と５２の接合部分の長手方向に沿って固定され
た回転軸で、受台４２上に設けられた軸受４３によって
回転自在に支持されている。５４は回転軸５３に固定さ
れたピニオン、５５はカセットローディング室２の下面
２３に固定されたラックで、ピニオン５４と噛み合うよ
うにしてある。
【０００３】ここで動作を説明する。処理室１の中で処
理されたウエハＷはマニプレータ１１によって把持さ
れ、ウエハ搬入出口１１および２２を通して処理室１か
らカセットローディング室２に搬送され、さらに、ウエ
ハカセット３に水平に装入される。装入される位置は昇
降ロッド４１を昇降させることによって選択される。ウ
エハＷのウエハカセット３への装入が完了すると、昇降
ロッド４１によって受台４２とともに、ステージ５を下
降させる。すると、図３（ｂ）に示すように、ピニオン
５４がラック５５に噛み合わされて回転し、回転軸５３
とともにステージ５が９０度回転するので、ウエハＷが
垂直の状態となる。この状態でカセット搬入出口２２か
らウエハＷを収納したウエハカセット３を次の工程に搬
送する。
理されたウエハＷはマニプレータ１１によって把持さ
れ、ウエハ搬入出口１１および２２を通して処理室１か
らカセットローディング室２に搬送され、さらに、ウエ
ハカセット３に水平に装入される。装入される位置は昇
降ロッド４１を昇降させることによって選択される。ウ
エハＷのウエハカセット３への装入が完了すると、昇降
ロッド４１によって受台４２とともに、ステージ５を下
降させる。すると、図３（ｂ）に示すように、ピニオン
５４がラック５５に噛み合わされて回転し、回転軸５３
とともにステージ５が９０度回転するので、ウエハＷが
垂直の状態となる。この状態でカセット搬入出口２２か
らウエハＷを収納したウエハカセット３を次の工程に搬
送する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記従来技
術では、ピニオン５４とラック５５の噛み合わせでステ
ージ５を回転するため、ピニオン５４とラック５５の噛
み合わせ面どうしにすべりが生じ、摩擦による微細な塵
が生じ、搬送中のウエハＷに悪影響を与えるという問題
があった。本発明は、発塵が少なく、信頼性の高いウエ
ハカセット昇降装置を提供することを目的とする。
術では、ピニオン５４とラック５５の噛み合わせでステ
ージ５を回転するため、ピニオン５４とラック５５の噛
み合わせ面どうしにすべりが生じ、摩擦による微細な塵
が生じ、搬送中のウエハＷに悪影響を与えるという問題
があった。本発明は、発塵が少なく、信頼性の高いウエ
ハカセット昇降装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、半導体製造装置のカセットローディング
室の下面を貫通して昇降する昇降ロッドと、前記昇降ロ
ッドの上部に設けられた平面状の受台と、前記受台上に
設けられた軸受と、直交する二つの平面状の支持板を備
えたステージと、前記二つの支持板の接合部分の長手方
向に沿って固定され、かつ前記軸受に回転自在に支持さ
れた回転軸とを備えたウエハカセット昇降装置におい
て、前記回転軸に固定したローラ支持部材と、前記ロー
ラ支持部材の先端に回転自在に支持したガイドローラ
と、前記カセットローディング室の下面に固定したカム
部材と、前記カム部材に設け、前記ステージが前記回転
軸の回りに回転したときに前記ガイドローラが移動する
軌跡に沿って形成され、かつ前記ガイドローラが係合し
得るカム溝とを備えたものである。また、前記回転軸に
固定したカム部材に設けた長穴からなるカム溝と、前記
カセットローディング室の下面から上方に伸びるローラ
支持部材と、前記ローラ支持部材に回転自在に支持した
ガイドローラとを設けたものである。したがって、ステ
ージの回転がガイドローラとカム溝との転がり接触によ
って行われるので、微細な塵の発生を防止することがで
きる。
め、本発明は、半導体製造装置のカセットローディング
室の下面を貫通して昇降する昇降ロッドと、前記昇降ロ
ッドの上部に設けられた平面状の受台と、前記受台上に
設けられた軸受と、直交する二つの平面状の支持板を備
えたステージと、前記二つの支持板の接合部分の長手方
向に沿って固定され、かつ前記軸受に回転自在に支持さ
れた回転軸とを備えたウエハカセット昇降装置におい
て、前記回転軸に固定したローラ支持部材と、前記ロー
ラ支持部材の先端に回転自在に支持したガイドローラ
と、前記カセットローディング室の下面に固定したカム
部材と、前記カム部材に設け、前記ステージが前記回転
軸の回りに回転したときに前記ガイドローラが移動する
軌跡に沿って形成され、かつ前記ガイドローラが係合し
得るカム溝とを備えたものである。また、前記回転軸に
固定したカム部材に設けた長穴からなるカム溝と、前記
カセットローディング室の下面から上方に伸びるローラ
支持部材と、前記ローラ支持部材に回転自在に支持した
ガイドローラとを設けたものである。したがって、ステ
ージの回転がガイドローラとカム溝との転がり接触によ
って行われるので、微細な塵の発生を防止することがで
きる。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図に基づ
いて説明する。図１は本発明の第１の実施例の要部を示
す側断面図で、（ａ）はウエハＷが水平の状態、（ｂ）
は回転途中の状態、（ｃ）はウエハＷが垂直の状態を示
している。図において、１はウエハＷを処理する処理
室、１１は処理室１に設けられたウエハ搬入出口、１２
はウエハＷを搬送するマニプレータである。２はカセッ
トローディング室、２１はカセットローディング室２に
設けられたウエハ搬入出口で、処理室１のウエハ搬入出
口１１と連通している。２２はカセットローディング室
２に設けられたカセット搬入出口で、ウエハ搬入出口２
１の反対側に開口している。３は複数枚のウエハＷを収
納し得るウエハカセットである。４はカセットローディ
ング室２に設けられたウエハカセット昇降装置、４１は
カセットローディング室２の下面２３を貫通して昇降す
る昇降ロッド、４２は昇降ロッド４１の上部に設けられ
た平面状の受台、５は直交する二つの平面状の支持板５
１，５２を備えたステージで、支持板５１と５２の間で
ウエハカセット３を把持するようにしてある。５３は支
持板５１と５２の接合部分の長手方向に沿って固定され
た回転軸で、受台４２上に設けられた軸受４３によって
回転自在に支持されている。以上は図３に基づいて説明
した従来例の構成と同様である。
いて説明する。図１は本発明の第１の実施例の要部を示
す側断面図で、（ａ）はウエハＷが水平の状態、（ｂ）
は回転途中の状態、（ｃ）はウエハＷが垂直の状態を示
している。図において、１はウエハＷを処理する処理
室、１１は処理室１に設けられたウエハ搬入出口、１２
はウエハＷを搬送するマニプレータである。２はカセッ
トローディング室、２１はカセットローディング室２に
設けられたウエハ搬入出口で、処理室１のウエハ搬入出
口１１と連通している。２２はカセットローディング室
２に設けられたカセット搬入出口で、ウエハ搬入出口２
１の反対側に開口している。３は複数枚のウエハＷを収
納し得るウエハカセットである。４はカセットローディ
ング室２に設けられたウエハカセット昇降装置、４１は
カセットローディング室２の下面２３を貫通して昇降す
る昇降ロッド、４２は昇降ロッド４１の上部に設けられ
た平面状の受台、５は直交する二つの平面状の支持板５
１，５２を備えたステージで、支持板５１と５２の間で
ウエハカセット３を把持するようにしてある。５３は支
持板５１と５２の接合部分の長手方向に沿って固定され
た回転軸で、受台４２上に設けられた軸受４３によって
回転自在に支持されている。以上は図３に基づいて説明
した従来例の構成と同様である。
【０００７】６は回転軸５３に固定されたローラ支持部
材で、ステージ５の支持板５１が受台４２上に載置され
ている状態で、垂直に下方に伸びている。６１はローラ
支持部材６の先端に回転自在に支持されたガイドローラ
である。７はカセットローディング室２の下面２３に固
定されたカム部材、７１はカム部材７に設けられたガイ
ドローラ６１が係合し得るカム溝で、ステージ５が回転
軸５３の回りに回転したときにガイドローラ６１が移動
する湾曲した軌跡に沿って形成されている。このような
構成により、図１（ａ）に示すように、ウエハＷがウエ
ハカセット３に装入された状態から昇降ロッド４１を下
降させていくと、図１（ｂ）に示すように、ガイドロー
ラ６１が湾曲したカム溝７１に係合し、それに伴って回
転軸５３とともにステージ５が回転する。回転軸５３と
ガイドローラ６１が、図１（ｃ）に示すように、水平に
並んだ状態でステージ５が最初の状態から９０度回転し
た状態となるので、ウエハＷはウエハカセット３の中で
垂直に立てられた状態となる。この状態で、次に工程に
搬送される。このように、ステージ５の回転がガイドロ
ーラ６１とカム溝７１との転がり接触によって行われる
ので、従来例で説明した滑り接触によって生じる微細な
塵の発生を防止することができる。
材で、ステージ５の支持板５１が受台４２上に載置され
ている状態で、垂直に下方に伸びている。６１はローラ
支持部材６の先端に回転自在に支持されたガイドローラ
である。７はカセットローディング室２の下面２３に固
定されたカム部材、７１はカム部材７に設けられたガイ
ドローラ６１が係合し得るカム溝で、ステージ５が回転
軸５３の回りに回転したときにガイドローラ６１が移動
する湾曲した軌跡に沿って形成されている。このような
構成により、図１（ａ）に示すように、ウエハＷがウエ
ハカセット３に装入された状態から昇降ロッド４１を下
降させていくと、図１（ｂ）に示すように、ガイドロー
ラ６１が湾曲したカム溝７１に係合し、それに伴って回
転軸５３とともにステージ５が回転する。回転軸５３と
ガイドローラ６１が、図１（ｃ）に示すように、水平に
並んだ状態でステージ５が最初の状態から９０度回転し
た状態となるので、ウエハＷはウエハカセット３の中で
垂直に立てられた状態となる。この状態で、次に工程に
搬送される。このように、ステージ５の回転がガイドロ
ーラ６１とカム溝７１との転がり接触によって行われる
ので、従来例で説明した滑り接触によって生じる微細な
塵の発生を防止することができる。
【０００８】図２は本発明の第２の実施例の要部を示す
側断面図で、（ａ）はウエハＷが水平の状態、（ｂ）は
回転途中の状態、（ｃ）はウエハＷが垂直の状態を示し
ている。第２の実施例は、上記第１の実施例で説明した
構成、すなわち、回転軸５３にローラ支持部材６を介し
てガイドローラ６１を固定し、カセットローディング室
２の下面２３にカム溝７１を設けたカム部材７を設けた
構成の代わりに、回転軸５３に長穴からなるカム溝８１
を設けたカム部材８を固定し、カセットローディング室
２の下面２３から上方に伸び、ガイドローラ９１を回転
自在に支持するローラ支持部材９を設けたものである。
側断面図で、（ａ）はウエハＷが水平の状態、（ｂ）は
回転途中の状態、（ｃ）はウエハＷが垂直の状態を示し
ている。第２の実施例は、上記第１の実施例で説明した
構成、すなわち、回転軸５３にローラ支持部材６を介し
てガイドローラ６１を固定し、カセットローディング室
２の下面２３にカム溝７１を設けたカム部材７を設けた
構成の代わりに、回転軸５３に長穴からなるカム溝８１
を設けたカム部材８を固定し、カセットローディング室
２の下面２３から上方に伸び、ガイドローラ９１を回転
自在に支持するローラ支持部材９を設けたものである。
【０００９】このような構成により、図２（ａ）に示す
ように、ウエハＷがウエハカセット３に装入された状態
から昇降ロッド４１を下降させていくと、図２（ｂ）に
示すように、カム溝８１がガイドローラ９１に係合し、
それに伴って回転軸５３とともにステージ５が回転し、
更に昇降ロッド４１を下降させると、図２（ｃ）に示す
ように、ステージ５が最初の状態から９０度回転した状
態となる。したがって、ウエハＷはウエハカセット３の
中で垂直に立てられた状態となる。この状態で、次に工
程に搬送される。このように、ステージ５の回転がガイ
ドローラ９１とカム溝８１との転がり接触によって行わ
れるので、従来例で説明した滑り接触によって生じる微
細な塵の発生を防止することができる。
ように、ウエハＷがウエハカセット３に装入された状態
から昇降ロッド４１を下降させていくと、図２（ｂ）に
示すように、カム溝８１がガイドローラ９１に係合し、
それに伴って回転軸５３とともにステージ５が回転し、
更に昇降ロッド４１を下降させると、図２（ｃ）に示す
ように、ステージ５が最初の状態から９０度回転した状
態となる。したがって、ウエハＷはウエハカセット３の
中で垂直に立てられた状態となる。この状態で、次に工
程に搬送される。このように、ステージ５の回転がガイ
ドローラ９１とカム溝８１との転がり接触によって行わ
れるので、従来例で説明した滑り接触によって生じる微
細な塵の発生を防止することができる。
【００１０】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、ス
テージの回転はガイドローラのカム溝内の転がりを利用
しているので、従来のように歯車の噛み合わせで回転さ
せるときよりも発塵を防止することができ、信頼性の高
いウエハカセット昇降装置を提供できる効果がある。
テージの回転はガイドローラのカム溝内の転がりを利用
しているので、従来のように歯車の噛み合わせで回転さ
せるときよりも発塵を防止することができ、信頼性の高
いウエハカセット昇降装置を提供できる効果がある。
【図１】 本発明の第１の実施例の要部を示す側断面図
で、（ａ）はウエハＷが水平の状態、（ｂ）は回転途中
の状態、（ｃ）はウエハＷが垂直の状態を示している。
で、（ａ）はウエハＷが水平の状態、（ｂ）は回転途中
の状態、（ｃ）はウエハＷが垂直の状態を示している。
【図２】 本発明の第２の実施例の要部を示す側断面図
で、（ａ）はウエハＷが水平の状態、（ｂ）は回転途中
の状態、（ｃ）はウエハＷが垂直の状態を示している。
で、（ａ）はウエハＷが水平の状態、（ｂ）は回転途中
の状態、（ｃ）はウエハＷが垂直の状態を示している。
【図３】 従来例を示す側断面図で、（ａ）はウエハＷ
が水平の状態、（ｂ）はウエハＷが垂直の状態を示して
いる。
が水平の状態、（ｂ）はウエハＷが垂直の状態を示して
いる。
１：処理室、１１、２１：ウエハ搬入出口、１２：マニ
プレータ、２：カセットローディング室、２２：カセッ
ト搬入出口、３：ウエハカセット、４：ウエハカセット
昇降装置、４１：昇降ロッド、４２：受台、４３：軸
受、５：ステージ、５１、５２：支持板、５３：回転
軸、６：ローラ支持部材、６１：ガイドローラ、７：カ
ム部材、７１：カム溝、８：カム部材、８１：カム溝、
９：ローラ支持部材、９１：ガイドローラ
プレータ、２：カセットローディング室、２２：カセッ
ト搬入出口、３：ウエハカセット、４：ウエハカセット
昇降装置、４１：昇降ロッド、４２：受台、４３：軸
受、５：ステージ、５１、５２：支持板、５３：回転
軸、６：ローラ支持部材、６１：ガイドローラ、７：カ
ム部材、７１：カム溝、８：カム部材、８１：カム溝、
９：ローラ支持部材、９１：ガイドローラ
Claims (2)
- 【請求項１】 半導体製造装置のカセットローディング
室の下面を貫通して昇降する昇降ロッドと、前記昇降ロ
ッドの上部に設けられた平面状の受台と、前記受台上に
設けられた軸受と、直交する二つの平面状の支持板を備
えたステージと、前記二つの支持板の接合部分の長手方
向に沿って固定され、かつ前記軸受に回転自在に支持さ
れた回転軸とを備えたウエハカセット昇降装置におい
て、 前記回転軸に固定したローラ支持部材と、前記ローラ支
持部材の先端に回転自在に支持したガイドローラと、前
記カセットローディング室の下面に固定したカム部材
と、前記カム部材に設け、前記ステージが前記回転軸の
回りに回転したときに前記ガイドローラが移動する軌跡
に沿って形成され、かつ前記ガイドローラが係合し得る
カム溝とを備えたことを特徴とするウエハカセット昇降
装置。 - 【請求項２】 半導体製造装置のカセットローディング
室の下面を貫通して昇降する昇降ロッドと、前記昇降ロ
ッドの上部に設けられた平面状の受台と、前記受台上に
設けられた軸受と、直交する二つの平面状の支持板を備
えたステージと、前記二つの支持板の接合部分の長手方
向に沿って固定され、かつ前記軸受に回転自在に支持さ
れた回転軸とを備えたウエハカセット昇降装置におい
て、 前記回転軸に固定したカム部材に設けた長穴からなるカ
ム溝と、前記カセットローディング室の下面から上方に
伸びるローラ支持部材と、前記ローラ支持部材に回転自
在に支持したガイドローラとを設けたことを特徴とする
ウエハカセット昇降装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2670498A JP4048551B2 (ja) | 1998-01-23 | 1998-01-23 | ウエハカセット昇降装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2670498A JP4048551B2 (ja) | 1998-01-23 | 1998-01-23 | ウエハカセット昇降装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11214480A true JPH11214480A (ja) | 1999-08-06 |
| JP4048551B2 JP4048551B2 (ja) | 2008-02-20 |
Family
ID=12200786
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2670498A Expired - Fee Related JP4048551B2 (ja) | 1998-01-23 | 1998-01-23 | ウエハカセット昇降装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4048551B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100356340B1 (ko) * | 2000-11-30 | 2002-10-18 | 내일시스템주식회사 | 웨이퍼 프레임 로딩용 엘리베이터 |
| JP2003536247A (ja) * | 2000-06-06 | 2003-12-02 | ブルックス オートメーション インコーポレイテッド | 材料搬送システム |
| JP2008085025A (ja) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 基板の取り扱い装置及び基板の取り扱い方法 |
| JP2009263136A (ja) * | 2008-04-29 | 2009-11-12 | Wirtgen Gmbh | 建設機械用の折り畳み式輸送コンベヤ、建設機械車両、および、輸送コンベヤを枢動させるための方法 |
| CN104752294A (zh) * | 2013-12-27 | 2015-07-01 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 片盒定位装置以及半导体加工设备 |
| CN110950088A (zh) * | 2020-02-25 | 2020-04-03 | 蓝思智能机器人(长沙)有限公司 | 上下料设备 |
-
1998
- 1998-01-23 JP JP2670498A patent/JP4048551B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003536247A (ja) * | 2000-06-06 | 2003-12-02 | ブルックス オートメーション インコーポレイテッド | 材料搬送システム |
| JP4729237B2 (ja) * | 2000-06-06 | 2011-07-20 | ブルックス オートメーション インコーポレイテッド | 材料搬送システム乃至方法、搬入ポートモジュール |
| KR100356340B1 (ko) * | 2000-11-30 | 2002-10-18 | 내일시스템주식회사 | 웨이퍼 프레임 로딩용 엘리베이터 |
| JP2008085025A (ja) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 基板の取り扱い装置及び基板の取り扱い方法 |
| JP2009263136A (ja) * | 2008-04-29 | 2009-11-12 | Wirtgen Gmbh | 建設機械用の折り畳み式輸送コンベヤ、建設機械車両、および、輸送コンベヤを枢動させるための方法 |
| CN104752294A (zh) * | 2013-12-27 | 2015-07-01 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 片盒定位装置以及半导体加工设备 |
| WO2015096587A1 (zh) * | 2013-12-27 | 2015-07-02 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 片盒定位装置以及半导体加工设备 |
| JP2017502520A (ja) * | 2013-12-27 | 2017-01-19 | 北京北方微▲電▼子基地▲設▼▲備▼工▲芸▼研究中心有限▲責▼任公司 | カセット位置決め装置および半導体処理機器 |
| TWI581358B (zh) * | 2013-12-27 | 2017-05-01 | A cartridge positioning device and a semiconductor processing device | |
| CN104752294B (zh) * | 2013-12-27 | 2018-01-09 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 片盒定位装置以及半导体加工设备 |
| CN110950088A (zh) * | 2020-02-25 | 2020-04-03 | 蓝思智能机器人(长沙)有限公司 | 上下料设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4048551B2 (ja) | 2008-02-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR0179385B1 (ko) | 진공처리장치 | |
| KR100350693B1 (ko) | 카세트 반송 기구 | |
| JPH11288995A (ja) | 搬送システム及び処理装置 | |
| JP5189370B2 (ja) | 基板交換装置及び基板処理装置並びに基板検査装置 | |
| JPH11214480A (ja) | ウエハカセット昇降装置 | |
| JPH03116731A (ja) | 半導体ウエハ用移送装置 | |
| JP2002043395A (ja) | ウエハ搬送システム及びその搬送方法 | |
| JPH10147432A (ja) | カセットチャンバ | |
| JP3322630B2 (ja) | 回転処理装置 | |
| JP2000058625A (ja) | 基板搬送装置 | |
| JP4083306B2 (ja) | プラズマ処理後におけるリンス方法 | |
| JP2004071618A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2021022638A (ja) | 基板処理装置、基板処理システムおよび基板処理方法 | |
| JP2630366B2 (ja) | 板状体の搬入搬出方法および搬入搬出装置 | |
| JP4495825B2 (ja) | 半導体製造装置及び半導体製造方法 | |
| KR200152548Y1 (ko) | 반도체 수직형 증착장비의 웨이퍼 로딩장치 | |
| JP2004296646A (ja) | 基板処理装置 | |
| JPH11274270A (ja) | 基板移載装置および基板処理装置 | |
| JPH1092902A (ja) | ウエハ飛び出し防止機構を有するキャリアエレベータ装置 | |
| JP2007019369A (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
| JP2006032687A (ja) | 被加工物搬送装置 | |
| KR20000000248U (ko) | 반도체 웨이퍼 이송로봇 | |
| JP2003100691A (ja) | 湿式処理方法及び装置 | |
| JP2004363455A (ja) | ウエハ検査装置 | |
| JPH10154740A (ja) | ウェハとトレーのセッティングシステムとそのためのトレーへのウェハセッティング装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20041209 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20070516 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070518 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070710 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070823 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20071015 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Effective date: 20071105 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20071118 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 3 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101207 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101207 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111207 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121207 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131207 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |