JP4048551B2 - ウエハカセット昇降装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体製造装置の中でウエハカセットを受渡するカセットローディング室のウエハカセット昇降装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、カセットローディング室のウエハカセット昇降装置は、例えば図３（ａ）に示すように構成されている。すなわち、１はウエハＷを処理する処理室、１１は処理室１に設けられたウエハ搬入出口、１２はウエハＷを搬送するマニプレータである。２はカセットローディング室、２１はカセットローディング室２に設けられたウエハ搬入出口で、処理室１のウエハ搬入出口１１と連通している。２２はカセットローディング室２に設けられたカセット搬入出口で、ウエハ搬入出口２１の反対側に開口している。３は複数枚のウエハＷを収納し得るウエハカセットである。
４はカセットローディング室２に設けられたウエハカセット昇降装置、４１はカセットローディング室２の下面２３を貫通して昇降する昇降ロッド、４２は昇降ロッド４１の上部に設けられた平面状の受台、５は直交する二つの平面状の支持板５１，５２を備えたステージで、支持板５１と５２の間でウエハカセット３を把持するようにしてある。５３は支持板５１と５２の接合部分の長手方向に沿って固定された回転軸で、受台４２上に設けられた軸受４３によって回転自在に支持されている。５４は回転軸５３に固定されたピニオン、５５はカセットローディング室２の下面２３に固定されたラックで、ピニオン５４と噛み合うようにしてある。
【０００３】
ここで動作を説明する。
処理室１の中で処理されたウエハＷはマニプレータ１１によって把持され、ウエハ搬入出口１１および２２を通して処理室１からカセットローディング室２に搬送され、さらに、ウエハカセット３に水平に装入される。装入される位置は昇降ロッド４１を昇降させることによって選択される。ウエハＷのウエハカセット３への装入が完了すると、昇降ロッド４１によって受台４２とともに、ステージ５を下降させる。
すると、図３（ｂ）に示すように、ピニオン５４がラック５５に噛み合わされて回転し、回転軸５３とともにステージ５が９０度回転するので、ウエハＷが垂直の状態となる。この状態でカセット搬入出口２２からウエハＷを収納したウエハカセット３を次の工程に搬送する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上記従来技術では、ピニオン５４とラック５５の噛み合わせでステージ５を回転するため、ピニオン５４とラック５５の噛み合わせ面どうしにすべりが生じ、摩擦による微細な塵が生じ、搬送中のウエハＷに悪影響を与えるという問題があった。
本発明は、発塵が少なく、信頼性の高いウエハカセット昇降装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明は、半導体製造装置のカセットローディング室（２）の下面（２３）を貫通して昇降する昇降ロッド（４１）と、前記昇降ロッド（４１）の上部に、前記昇降ロッド（４１）に対して垂直方向に設けられた平面状の受台（４２）と、前記受台（４２）上に、軸の方向が前記受台（４２）の面と平行になるように設けられた軸受（４３）と、前記軸受（４３）に回転自在に支持された回転軸（５３）と、前記受台（４２）の面と平行な平面状の支持板（５１）と、この支持板（５１）に直交して接合する平面状の支持板（５２）を備え、この二つの支持板（５１），（５２）の接合する部分に沿って前記回転軸（５３）を固定して回転自在に支持させるとともに、前記二つの支持板（５１），（５２）でウエハカセット（３）を、前記回転軸（５３）の回りに回転可能に把持するステージ（５）と、を備えたウエハカセット昇降装置において、前記支持板（５１）が、前記受台（４２）上に載置されている状態であるときに、前記回転軸（５３）に、垂直に下方に伸びて固定されたローラ支持部材（６）と、前記ローラ支持部材（６）の先端に回転自在に支持したガイドローラ（６１）と、前記カセットローディング室（２）の下面（２３）に、上方に伸びて固定され、前記昇降ロッド（４１）の下降とともに前記ステージ（５）が、前記回転軸（５３）を中心にして回転させたときに前記ガイドローラ（６１）が移動する湾曲した軌跡に沿って形成した、前記ガイドローラが係合し得るカム溝（７１）を有し、前記昇降ロッド（４１）の下降時に、前記ガイドローラ（６１）を前記カム溝（７１）内に係合させ、前記ガイドローラ（６１）を案内して、前記ステージ（５）とともに前記ウエハカセット（３）を、前記回転軸（５３）を中心にして回転させるカム部材（７）とを備えたものである。
また、前記支持板（５１）が、前記受台（４２）上に載置されている状態であるときに、前記回転軸（５３）に、この回転軸（５３）よりも前記昇降ロッド（４１）寄りの斜め下方に向けて固定したカム部材（８）と、前記カム部材（８）の先端部に設けた長穴からなるカム溝（８１）と、前記カセットローディング室（２）の下面（２３）に、上方に伸びて固定されるとともに、上端部に、前記カム溝（８１）と常に係合するガイドローラ（９１）を有し、前記昇降ロッド（４１）の下降とともに前記カム部材（８）のカム溝（８１）が、前記ガイドロ−ラ（９１）と接触してスライドしつつ前記カム部材（８）を前記回転軸（５３）を中心にして回転させ、前記ステージ（５）とともに前記ウエハカセット（３）を、前記回転軸（５３）を中心にして回転させるローラ支持部材（９）とを備えたものである。
したがって、ステージの回転がガイドローラとカム溝との転がり接触によって行われるので、微細な塵の発生を防止することができる。
【０００６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施例を図に基づいて説明する。
図１は本発明の第１の実施例の要部を示す側断面図で、（ａ）はウエハＷが水平の状態、（ｂ）は回転途中の状態、（ｃ）はウエハＷが垂直の状態を示している。
図において、１はウエハＷを処理する処理室、１１は処理室１に設けられたウエハ搬入出口、１２はウエハＷを搬送するマニプレータである。２はカセットローディング室、２１はカセットローディング室２に設けられたウエハ搬入出口で、処理室１のウエハ搬入出口１１と連通している。２２はカセットローディング室２に設けられたカセット搬入出口で、ウエハ搬入出口２１の反対側に開口している。３は複数枚のウエハＷを収納し得るウエハカセットである。
４はカセットローディング室２に設けられたウエハカセット昇降装置、４１はカセットローディング室２の下面２３を貫通して昇降する昇降ロッド、４２は昇降ロッド４１の上部に設けられた平面状の受台、５は直交する二つの平面状の支持板５１，５２を備えたステージで、支持板５１と５２の間でウエハカセット３を把持するようにしてある。５３は支持板５１と５２の接合部分の長手方向に沿って固定された回転軸で、受台４２上に設けられた軸受４３によって回転自在に支持されている。
以上は図３に基づいて説明した従来例の構成と同様である。
【０００７】
６は回転軸５３に固定されたローラ支持部材で、ステージ５の支持板５１が受台４２上に載置されている状態で、垂直に下方に伸びている。６１はローラ支持部材６の先端に回転自在に支持されたガイドローラである。７はカセットローディング室２の下面２３に固定されたカム部材、７１はカム部材７に設けられたガイドローラ６１が係合し得るカム溝で、ステージ５が回転軸５３の回りに回転したときにガイドローラ６１が移動する湾曲した軌跡に沿って形成されている。
このような構成により、図１（ａ）に示すように、ウエハＷがウエハカセット３に装入された状態から昇降ロッド４１を下降させていくと、図１（ｂ）に示すように、ガイドローラ６１が湾曲したカム溝７１に係合し、それに伴って回転軸５３とともにステージ５が回転する。回転軸５３とガイドローラ６１が、図１（ｃ）に示すように、水平に並んだ状態でステージ５が最初の状態から９０度回転した状態となるので、ウエハＷはウエハカセット３の中で垂直に立てられた状態となる。この状態で、次に工程に搬送される。
このように、ステージ５の回転がガイドローラ６１とカム溝７１との転がり接触によって行われるので、従来例で説明した滑り接触によって生じる微細な塵の発生を防止することができる。
【０００８】
図２は本発明の第２の実施例の要部を示す側断面図で、（ａ）はウエハＷが水平の状態、（ｂ）は回転途中の状態、（ｃ）はウエハＷが垂直の状態を示している。
第２の実施例は、上記第１の実施例で説明した構成、すなわち、回転軸５３にローラ支持部材６を介してガイドローラ６１を固定し、カセットローディング室２の下面２３にカム溝７１を設けたカム部材７を設けた構成の代わりに、回転軸５３に長穴からなるカム溝８１を設けたカム部材８を固定し、カセットローディング室２の下面２３から上方に伸び、ガイドローラ９１を回転自在に支持するローラ支持部材９を設けたものである。
【０００９】
このような構成により、図２（ａ）に示すように、ウエハＷがウエハカセット３に装入された状態から昇降ロッド４１を下降させていくと、図２（ｂ）に示すように、カム溝８１がガイドローラ９１に係合し、それに伴って回転軸５３とともにステージ５が回転し、更に昇降ロッド４１を下降させると、図２（ｃ）に示すように、ステージ５が最初の状態から９０度回転した状態となる。したがって、ウエハＷはウエハカセット３の中で垂直に立てられた状態となる。この状態で、次に工程に搬送される。
このように、ステージ５の回転がガイドローラ９１とカム溝８１との転がり接触によって行われるので、従来例で説明した滑り接触によって生じる微細な塵の発生を防止することができる。
【００１０】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、ステージの回転はガイドローラのカム溝内の転がりを利用しているので、従来のように歯車の噛み合わせで回転させるときよりも発塵を防止することができ、信頼性の高いウエハカセット昇降装置を提供できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の第１の実施例の要部を示す側断面図で、（ａ）はウエハＷが水平の状態、（ｂ）は回転途中の状態、（ｃ）はウエハＷが垂直の状態を示している。
【図２】 本発明の第２の実施例の要部を示す側断面図で、（ａ）はウエハＷが水平の状態、（ｂ）は回転途中の状態、（ｃ）はウエハＷが垂直の状態を示している。
【図３】 従来例を示す側断面図で、（ａ）はウエハＷが水平の状態、（ｂ）はウエハＷが垂直の状態を示している。
【符号の説明】
１：処理室、１１、２１：ウエハ搬入出口、１２：マニプレータ、２：カセットローディング室、２２：カセット搬入出口、３：ウエハカセット、４：ウエハカセット昇降装置、４１：昇降ロッド、４２：受台、４３：軸受、５：ステージ、５１、５２：支持板、５３：回転軸、６：ローラ支持部材、６１：ガイドローラ、７：カム部材、７１：カム溝、８：カム部材、８１：カム溝、９：ローラ支持部材、９１：ガイドローラ
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体製造装置の中でウエハカセットを受渡するカセットローディング室のウエハカセット昇降装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、カセットローディング室のウエハカセット昇降装置は、例えば図３（ａ）に示すように構成されている。すなわち、１はウエハＷを処理する処理室、１１は処理室１に設けられたウエハ搬入出口、１２はウエハＷを搬送するマニプレータである。２はカセットローディング室、２１はカセットローディング室２に設けられたウエハ搬入出口で、処理室１のウエハ搬入出口１１と連通している。２２はカセットローディング室２に設けられたカセット搬入出口で、ウエハ搬入出口２１の反対側に開口している。３は複数枚のウエハＷを収納し得るウエハカセットである。
４はカセットローディング室２に設けられたウエハカセット昇降装置、４１はカセットローディング室２の下面２３を貫通して昇降する昇降ロッド、４２は昇降ロッド４１の上部に設けられた平面状の受台、５は直交する二つの平面状の支持板５１，５２を備えたステージで、支持板５１と５２の間でウエハカセット３を把持するようにしてある。５３は支持板５１と５２の接合部分の長手方向に沿って固定された回転軸で、受台４２上に設けられた軸受４３によって回転自在に支持されている。５４は回転軸５３に固定されたピニオン、５５はカセットローディング室２の下面２３に固定されたラックで、ピニオン５４と噛み合うようにしてある。
【０００３】
ここで動作を説明する。
処理室１の中で処理されたウエハＷはマニプレータ１１によって把持され、ウエハ搬入出口１１および２２を通して処理室１からカセットローディング室２に搬送され、さらに、ウエハカセット３に水平に装入される。装入される位置は昇降ロッド４１を昇降させることによって選択される。ウエハＷのウエハカセット３への装入が完了すると、昇降ロッド４１によって受台４２とともに、ステージ５を下降させる。
すると、図３（ｂ）に示すように、ピニオン５４がラック５５に噛み合わされて回転し、回転軸５３とともにステージ５が９０度回転するので、ウエハＷが垂直の状態となる。この状態でカセット搬入出口２２からウエハＷを収納したウエハカセット３を次の工程に搬送する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上記従来技術では、ピニオン５４とラック５５の噛み合わせでステージ５を回転するため、ピニオン５４とラック５５の噛み合わせ面どうしにすべりが生じ、摩擦による微細な塵が生じ、搬送中のウエハＷに悪影響を与えるという問題があった。
本発明は、発塵が少なく、信頼性の高いウエハカセット昇降装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明は、半導体製造装置のカセットローディング室（２）の下面（２３）を貫通して昇降する昇降ロッド（４１）と、前記昇降ロッド（４１）の上部に、前記昇降ロッド（４１）に対して垂直方向に設けられた平面状の受台（４２）と、前記受台（４２）上に、軸の方向が前記受台（４２）の面と平行になるように設けられた軸受（４３）と、前記軸受（４３）に回転自在に支持された回転軸（５３）と、前記受台（４２）の面と平行な平面状の支持板（５１）と、この支持板（５１）に直交して接合する平面状の支持板（５２）を備え、この二つの支持板（５１），（５２）の接合する部分に沿って前記回転軸（５３）を固定して回転自在に支持させるとともに、前記二つの支持板（５１），（５２）でウエハカセット（３）を、前記回転軸（５３）の回りに回転可能に把持するステージ（５）と、を備えたウエハカセット昇降装置において、前記支持板（５１）が、前記受台（４２）上に載置されている状態であるときに、前記回転軸（５３）に、垂直に下方に伸びて固定されたローラ支持部材（６）と、前記ローラ支持部材（６）の先端に回転自在に支持したガイドローラ（６１）と、前記カセットローディング室（２）の下面（２３）に、上方に伸びて固定され、前記昇降ロッド（４１）の下降とともに前記ステージ（５）が、前記回転軸（５３）を中心にして回転させたときに前記ガイドローラ（６１）が移動する湾曲した軌跡に沿って形成した、前記ガイドローラが係合し得るカム溝（７１）を有し、前記昇降ロッド（４１）の下降時に、前記ガイドローラ（６１）を前記カム溝（７１）内に係合させ、前記ガイドローラ（６１）を案内して、前記ステージ（５）とともに前記ウエハカセット（３）を、前記回転軸（５３）を中心にして回転させるカム部材（７）とを備えたものである。
また、前記支持板（５１）が、前記受台（４２）上に載置されている状態であるときに、前記回転軸（５３）に、この回転軸（５３）よりも前記昇降ロッド（４１）寄りの斜め下方に向けて固定したカム部材（８）と、前記カム部材（８）の先端部に設けた長穴からなるカム溝（８１）と、前記カセットローディング室（２）の下面（２３）に、上方に伸びて固定されるとともに、上端部に、前記カム溝（８１）と常に係合するガイドローラ（９１）を有し、前記昇降ロッド（４１）の下降とともに前記カム部材（８）のカム溝（８１）が、前記ガイドロ−ラ（９１）と接触してスライドしつつ前記カム部材（８）を前記回転軸（５３）を中心にして回転させ、前記ステージ（５）とともに前記ウエハカセット（３）を、前記回転軸（５３）を中心にして回転させるローラ支持部材（９）とを備えたものである。
したがって、ステージの回転がガイドローラとカム溝との転がり接触によって行われるので、微細な塵の発生を防止することができる。
【０００６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施例を図に基づいて説明する。
図１は本発明の第１の実施例の要部を示す側断面図で、（ａ）はウエハＷが水平の状態、（ｂ）は回転途中の状態、（ｃ）はウエハＷが垂直の状態を示している。
図において、１はウエハＷを処理する処理室、１１は処理室１に設けられたウエハ搬入出口、１２はウエハＷを搬送するマニプレータである。２はカセットローディング室、２１はカセットローディング室２に設けられたウエハ搬入出口で、処理室１のウエハ搬入出口１１と連通している。２２はカセットローディング室２に設けられたカセット搬入出口で、ウエハ搬入出口２１の反対側に開口している。３は複数枚のウエハＷを収納し得るウエハカセットである。
４はカセットローディング室２に設けられたウエハカセット昇降装置、４１はカセットローディング室２の下面２３を貫通して昇降する昇降ロッド、４２は昇降ロッド４１の上部に設けられた平面状の受台、５は直交する二つの平面状の支持板５１，５２を備えたステージで、支持板５１と５２の間でウエハカセット３を把持するようにしてある。５３は支持板５１と５２の接合部分の長手方向に沿って固定された回転軸で、受台４２上に設けられた軸受４３によって回転自在に支持されている。
以上は図３に基づいて説明した従来例の構成と同様である。
【０００７】
６は回転軸５３に固定されたローラ支持部材で、ステージ５の支持板５１が受台４２上に載置されている状態で、垂直に下方に伸びている。６１はローラ支持部材６の先端に回転自在に支持されたガイドローラである。７はカセットローディング室２の下面２３に固定されたカム部材、７１はカム部材７に設けられたガイドローラ６１が係合し得るカム溝で、ステージ５が回転軸５３の回りに回転したときにガイドローラ６１が移動する湾曲した軌跡に沿って形成されている。
このような構成により、図１（ａ）に示すように、ウエハＷがウエハカセット３に装入された状態から昇降ロッド４１を下降させていくと、図１（ｂ）に示すように、ガイドローラ６１が湾曲したカム溝７１に係合し、それに伴って回転軸５３とともにステージ５が回転する。回転軸５３とガイドローラ６１が、図１（ｃ）に示すように、水平に並んだ状態でステージ５が最初の状態から９０度回転した状態となるので、ウエハＷはウエハカセット３の中で垂直に立てられた状態となる。この状態で、次に工程に搬送される。
このように、ステージ５の回転がガイドローラ６１とカム溝７１との転がり接触によって行われるので、従来例で説明した滑り接触によって生じる微細な塵の発生を防止することができる。
【０００８】
図２は本発明の第２の実施例の要部を示す側断面図で、（ａ）はウエハＷが水平の状態、（ｂ）は回転途中の状態、（ｃ）はウエハＷが垂直の状態を示している。
第２の実施例は、上記第１の実施例で説明した構成、すなわち、回転軸５３にローラ支持部材６を介してガイドローラ６１を固定し、カセットローディング室２の下面２３にカム溝７１を設けたカム部材７を設けた構成の代わりに、回転軸５３に長穴からなるカム溝８１を設けたカム部材８を固定し、カセットローディング室２の下面２３から上方に伸び、ガイドローラ９１を回転自在に支持するローラ支持部材９を設けたものである。
【０００９】
このような構成により、図２（ａ）に示すように、ウエハＷがウエハカセット３に装入された状態から昇降ロッド４１を下降させていくと、図２（ｂ）に示すように、カム溝８１がガイドローラ９１に係合し、それに伴って回転軸５３とともにステージ５が回転し、更に昇降ロッド４１を下降させると、図２（ｃ）に示すように、ステージ５が最初の状態から９０度回転した状態となる。したがって、ウエハＷはウエハカセット３の中で垂直に立てられた状態となる。この状態で、次に工程に搬送される。
このように、ステージ５の回転がガイドローラ９１とカム溝８１との転がり接触によって行われるので、従来例で説明した滑り接触によって生じる微細な塵の発生を防止することができる。
【００１０】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、ステージの回転はガイドローラのカム溝内の転がりを利用しているので、従来のように歯車の噛み合わせで回転させるときよりも発塵を防止することができ、信頼性の高いウエハカセット昇降装置を提供できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の第１の実施例の要部を示す側断面図で、（ａ）はウエハＷが水平の状態、（ｂ）は回転途中の状態、（ｃ）はウエハＷが垂直の状態を示している。
【図２】 本発明の第２の実施例の要部を示す側断面図で、（ａ）はウエハＷが水平の状態、（ｂ）は回転途中の状態、（ｃ）はウエハＷが垂直の状態を示している。
【図３】 従来例を示す側断面図で、（ａ）はウエハＷが水平の状態、（ｂ）はウエハＷが垂直の状態を示している。
【符号の説明】
１：処理室、１１、２１：ウエハ搬入出口、１２：マニプレータ、２：カセットローディング室、２２：カセット搬入出口、３：ウエハカセット、４：ウエハカセット昇降装置、４１：昇降ロッド、４２：受台、４３：軸受、５：ステージ、５１、５２：支持板、５３：回転軸、６：ローラ支持部材、６１：ガイドローラ、７：カム部材、７１：カム溝、８：カム部材、８１：カム溝、９：ローラ支持部材、９１：ガイドローラ
Claims (2)
- 半導体製造装置のカセットローディング室（２）の下面（２３）を貫通して昇降する昇降ロッド（４１）と、
前記昇降ロッド（４１）の上部に、前記昇降ロッド（４１）に対して垂直方向に設けられた平面状の受台（４２）と、
前記受台（４２）上に、軸の方向が前記受台（４２）の面と平行になるように設けられた軸受（４３）と、
前記軸受（４３）に回転自在に支持された回転軸（５３）と、
前記受台（４２）の面と平行な平面状の支持板（５１）と、この支持板（５１）に直交して接合する平面状の支持板（５２）を備え、この二つの支持板（５１），（５２）の接合する部分に沿って前記回転軸（５３）を固定して回転自在に支持させるとともに、前記二つの支持板（５１），（５２）でウエハカセット（３）を、前記回転軸（５３）の回りに回転可能に把持するステージ（５）と、を備えたウエハカセット昇降装置において、
前記支持板（５１）が、前記受台（４２）上に載置されている状態であるときに、前記回転軸（５３）に、垂直に下方に伸びて固定されたローラ支持部材（６）と、
前記ローラ支持部材（６）の先端に回転自在に支持したガイドローラ（６１）と、
前記カセットローディング室（２）の下面（２３）に、上方に伸びて固定され、前記昇降ロッド（４１）の下降とともに前記ステージ（５）が、前記回転軸（５３）を中心にして回転させたときに前記ガイドローラ（６１）が移動する湾曲した軌跡に沿って形成した、前記ガイドローラが係合し得るカム溝（７１）を有し、前記昇降ロッド（４１）の下降時に、前記ガイドローラ（６１）を前記カム溝（７１）内に係合させ、前記ガイドローラ（６１）を案内して、前記ステージ（５）とともに前記ウエハカセット（３）を、前記回転軸（５３）を中心にして回転させるカム部材（７）と、
を備えたことを特徴とするウエハカセット昇降装置。 - 半導体製造装置のカセットローディング室（２）の下面（２３）を貫通して昇降する昇降ロッド（４１）と、
前記昇降ロッド（４１）の上部に、前記昇降ロッド（４１）に対して垂直方向に設けられた平面状の受台（４２）と、
前記受台（４２）上に、軸の方向が前記受台（４２）の面と平行になるように設けられた軸受（４３）と、
前記軸受（４３）に回転自在に支持された回転軸（５３）と、
前記受台（４２）の面と平行な平面状の支持板（５１）と、この支持板（５１）に直交して接合する平面状の支持板（５２）を備え、この二つの支持板（５１），（５２）の接合する部分に沿って前記回転軸（５３）を固定して回転自在に支持させるとともに、前記二つの支持板（５１），（５２）でウエハカセット（３）を、前記回転軸（５３）の回りに回転可能に把持するステージ（５）と、を備えたウエハカセット昇降装置において、
前記支持板（５１）が、前記受台（４２）上に載置されている状態であるときに、前記回転軸（５３）に、この回転軸（５３）よりも前記昇降ロッド（４１）寄りの斜め下方に向けて固定したカム部材（８）と、
前記カム部材（８）の先端部に設けた長穴からなるカム溝（８１）と、
前記カセットローディング室（２）の下面（２３）に、上方に伸びて固定されるとともに、上端部に、前記カム溝（８１）と常に係合するガイドローラ（９１）を有し、前記昇降ロッド（４１）の下降とともに前記カム部材（８）のカム溝（８１）が、前記ガイドロ−ラ（９１）と接触してスライドしつつ前記カム部材（８）を前記回転軸（５３）を中心にして回転させ、前記ステージ（５）とともに前記ウエハカセット（３）を、前記回転軸（５３）を中心にして回転させるローラ支持部材（９）と、
を備えたことを特徴とするウエハカセット昇降装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2670498A JP4048551B2 (ja) | 1998-01-23 | 1998-01-23 | ウエハカセット昇降装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2670498A JP4048551B2 (ja) | 1998-01-23 | 1998-01-23 | ウエハカセット昇降装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11214480A JPH11214480A (ja) | 1999-08-06 |
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