JPH11200651A - クリーンルーム建物及びその施工方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 大規模なクリーンルームを設けた多層構造の
クリーンルーム建物及びその施工方法を提供する。 【解決手段】 クリーンルームの上層域（１層目）にシ
ステム天井面から下向きに循環空気をクリーンルームへ
吹き出すための空気室が設けられ、クリーンルーム（２
層目）の下層域（３層目）にクリーンルームを下向きに
通過した空気流をシステム床面から流出させる循環空気
室を兼ねてユーティリティスペースが設けられ、前記ユ
ーティリティスペースの下層域（４層目）にメインダク
ト、主配管類の主設備スペースが設けられて少なくとも
４層構造に構成されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、例えば半導体な
どの電子装置を製造する電子産業の製造工場のほか製薬
工場、手術室、生物実験室などに使用される大規模なク
リーンルームを設けた多層構造のクリーンルーム建物及
びその施工方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、クリーンルームは、高品位の半導
体などを製造するために空気中の浮遊粒状物質の含有レ
ベル及び温度、湿度、気圧等の環境条件を厳格に管理さ
れた閉鎖空間として多層建物内の一層に用意されるが、
その一般的構成要件はおよそ図３に示す３層構造を１単
位として構築されている。

【０００３】このクリーンルームの基本的構成を、概説
すると次のようである。図３中の符号２が半導体の製造
空間としてのクリーンルームであり、２層目に形成さ
れている。符号１は清浄化処理された循環空気をクリー
ンルーム１に向けて天井フィルター面３から下向きに均
一な層流として吹き出すためクリーンルーム２の上層域
（１層目）に設けられた空気室（天井プレナム空間）
である。符号３は前記クリーンルーム２を下向きに通過
した空気流をシステム床面５から流出させ、再度前記空
気室１へ循環させる循環空気室であり、３層目に設け
られている。そして、この循環空気室３はまた、前記ク
リーンルーム２内に設備される半導体製造装置に付随す
るダクト、配管類、電気ケーブルその他の各種機器（ユ
ーティリティ）を設備するユーティリティ動線空間（ユ
ーティリティ空間）を兼ねるスペースでもある。

【０００４】建物の構造形式としては、クリーンルーム
２を設けた２層目を中心として、その上層域（１層目
）の空気室１、及び下層域（３層目）のユーーティ
リティスペース３の合計３層構造で構成されている。図
３中の符号６は１時間当たり２００〜３００回の換気の
ための換気用ファン、７は発熱分を冷却するためのクー
リングコイルである。

【０００５】従来のクリーンルーム建物は、上記３層
〜の基本的構成を必要空間として確保した上で、その
建築施工が例えば図４と図６に工程表を示した要領と手
順で順次に行われる。図４はクリーンルームを含む１層
目と２層目の工程表であり、図６は３層目の工程表であ
る。以下に先ず図４の工程表の要点を符号と共に説明す
る。

【０００６】建物の鉄骨建方Ａが完了し、次に２層目と
３層目の境界に位置するプレキャストコンクリート（Ｐ
Ｃ）小梁１３の取付け施工Ａ′を行う。該ＰＣ小梁１３
の上に足場板の敷き込みＢを行い、この足場板の上に、
１層目の各種工事が可能な高さを確保する３段の足場Ｃ
を組み立てる。そして、前記３段足場の頂部に足場板の
敷き込みＢ′を行い、こうして用意した足場に基づいて
空気室２（エアーチャンバー）の屋根、天井などの上部
作業Ｄを行う。その後、前記の足場を１段づつ撤去し足
場板の敷き直しを行いながら、順次下位のシステム天井
の吊り下げ部材の取付けＥ、１層目の鉄骨（トラス）周
辺の清掃、塗装、補修Ｆ、システム天井工事（フィルタ
ーフレームの取付け）Ｇを行い、足場を全部撤去してか
ら、前記ＰＣ小梁１３の上にシステム床面５（フリーア
クセスパネル）根太工事、養生Ｈを行い、全体の清掃Ｉ
の後、システム床面（フリーアクセスパネル）の敷き込
みＨ′を行い、前記システム床面５の上に養生シートの
敷き込みＪ、その上にローリングタワーを立ててシステ
ム天井の高性能フィルターの取付けＫを行う。その後、
前記養生シートの撤去Ｌを行って全工程が終了する。

【０００７】一方、３層目では、図６の工程表の手順
が実行される。以下に、その要点を符号と共に説明する
が、この工程表の符号Ａ〜Ｋは上記ず４の符号とは一致
していないことを注意されたい。図４の工程表に先行し
て、１階床工事Ａを行い、その後に鉄骨建方ＢとＰＣ小
梁１３の取付けＣを重機類を使用して行い，床コンクリ
ート打設Ａ′の施工が並行して進められる。１階床コン
クリートの養生後に、その床上に前記ＰＣ小梁１３に十
分届く高さの３段足場の構築Ｄを行い、足場板を敷き込
み、ＰＣ小梁１３の補修、清掃、塗装Ｅなどを行い、同
小梁１３へ配管等の支持用アンカーの設置と吊り金物の
取付けＦを行う。その後、足場の一部バラシＤ′と足場
板の敷き直しを行い、配管工事、ダクト工事、電気ケー
ブル工事等Ｈを２階床下までの立ち上がりとして行う。
その後、足場のバラシと足場板の敷き直しを順次に行
い、配管、ダクト及び電気ケーブルのの工事を進め、足
場を全部撤去Ｄ′した後に、設備機器の設置、配管、ダ
クト及び電気ケーブルの接続Ｊを行い、最後に３層目の
床（１階床）の仕上げＫを行って全工程が終了する。

【０００８】上述したように、従来のクリーンルーム建
物の建築施工の方法は、施工の必要に応じてその都度、
仮設の支保工、足場支持材、足場板等を多様に利用し、
必要な工事を行った後には前記の仮設材を撤去する工程
を含み、格別に短工期の対応は行われていないのであ
る。

【０００９】

【本発明が解決しようとする課題】クリーンルーム建物
の建築施工は、同クリーンルームの使用（半導体装置な
どの製造）を急ぐ関係上、短工期の施工が強く要望され
る。その上、半導体などを製造する工場としてのクリー
ンルーム建物は、間口幅が６０〜１００ｍ、奥行き寸法
は１００〜３００ｍ程度に大規模なので、短工期の対応
は施工費を節減する面からも強く要望される。

【００１０】しかるに、従来は上述したように施工の必
要に応じて仮設の支保工、足場支持材、足場板等を多様
に利用し、必要な工事を行った後には前記の仮設材を撤
去する工程を含むなど、格別に短工期の対応は行われて
おらず、工期が長いという問題点が指摘されている。即
ち、鉄骨躯体の建方工事につづく後工程として、床工
事、天井工事、屋根工事、そして、配管類や機器類の設
備工事、更に製造装置の設置や関連設備との接続工事
を、仮設の支保工、足場支持材、足場板等を多様に利用
して順次に行っているにすぎない。具体的に言えば、ク
リーンルーム２のシステム床面５（２階床）より上方の
１層目及び２層目の各工程は、先ずＰＣ小梁１３の上に
足場板の敷き込みＢを行い、その上に３段足場を組み立
てＣ，該足場を基礎として以下の工程を進めるから、こ
の足場が存在する限りは、足場周辺及び下面の工程は一
切進められず、足場を解体撤去した後の工程になる（図
４）。同様に、前記ＰＣ小梁１３より下方の３層目につ
いても、その床コンクリートの上に３段足場を組み立て
るから、やはりこの足場の周辺及び下面の工程は、足場
の解体撤去後の工程になってしまう。従って、建築生産
の工場加工化、パッケージ化、或いは工程の輻輳化など
は皆無に等しい。

【００１１】その原因は、クリーンルーム建物の構造自
体にも問題がある。図３に示した従来例で明らかなよう
に、クリーンルーム１の下層域（３層目）に１層の循環
空気室兼ユーティリティスペース４のみ有する構造で
は、とうてい短工期の対応は採用のしようがないと言え
る。と言うのも、特に半導体装置などを製造する工場と
してのクリーンルームの場合は、前記クリーンルームの
機能に必要なダクト、配管、機器類が数１０種類も並設
される。その上に、前記クリーンルーム１内に設置した
製造装置に必要とされるダクト、配管類、電線、ケーブ
ル類、そして補機類（ユーティリティ）が、１００種類
前後も、メインとサブに使い分けて、同じ循環空気室兼
ユーティリティスペース４内に所狭しと設備される。こ
うして大量の設備品が唯一の循環空気室兼ユーティリテ
ィスペース４内に雑然と錯綜した状態に設置されるか
ら、工程上、短工期対応のしようがないというのが実情
である。勿論、設備品が多いほど循環空気の流れに障害
となることも事実である。

【００１２】従って、本発明の目的は、クリーンルーム
建物の短工期対応の建築施工を可能にすること、換言す
れば、鉄骨建方の完成後は、仮設材をほとんど使用する
ことなく、上下４層に分かれて輻輳する工事（工程）を
進めることが可能で、工程が輻輳する分だけ短工期対応
の施工が可能に改良したクリーンルーム建物及びその施
工方法を提供することである。

【００１３】本発明の次の目的は、上下方向にクリーン
ルームを中心として機能分化した少なくとも４層構造に
構成したクリーンルーム建物及びその施工方法を提供す
ることである。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めの手段として、請求項１記載の発明に係るクリーンル
ーム建物は、半導体などの製造域として空気中の浮遊粒
状物質の含有レベル及び温度、湿度、気圧等の環境条件
を管理されたクリーンルーム層を設けた多層構造のクリ
ーンルーム建物において、クリーンルームの上層域（１
層目）に、高性能フィルターで構成したシステム天井面
から下向きに循環空気を均一な層流としてクリーンルー
ムへ吹き出すための空気室が設けられ、クリーンルーム
が２層目を形成し、その下層域（３層目）に、クリーン
ルームを下向きに通過した空気流をシステム床面から流
出させる循環空気室を兼ねてダクト、配管類等を設備す
るユーティリティスペースが設けられており、更に前記
ユーティリティスペースの下層域（４層目）に、メイン
ダクト、主配管類やユーティリ用の１次又は２次の機
器、或いは製造装置の補機類を設備する主設備スペース
が設けられて少なくとも４層構造に構成されており、前
記３層目と４層目の境界は空気を仕切った構成とされて
いることを特徴とする。

【００１５】請求項２記載の発明は、請求項１記載のク
リーンルーム建物における３層目と４層目の境界は、発
塵が少なく、配管等の貫通をしやすい床材により空気を
仕切った構成で区画されていることを特徴とする、。請
求項３記載の発明に係るクリーンルーム建物の施工方法
は、クリーンルームの上層域（１層目）に、高性能フィ
ルターで形成したシステム天井面から下向きに循環空気
を均一な層流としてクリーンルームへ吹き出すための空
気室を設け、クリーンルームが２層目を形成し、その下
層域（３層目）に、クリーンルームを下向きに通過した
空気流をシステム床面から流出させる循環空気室を兼ね
てダクト、配管類等を設備するユーティリティスペース
を設け、更に前記ユーティリティスペースの下層域（４
層目）に、メインダクト、主配管類やユーティリ用の１
次又は２次の機器、或いは製造装置の補機類を設備する
主設備スペースを設け少なくとも４層構造の建物を構成
すること、前記４層構造のうち、１層目の屋根工事や天
井工事、及び清掃工事などは、建物躯体の鉄骨建方の
後、１層目と２層目の間の鉄骨梁上にシステム天井の吊
り用横架材を設置し、前記横架材の上に足場板を敷き、
同足場板の上に仮設の台を用意して施工を行い、合わせ
て前記吊り用横架材にシステム天井の吊り用下地材も取
り付けること、同時期に、２層目と３層目の境界部位に
小梁の取付けを行い、該小梁上にクリーンルームのシス
テム床面の下地施工を行い、全体の清掃を行った後にシ
ステム床面の設置施工を行い、完成したシステム床面の
上に養生シートを敷き込み、その上にローリングタワー
を立ててクリーンルームのシステム天井の施工を行い、
前記の養生シートを撤去して１層目と２層目の工事を完
成する等々の各工事、作業を上下輻輳して行うことを特
徴とする。

【００１６】請求項４記載の発明に係るクリーンルーム
建物の施工方法は、クリーンルームの上層域（１層目）
に、高性能フィルターで形成したシステム天井面から下
向きに循環空気を均一な層流としてクリーンルームへ吹
き出すための空気室を設け、クリーンルームが２層目を
形成し、その下層域（３層目）に、クリーンルームを下
向きに通過した空気流をシステム床面から流出させる循
環空気室を兼ねてダクト、配管類等を設備するユーティ
リティスペースを設け、更に前記ユーティリティスペー
スの下層域（４層目）に、メインダクト、主配管類やユ
ーティリ用の１次又は２次の機器、或いは製造装置の補
機類を設備する主設備スペースを設け少なくとも４層構
造の建物を構成すること、前記４層構造の建物は、４層
目の１階床工事の後に建物躯体の鉄骨建方を進め、２層
目と３層目の境界部位に小梁の取付けを行うと共に３層
目の中二階にサブ構造体（ブドウ棚）を設置し、このサ
ブ構造体の上に足場板を敷き、脚立などの台を使用して
小梁の補修、塗装や清掃を行い、サブ構造体上ではクリ
ーンルームに必要とされる配管工事、ダクト工事、電気
工事や機器類の設備工事を行い、つづいて清掃を行うこ
と、同時期に、一階床上では主要な設備機器の設置工
事、主配管、ダクト類、電気ケーブルの接続等の作業を
行い、その後１階床の仕上げを行う、等々の各工事、作
業を上下輻輳して行うことを特徴とする。

【００１７】請求項５記載記載の発明は、請求項３又は
４に記載したクリーンルーム建物の施工方法において、
４層構造建物の鉄骨その他の部材が工場加工材として予
め工場で加工されており、４層構造の鉄骨躯体が一括し
て建方施工されることを特徴とする。

【００１８】

【発明の実施形態及び実施例】請求項１及び３、４記載
の発明に係るクリーンルーム建物及びその施工方法は、
例えば半導体装置などの製造域として空気中の浮遊粒状
物質の含有レベル及び温度、湿度、気圧等の環境条件を
厳格に管理されたクリーンルーム層を設けた多層構造の
クリーンルーム建物について好適に実施される。

【００１９】構造の具体的な実施例は、図１及び図２に
例示した。要するに４層構造（層〜層）の建物であ
る。柱２０、梁２１等による主要躯体は鉄骨造の構成と
し、クリーンルーム２は２層目に形成され、その上層
域（１層目）に、高性能フィルターで構成したシステ
ム天井面８から下向きに循環空気を均一な層流としてク
リーンルーム２へ吹き出すための空気室１が設けられて
いる。

【００２０】前記クリーンルーム２の下層域（３層目
）には、クリーンルーム２を下向きに通過した空気流
をシステム床面５から流出させる循環空気室を兼ねてダ
クト、配管類等を設備するユーティリティスペース３が
設けられている。更に前記ユーティリティスペース３の
下層域（４層目）には、メインダクト、主配管類やユー
ティリ用の１次又は２次の機器、或いは製造装置の補機
類を設備する主設備スペース４が追加の層として設け
られ４層構造に構成されている。

【００２１】３層目と４層目の境界は、発塵が少な
く、配管類を貫通させ易いデッキ床１４により空気を気
密的に仕切った構成できっちり区画されている（請求項
２記載の発明）。前記柱２０、梁２１による鉄骨躯体の
建方に際しては、鉄骨その他の部材が工場加工材として
予め工場で加工されており、４層構造の鉄骨躯体が現場
で一括して（同時に）建方施工される（請求項４記載の
発明）。そして、後工程の付属品は可能な限りパッケー
ジ化し、或いは機能複合化しておく。

【００２２】例えば前記循環空気室兼ユーティリティス
ペース３に関しては、その上部に、クリーンルーム２内
に設置した製造装置と接続するユーティリティダクト、
補機類（所謂ユーティリティ）１０を設備する中二階の
サブ構造体９（通称、ブドウ棚）が設けられている。こ
のサブ構造体９の上には、前記クリーンルーム１内の製
造装置と最短に接続するユーティリティダクト（配管
類、ダクト類、電気ケーブル）や１次、２次の補機類
（所謂ユーティリティ）１０を設備する。その結果、循
環空気室兼ユーティリティスペース３内の空間はすっき
りと整理、整頓されて風通しの良い構成となることは勿
論、同循環空気室兼ユーティリティスペース３内に設備
する他のメイン、サブの機器類、配管類の設備スペース
を楽に確保出来る。

【００２３】上記のようにクリーンルーム建物を少なく
とも４層構造に構成する結果、各層に必要な床工事、天
井工事、屋根工事、及び配管類や機器類の設備工事は上
下輻輳して行うことが可能となる。具体的には、従来の
工程表と対比して示した図５と図７に示した工程表の要
領と手順が実施される。図５はクリーンルーム２を含む
１層目と２層目の工程表であり、図７は３層目と
４層目の工程表である。

【００２４】先ず、図５の工程表の要点を説明する。図
５は、図４に示した従来の１本線状の工程が、どのよう
に上下輻輳した工程で実施されるかを一見して明らかな
ように、時系列を共通化させて示している。各工程の内
容を示す符号Ａ〜Ｋは図４と共通に示している。建物の
鉄骨建方Ａが完了すると直ちに、２層目と３層目の
境界位置ではプレキャストコンクリート（ＰＣ）小梁１
３の取付け施工Ａ′が、そして、上方の１層目と２層
目の境界位置では鉄骨梁２１の上にシステム天井の吊
り下げ部材を取り付ける横架材１５（図１）を一定間隔
で架設する作業Ｅ′とが、それぞれ並行して行われる。

【００２５】更に、前記横架材１５の上に足場板１６の
敷き込みＢ′を行い、その上に脚立１７を立てて空気室
１（エアーチャンバー）の上部作業Ｄ（屋根工事、天井
工事など）を行う。同時に、前記横架材１５に吊り部材
１２を取付ける作業Ｅ、及びシステム天井のフィルター
フレーム取付け作業Ｇをそれぞれ前記横架材１５と足場
板１６とを足掛かりに行う。

【００２６】同時期に前記ＰＣ小梁１３の取付けＡ′に
続いて、クリーンルーム２のシステム床５（フリーアク
セスフロア）の根太工事と養生Ｈを行う。そして、上部
構造（トラスなど）周辺の清掃、塗装、補修などＦと、
全体の清掃Ｉを行って、システム床面５の設置（パネル
敷き込みなど）と養生Ｈ′を行い、システム床５が出来
次第に、その上に養生シートの敷き込みＪを行い、同シ
ートの上にローリングタワー１８を立て、システム天井
８の高性能フィルターの取付けＫを行い，その後前記養
生シートを撤去する工程Ｌは従来の図４に示した工程と
同じである。

【００２７】一方、３層目と４層目に関しては、図７
の工程表の手順が実行される。図７は図６の従来例と共
通な時系列で、工程が上下に輻輳す態様を、図６と共通
な意味、内容の符号Ａ〜Ｋを用いて表している。但し、
符号Ａ〜Ｋの意味、内容は、図４、図５の符号とは異な
っていることに注意されたい。図７の要点は、４層目
における１階床工事Ａと、同床コンクリートの打設工事
Ａ′の後に、上記の鉄骨建方Ｂが行われること。そし
て、上記したＰＣ小梁の取付けＣと並行して、その下方
では３層目の中２階にサブ構造体（ブドウ棚）９の設
置施工Ａ”を行い、このサブ構造体９の上に足場板の設
置Ｄ”を行う。前記足場の上で、ＰＣ小梁１３の清掃、
補修、塗装等Ｅ、Ｇを行う。また、サブ構造体９の上に
クリーンルーム２の製造装置に必要な配管、ダクト、電
気ケーブル等の立ち上げ配設、及び１次、２次の補機類
等の設置工事Ｈを行う。

【００２８】同時期に、１階床上では、サブ又はメイン
の設備機器類の据え付けやダクト、配管、電気ケーブル
の接続工事Ｊが行われる。そして、各部所及び全体の清
掃Ｇを行った後に、１階の床仕上げＫを行い、全ての工
程を終了する。以上、要するに、本発明の施工方法で
は、建物の上下の層に分かれて輻輳した工程が順次に実
施され、その分の工期が短縮される。と同時に、仮設材
は殆ど使用せず、よって仮設材の出し入れ、組み立てや
解体撤去の手間が殆どなく、また、仮設材が存在するが
故の工程消化の障害が皆無とされる。こうして４層の設
備工事は、上下の関係で混乱を生ずることなく、輻輳し
て粛々と進めることができる。その結果、各層毎に順次
行う従前の工法に比して数分の一の短工期で施工を進め
ることが出来、施主の要請に良く応ずることが出来るの
である。

【００２９】なお、本発明の実施形態は、上記の４層構
造を基本とするものであって、クリーンルームが複数階
の建物とする場合には、前記の４層構造を１ユニットと
して複数ユニット積み重ねた構成とされる。また、主設
備スペース８は１層（Ｄ層）の限りではなくスペースの
要求に応じて更にＥ層，Ｆ層を追加した構成で実施する
ことは当然に実施形態に包含される。

【００３０】

【本発明の奏する効果】本発明に係るクリーンルーム建
物及びその施工方法によれば、建物の構造上、特に３層
目の他に更に４層目が用意されて、循環空気の通路
（循環空気室兼ユティリティスペース３）と、製造装置
の補機類を設備する主設備スペース４を設けたので、空
気の循環に抵抗が小さく、また、各種の設備スペースを
必要十分に確保することができる。

【００３１】その一方で、上下の輻輳工事が可能に構成
されているので、同時施工によって短工期化を達成して
クリーンルームの早期使用に寄与することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るクリーンルーム建物の象徴的な構
造部分を示した垂直断面図である。

【図２】同上建物の付属設備関連の構造部分を示した垂
直断面図である。

【図３】従来一般のクリーンルーム建物を概念的に示し
た断面図である。

【図４】従来のクリーンルーム建物の１層目及び２層目
に関する施工方法の工程表である。

【図５】本発明に係るクリーンルーム建物の施工方法の
うち１層目及び２層目に関する工程表である。

【図６】従来のクリーンルーム建物の３層目に関する施
工方法の工程表である。

【図７】本発明に係るクリーンルーム建物の施工方法の
うち３層目及び４層目に関する工程表である。

【符号の説明】

１ 空気室 ８ システム天井面 ２ クリーンルーム ５ システム床面 ３ 循環空気室兼ユーティリティスペース ４ 主設備スペース ９ サブ構造体

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 半導体などの製造域として空気中の浮遊
   粒状物質の含有レベル及び温度、湿度、気圧等の環境条
   件を管理されたクリーンルーム層を設けた多層構造のク
   リーンルーム建物において、 クリーンルームの上層域（１層目）に、高性能フィルタ
   ーで構成したシステム天井面から下向きに循環空気を均
   一な層流としてクリーンルームへ吹き出すための空気室
   が設けられ、 クリーンルームが２層目を形成し、その下層域（３層
   目）に、クリーンルームを下向きに通過した空気流をシ
   ステム床面から流出させる循環空気室を兼ねてダクト、
   配管類等を設備するユーティリティスペースが設けられ
   ており、 更に前記ユーティリティスペースの下層域（４層目）
   に、メインダクト、主配管類やユーティリ用の１次又は
   ２次の機器、或いは製造装置の補機類を設備する主設備
   スペースが設けられて少なくとも４層構造に構成されて
   おり、前記３層目と４層目の境界は空気を仕切った構成
   とされていることを特徴とするクリーンルーム建物。
2. 【請求項２】 ３層目と４層目の境界は、発塵が少な
   く、配管等の貫通をしやすい床材により空気を仕切った
   構成で区画されていることを特徴とする、請求項１記載
   のクリーンルーム建物。
3. 【請求項３】 クリーンルームの上層域（１層目）に、
   高性能フィルターで形成したシステム天井面から下向き
   に循環空気を均一な層流としてクリーンルームへ吹き出
   すための空気室を設け、クリーンルームが２層目を形成
   し、その下層域（３層目）に、クリーンルームを下向き
   に通過した空気流をシステム床面から流出させる循環空
   気室を兼ねてダクト、配管類等を設備するユーティリテ
   ィスペースを設け、更に前記ユーティリティスペースの
   下層域（４層目）に、メインダクト、主配管類やユーテ
   ィリ用の１次又は２次の機器、或いは製造装置の補機類
   を設備する主設備スペースを設け少なくとも４層構造の
   建物を構成すること、 前記４層構造のうち、１層目の屋根工事や天井工事、及
   び清掃工事などは、建物躯体の鉄骨建方の後、１層目と
   ２層目の間の鉄骨梁上にシステム天井の吊り用横架材を
   設置し、前記横架材の上に足場板を敷き、同足場板の上
   に仮設の台を用意して施工を行い、合わせて前記吊り用
   横架材にシステム天井の吊り用下地材も取り付けるこ
   と、 同時期に、２層目と３層目の境界部位に小梁の取付けを
   行い、該小梁上にクリーンルームのシステム床面の下地
   施工を行い、 全体の清掃を行った後にシステム床面の設置施工を行
   い、完成したシステム床面の上に養生シートを敷き込
   み、その上にローリングタワーを立ててクリーンルーム
   のシステム天井の施工を行い、 前記の養生シートを撤去して１層目と２層目の工事を完
   成する等々の各工事、作業を上下輻輳して行うことを特
   徴とする、クリーンルーム建物の施工方法。
4. 【請求項４】 クリーンルームの上層域（１層目）に、
   高性能フィルターで形成したシステム天井面から下向き
   に循環空気を均一な層流としてクリーンルームへ吹き出
   すための空気室を設け、クリーンルームが２層目を形成
   し、その下層域（３層目）に、クリーンルームを下向き
   に通過した空気流をシステム床面から流出させる循環空
   気室を兼ねてダクト、配管類等を設備するユーティリテ
   ィスペースを設け、更に前記ユーティリティスペースの
   下層域（４層目）に、メインダクト、主配管類やユーテ
   ィリ用の１次又は２次の機器、或いは製造装置の補機類
   を設備する主設備スペースを設け少なくとも４層構造の
   建物を構成すること、 前記４層構造の建物は、４層目の１階床工事の後に建物
   躯体の鉄骨建方を進め、２層目と３層目の境界部位に小
   梁の取付けを行うと共に３層目の中二階にサブ構造体
   （ブドウ棚）を設置し、このサブ構造体の上に足場板を
   敷き、脚立などの台を使用して小梁の補修、塗装や清掃
   を行い、サブ構造体上ではクリーンルームに必要とされ
   る配管工事、ダクト工事、電気工事や機器類の設備工事
   を行い、つづいて清掃を行うこと、 同時期に、一階床上では主要な設備機器の設置工事、主
   配管、ダクト類、電気ケーブルの接続等の作業を行い、
   その後１階床の仕上げを行う、等々の各工事、作業を上
   下輻輳して行うことを特徴とする、クリーンルーム建物
   の施工方法。
5. 【請求項５】 ４層構造建物の鉄骨その他の部材が工場
   加工材として予め工場で加工されており、４層構造の鉄
   骨躯体が一括して建方施工されることを特徴とする、請
   求項３又は４に記載したクリーンルーム建物の施工方
   法。