JPH1119489A - 膜モジュールの洗浄方法 - Google Patents
膜モジュールの洗浄方法Info
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- JPH1119489A JPH1119489A JP18732797A JP18732797A JPH1119489A JP H1119489 A JPH1119489 A JP H1119489A JP 18732797 A JP18732797 A JP 18732797A JP 18732797 A JP18732797 A JP 18732797A JP H1119489 A JPH1119489 A JP H1119489A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 河川水や地下水などの自然水の浄水処理に使
用された膜モジュールの膜を劣化させることなくモジュ
ール性能を回復させる洗浄方法を提供する。 【解決手段】 膜モジュールを洗浄してモジュール性能
を回復させる洗浄方法において、はじめに酸性に調整さ
れた金属イオン封鎖剤を含有する第１洗浄液で洗浄し、
次に弱アルカリ性に調整された過ホウ酸塩を含有する第
２洗浄液を用いて洗浄する洗浄方法。
用された膜モジュールの膜を劣化させることなくモジュ
ール性能を回復させる洗浄方法を提供する。 【解決手段】 膜モジュールを洗浄してモジュール性能
を回復させる洗浄方法において、はじめに酸性に調整さ
れた金属イオン封鎖剤を含有する第１洗浄液で洗浄し、
次に弱アルカリ性に調整された過ホウ酸塩を含有する第
２洗浄液を用いて洗浄する洗浄方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は河川水や地下水など
の自然水の浄水処理に使用された膜モジュール内の膜表
面に、ファウリング物質が沈着堆積することによって、
膜モジュール差圧の上昇や、透水量低下、除去率の変化
など膜性能の変化した膜モジュールを膜を劣化させるこ
となくモジュール性能を回復させる洗浄方法に関する。
の自然水の浄水処理に使用された膜モジュール内の膜表
面に、ファウリング物質が沈着堆積することによって、
膜モジュール差圧の上昇や、透水量低下、除去率の変化
など膜性能の変化した膜モジュールを膜を劣化させるこ
となくモジュール性能を回復させる洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】最近、河川水や地下水等の自然水の浄水
処理において、凝集沈殿に代わる処理方法として膜分離
技術を適用する処理方法が注目されている。
処理において、凝集沈殿に代わる処理方法として膜分離
技術を適用する処理方法が注目されている。
【０００３】膜分離による浄水処理は膜の１次側より未
浄化水を供給し２次側に浄化された水を回収する処理方
法である。効率的に浄水を使用するために高回収率の処
理が要求される。そのため膜の１次側には高濃度に濃縮
された濃縮液が接触する。膜モジュールの浄水処理を継
続すると、濃縮液中のファウラントが膜面に沈着堆積
し、モジュール差圧の上昇や、透水量の低下、除去率の
変化を引き起こす。このため上記の特性値の変化が一定
条件に達すると膜モジュールを洗浄する必要がある。な
お、ここでのモジュール差圧とはモジュール差圧の供給
水圧力と濃縮水圧力の差である。
浄化水を供給し２次側に浄化された水を回収する処理方
法である。効率的に浄水を使用するために高回収率の処
理が要求される。そのため膜の１次側には高濃度に濃縮
された濃縮液が接触する。膜モジュールの浄水処理を継
続すると、濃縮液中のファウラントが膜面に沈着堆積
し、モジュール差圧の上昇や、透水量の低下、除去率の
変化を引き起こす。このため上記の特性値の変化が一定
条件に達すると膜モジュールを洗浄する必要がある。な
お、ここでのモジュール差圧とはモジュール差圧の供給
水圧力と濃縮水圧力の差である。
【０００４】ファウリング物質の沈着堆積により性能が
低下した膜モジュールを洗浄しモジュール性能を回復さ
せる方法として、定期的に高速流で膜面をフラッシング
する方法や空気でスクラビングする物理的な洗浄方法が
行われている。また、上記洗浄方法をおこなっても性能
低下が著しく洗浄による性能回復が不十分である場合、
クエン酸や水酸化ナトリウム、次亜塩素酸ナトリウム等
の薬品による化学的洗浄がおこなわれている。またパル
プ廃水等の処理での洗浄として、強アルカリ性の過ホウ
酸塩による洗浄方法が特開昭５５−７５７０６号公報に
開示されている。そしてエチレンジアミン四酢酸と過ホ
ウ酸ナトリウムの混合液にて、ポリアクリロニトリルや
アクリロニトリルを主成分とする共重合体の膜を洗浄す
る方法が特開昭５４−２３０８０号公報に開示されてい
る。
低下した膜モジュールを洗浄しモジュール性能を回復さ
せる方法として、定期的に高速流で膜面をフラッシング
する方法や空気でスクラビングする物理的な洗浄方法が
行われている。また、上記洗浄方法をおこなっても性能
低下が著しく洗浄による性能回復が不十分である場合、
クエン酸や水酸化ナトリウム、次亜塩素酸ナトリウム等
の薬品による化学的洗浄がおこなわれている。またパル
プ廃水等の処理での洗浄として、強アルカリ性の過ホウ
酸塩による洗浄方法が特開昭５５−７５７０６号公報に
開示されている。そしてエチレンジアミン四酢酸と過ホ
ウ酸ナトリウムの混合液にて、ポリアクリロニトリルや
アクリロニトリルを主成分とする共重合体の膜を洗浄す
る方法が特開昭５４−２３０８０号公報に開示されてい
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながらフラッシ
ングや空気によるスクラビングでは、ファウラントの外
表部が主として除去され膜表面近傍のファウラントの除
去は十分に行われず、未除去物が累積、成長する場合が
ある。また化学的な分解がなされないため膜性能が回復
不能となる場合がある。金属イオン封鎖剤のクエン酸溶
液による洗浄では、金属のイオン、特に鉄、マンガン等
は除去可能であるが、有機物のファウラントの除去は困
難である。水酸化ナトリウム溶液による洗浄では、濁質
成分の除去には有効であるが、カルシウム塩、金属イオ
ンの除去は困難である。次亜塩素酸ナトリウム溶液によ
る洗浄では、有機物の分解には有効であるが、金属イオ
ン共存下ではその効果は低減する。過ホウ酸塩溶液単独
による洗浄では、高アルカリ溶液のため膜を劣化させる
恐れがあり、またファウラントに金属イオンが共存して
いる場合は膜を加速的に劣化させる。エチレンジアミン
四酢酸と過ホウ酸塩の混合溶液による洗浄では、エチレ
ンジアミン四酢酸によりファウラントから脱離したキレ
ートをつくらなかった金属イオンが過ホウ酸塩での反応
時に触媒として作用し膜を加速的に劣化させる。
ングや空気によるスクラビングでは、ファウラントの外
表部が主として除去され膜表面近傍のファウラントの除
去は十分に行われず、未除去物が累積、成長する場合が
ある。また化学的な分解がなされないため膜性能が回復
不能となる場合がある。金属イオン封鎖剤のクエン酸溶
液による洗浄では、金属のイオン、特に鉄、マンガン等
は除去可能であるが、有機物のファウラントの除去は困
難である。水酸化ナトリウム溶液による洗浄では、濁質
成分の除去には有効であるが、カルシウム塩、金属イオ
ンの除去は困難である。次亜塩素酸ナトリウム溶液によ
る洗浄では、有機物の分解には有効であるが、金属イオ
ン共存下ではその効果は低減する。過ホウ酸塩溶液単独
による洗浄では、高アルカリ溶液のため膜を劣化させる
恐れがあり、またファウラントに金属イオンが共存して
いる場合は膜を加速的に劣化させる。エチレンジアミン
四酢酸と過ホウ酸塩の混合溶液による洗浄では、エチレ
ンジアミン四酢酸によりファウラントから脱離したキレ
ートをつくらなかった金属イオンが過ホウ酸塩での反応
時に触媒として作用し膜を加速的に劣化させる。
【０００６】長期連続運転した膜モジュール、特に金属
イオンと有機物が共存してファウリングとなっている膜
モジュールを洗浄した場合、前項の理由により従来の薬
液洗浄では十分にファウラントを除去することができな
い。特に河川水や地下水などの自然水を浄水処理した膜
モジュールを従来の薬液で洗浄した場合、性能回復の効
果が小さい。
イオンと有機物が共存してファウリングとなっている膜
モジュールを洗浄した場合、前項の理由により従来の薬
液洗浄では十分にファウラントを除去することができな
い。特に河川水や地下水などの自然水を浄水処理した膜
モジュールを従来の薬液で洗浄した場合、性能回復の効
果が小さい。
【０００７】また酢酸セルロース系、ポリアミド系のよ
うな膜では、強アルカリ、強酸領域で薬品洗浄するとフ
ァウラントの除去はできるが、膜を劣化させ性能回復不
可能となる場合がある。さらに過ホウ酸塩のようなアル
カリ性洗浄液では、鉄やマンガンなどの金属イオンがフ
ァウラントに共存している場合、膜は加速的に劣化す
る。
うな膜では、強アルカリ、強酸領域で薬品洗浄するとフ
ァウラントの除去はできるが、膜を劣化させ性能回復不
可能となる場合がある。さらに過ホウ酸塩のようなアル
カリ性洗浄液では、鉄やマンガンなどの金属イオンがフ
ァウラントに共存している場合、膜は加速的に劣化す
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は性能低下した膜
モジュールを効果的に洗浄し性能回復するために、酸性
に調整された金属イオン封鎖剤を含有する第１洗浄液で
洗浄し十分に純水にて第１洗浄液を洗い流したのち、弱
アルカリ性に調整された過ホウ酸塩を含有する第２洗浄
液で洗浄をおこなう２ステップの洗浄方法である。
モジュールを効果的に洗浄し性能回復するために、酸性
に調整された金属イオン封鎖剤を含有する第１洗浄液で
洗浄し十分に純水にて第１洗浄液を洗い流したのち、弱
アルカリ性に調整された過ホウ酸塩を含有する第２洗浄
液で洗浄をおこなう２ステップの洗浄方法である。
【０００９】この方法による洗浄では、膜の劣化を起こ
させにくいｐＨ域で洗浄液を使用し、第１段階として、
金属イオン封鎖剤を含む第１洗浄液により膜面から金属
イオンを脱離させ、十分に第１洗浄液を洗い流し、第２
洗浄液に使用される弱アルカリ剤で洗浄時に膜を加速的
に劣化させる金属イオンを共存させないように除去す
る。その後、第２段階の過ホウ酸塩を含む第２洗浄液に
より、有機物由来のファウラントを除去し膜を劣化させ
ることなく膜モジュールの性能回復が可能となる。
させにくいｐＨ域で洗浄液を使用し、第１段階として、
金属イオン封鎖剤を含む第１洗浄液により膜面から金属
イオンを脱離させ、十分に第１洗浄液を洗い流し、第２
洗浄液に使用される弱アルカリ剤で洗浄時に膜を加速的
に劣化させる金属イオンを共存させないように除去す
る。その後、第２段階の過ホウ酸塩を含む第２洗浄液に
より、有機物由来のファウラントを除去し膜を劣化させ
ることなく膜モジュールの性能回復が可能となる。
【００１０】本発明における膜モジュールは、その膜素
材および膜構造は特に限定されない。たとえば酢酸セル
ロース系、ポリアミド系の非対称膜やポリアミド系、ポ
リスルホン系などの複合膜が挙げられる。
材および膜構造は特に限定されない。たとえば酢酸セル
ロース系、ポリアミド系の非対称膜やポリアミド系、ポ
リスルホン系などの複合膜が挙げられる。
【００１１】本発明における第１洗浄液の金属イオン封
鎖剤は金属イオンを封鎖するものであれば特に限定はな
い。たとえばクエン酸、クエン酸アンモニウム、クエン
酸ナトリウムなどが挙げられる。好ましくはクエン酸、
クエン酸アンモニウムが挙げられる。上記金属封鎖剤の
濃度は特に限定されないが１．０重量％以上３．０重量
％以下が好ましい。また膜を劣化させないために洗浄液
のｐＨは２．０以上４．５以下が好ましい。膜の劣化を
極小に抑えるためにはｐＨは４．０がより好ましい。
鎖剤は金属イオンを封鎖するものであれば特に限定はな
い。たとえばクエン酸、クエン酸アンモニウム、クエン
酸ナトリウムなどが挙げられる。好ましくはクエン酸、
クエン酸アンモニウムが挙げられる。上記金属封鎖剤の
濃度は特に限定されないが１．０重量％以上３．０重量
％以下が好ましい。また膜を劣化させないために洗浄液
のｐＨは２．０以上４．５以下が好ましい。膜の劣化を
極小に抑えるためにはｐＨは４．０がより好ましい。
【００１２】本発明における第２洗浄液の過ホウ酸塩に
は、過ホウ酸ナトリウム、過ホウ酸アンモニウムなどが
ある。好ましくは過ホウ酸ナトリウムが挙げられる。過
ホウ酸塩の濃度は特に限定されないが、本願の場合、過
ホウ酸塩の濃度が高いほど洗浄効果は大きくなるが、高
すぎると膜が劣化するため３．０重量％以下が好まし
い。一方、過ホウ酸塩の濃度が低いと膜モジュール性能
を回復するのに十分な洗浄効果が得られないため０．５
重量％以上が好ましい。より好ましくは２．０重量％以
上２．５重量％以下が挙げられる。また上記過ホウ酸塩
は膜を劣化させないために洗浄液のｐＨは８．５以上
９．５以下が好ましい。膜の劣化を極小に抑えるために
はｐＨは９．０以下がより好ましい。
は、過ホウ酸ナトリウム、過ホウ酸アンモニウムなどが
ある。好ましくは過ホウ酸ナトリウムが挙げられる。過
ホウ酸塩の濃度は特に限定されないが、本願の場合、過
ホウ酸塩の濃度が高いほど洗浄効果は大きくなるが、高
すぎると膜が劣化するため３．０重量％以下が好まし
い。一方、過ホウ酸塩の濃度が低いと膜モジュール性能
を回復するのに十分な洗浄効果が得られないため０．５
重量％以上が好ましい。より好ましくは２．０重量％以
上２．５重量％以下が挙げられる。また上記過ホウ酸塩
は膜を劣化させないために洗浄液のｐＨは８．５以上
９．５以下が好ましい。膜の劣化を極小に抑えるために
はｐＨは９．０以下がより好ましい。
【００１３】本発明における洗浄条件は、膜モジュール
の特性、形状により適宜決定される。洗浄液流れ方向
は、供給ポートから濃縮ポート、および／または濃縮ポ
ートから供給ポートへの流れ方向または、これらの組み
合わせが好ましい。洗浄液流量は特に限定されないが、
１．５L/min以上、１５L/min以下が好ましい。洗浄液温
度は２０℃以上５０℃以下が好ましい。洗浄サイクルは
循環、浸漬、もしくは循環と浸漬の繰り返しが好まし
い。洗浄時間は特に限定されないが２〜２０時間が好ま
しい。
の特性、形状により適宜決定される。洗浄液流れ方向
は、供給ポートから濃縮ポート、および／または濃縮ポ
ートから供給ポートへの流れ方向または、これらの組み
合わせが好ましい。洗浄液流量は特に限定されないが、
１．５L/min以上、１５L/min以下が好ましい。洗浄液温
度は２０℃以上５０℃以下が好ましい。洗浄サイクルは
循環、浸漬、もしくは循環と浸漬の繰り返しが好まし
い。洗浄時間は特に限定されないが２〜２０時間が好ま
しい。
【００１４】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが本発明はこれらに限定されるものではない。
るが本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１５】実施例１ ポリアミド系非対称中空糸膜を用いたナノろ過膜モジュ
ール（東洋紡績株式会社製）を使用し、前処理に精密ろ
過膜を用いて回収率９０％でワンパス運転により約１年
間実河川水の処理を実施した。定期的なフラッシングは
実施した。フラッシング条件は２時間毎に１回、処理時
の流量の４から５倍の流量にて実施した。運転初期はモ
ジュール差圧０．３５kg／cm2 であったが、長期連続運
転終了後、モジュール差圧は１．５kg／cm2 になった。
ール（東洋紡績株式会社製）を使用し、前処理に精密ろ
過膜を用いて回収率９０％でワンパス運転により約１年
間実河川水の処理を実施した。定期的なフラッシングは
実施した。フラッシング条件は２時間毎に１回、処理時
の流量の４から５倍の流量にて実施した。運転初期はモ
ジュール差圧０．３５kg／cm2 であったが、長期連続運
転終了後、モジュール差圧は１．５kg／cm2 になった。
【００１６】この膜モジュールについて、第１洗浄液と
してアンモニアにてｐＨ４．０に調整した２重量％クエ
ン酸洗浄液を使用し、洗浄液温度２５℃にて、モジュー
ルの供給ポートより濃縮ポートへ、液流量２L/minにて
洗浄液を流し、２０分間循環と４０分間浸漬を３回繰り
返し洗浄を実施した。純水にて流量１７L/min 、１時
間、第１洗浄液を洗い流したのち、第２洗浄液として塩
酸にてｐＨ９．０に調整した２重量％過ホウ酸ナトリウ
ム洗浄液を使用し、洗浄液温度３０℃にてモジュールの
供給ポートより濃縮ポートへ液流量２L/min にて洗浄液
を流し５時間循環洗浄を実施した。
してアンモニアにてｐＨ４．０に調整した２重量％クエ
ン酸洗浄液を使用し、洗浄液温度２５℃にて、モジュー
ルの供給ポートより濃縮ポートへ、液流量２L/minにて
洗浄液を流し、２０分間循環と４０分間浸漬を３回繰り
返し洗浄を実施した。純水にて流量１７L/min 、１時
間、第１洗浄液を洗い流したのち、第２洗浄液として塩
酸にてｐＨ９．０に調整した２重量％過ホウ酸ナトリウ
ム洗浄液を使用し、洗浄液温度３０℃にてモジュールの
供給ポートより濃縮ポートへ液流量２L/min にて洗浄液
を流し５時間循環洗浄を実施した。
【００１７】上記の洗浄方法で洗浄した膜モジュールの
モジュール差圧は０．４３kg／cm2となった。洗浄によ
るモジュール差圧の回復率は下式で定義され９２％の回
復率となった。
モジュール差圧は０．４３kg／cm2となった。洗浄によ
るモジュール差圧の回復率は下式で定義され９２％の回
復率となった。
【数１】
【００１８】比較例１ 実施例１の長期連続運転で使用した他の膜モジュールを
用いて、アンモニアにてｐＨ４．０に調整した２重量％
クエン酸洗浄液を使用し、洗浄液温度２５℃にて、モジ
ュールの供給ポートより濃縮ポートへ、液流量２L/min
にて洗浄液を流し、２０分循環と４０分浸漬を３回繰り
返し洗浄を実施した。
用いて、アンモニアにてｐＨ４．０に調整した２重量％
クエン酸洗浄液を使用し、洗浄液温度２５℃にて、モジ
ュールの供給ポートより濃縮ポートへ、液流量２L/min
にて洗浄液を流し、２０分循環と４０分浸漬を３回繰り
返し洗浄を実施した。
【００１９】上記の洗浄方法で洗浄した膜モジュールの
モジュール差圧は１．１kg／cm2 となった。洗浄による
回復率は２３％であった。
モジュール差圧は１．１kg／cm2 となった。洗浄による
回復率は２３％であった。
【００２０】比較例２ 実施例１の長期連続運転で使用した他の膜モジュールを
用いて、ｐＨ９．０に調整した水酸化ナトリウム洗浄液
を使用し、洗浄液温度２５℃にてモジュールの供給ポー
トより濃縮ポートへ液流量２L/min にて洗浄液を流し１
時間循環洗浄を実施した。
用いて、ｐＨ９．０に調整した水酸化ナトリウム洗浄液
を使用し、洗浄液温度２５℃にてモジュールの供給ポー
トより濃縮ポートへ液流量２L/min にて洗浄液を流し１
時間循環洗浄を実施した。
【００２１】上記の洗浄方法で洗浄した膜モジュールの
モジュール差圧は１．２kg／cm2 となった。洗浄による
回復率は１５％であった。
モジュール差圧は１．２kg／cm2 となった。洗浄による
回復率は１５％であった。
【００２２】比較例３ 実施例１で使用した他の膜モジュールを用いて、膜モジ
ュール内を満水にし６０m3／ｈの空気をモジュールの供
給ポートより濃縮ポートへ３０秒間流入させ、モジュー
ル内付着物を除去するために純水にてモジュールの供給
ポートより濃縮ポートへ流量１７L/min 、３分通水し、
はく離物を押出し洗浄しこれを３５回繰り返した。
ュール内を満水にし６０m3／ｈの空気をモジュールの供
給ポートより濃縮ポートへ３０秒間流入させ、モジュー
ル内付着物を除去するために純水にてモジュールの供給
ポートより濃縮ポートへ流量１７L/min 、３分通水し、
はく離物を押出し洗浄しこれを３５回繰り返した。
【００２３】上記の洗浄方法で洗浄した膜モジュールの
モジュール差圧は０．８kg／cm2 となった。洗浄による
回復率は５４％であった。
モジュール差圧は０．８kg／cm2 となった。洗浄による
回復率は５４％であった。
【００２４】
【表１】
【００２５】実施例２ 実施例１の長期連続運転で用いた膜モジュールの中空糸
膜について、第１洗浄液として、アンモニアにてｐＨ
４．０に調整した２重量％クエン酸洗浄液を使用し、洗
浄液温度２５℃にて、１８時間振とう浸漬を実施した。
その後、純水にて十分第１洗浄液を洗い流したのち、第
２洗浄液として塩酸にてｐＨ９．０に調整した２重量％
過ホウ酸ナトリウム洗浄液を使用し、洗浄液温度３０℃
にて１８時間振とう浸漬を実施した。
膜について、第１洗浄液として、アンモニアにてｐＨ
４．０に調整した２重量％クエン酸洗浄液を使用し、洗
浄液温度２５℃にて、１８時間振とう浸漬を実施した。
その後、純水にて十分第１洗浄液を洗い流したのち、第
２洗浄液として塩酸にてｐＨ９．０に調整した２重量％
過ホウ酸ナトリウム洗浄液を使用し、洗浄液温度３０℃
にて１８時間振とう浸漬を実施した。
【００２６】上記の洗浄の前後で中空糸膜の透過水量の
変化率は１０１％であった。走査型電子顕微鏡（略して
SEM ）写真より、洗浄後、膜表面の露出が観察された
（図１）。 変化率（％）＝（洗浄後の透過水量）／（洗浄前の透過
水量）×１００
変化率は１０１％であった。走査型電子顕微鏡（略して
SEM ）写真より、洗浄後、膜表面の露出が観察された
（図１）。 変化率（％）＝（洗浄後の透過水量）／（洗浄前の透過
水量）×１００
【００２７】比較例４ 実施例２の膜モジュールの中空糸膜について、アンモニ
アにてｐＨ４．０に調整した２重量％クエン酸洗浄液を
使用し、洗浄液温度２５℃にて１８時間振とう浸漬を実
施した。
アにてｐＨ４．０に調整した２重量％クエン酸洗浄液を
使用し、洗浄液温度２５℃にて１８時間振とう浸漬を実
施した。
【００２８】上記の洗浄の前後で中空糸膜の透過水量の
変化率は８７％であった。SEM写真より洗浄後に膜表面
の露出は観察されなかった（図２）。
変化率は８７％であった。SEM写真より洗浄後に膜表面
の露出は観察されなかった（図２）。
【００２９】比較例５ 実施例２の膜モジュールの中空糸膜について、塩酸にて
ｐＨ９．０に調整した２重量％エチレンジアミン四酢酸
および２重量％リン酸三ナトリウムの混合洗浄液を使用
し、洗浄液温度２５℃にて１８時間振とう浸漬を実施し
た。
ｐＨ９．０に調整した２重量％エチレンジアミン四酢酸
および２重量％リン酸三ナトリウムの混合洗浄液を使用
し、洗浄液温度２５℃にて１８時間振とう浸漬を実施し
た。
【００３０】上記の洗浄の前後で中空糸膜の透過水量の
変化率は８６％であった。SEM写真より洗浄後に膜表面
の露出は観察されなかった（図３）。
変化率は８６％であった。SEM写真より洗浄後に膜表面
の露出は観察されなかった（図３）。
【００３１】
【表２】
【００３２】実施例３ 複合中空糸膜として、特開平８ー２８１０８５号公報に
基づいて、ポリスルホン系の中空糸支持膜の外表面にピ
ペラジンとトリメシン酸クロリドを界面重合させて得ら
れた架橋ポリピペラジンアミドからなる分離活性層が形
成されたナノろ過膜を用いて、小型のナノろ過膜モジュ
ール（東洋紡績株式会社製）を作製し、供給圧力２．３
から２．５kg／cm2 、水温１２℃から１５℃で、回収率
８０％にて水道水の１ヶ月間連続通水した。運転初期の
透過水量は４９０Ｌ／日であった。連続運転後の透過水
量は２３０Ｌ／日であった。
基づいて、ポリスルホン系の中空糸支持膜の外表面にピ
ペラジンとトリメシン酸クロリドを界面重合させて得ら
れた架橋ポリピペラジンアミドからなる分離活性層が形
成されたナノろ過膜を用いて、小型のナノろ過膜モジュ
ール（東洋紡績株式会社製）を作製し、供給圧力２．３
から２．５kg／cm2 、水温１２℃から１５℃で、回収率
８０％にて水道水の１ヶ月間連続通水した。運転初期の
透過水量は４９０Ｌ／日であった。連続運転後の透過水
量は２３０Ｌ／日であった。
【００３３】この膜モジュールについて、第１洗浄液と
してアンモニアにてｐＨ４．０に調整した２重量％クエ
ン酸洗浄液を使用し、洗浄液温度２５℃にて２０分循環
と４０分浸漬を３回繰り返し洗浄を実施した。純水にて
流量１７L/min 、１時間、第１洗浄液を洗い流したの
ち、第２洗浄液として塩酸にてｐＨ９．０に調整した２
重量％過ホウ酸ナトリウム洗浄液を使用し、洗浄液温度
３０℃にて５時間循環洗浄を実施した。
してアンモニアにてｐＨ４．０に調整した２重量％クエ
ン酸洗浄液を使用し、洗浄液温度２５℃にて２０分循環
と４０分浸漬を３回繰り返し洗浄を実施した。純水にて
流量１７L/min 、１時間、第１洗浄液を洗い流したの
ち、第２洗浄液として塩酸にてｐＨ９．０に調整した２
重量％過ホウ酸ナトリウム洗浄液を使用し、洗浄液温度
３０℃にて５時間循環洗浄を実施した。
【００３４】上記の洗浄後、透過水量は、４６２Ｌ／日
まで回復した。
まで回復した。
【００３５】比較例６ 実施例３と同条件にて、膜モジュールに水道水の連続通
水を実施した。運転初期の透過水量は４９０Ｌ／日であ
った。連続通水後の透過水量は２３０Ｌ／日であった。
水を実施した。運転初期の透過水量は４９０Ｌ／日であ
った。連続通水後の透過水量は２３０Ｌ／日であった。
【００３６】アンモニアにてｐＨ４．０に調整した２重
量％クエン酸洗浄液を使用し、洗浄液温度２５℃にて２
０分循環と４０分浸漬を３回繰り返し洗浄を実施した。
量％クエン酸洗浄液を使用し、洗浄液温度２５℃にて２
０分循環と４０分浸漬を３回繰り返し洗浄を実施した。
【００３７】上記の洗浄後、透過水量は、３２８Ｌ／日
となった。
となった。
【００３８】
【表３】
【００３９】
【数２】
【００４０】
【発明の効果】本発明による膜モジュールの洗浄方法
は、ファウリング物質が沈着堆積した膜モジュールの、
特に金属イオンと有機物が共存してファウリングとなっ
ている膜モジュールの場合、膜を劣化させることなく膜
モジュール性能を効果的に回復させることが可能になっ
た。
は、ファウリング物質が沈着堆積した膜モジュールの、
特に金属イオンと有機物が共存してファウリングとなっ
ている膜モジュールの場合、膜を劣化させることなく膜
モジュール性能を効果的に回復させることが可能になっ
た。
【図１】 本発明の洗浄方法による洗浄後の膜表面の走
査型電子顕微鏡写真である。
査型電子顕微鏡写真である。
【図２】 比較例４の洗浄方法による洗浄後の膜表面の
走査型電子顕微鏡写真である。
走査型電子顕微鏡写真である。
【図３】 比較例５の洗浄方法による、洗浄後の膜表面
の走査型電子顕微鏡写真である。
の走査型電子顕微鏡写真である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｂ０１Ｄ 71/68 Ｂ０１Ｄ 71/68 Ｃ０２Ｆ 1/44 Ｃ０２Ｆ 1/44 Ｈ
Claims (8)
- 【請求項１】 膜モジュールの洗浄方法において、酸性
に調整された金属イオン封鎖剤を含有する第１洗浄液で
洗浄し、次に弱アルカリ性に調整された過ホウ酸塩を含
有する第２洗浄液で洗浄することを特徴とする膜モジュ
ールの洗浄方法。 - 【請求項２】 第１洗浄液のｐＨの範囲が２．０以上
４．５以下である請求項１に記載の洗浄方法。 - 【請求項３】 第２洗浄液のｐＨの範囲が８．５以上
９．５以下である請求項１又は２に記載の洗浄方法。 - 【請求項４】 過ホウ酸塩の濃度が０．５重量％以上
３．０重量％以下である請求項１から３のいずれかに記
載の洗浄方法。 - 【請求項５】 金属イオン封鎖剤がクエン酸塩である請
求項１から４のいずれかに記載の洗浄方法。 - 【請求項６】 膜素材が酢酸セルロース系もしくはポリ
アミド系の非対称膜である請求項１から５のいずれかに
記載の洗浄方法。 - 【請求項７】 膜素材がポリアミド系もしくはポリスル
ホン系の複合膜である請求項１から５のいずれかに記載
の洗浄方法。 - 【請求項８】 膜モジュールが中空糸膜モジュールであ
る請求項１から７のいずれかに記載の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18732797A JPH1119489A (ja) | 1997-06-27 | 1997-06-27 | 膜モジュールの洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18732797A JPH1119489A (ja) | 1997-06-27 | 1997-06-27 | 膜モジュールの洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1119489A true JPH1119489A (ja) | 1999-01-26 |
Family
ID=16204069
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18732797A Pending JPH1119489A (ja) | 1997-06-27 | 1997-06-27 | 膜モジュールの洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1119489A (ja) |
-
1997
- 1997-06-27 JP JP18732797A patent/JPH1119489A/ja active Pending
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040625 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050907 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050915 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20060126 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |